DE4404154A1 - Verfahren und Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Oberfläche - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer OberflächeInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum optischen
Untersuchen einer Oberfläche, bei dem spektral breit
bandiges Licht in einen Referenzarm und einen Objektarm
aufgeteilt wird, bei dem ein in dem Objektarm aus einem
Auftreffbereich des Lichtes von der Oberfläche zurückge
worfener Objektlichtanteil mit einem aus dem Referenzarm
zurückgeworfenen Referenzlichtanteil überlagert und ein
aus dem Objektlichtanteil und dem Referenzlichtanteil
gebildetes Oberflächeninterferenzsignal detektiert wird,
wobei das Oberflächeninterferenzsignal in Abhängigkeit
einer veränderlichen optischen Weglänge wenigstens eines
Armes aufgenommen wird.
Die Erfindung betrifft ebenfalls eine Vorrichtung zum
optischen Untersuchen einer Oberfläche mit einer breit
bandigen Lichtquelle, deren Ausgangslicht mit einer
Strahlteilvorrichtung in einen eine Reflexionsvorrichtung
aufweisenden Referenzarm und einen Objektarm
aufteilbar ist, wobei das mittels der Strahlteil
vorrichtung in den Objektarm geleitete Ausgangslicht die
Oberfläche in einem Auftreffbereich beaufschlagt und ein
von der Oberfläche zurückgeworfener Objektlichtanteil
mit einem von der Reflexionsvorrichtung zurück
geworfenen Referenzlichtanteil mit einer Überlagerungsvorrichtung
zu einem einen lichtempfindlichen Detektor
beaufschlagenden Oberflächeninterferenzlichtanteil
überlagerbar ist, und mit wenigstens einer Verstellvorrichtung,
mit der die optische Weglänge wenigstens
eines Armes einstellbar ist, wobei ein Interferenzsignal
in Abhängigkeit der optischen Weglängen in einer Aus
werteeinheit abspeicherbar ist.
Ein derartiges Verfahren und eine derartige Vorrichtung
sind aus der US 4 818 110 bekannt. Ausgangslicht einer
breitbandigen Lichtquelle mit einer kleinen Kohärenz
länge wird in einem Zweistrahl-Interferenz-Mikroskop in
einen Objektarm und einen Referenzarm aufgeteilt. Ein in
den Objektarm eingekoppelter Objektstrahl wird auf eine
Oberfläche eines zu untersuchenden integrierten Schalt
kreises fokussiert. Die optischen Weglängen des
Referenzarmes und des Objektarmes werden mittels Ver
stellvorrichtungen verändert. Eine Grobverstell
vorrichtung dient der Einstellung der optischen Weglänge
des Referenzarmes, wobei die Grobverstellvorrichtung
eine die optische Weglänge des Referenzarmes begrenzende
Reflexionsvorrichtung verstellt. Die Verstellung der
optischen Weglänge des Objektarmes wird mittels einer
aus einem Piezokristall gebildeten Feinverstell
vorrichtung vorgenommen, wobei die Oberfläche bezüglich
der Strahlachse des Objektarmes verschiebbar ist.
Die Oberflächenstruktur des zu untersuchenden Prüf
körpers ist dadurch erhältlich, daß die von der Ober
fläche in den Objektarm und von der Reflexionsvorrichtung
in den Referenzarm zurückgeworfenen Licht
anteile mit einem Strahlteiler überlagert und einem
lichtempfindlichen Flächendetektor zugeführt werden.
Durch die Überlagerung eines Referenzlichtanteiles und
eines Objektlichtanteiles innerhalb der Kohärenzlänge
des Ausgangslichtes wird ein Interferenzmuster in der
Ebene des Flächendetektors erzeugt. Das Interferenz
muster wird von Objektlichtanteilen hervorgerufen,
welche eine im wesentlichen gleiche optische Weglänge
wie die Referenzlichtanteile durchlaufen haben. Objekt
lichtanteile aus Oberflächenbereichen, für die Differenz
der optischen Weglängen größer als die Kohärenzlänge
ist, erzeugen hingegen im wesentlichen eine gleichmäßig
beleuchtete Fläche.
Durch Aufnehmen der Interferenzmuster in Abhängigkeit
von verschiedenen optischen Weglängen des Referenzarmes
oder des Objektarmes wird über eine Signalverarbeitungs
schaltung durch Auswertung der flächenhaften Inter
ferenzmuster ein Bild der Oberfläche erzeugt.
Die Ortsauflösung der oben beschriebenen Vorrichtung ist
durch die Größe des Auftreffbereiches des in den Objekt
arm eingekoppelten Teiles des Ausgangslichtes auf die
Oberfläche begrenzt. Weiterhin ist die Auswertung der
von dem Flächendetektor aufgenommenen Interferenzmuster
wegen des verhältnismäßig geringen Kontrastes über
Algorithmen zur Mustererkennung insbesondere bei fein
gegliederten Oberflächenstrukturen äußerst aufwendig und
führt bei einem geringen Kontrast zu unscharfen
Bildern.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
und eine Vorrichtung zu schaffen, mit der Substrukturen
mit kleineren Dimensionen als der Auftreffbereich des in
den Objektarm geleiteten Lichtanteiles auf die zu unter
suchende Oberfläche bei einer einfachen Datenaufnahme
und Signalverarbeitung zu schaffen.
Diese Aufgabe wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren
dadurch gelöst, daß die optische Weglänge in einem
Bereich verändert wird, in dem ein von einer Substruktur
mit einer kleineren Oberflächendimension als der Auf
treffbereich zurückgeworfener Substrukturlichtanteil mit
einem Referenzlichtanteil überlagert als ein Sub
strukturinterferenzsignal detektiert wird, und daß das
Substrukturinterferenzsignal zur Bestimmung von Eigen
schaften der Substruktur ausgewertet wird.
