DD268771A1 - Anordnung zur messung der feingestalt technischer oberflaechen - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Messung der Feingestalt technischer Oberflaechen nach dem Prinzip des Interferenzmikroskops. Erfindungsgemaess wird bei einem Interferenzmikroskop, mit einer Glasplatte im Objektstrahlraum, im Referenzstrahlraum ein Prismenstueck mit Dachkante nachgeordnet, so dass das Objekt- und das Referenzstrahlenbuendel im gemeinsamen Strahlraum sich parallel versetzt ausbreiten und durch Fokussierung auf einen gerasterten Bildempfaenger ein Interferenzbild hoher Streifendichte entsteht, das zeitaufgeloest ausgewertet werden kann. Hierdurch werden die Auswirkungen der Rauheit der Referenzflaeche bei der interferometrischen Messung vollstaendig eliminiert und ein Interferenzbild hoher Streifendichte erzielt, wodurch eine Interferenzbildauswertung mit einem gerasterten Bildempfaenger vorgenommen werden kann. Figur
Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur zeitaufgelösten Messung der Feingestalt technischer Oberflächen nach dem Prinzip des Interferenzmikroskops.
in einen Objekt- und einen Referenzstrahlraum aufgespalten wird, wobei sich im Objektstrahlraum ein Objektiv und dieanzumessende Objektoberfläche befinden.
gelangt zur Interferenz und wird in einem mikroskopischen Strahlengang abgebildet.
macht. Dieser Effekt ist störend, wenn die technologische Bearbeitungsgrenze beim Feinpolieren erreicht wird (RMS-Wert bzw.Rq < 10nm).
wird. Hierbei wird zeitlich nacheinander die Phase im Interferenzbild definiert verändert.
vernachlässigende Phasenfehler auftreten können. Außerdem ist es nicht möglich, Interferenzbilder an bewegten Objektenauszuwerten.
im Objektstrahlraum abgebildet wird. Diese technische Lösung führt zwar zu Meßwerten mit einem besonders hohen
Ziel der Erfindung ist es, den technischen Aufwand bei der interferenzmikroskopischen Messung der Rauheit von Oberflächen in Nanometerbereich stark zu verringern.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei der zeitaufgelösten interferometrischen Messung die bisher erforderliche körperliche Referonzfläche überflüssig zu machen.
Die erfindungsgemäßo Anordnung umfaßt eine Lichtquelle, die aus einer kompl >nen Interferenzmikroskop-Beleuchtung besteht, eine Feldblende, ein Belouchtungsobjektiv, einen Glasblock, eine teilverspiegelte Schicht, ein Abbildungsobjektiv, eine Objektoberfläche im Objektstrahlraum, einen Referenzstrahlraum und einen gemeinsamen Strahlraum mit einem Tubusobjektiv und einem gerasterten Bildempfänger, dar mit einem Rechner verbunden ist, wobei der Lichtquelle in Ausbreitungsrichtung die Feldblende, das Beleuchtungsobjektiv, der Glasblock und die teilverspiegelte Schicht nachgeordnet sind und dieser das Abbildungsobjektiv und die Objektoberfläche folgen, wobei erfindungsgemäß im Objektstrahlraum zwischen der teilverspiegelten Schicht und dem Abbildungsobjektiv eine Platte und der Glasblock angeordnet sind und der teilverspiegelten Schicht im Referenzstrahlraum ein Reflektor mit Dachkante folgt, dem wiederum in Strahlausbreitungsrichtung ein Drehkeilpaar und das Tubusobjektiv mit dem Bildempfänger, der mit dem Rechner gekoppelt ist, nachgeordnet sind. Hierbei sind vorteilhafterweise die Lage und die Brennweite des Abbildungsobjektivs mit der optischen Dicke der Platte so abgestimmt, daß die durch die Platte auftretende optische Verlagerung des der teilverspiegelten Schicht zugekehrten Brennpunktes F in den virtuellen Brennpunkt F", der die virtuelle Spiegelebene S' des Objektstrahlraumes definiert, so bemessen ist, daß die über den Objektstrahlraum abgebildete Pupille B' und die über den Referenzstrahlraum mit dem Reflektor mit Dachkante 10 und dem Drehkeilpaar 13 abgebildete Pupille B" durch das Tubusobjektiv 14 im gemeinsamen Strahlraum als zwei parallel versetzte, in einer gemeinsamen Ebene- liegende Austrittspupillen (B') und (B") abgebildet sind und so ein Interferenzbild hoher Streifendichte besteht.
