DD267311A1 - Verfahren und anordnung zur messung der feingestalt von oberflaechen - Google Patents

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Anordnung zur Messung der Feingestalt von Oberflaechen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Auswirkung der Rauheit einer Referenzflaeche auf das interferometrische Messergebnis zu reduzieren. Erfindungsgemaess wird dies dadurch erreicht, dass die spiegelnde Referenzflaeche in der erfindungsgemaessen Interferometeranordnung eine Kruemmung aufweist und durch ein Referenzobjektiv, das eine groessere Brennweite als ein Abbildungsobjektiv im Objektstrahlengang besitzt, die Rauheit der spiegelnden Flaeche in so geringem Masse bei der Abbildung in einem Bildempfaenger in Erscheinung tritt, dass sie vernachlaessigt werden kann. Damit kann die Rauheit im Anstroembereich gemessen werden. Fig. 1

Description

Hierzu 2 Seiten Zeichnungen

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Messung der Feingestalt von Oberflächen, insbesondere zur Messung der Rauheit, nach dem Interferenzprinzip.

Charakteristik des bekannten Standes der Technik

Es sind technische Lösungen bekannt, bei denen das von einer Lichtquelle ausgehende Licht durch eine Strahlteilung in einen Objekt- und einen Referenzstrahlengang aufgespalten wird, wobei sich im Objektstrahlengang ein Objektiv und die anzumessende Objektoberfläche befinden.

Im Referenzstrahlengang sind ein Objektiv gleichen Typs wie im Objektstrahlengang und eine Rjferenzfläche angeordnet, wie z.B. von Krug, Rienitz und Schulz in »Beiträge zur Interferenzmikroskopie", Akademie-Verlag, Berlin 1961, S.56/57 beschrieben.

Die von der Objektoberfläche und der Referenzoberfläche reflektierte Strahlung wird an der Teilerfläche wieder vereinigt, gelangt zur Interferenz und wird in einem mikroskopischen Strahlengang abgebildet.

Der Nachteil dieser Anordnung besteht darin, daß die Rauheit der Referenzfläche sich als Fehler in der Messung bemerkbar macht. Dieser Effekt ist störend, wenn die technologische Bearbeitungsgrenze beim Feinpolieren erreicht wird (RMS-Wert bzw. 10nm).

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, den technologischen Aufwand beim Feinpolieren der Referenzoberfläche zu senken, bzw. den Meßfehlereinfluß stark zu reduzieren.

-3- 267 311 Darlegung de· Wesens der Erfindung

Aufgabe der Erfindung Ist es, eine Messung der Rauhelt Im Angströmbereich zu nrreichen, ohne daß die Referenzfläche eine Rauheit gleicher Größenordnung besitzen muß. Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gelöst, indem ein Lichtstrahlenbündel in seinem Winkel begrenzt, kollimiert und durch Teilung der Amplitude in ein Objekt· und ein ReferenzstrahlenbQndel aufgespalten wird, wobei das erstere auf eine Objektoberfläche fokussiert, von dieser reflektiert und anschließend wieder kollimiert wird, das Referenzstrahlenbündel

ebenfalls fokussiert, in seinem Fokus reflektiert und kollimiert wird und das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel wiedervereinigt und sich im gemeinsamen Strahlraum kollinear oder sich Im gemeinsamen Strahlraum parallel versetzt ausbreiten undfokussiert werden und ein Bild der Objektoberfläche entsteht, wobei erfindungsgemäß das Referenzstrahlenbündel in

Ausbreitungsrichtung schwächer als das Objektstrahlenbündel fokussiert wird und die Reflexion des Reforenzstrahlenbündels

vorzugsweise mit einer zweiten Fokussierung verbunden ist.

Dabei ist es vorteilhaft, wenn die zweite Fokussierung des Referenzstrahlenbündels so erfolgt, daß die über den Objekt- und Referenzstrahlengang abgebildeten Pupillen B' und B" ineinanderfallen und so eine Feldkompensation gegeben ist oder daß die

über den Objekt· und Referenzstrahlengang abgebildeten Pupillen im gemeinsamen Strahlraum als zwei getrennte

Austrittspupillen B' und B" in eine gemeinsame Ebene abgebildet werden, da hierdurch gewährleistet wird, daß nur dann

gekrümmte Interferenzstreifen auftreten, wenn die Objektoberfläche auch gekrümmt ist, al io keine gekrümmte Objektoberflächevorgetäuscht wird.

Weiterhin ist es zweckmäßig, daß die optische Weglänge im Referenzstrahlengang, in Bruchteilen der verwendeten Lichtwellenlänge oder die Wellenlänge des verwendeten Lichtes so verändert wird, daß die Phase im Interferenzbild sich in Bruchteilen von 2 Pi verändert und nach oder während der Veränderung eine Messung erfolgt. Es ist auch vorteilhaft, daß durch eine Fokussierung der parallel versetzt in einem gemeinsamen Strahlraum sich ausbreitenden Objekt- und Referenzstrahlenbündel in der Fokusebene ein Interferenzbild hoher Streifendichte erzeugt wird, um auf diese Weise

eine Auswertung des Interferenzbildes z. B. mittels Fourier-Transformation durchführen zu können.