Diese Aufgabe wird mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung
dadurch gelöst, daß mit wenigstens einer der Verstell
vorrichtungen die optische Weglänge wenigstens eines
Armes in einem Bereich einstellbar ist, in dem ein von
einer Substruktur mit einer kleineren Oberflächendimension
als der Auftreffbereich zurückgeworfener
Substrukturlichtanteil mit einem Referenzlichtanteil
überlagert mittels des Detektors als ein Substruktur
interferenzsignal detektierbar ist, und daß eine Signal
analyseeinrichtung zur Auswertung des Substruktur
interferenzsignales vorgesehen ist.
Es hat dich gezeigt, daß beispielsweise auf integrierte
Schaltkreise auftreffendes Weißlicht in Gräben mit Ab
messungen im Submikrometerbereich wie in einen Wellen
leiter einkoppelt, von den Grabenwänden geführt, am
Grabenboden reflektiert wird und wieder an der Ober
fläche austritt. Dieser Lichtanteil ist gegenüber dem
direkt an der Oberfläche zurückgeworfenen Lichtanteil in
dem Objektarm verzögert. Durch das Abstimmen der
optischen Weglängen des Referenzarmes und des Objekt
armes auf den von der Substruktur zurückgeworfenen
Substrukturlichtanteil ist ein von dem Graben hervor
gerufenes Substrukturinterferenzsignal aufnehmbar.
Dadurch, daß bei dem erfindungsgemäßen Verfahren und der
erfindungsgemäßen Vorrichtung durch den Verstellbereich
der optischen Weglänge zusätzlich zu der Detektion des
von der Oberfläche erzeugten Oberflächeninterferenz
signales ein von einer Substruktur mit einer kleineren
Dimension als der Auftreffbereich des Anteiles des
Ausgangslichtes auf die Oberfläche hervorgerufenes
Substrukturinterferenzsignal detektiert wird, ist das
örtliche Auflösungsvermögen deutlich erhöht und das
Substrukturinterferenzsignal zur Bestimmung beispiels
weise der Weite und Tiefe der Substruktur als ein so
genanntes Weißlicht-Interferogramm in einfacher Weise
detektierbar und auswertbar.
In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist zu
Beginn der Messung der Auftreffbereich auf einem sub
strukturfreien Teil der Oberfläche positioniert. Durch
Verstellen dem optischen Weglänge des Referenzarmes mit
einer Referenzarmverstellvorrichtung in groben Schritten
sind die optischen Weglängen des Referenzarmes und des
Objektarmes aufeinander abstimmbar, indem nach Detek
tieren eines Interferenzsignales die optische Weglänge
des Referenzarmes mit einer vorbestimmten Länge festge
halten wird. Anschließend ist mit einer Objektarmver
stellvorrichtung die optische Weglänge des Objektarmes
in einem vorbestimmten Bereich einstellbar, der
wenigstens den Dimensionen der Strukturen der Oberfläche
wie beispielsweise Stufen oder Gräben entspricht. Das
Verstellen der optischen Weglänge des Objektarmes er
folgt im Verhältnis zu der Periodizität der Interferenz
signale in kleinen Schritten.
Handelt es sich bei den zu untersuchenden Oberflächen
strukturen um Gräben, die abschnittsweise in einer
Richtung verlaufen, ist es zweckmäßig, zum Erhöhen des
Pegels des Substrukturinterferenzsignales den Auftreff
bereich des Objektstrahles auf diese Vorzugsrichtung
mittels einer Schlitzblende mit einer länglichen Aus
dehnung auszurichten. Mit einer derartigen Schlitzblende
ist andererseits an einer Position auf der Oberfläche
über das Feststellen des maximalen Pegels des Sub
strukturinterferenzsignales bei Veränderung der Aus
richtung der Schlitzblende der Verlauf eines detek
tierten Grabens ohne eine Relativbewegung zwischen der
Substruktur und dem Objektarm erfaßbar.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung
ergeben sich aus den Unteransprüchen und der nach
folgenden Figurenbeschreibung. Es zeigt:
Fig. 1 in einer schematischen Darstellung eine Vor
richtung zum optischen Untersuchen einer Ober
fläche, bei der die optischen Weglängen sowohl
eines Objektarmes als auch eines Referenzarmes
getrennt einstellbar sind und
Fig. 2 eine Anordnung einer Schlitzblende in einer
Vorrichtung gemäß der Fig. 1.
Fig. 1 zeigt in einer schematischen Darstellung eine
Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Oberfläche.
Eine thermische Weißlichtquelle 1 emittiert breit
bandiges Ausgangslicht 2. Mit einer Fokussierlinse 3 ist
das über Rückreflektoren gerichtete Ausgangslicht 2 der
Weißlichtquelle 1 in eine Ausnehmung einer Nahfeldloch
blende 4 zum Festlegen eines kleinen Emissionsbereiches
der Weißlichtquelle 1 als Punktlichtquelle abbildbar.
Das durch die Ausnehmung der Nahfeldlochblende 4 durch
getretene Ausgangslicht 2 beaufschlagt eine
Kollimationslinse 5, die mit dem Abstand ihrer Brenn
weite von der Nahfeldlochblende 4 angeordnet ist. Das
nach Durchtritt durch die Kollimationslinse 5 parallele
Ausgangslicht 2 der Lichtquelle 1 durchläuft ein
Spektralfilter 6.
Der transmittierte Lichtanteil 7 durchtritt eine Fern
feldblende 8 mit einer rundlichen Ausnehmung 9 und fällt
auf einen Strahlteiler 10, mit dem der Lichtanteil 7 in
einen Referenzarm 11 und einen Objektarm 12 aufteilbar
ist.