Der Glasblock ist vorzugsweise ein 90°-Prisma, der Reflektor mit Dachkante vorzugsweise als monolithisches oder zusammengefügtes Tripelprisma mit einem Eckpunkt, der auf der optischen Achse des Tubusobjektivs liegt, drei Seitenflächen und einer dem Eckpunkt gegenüberliegenden Grundfläche ausgefühlt, wobei eine der drei Kanten, die vom Eckpunkt des Tripelprismas zur Grundfläche ausgehen, im Referenzstrahlraum als Dachkante angeordnet ist.
Das 90°-Prisma und das Tripelprisma sind hierbei zweckmäßigerweise an der Hypothenusenfläche bzw. an einer Seitenll&che starr miteinander zusammengefügt, wobei zwischen diesen die teilverspiegelte Schicht angeordnet ist. Das Tripelprisma kann aber auch zu einem 90°-Prisma und einem 90°-Dachkantenprisma zerschnitten sein.
Die Dachkante liegt vorzugsweise senkrecht zur teilverspiegelten Schicht und der Eckpunkt des Tripelprismas ist vorzugsweise außerhalb der Hypothenusenfläche des 90°-Prismas angeordnet, die Grundfläche des Tripelprismas parallel zur Knthotenflache des 90°-Prismas im Objektstrahlraum ausgerichtet.
Die optischen Dicken der Platte, des Abbildungsobjektivs, des Tripelprismas und des Drehkeiipaares sind am günstigsten so bemessen, daß der optische Gangunterschied zwischen den interferierenden Objekt- und Referenzstrahlenbündeln für wenigstens eine Lichtwellenlänge zu einer Größe gegen Null gemacht ist.
Der Bildempfänger besteht vorzugsweise aus einer CCD-Matrix. Vorzugsweise ist die Platte keilig, quer verschiebbar und kippbar, das Abbildungsobjektiv gemeinsam mit der Platte auswechselbar angeordnet.
erfindungsgemäße Anordnung in nachstehender Fig. in schematischer Darstellung.
kollimiert, gelangt in ein 90°-Prisma 4 und trifft auf eine teilverspiegelte Schicht 5. Ein Teil des Strahlenbündels gelangt in den
eine Objektoberfläche 8 fokussiert wird. Von dort wird es im Fokus reflektiert, durch das Abbildungsobjektiv 7 wieder kollimiert,durchsetzt die Platte 6 erneut und gelangt durch die teilverspiegelte Schicht 5 in einen gemeinsamen Strahlraum.
das Referenzstrahlenbündel in setner Ausbreitungsrichtung korrigiert worden kann und tritt in den gemeinsamen Strahlraumein, wo es sich parallel versetzt zum Objektstrahlenbundel ausbreitet und gemeinsam mit diesem durch ein Tubusobjektiv 11 aufeinen Bildempfänger 12 fokussiert wird, so daß ein Bild der Objektoberfläche 8 als Interferenzbild entsteht, wobei die
dargestellten Rechner.
abgestimmt, daß die über den Objekt- und Referenzötrahlengang abgebildeten Pupillen B- und B2 im gemeinsamen
benötigtes Gasvolumen abgeschliffen.
der optische Gangunterschied zu einer Größe gegen. Null gemacht ist.
Claims (10)
1. Anordnung zur Messung der Feingestalt technischer Oberflächen, mit einer Lichtquelle, einer Feldblende, einem Beleuchtungsobjektiv, einem Glasblock und einer teilverspiegelten Schicht, einem Abbildungsobjektiv, einer Objektoberfläche im Objektstrahlraum, einem Referenzstrahlraum und einem gemeinsamen Strahlraum mit einem Tubusobjektiv und einem gerasterten Bildempfänger, der mit einem Rechner verbunden ist, wober der Lichtquelle in Ausbreitungsrichtung die Feldblende, das Beleuchtungsobjektiv, der Glasblock und die teilverspiegelte Schicht nachgeordnet sind und dieser das Abbildungsobjektiv und die Objektoberfläche folgen, dadurch gekennzeichnet, daß im Objektstrahlraum zwischen der teilverspiegelten Schicht (5) und dem Abbildungsobjektiv (7) eine Platte (6) und der Glasblock angeordnet ist und der teilverspiegelten Schicht (5) im Referenzstrahlraum ein Reflektor mit Dachkante (10) folgt, dem wiederum in Strahlausbreitungsrichtung ein Drehkeilpaar (13) und das Tubusobjektiv (14) mit dem Bildempfänger (15), der mit dem Rechner gekoppelt ist, nachgeordnet sind.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage und die Brennweite des Abbildungsobjektivs (7) mit der optischen Dicke der Platte (6) so abgestimmt ist, daß die durch Platte (6) auftretende optische Verlagerung des der teilverspiegelten Schicht (5) zugekehrten Brennpunktes (F') in den virtuellen Bronnpunk! (F"), der die virtuelle Spiegelebene (S') des Objektstrahlraumes definiert, so bemessen ist, daß die über den Objektstrahlraum abgebildete Pupille (B') und die über den Referenzstrahlraum mit dem Reflektor mit Dachkante (10) und dem Drehkeilpaar (13) abgebildete Pupille (B") durch das Tubusobjektiv (14) im gemeinsamen Strahlraum als zwei parallel versetzte, in einer gemeinsamen Ebene liegende Austrittspupillen ([B']) und ([B"]) abgebildet sind und so ein Interferenzbild hoher Streifendichte besteht.