Besondere Vorteile werden dadurch erreicht, daß das Objektstrahlenbündel nach seiner zweiten Kollimierung vorzugsweise im

rechten Winkel reflektiert und anschließend durch eine zweite und dritte Reflexion entgegengesetzt zur ursprünglichen

Lichtrichtung in einem eigenen Strahlraum verläuft und durch Teilung der Amplitude in zwei Teilbündel aufgespalten wird, die

vorzugsweise rechtwinklig zueinander sich ausbreiten und beide Teilbündel in ehe Bildebene fokussiert werden, die

Bündelachsen des Referenzstrahlenbündels vor und nach der Reflexion einen Winkel von weniger als 90° einschließen und

dieses reflektierte Teilbündel, das so in einem eigenen Strahlraum verläuft, wieder kollimiert und vorzugsweise um 90° reflektiertund in zwei Teilbündel aufgespalten wird und diese in eine Bildebene fokussiert werden, und der optische Gangunterschiedzwischen Objekt- und Referenzstrahlenbündel für mindestens zwei Lichtwellenlängen zu Null gemacht wird. Hierdurch ist esmöglich, eine Lichtquelle mit mehr als nur einer Wellenlänge bzw. mehrere Lichtquellen zu verwenden, um eine größere effektive

Wellenlänge (z. B. durch Schwebung) zu erzeugen bzw. um einen Nullpunkt zu definieren. Vorteilhaft ist weiterhin, wenn sich nach der Aufspaltung des Objekt- und des Referenzstrahlenbündels in je zwei Teilstrahlenbündel sich je ein Teilbündel in einem gemeinsamen Strahlraum parallel versetzt ausbreiten und diese in eine Bildebene fokussiert werden, so daß in dieser ein Interferenzbild hoher Streifendichte entsteht, wobei der Interferenzstreifenabstand mehrfach unterhalb der lateralen Auflösung liegt. Damit wird erreicht, daß für jeden mikroskopisch

aufgelösten Punkt der Objektoberfläche, ohne die Phase verstellen zu müssen, die Phase bestimmt werden kann, indem mehrere

Punkte eines Bildempfängers in bekannter Art und Weise zu einem Bildpunkt zusammengefaßt werden. Die erfindungsgemäße Anordnung zur Lösung der gestellten Aufgabe besteht aus einer Lichtquelle, der in Lichtrichtung eine Feldblende, ein Beleuchtungsobjektiv und eine teilverspiegelte Schicht folgen, wobei dieser zum einen ein Abbildungsobjektiv

und eine Objektoberfläche, zum anderen eine Keilplatte, eine Aperturblende und ein Referenzobjektiv nachgeordnet sind, wobeierfindungsgemäß dessen Brennweite jedoch wesentlich größer als die des Abbildungsobjektives ist und außerdem dem

Referenzobjektiv eine konkav gekrümmte Spiogelfläche oder eine konvexe Spiegellinse folgen. Zum dritten steht der

teilvei spiegelten Schicht ein Tubusobjektiv mit einem in Lichtrichtung nachgeordneten Bildempfänger gegenüber, der miteinem Rechner verbunden ist.

Das von der Lichtquelle ausgehende Licht wird durch die Feldblende in seinem Feldwinkel begrenzt und durch das Beleuchtungsobjektiv kollimiert. Die teilverspiegelte Schicht erzeugt ein Objekt- und ein Referenzstrahlenbündel. Das Objektstrahlenbündel wird durch dns Abbildungsobjektiv fokussiert und an der Objektoberfläche reflektiert, durch das Abbildungsobjektiv wieder kollimiert. Das Referenzstrahlenbündel wird durch das Referenzobjektiv auf die konkav gekrümmte Spiegelfläche fokussiert, ein zweites Mal fokussiert und reflektiert, und anschließend durch das Referenzobjektiv kollimiert. An der Teilerschicht werden das Referenz- und das Objektstrahlenbündel wieder vereinigt. Es kommt zur Interferenz und die

interferierenden Bündel werden durch das Tubusobjektiv auf einen Bildempfänger abgebildet, wobei durch den mit diesemverbundenen Rechner die Auswertung erfolgt.