Ein von dem Strahlteiler 10 in den Referenzarm 11 ein
geleiteter paralleler Referenzstrahl 13 ist mit einer
Referenzarmlinse 14 auf einen in der Brennebene der
Referenzarmlinse 14 vorgesehenen Referenzarmspiegel 15
fokussierbar. Bei einem sehr breitbandigen trans
mittierten Lichtanteil 7 ist es zweckmäßig, zum Ver
meiden von Abbildungsfehlern die Referenzarmlinse 14 als
eine achromatische Abbildungsvorrichtung auszuführen.
Die Referenzarmlinse 14 und der Referenzarmspiegel 15
sind in einem festen Abstand als eine Reflexionsvorrichtung
16 verbunden. Die Reflexionsvorrichtung 16
ist an einer Referenzarmverstellvorrichtung 17 an
gebracht, mit der die optische Weglänge des Referenz
armes 11 einstellbar ist.
Ein von dem Strahlteiler 10 in den Objektarm 12 ge
leiteter Objektstrahl 18 trifft auf einen ersten Ablenk
spiegel 19, der in einem Winkel von etwa 45 Grad zu dem
einfallenden Objektstrahl 18 an einem feststehenden
Ablenkspiegelhalter 20 angebracht ist. Das durch den
ersten Ablenkspiegel 19 um 90 Grad in Bezug auf den
einfallenden Objektstrahl 18 abgelenkte Licht fällt auf
einen ersten Rücklenkspiegel 21, der an einem Rücklenk
spiegelhalter 22 angebracht ist. Der erste Rücklenk
spiegel 21 lenkt das einfallende Licht um etwa 90 Grad
um, so daß dieses auf einen zweiten, ebenfalls an dem
Rücklenkspiegelhalter 22 angebrachten Rücklenkspiegel 23
fällt. Das auf den zweiten Rücklenkspiegel 23 fallende
Licht trifft nach einer Reflexion um etwa 90 Grad auf
einen zweiten Ablenkspiegel 24, der so angeordnet ist,
daß das von dem zweiten Rücklenkspiegel 23 einfallende
Licht wieder die gleiche Strahlachse wie das auf den
ersten Ablenkspiegel 19 einfallende Licht hat.
Der Rücklenkspiegelhalter 22 mit den an ihm befestigten
Rücklenkspiegel 21, 23 ist mit einer Objektarmverstell
vorrichtung 25 verbunden. Mit der Objektarmverstell
vorrichtung 25 ist die optische Weglänge des Objektarmes
12 einstellbar. Vorzugsweise ist für ein hochgenaues
Verstellen der optischen Weglänge des Objektarmes 12 die
Objektarmverstellvorrichtung 25 als ein Piezoelement
ausgeführt. Die Spiegel 19, 21, 23, 24 bilden zusammen
mit den Spiegelhaltern 20, 22 eine Umlenkeinheit 26.
In einer nicht dargestellten abgewandelten Ausführungs
form weist die Umlenkeinheit 26 ein Ablenkprisma und ein
Rücklenkprisma auf. Das Ablenkprisma ist auf einer dem
Strahlteiler 10 zugewandten äußeren Seitenfläche von dem
Objektstrahl 18 beaufschlagt, wobei diese den Objekt
strahl 18 auf die rechtwinklig zu dem einfallenden Licht
gestellte Basisfläche des Rücklenkprisma lenkt. Das über
die Basisfläche in das Rücklenkprisma eingetretene Licht
wird an den Innenseiten der Seitenflächen des Rücklenk
prismas reflektiert, tritt gegenüber dem einfallenden
Licht versetzt wieder über die Basisfläche aus dem
Rücklenkprisma aus und beaufschlagt die zweite äußere
Seitenfläche des Ablenkprismas, welche das von dem
Rücklenkprisma einfallende Licht in die gleiche Strahl
achse wie den von dem Strahlteiler 10 abgelenkten
Objektstrahl 18 lenkt. Die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 ist mit optischen Ausgleichselementen
bezüglich der optischen Eigenschaften der Prismen in dem
Objektarm 12 kompensiert. Diese Ausführungsform der
Umlenkeinheit 26 zeichnet sich durch einen besonders
kompakten Aufbau aus.
Der Objektstrahl 18 beaufschlagt nach Durchlauf der
Umlenkeinheit 26 eine Objektarmlinse 27, die den Objekt
strahl 18 auf eine strukturierte Oberfläche 28 eines
Prüfkörpers 29 fokussiert. Die Referenzarmlinse 14 und
die Objektarmlinse 27 sind optisch gleichwirkend aus
geführt, so daß der Referenzarm 11 und der Objektarm 12
bezüglich ihrer optischen Eigenschaften, insbesondere
der Dispersion, kompensiert sind.
Die Oberfläche 28 weist beispielsweise wie in Fig. 1
schematisch dargestellt eine Stufe 30 und Gräben 31, 32
auf. Der Prüfkörper 29 ist mit einer Probenverstell
vorrichtung 33 verbunden, mit der über drei Verstell
elemente 34, 35, 36 der Prüfkörper 29 in drei zueinander
orthogonalen Raumrichtungen verstellbar ist.
Ein von einem Auftreffbereich 37 von der Oberfläche 28
des Prüfkörpers 29 rückgeworfener Oberflächenlichtanteil
des Objektstrahles 18 läuft in dem Objektarm 12 zurück
und wird an dem als Überlagerungsvorrichtung wirkenden
Strahlteiler 10 mit dem von dem Referenzarmspiegel 15
rückreflektierten Lichtanteil des Referenzstrahles 13 in
einem Interferenzstrahl 38 zu einem Oberflächen
interferenzsignal überlagert.