3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Glasblock ein 90°-.°risma (4) ist und der Reflektor mit Dachkante (10) als monolithisches bzw. zusammengefügtes Tripelprisma (9) mit einem Eckpunkt (11), der auf der optischen Achse des Tubusobjektivs (14) liegt, drei Seitenflächen und einer dem Eckpunkt (11) gegenüberliegenden Grundfläche (12) ausgeführt ist, wobei eine der drei Kanten, die vom Eckpunkt (11) desTripelprismas (9) zur Grundfläche ausgehen, im Referenzstrahlraum als Dachkante angeordnet ist.
4. Anordnung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das 90°-Prisma (4) an der Hypothenusenfläche und das Tripelprisma (9) an einer Seitenfläche starr miteinander zusammengefügt sind, wobei zwischen diesen die teilverspiegelte Schicht (5) angeordnet ist.
5. Anordnung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Tripelprisma (9) zu einem 90°-Prisma und einem gO^Dacfkantprisma zerschnitten ist.
6. Anordnung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Dachkante (10) vorzugsweise senkrecht zur teilverspiegelten Schicht (5) liegt und der Eckpunkt (11) des Tripelprismas (9) vorzugsweise außerhalb der Hypothenusenfläche des 90°-Prismas i4) angeordnet und die Grundfläche (12) des Tripelprismas (9) parallel zur Kathetenfläche des 90°-Prismas (4) im Objektstrahlraum ausgerichtet ist.
7. Anordnung nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die optischen Dicken der Platte (6), des Abbildungsobjektivs (7), des Tripelprismas (9) und des Drehkeilpaares (13) so bemessen sind, daß der optische Gangunterschied zwischen den interferierenden Objekt- und Referenzstrahlenbündeln für wenigstens eine Lichtwellenlänge zu einer Größe gegen Null gemacht ist.
8. Anordnung nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Bildempfänger (15) aus einer CCD-Matrix besteht.
9. Anordnung nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (6) keilig ist, sowie quer verschiebbar und vorzugsweise kippbar angeordnet ist.
10. Anordnung nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Abbildungsobjektiv (7) gemeinsam mit der Platte (6) auswechselbar angeordnet ist.
Hierzu 1 Seite Zeichnung
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DD31281788A DD268771A1 (de) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | Anordnung zur messung der feingestalt technischer oberflaechen |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DD31281788A DD268771A1 (de) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | Anordnung zur messung der feingestalt technischer oberflaechen |
Publications (1)
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Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DD31281788A DD268771A1 (de) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | Anordnung zur messung der feingestalt technischer oberflaechen |
Country Status (1)
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DD (1) | DD268771A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2843360A1 (de) | 2013-09-03 | 2015-03-04 | Universität Stuttgart | Robustes One-Shot-Interferometer und OCT- Verfahren, insbesondere zur Materialmessung und auch Tumorzellen-Erkennung |
CN104713489A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-06-17 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | 一种三维云纹干涉仪及材料表面测量方法 |
-
1988
- 1988-02-10 DD DD31281788A patent/DD268771A1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE102013016752A1 (de) | 2013-09-03 | 2015-03-05 | Universität Stuttgart | Verfahren und Anordnung zur robusten One-shot-Interferometrie, insbesondere auch zur optischen Kohärenz-Tomografie nach dem Spatial-domain-Ansatz (SD-OCT) |
US9739594B2 (en) | 2013-09-03 | 2017-08-22 | Universität Stuttgart | Robust one-shot interferometer |
CN104713489A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-06-17 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | 一种三维云纹干涉仪及材料表面测量方法 |
CN104713489B (zh) * | 2015-02-04 | 2017-10-31 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | 一种三维云纹干涉仪及材料表面测量方法 |
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