Ein weiterer Anteil des auf die Oberfläche 28 auf
treffenden Objektstrahles 18 koppelt in der in Fig. 1
dargestellten Stellung des Prüfkörpers 29 in den Graben
31 wie in einen Wellenleiter ein. Der in den Graben 31
eingekoppelte Lichtanteil wird teilweise an den Be
grenzungen des Grabens 31 geführt, am Boden des Grabens
31 reflektiert und tritt als ein Substrukturlichtanteil
wieder aus dem Graben 31 aus. Dieser Substrukturlicht
anteil läuft in dem Objektarm 12 ebenfalls auf den
Strahlteiler 10 zurück und bildet bei einer im wesent
lichen gleichen optischen Weglänge wie bei einem
zugeordneten Referenzlichtanteil ein in dem Inter
ferenzstrahl 38 enthaltenes Substrukturinterferenz
signal. Der Interferenzstrahl 38 ist mit einer Sammel
linse 39 auf einen lichtempfindlichen Detektor 40 ab
bildbar. Die Transmissionscharakteristik des Spektral
filters 6 ist so ausgeführt, daß das Ausgangssignal des
Detektors 40 im Frequenzbereich einer im wesentlichen
gaußförmigen Intensitätsverteilung des detektierten
Lichtes bei einer Mittenwellenlänge von in diesem Aus
führungsbeispiel etwa 1 Mikrometer entspricht.
Durch Verstellen der optischen Weglängen des Referenz
armes 11 und/oder des Objektarmes 12 in einem Bereich,
der sowohl Oberflächenlichtanteile als auch Substruktur
lichtanteile mit zugeordneten Referenzlichtanteilen
kohärent zur Überlagerung bringt, ist durch Detektieren
des Oberflächeninterferenzsignales und des Substruktur
interferenzsignales, die durch Interferenz innerhalb der
Kohärenzlänge einander zugeordneter Lichtanteile ent
stehen, das Substrukturinterferenzsignal zum Bestimmen
von Eigenschaften der durch die Gräben 31, 32 gebildeten
Substruktur auswertbar.
Die Referenzarmverstellvorrichtung 17 ist in diesem
Ausführungsbeispiel als ein Piezoelement ausgeführt, das
über einen einstufigen Steuerspannungswandler 41 zur
Grobverstellung der optischen Weglänge des Referenzarmes
11 an einen zentralen Datenprozessor 42 angeschlossen
ist. Die ebenfalls aus einem Piezoelement gebildete
Objektarmverstellvorrichtung 25 ist über einen weiteren
einstufigen Steuerspannungswandler 43 zur Feinver
stellung der optischen Weglänge des Objektarmes 12 an
den zentralen Datenprozessor 42 angeschlossen. Die
Verstellelemente 34, 35, 36 der Probenverstellvor
richtung sind gleichfalls aus Piezoelementen gebildet
und über einen dreistufigen Steuerspannungswandler 44
mit dem Datenprozessor 42 verbunden. Das Ausgangssignal
des Detektors 40 ist mit einem Verstärker 45 verstärkbar
und über einen Signalfilter 46 zum Abtrennen von
mechanisch und/oder elektrisch erzeugten Störsignalen
dem Datenprozessor 42 zuführbar.
Mit dem Datenprozessor 42 ist der Ablauf des Meß
vorganges steuerbar. Zu Beginn der Messung ist durch
Beaufschlagen des dreistufigen Steuerspannungswandlers
44 mit Steuersignalen und einer Umsetzung der Steuer
signale in Hochspannungsstellsignale durch den Steuer
spannungswandler 44 der Prüfkörper 29 mittels der
Probenverstellvorrichtung 33 auf eine Anfangsposition
verfahrbar. Zweckmäßigerweise weist die Oberfläche 28 an
dieser Anfangsposition einen glatten, unstrukturierten
Auftreffbereich 37 auf.
Bei einer Vorjustierung der Vorrichtung mittels in Fig.
1 nicht dargestellter mechanisch betätigbarer Einstell
elemente sind die optischen Weglängen des Referenzarmes
11 und dem Objektarmes 12 bis auf etwa 1 Millimeter
gleich lang eingestellt. Durch eines der Verstell
elemente 34, 35, 36 ist die Oberfläche 28 an der
Anfangsposition in Bezug auf die Richtung des ein
fallenden Objektstrahles 18 in dem Fokalbereich der
Objektarmlinse 27 positionierbar.
Dann ist mit einer Grobmessung bei konstant gehaltener
optischer Weglänge des Objektarmes 12 durch Steuer
signale auf den Steuerspannungswandler 41 und von diesem
erzeugte Hochspannungsstellsignale auf die Referenzarm
verstellvorrichtung 17 die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 in groben Schritten von typischerweise
etwa 0,3 Mikrometer veränderbar. Nach Verstellen der
optischen Weglänge des Referenzarmes 11 über einen
vorbestimmten Bereich wird die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 beispielsweise auf den der größten
detektierten Signalintensität des Interferenzsignales
entsprechenden Längenwert eingestellt und in dieser
Referenzeinstellung festgehalten.
Anschließend ist vorgesehen, die Vorrichtung mit einem
im Auftreffbereich 37 angeordneten Referenzkörper in
einer Grundeinstellung einzujustieren. Der Referenz
körper weist eine Oberfläche mit einer lateralen
Struktur auf, die mit der Apertur der Objektarmlinse 27
und der spektralen Zusammensetzung des Objektstrahles 18
auflösbar ist und die eine hohe Reflektivität besitzt,
so daß ein besonders rauscharmes Interferenzsignal
erreichbar ist. In einem ersten Schritt wird mit den
Verstellelementen 34, 35, 36 die Oberfläche des
Referenzkörpers genau in der Fokalebene der Objektarm
linse 27 angeordnet, wobei hierzu für eine besonders
präzise Justage in Fig. 1 nicht dargestellte optische
Justiervorrichtungen vorgesehen sind. In einem ab
gewandelten Ausführungsbeispiel erfolgt die visuelle
Beobachtung der Fokussierung mittels des Detektors 45.
Dann wird bei der festgehaltenen optischen Weglänge des
Referenzarmes 11 in der Referenzeinstellung die optische
Weglänge des Objektarmes 12 über die Objektarmverstell
vorrichtung 25 in kleinen Schritten von höchstens etwa
100 Nanometer variiert, so daß der Maximalwert des
Oberflächeninterferenzsignales des Referenzkörpers
bestimmbar ist. In der somit festgelegten Grundein
stellung mit definierten optischen Weglängen des
Referenzarmes 11 und des Objektarmes 12 sowie dem in der
Fokalebene der Objektarmlinse 27 angeordneten Referenz
körper ist nunmehr ein Prüfkörper 29, der eine Ober
fläche 28 mit beispielsweise einer Stufe 30 aufweist, in
einfacher Weise dadurch in die Grundeinstellung justier
bar, daß bei festgelegten optischen Weglängen des
Referenzarmes 11 und des Objektarmes 12 die Grundein
stellung durch alleiniges Bestimmen des Maximalwertes
des Oberflächeninterferenzsignales der Prüfkörper 29 in
der Fokalebene der Objektarmlinse 27 positionierbar ist.
Diese Vorgehensweise ist insbesondere für eine automati
sche Fokussierung zweckmäßig.
Bei dem Beginn der Feinmessung mit fest eingestellter
optischer Weglänge des Referenzarmes 11 durch Verstellen
der optischen Weglänge des Objektarmes 12 über die
Objektarmverstellvorrichtung 25 in kleinen Schritten von
typischerweise etwa 50 Nanometer beispielsweise von
einem Maximalwert zu einem Minimalwert überlagern sich
die aus dem Referenzarm 11 und dem Objektarm 12
stammenden Wellenzüge auf dem Detektor 40 bei einer
Differenz der optischen Weglängen, die größer als die
Kohärenzlänge des transmittierten Lichtanteiles 7 ist,
im wesentlichen zu einer gleichbleibenden Referenz
intensität. Durch Verändern der optischen Weglänge des
Objektarmes 12 tritt ab einer bestimmten Differenz der
optischen Weglängen eine teilweise kohärente Über
lagerung von durch den Strahlteiler 10 getrennten Licht
anteilen mit gleicher durchlaufener optischer Weglänge
auf.
Liegt wie in Fig. 1 dargestellt in dem Auftreffbereich
37 eine beispielsweise durch einen Graben 31 gebildete
Substruktur mit einer kleineren Dimension als die Größe
des Auftreffbereiches 37, ist durch Verändern der
optischen Weglänge des Objektarmes 12 mit der Objektarm
verstellvorrichtung 25 eine Überlagerung des durch den
Graben 31 rückgeworfenen Substrukturlichtanteiles in den
Objektarm 12 mit dem zugehörigen rückreflektierten
Lichtanteil aus dem Referenzarm 11 zu einem Substruktur
interferenzsignal durchführbar.
Diese nunmehr kohärent mit unterschiedlichen Phasenver
schiebungen bei verschiedenen optischen Weglängen
innerhalb der Kohärenzlänge überlagerten Lichtanteile
erzeugen ein mit der optischen Weglänge des Objektarmes
12 korreliertes Ausgangssignal des Detektors 40, das der
Intensität des Oberflächeninterferenzsignales oder des
Substrukturinterferenzsignales entspricht.
Tritt im Verlauf der Feinmessung beispielsweise eine
Änderung der Höhe der Oberfläche 28 durch die Stufe 30
ein, ist dies durch ein gegenüber der Referenzlage
wegverschobenes Weißlicht-Interferogrammes der Ober
fläche 28 erfaßbar. Diese Verschiebung des Weißlicht-
Interferogrammes ist durch Nachfahren des Prüfkörpers 29
durch Verfahren beispielsweise des für die Verschiebung
in Richtung des Objektstrahles 18 vorgesehenen Verstell
elementes 36 korrigierbar. Der Verstellweg des Verstell
elementes 36 ist in dem Datenprozessor 42 mit Bezug auf
den Ort des Auftreffbereiches 37 abspeicherbar und
entspricht in diesem Ausführungsbeispiel der Höhe der
Stufe 30.
Nach Abschluß der Feinmessung bei in diesem Ausführungs
beispiel fester optischer Weglänge des Referenzarmes 11
ist in dem Datenprozessor 42 das verstärkte und ge
filterte Ausgangssignal des Detektors 40 als ein so
genanntes Weißlicht-Interferogramm des Oberflächeninter
ferenzsignales und des Substrukturinterferenzsignales
abgespeichert, bei dem die Intensität des Ausgangs
signales des Detektors 40 gegen die eingestellte Weg
länge des Objektarmes 12 abgelegt ist. Durch Auswertung
des Weißlicht-Interferogrammes der Interferenzsignale
ist mit einer in dem Datenprozessor 42 integrierten
Signalverarbeitungsschaltung 47 ist beispielsweise der
Ort der größten Signalintensität als eine Bezugsgröße
festlegbar.
Die durch die Objektarmverstellvorrichtung 25 veränder
bare Weglänge des Objektarmes 12 entspricht wenigstens
der größten Höhendifferenz auf der Oberfläche 28, bei
spielsweise der Höhe der Stufe 30 sowie der Tiefe des
Grabens 31. Zweckmäßigerweise beträgt der Stellweg der
Objektarmverstellvorrichtung 25 das etwa Fünffache einer
zu erwartenden Höhendifferenz, um auch größere
Toleranzen beispielsweise bei einer Qualitätsüberwachung
sicher erfassen zu können.
Insbesondere bei verhältnismäßig schwachen Substruktur
interferenzsignalen und/oder einem verhältnismäßig
langsamen verstellen der optischen Weglängen im Bereich
von weniger als etwa einem Mikrometer pro Sekunde ist es
zweckmäßig, in dem Strahlengang des Objektarmes 12 eine
in Fig. 1 nicht dargestellte Vorrichtung zum Unter
brechen des Objektstrahles 18 mit einer festen Frequenz
mit einigen 10 Hertz vorzusehen, die an einen Frequenz
speiseeingang eines synchronisierten Verstärkers, eines
sogenannten Lock-In-Verstärkers, angeschlossen ist. Der
Signaleingang des Lock-In-Verstärkers ist mit dem Detek
tor 40 verbunden. In diesem Ausführungsbeispiel werden
mit dem Lock-In-Verstärker bei dem Verstellen der
optischen Weglänge des Objektarmes 12 die Interferenz
signale mit einem hohen Signal/Rausch-Verhältnis detek
tiert, wobei die Meßzeit durch das Anwenden der Lock-In-
Technik in nur einem Meßschritt verhältnismäßig kurz
ist.
Die Differenz der Weglängen zwischen dem Oberflächen
interferenzsignal und dem Substrukturinterferenzsignal
sowie die Form des Substrukturinterferenzsignales sind
mit einer Substruktursignalanalyseeinrichtung 48 des
Datenprozessors 42 auswertbar. Beispielsweise ist bei
einer durch den Graben 31 gebildeten Substruktur der
Wegunterschied im wesentlichen durch die Tiefe des
Grabens 31 und die Form des durch das Substrukturinter
ferenzsignal gebildete Weißlicht-Interferogrammes durch
die Weite und die Dispersion des als Wellenleiter
wirkenden Grabens 31 bestimmt und beispielsweise über
eine Fouriertransformation auswertbar, die Informationen
über die Geometrie des Grabens 31 enthält. Es ist vor
gesehen, als aus der Form des Substrukturinterferenz
signales abgeleitete Größen beispielsweise die Breite
der Einhüllenden, die Periode sowie die Abfolge von
Maxima und Minima zur Bestimmung der Geometrie und/oder
Dispersion der Substruktur zu bestimmen. Durch die
Intensitätsverteilung des Lichtanteiles 7 ist nach
Detektion durch den Detektor 40 ein besonders gut auf
lösbares Substrukturinterferenzsignal und damit eine
zuverlässige Tiefenauflösung erreicht.
Nach Auswertung der Oberflächeninterferenzsignale und
der Substrukturinterferenzsignale nach dem Abrastern der
Oberfläche 28 ist in einer an den Datenprozessor 42 an
geschlossenen Ausgabeeinheit 49, beispielsweise auf
einem Farbbildschirm, mit einer Farbkodierung die
Struktur und Substruktur der Oberfläche 28 darstellbar.
Fig. 2 zeigt in einer schematischen Darstellung eine
Fernfeldblende 8 mit einer rechteckigen Fernfeldaus
nehmung 50. Der Fernfeldblende 8 mit der Fernfeld
ausnehmung 50 ist eine in Fig. 2 nicht dargestellte
Nahfeldblende 4 mit einer gegenüber der Fernfeld
ausnehmung 50 um 90 Grad gedrehten rechteckigen Nahfeld
ausnehmung zugeordnet. Ein Teil des durch die Fernfeld
ausnehmung 50 transmittierten Lichtanteiles 7 ist mit
der Objektarmlinse 27 auf die Oberfläche 28 des Prüf
körpers 29 fokussierbar. In der in Fig. 2 dargestellten
Anordnung ist die Fernfeldausnehmung 50 so ausgerichtet,
daß der von der Fernfeldblende 8 transmittierte Licht
anteil des Objektstrahles 18 in der Längsrichtung des
Grabens 31 verläuft. Die Fernfeldblende 8 ist, wie durch
einen Drehpfeil 51 angedeutet, mit einer in Fig. 2 nicht
dargestellten Drehvorrichtung um die Achse 52 des
Objektstrahles 18 drehbar. Mit der Drehvorrichtung ist
entsprechend dem Drehwinkel der Fernfeldblende 8 die
Nahfeldausnehmung der Nahfeldblende 4 so nachführbar,
daß die Ausnehmungen konjugiert um 90 Grad versetzt
zueinander ausgerichtet sind. In einem nicht dar
gestellten Ausführungsbeispiel entfällt die Fernfeld
blende 8 bei einer hohen optischen Qualität der Ab
bildung des transmittierten Lichtanteiles 7.
In der in Fig. 2 dargestellten Ausrichtung der
Fernfeldausnehmung 50 ist das durch den Graben 31
hervorgerufene Substrukturinterferenzsignal maximal,
während bei einer Drehung der Fernfeldausnehmung 50 und
der Nahfeldausnehmung gleichsinnig um jeweils 90 Grad
das Substrukturinterferenzsignal minimal ist. Auf diese
Weise ist bei einer Position des Prüfkörpers 29 der
Längsverlauf des Grabens 31 zwischen zwei Meßpunkten auf
der Oberfläche 28 bestimmbar. Daher ist die für ein
genaues Untersuchen der Oberfläche 28 notwendige Dichte
der Meßpunkte und damit die im wesentlichen von der
durch das Verändern der optischen Weglängen bestimmten
Meßzeit reduzierbar, da nunmehr zwischen zwei weiter
entfernten Meßpunkten der Verlauf des Grabens 31 inter
polierbar ist.
Claims (16)
1. Verfahren zum optischen Untersuchen einer Oberfläche
(28), bei dem spektral breitbandiges Licht (2, 7) in
einen Referenzarm (11) und einen Objektarm (12)
aufgeteilt wird, bei dem ein in dem Objektarm (12)
aus einem Auftreffbereich (37) des Lichtes (2, 7)
von der Oberfläche (28) zurückgeworfener Objekt
lichtanteil mit einem aus dem Referenzarm (11)
zurückgeworfenen Referenzlichtanteil überlagert und
ein aus dem Objektlichtanteil und dem Referenzlicht
anteil gebildetes Oberflächeninterferenzsignal
detektiert wird, wobei das Oberflächeninterferenz
signal in Abhängigkeit einer veränderlichen
optischen Weglänge wenigstens eines Armes (11, 12)
aufgenommen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die
optische Weglänge in einem Bereich verändert wird,
in dem ein von einer Substruktur (31, 32) mit einer
kleineren Oberflächendimension als der Auftreff
bereich (37) zurückgeworfener Substrukturlichtanteil
mit einem Referenzlichtanteil überlagert als ein
Substrukturinterferenzsignal detektiert wird, und
daß das Substrukturinterferenzsignal zur Bestimmung
von Eigenschaften der- Substruktur (31, 32) aus
gewertet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß Licht (7) mit einer Intensitätsverteilung in den
Referenzarm (11) und den Objektarm (12) aufgeteilt
wird, die bei Detektion zu einem Ausgangssignal
führt, das einer im Frequenzbereich gaußförmigen
Intensitätsverteilung des detektierten Lichtes
entspricht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß zum Abgleich der optischen Weglängen
des Referenzarmes (11) und des Objektarmes (12) die
optische Weglänge des Referenzarmes (11) verändert
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die optische Weglänge des Referenzarmes (11) an
einem vorbestimmten Wert festgehalten wird und die
optische Weglänge des Objektarmes (12) in einem
vorbestimmten Bereich zum Detektieren des Ober
flächeninterferenzsignales und des Substrukturinter
ferenzsignales verändert wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die optische Weglänge des Objektarmes (12)
ausgehend von einer Grundeinstellung verändert wird,
wobei die Grundeinstellung durch den Maximalwert des
Oberflächeninterferenzsignales definiert ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Interferenzsignale bei einem
optischen Unterbrechen des Objektarmes (12) mit
einer festen Frequenz mit einem synchronisierten
Verstärker detektiert werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß bei der Auswertung die Differenz
der Weglängen zwischen dem Oberflächeninterferenz
signal und dem Substrukturinterferenzsignal bestimmt
wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das Substrukturinterferenzsignal
zur Auswertung fouriertransformiert wird.
9. Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Ober
fläche (28), insbesondere zum Durchführen des
Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer breitbandigen
Lichtquelle (1), deren Ausgangslicht (2, 7) mit
einer Strahlteilvorrichtung (10) in einen eine
Reflexionsvorrichtung (16) aufweisenden Referenzarm
(11) und einen Objektarm (12) aufteilbar ist, wobei
das mittels der Strahlteilvorrichtung (10) in den
Objektarm (12) geleitete Ausgangslicht (2, 7) die
Oberfläche (28) in einem Auftreffbereich (37) be
aufschlagt und ein von der Oberfläche (28) zurück
geworfener Objektlichtanteil mit einem von der
Reflexionsvorrichtung (16) zurückgeworfenen
Referenzlichtanteil mit einer Überlagerungs
vorrichtung (10) zu einem einen lichtempfindlichen
Detektor (40) beaufschlagenden Oberflächeninter
ferenzlichtanteil überlagerbar ist, und mit wenig
stens einer Verstellvorrichtung (17), mit der die
optische Weglänge wenigstens eines Armes (11, 12)
einstellbar ist, wobei ein Interferenzsignal in Ab
hängigkeit der optischen Weglängen in einer Aus
werteeinheit (42) abspeicherbar ist, dadurch gekenn
zeichnet, daß mit wenigstens einer der Verstell
vorrichtungen (17, 25) die optische Weglänge wenig
stens eines Armes (11, 12) in einem Bereich ein
stellbar ist, in dem ein von einer Substruktur (31,
32) mit einer kleineren Oberflächendimension als der
Auftreffbereich (37) zurückgeworfener Substruktur
lichtanteil mit einem Referenzlichtanteil überlagert
mittels des Detektors (40) als ein Substrukturinter
ferenzsignal detektierbar ist, und daß eine Signal
analyseeinrichtung (48) zur Auswertung des Sub
strukturinterferenzsignales vorgesehen ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß das Ausgangslicht (2) der breitbandigen Licht
quelle (1) eine Filtervorrichtung (6) beaufschlagt,
wobei das von der Filtervorrichtung (6) trans
mittierte Licht (7) zu einem Ausgangssignal des
Detektors (40) führt, das einer im Frequenzbereich
gaußförmigen Intensitätsverteilung entspricht.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Reflexionsvorrichtung (16) mit
einer Referenzarmverstellvorrichtung (17) und die
optische Weglänge des Objektarmes (12) mittels einer
mit einer Objektarmverstellvorrichtung (25) zu
sammenwirkenden Umlenkeinheit (26) veränderbar sind.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Umlenkeinheit (26) eine Strahl
ablenkvorrichtung (19, 20, 24) aufweist, mit der der
Lichtanteil (18) in dem Objektarm (12) einer Rückreflexionsvorrichtung
(21, 22, 23) zuführbar ist,
wobei die Rückreflexionsvorrichtung (21, 22, 23)
mit einem seitlichen Abstand von der Strahlablenkvorrichtung
(19, 20, 24) angeordnet ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Raumfilter
vorrichtung (3, 4, 5, 8) vorgesehen ist, mit der der
Auftreffbereich (37) des Lichtanteiles (18) auf die
Oberfläche (28) in seinen geometrischen Gestalt
einstellbar ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Raumfiltervorrichtung eine Blende
(4) mit einer rechteckigen Ausnehmung und zwei
Sammellinsen (3, 5) aufweist, wobei in den zu
sammenfallenden Brennebenen der Sammellinsen (3, 5)
die Blende (4) mit der Ausnehmung in den zusammen
fallenden Fokalbereichen der Sammellinsen (3, 5)
angeordnet ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Blende (4) drehbar ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekenn
zeichnet, daß an jeder Meßposition die Blende (4)
mit einer Drehvorrichtung in einem Winkelbereich
einstellbar ist.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19544253A1 (de) * | 1995-11-28 | 1997-06-05 | Jochen Neumann | Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang |
DE19814057A1 (de) * | 1998-03-30 | 1999-10-07 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur spektralinterferometrischen optischen Tomographie und Oberflächenprofilmessung |
EP1606575A2 (de) * | 2003-01-27 | 2005-12-21 | Zetetic Institute | Leckende geführte wellenmoden, die in der interferometrischen konfokalen mikroskopie zur messung von grabeneigenschaften verwendet werden |
DE102007010389A1 (de) * | 2007-03-03 | 2008-09-04 | Polytec Gmbh | Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Objekts |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19733890C2 (de) * | 1996-08-04 | 2000-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zum Vermessen eines Mediums und Vorrichtung dazu |
DE10256273B3 (de) * | 2002-12-03 | 2004-03-18 | Carl Mahr Holding Gmbh | Interferenzoptische Formmesseinrichtung mit Phasenschiebung |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3032564A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-04-09 | Jenoptik Jena Gmbh, Ddr 6900 Jena | Einrichtung zur bestimmung geometrischer abmessung an prueflingen |
US4818110A (en) * | 1986-05-06 | 1989-04-04 | Kla Instruments Corporation | Method and apparatus of using a two beam interference microscope for inspection of integrated circuits and the like |
US4946280A (en) * | 1988-09-15 | 1990-08-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Wavefront analysis for segmented mirror control |
US5054924A (en) * | 1989-06-12 | 1991-10-08 | California Institute Of Technology | Method for extracting long-equivalent wavelength interferometric information |
US5112129A (en) * | 1990-03-02 | 1992-05-12 | Kla Instruments Corporation | Method of image enhancement for the coherence probe microscope with applications to integrated circuit metrology |
DE4108944A1 (de) * | 1991-03-19 | 1992-09-24 | Haeusler Gerd | Verfahren und einrichtung zur beruehrungslosen erfassung der oberflaechengestalt von diffus streuenden objekten |
WO1994018521A1 (en) * | 1993-02-08 | 1994-08-18 | Zygo Corporation | Method and apparatus for surface topography measurement by spatial-frequency analysis of interferograms |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4310245A (en) * | 1980-03-19 | 1982-01-12 | Pritchard James L | Interferometer system |
US4615620A (en) * | 1983-12-26 | 1986-10-07 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for measuring the depth of fine engraved patterns |
JPH0654221B2 (ja) * | 1985-04-12 | 1994-07-20 | 株式会社日立製作所 | 段差測定装置およびその方法 |
DE3527245A1 (de) * | 1985-07-30 | 1987-02-12 | Adolf Friedrich Prof D Fercher | Verfahren und vorrichtung zur laengen- und positionsmessung |
DE4135959C2 (de) * | 1991-10-31 | 1994-01-20 | Leica Ag Heerbrugg | Verfahren zur Messung der Neigungen von Grenzflächen in einem optischen System |
-
1994
- 1994-02-10 DE DE19944404154 patent/DE4404154C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-01 WO PCT/DE1995/000140 patent/WO1995022040A1/de active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3032564A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-04-09 | Jenoptik Jena Gmbh, Ddr 6900 Jena | Einrichtung zur bestimmung geometrischer abmessung an prueflingen |
US4818110A (en) * | 1986-05-06 | 1989-04-04 | Kla Instruments Corporation | Method and apparatus of using a two beam interference microscope for inspection of integrated circuits and the like |
US4946280A (en) * | 1988-09-15 | 1990-08-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Wavefront analysis for segmented mirror control |
US5054924A (en) * | 1989-06-12 | 1991-10-08 | California Institute Of Technology | Method for extracting long-equivalent wavelength interferometric information |
US5112129A (en) * | 1990-03-02 | 1992-05-12 | Kla Instruments Corporation | Method of image enhancement for the coherence probe microscope with applications to integrated circuit metrology |
DE4108944A1 (de) * | 1991-03-19 | 1992-09-24 | Haeusler Gerd | Verfahren und einrichtung zur beruehrungslosen erfassung der oberflaechengestalt von diffus streuenden objekten |
WO1994018521A1 (en) * | 1993-02-08 | 1994-08-18 | Zygo Corporation | Method and apparatus for surface topography measurement by spatial-frequency analysis of interferograms |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19544253A1 (de) * | 1995-11-28 | 1997-06-05 | Jochen Neumann | Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang |
DE19544253B4 (de) * | 1995-11-28 | 2006-06-29 | Jochen Neumann | Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang |
DE19814057A1 (de) * | 1998-03-30 | 1999-10-07 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur spektralinterferometrischen optischen Tomographie und Oberflächenprofilmessung |
DE19814057B4 (de) * | 1998-03-30 | 2009-01-02 | Carl Zeiss Meditec Ag | Anordnung zur optischen Kohärenztomographie und Kohärenztopographie |
EP1606575A2 (de) * | 2003-01-27 | 2005-12-21 | Zetetic Institute | Leckende geführte wellenmoden, die in der interferometrischen konfokalen mikroskopie zur messung von grabeneigenschaften verwendet werden |
EP1606575A4 (de) * | 2003-01-27 | 2006-12-27 | Zetetic Inst | Leckende geführte wellenmoden, die in der interferometrischen konfokalen mikroskopie zur messung von grabeneigenschaften verwendet werden |
DE102007010389A1 (de) * | 2007-03-03 | 2008-09-04 | Polytec Gmbh | Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Objekts |
US7852487B2 (en) | 2007-03-03 | 2010-12-14 | Polytec Gmbh | Heterodyne interferometer device for optically measuring an object |
DE102007010389B4 (de) * | 2007-03-03 | 2011-03-10 | Polytec Gmbh | Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Objekts |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1995022040A1 (de) | 1995-08-17 |
DE4404154C2 (de) | 1997-12-18 |
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