Durch die Abbildung der spiegelnden Fläche im Referenzstrahlengang durch das Referenzobjaktiv, das eine größere Brennweite

als das Abbildungsobjektiv im Objektstrahlengang aufweist, wird die spiegelnde Fläche durch die Wirkung der Blende mitgeringerer numerischer Apertur als die Objektoberfläche abgebildet, so daß die Rauheit der spiegelnden Fläche in so geringem

Maße bei der Abbildung in den Bildempfänger in Erscheinung tritt, deß sie praktisch vernachlässigbar ist. Damit kann die Rauheit

einer Objektoberfläche im Angströmbereich gemessen werden, ohne daß die Referenzfläche eine Rauheit gleicher

Größenordnung, die technologisch nur sehr cchwer beherrschbar ist, aufweisen muß. Um das bekannte Phase-Sampling-Verfahren anwenden zu können, muß die Phasenlage im auszuwertenden Interferenzbild

verändert werden, dies wird z. B. durch Bewegen der Keilplatte quer zur Strahlausbreitungsrichtung bzw. das Verändern der

Lichtwellenlänge mit einem durchstimmbar Halbleiterlaser möglich. Von besonderem Vorteil ist es, durch Auskopplung des Objektstrahlenganges eine Kompensation der optischen Wege im Interferometer zu erreichen, so daß quasimonochromatisches Licht oder Licht mehrerer Wellenlängen bzw. Weißlicht verwendet

werden kann.

Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn die konkav gekrümmte Spiegelfläche bzw. die Spiegellinse zur Anpassung an die Objektoberfläche auswechselbar ist.

Eine vorteilhafte Gestaltung der Anordnung ergibt sich weiterhin, wenn die Brennweite der konkav gekrümmten Spiegelfläche bzw, die Spiegellinse die Hälfte der des Referenzobjektivs beträgt und die der teitverspiegelten Schicht gegenüberliegende Brennebene des Abbildungsobjektive mit der Hauptebene des Referenzobjektivs optisch ineinanderfällt.

Ausfflhrungsbelsplel« Di 5 Erfindung soll nachstehend an Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die zugehörigen Zeichnungen zeigen: Fig. 1: eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen Anordnung

Fig. 2: eine erfindungsgemäße Anordnung mit Kompensation der optischen Gangunterschiede von Objekt- und Referenzstrahlongang

1. Zur Messung der Feingestalt von Oberflächen entsprechend Anordnung Fig. 1 wird das von einer monochromatischen Lichtquelle 1 ausgehende Strahlenbündel durch eine Feldblende 2 begrenzt und gelangt auf ein Belpuchtungsobjektiv 3, wild kollimiert und tritt in einen Teilerwürfel 4 mit einer teilverspiegeiten Schicht 5 ein. Das hierbei reflektierte Objektstrahlenbündel wird durch ein Abbildungsobjektiv β auf eine Objektoberfläche 7 fokussiert, an dieser reflektiert, durch das Abbildungsobjektiv 6 wieder kollimiert und gelangt wieder in den Teilerwürfel 4.

Das an der teilverspiegeiten Schicht 5 hindurchgelassene Referenzstrahlenbündel passiert eine Keilplatte 8, eine Blende 9 und wird durch ein Referenzobjektiv 10 auf eine SpiegMlinse 11 fokussiert und an ihrer Spiegelschicht 12 reflektiert, wobei durch die Spiegellinse 11 ebenfalls eine fokussierende Wirkung auftritt.

Das an der Spiegels^hicht 12 reflektierte Referenzstrahlenbündel wird durch die Wirkung des Referenzobjektives 10 kollimiert, durchsetzt die Keilplatte 8 und gelangt wieder in den Teilerwürfel 4. Das in den Teiierwürfel 4 eingetretene Objekt- und Referenzstrahlenbündel werden an der teilverspiegeiten Schicht S vereinigt, verlassen den Teilerwürfel 4 gemeinsam und werden durch ein Tubusobjektiv 13 auf einem Bildempfänger 14 abgebildet, der mit einem Rechner verbunden ist. Durch die Verwendung eines Referenzobjektivs 10 mit größerer Brennweite und kleinerer numerischer Apertur als die des Abbildungsobjektivs Swirddio Rauheit der Spiegelschicht 12 mit entsprechend verringertem lateralem Auflösungsvermögen in dem Bildempfänger 14 abgebildet, so daß die Rauheit der Spiegelschicht 12 praktisch vernachlässigt werden kann. Die Brennweite der Spiegellinse 11 ist in dieser Anordnung so gewählt, daß sie der Hälfte der des Referenzobjektivs 10 entspricht. Dadurch entsteht das Bild des Beleuchtungsobjektivs 3, die Pupille, in gleicher Entfernung und Größe hinter dem Referenzobjektiv 10 wie das Beleuchtungsobjektiv 3 optisch vor dem Referenzobjektiv 10 steht. Ein zweites Bild des Beleuchtungsobjektivs 3 entsteht durch die Abbildung über das Abbildungsobjektiv β und die Objektoberfläche 7. Dieses Bild befindet sich in gleicher Entfernung und Größe hinter der Brennebene des Abbildungsobjektivs 6, d^!e dem Teilerwürfel 4 direkt gegenübersteht, wie das Beleuchtungsobjektiv 3 vor dieser Brennebene angeordnet ist. Die Lage des Referenzobjektivs 10 ist hierbei unter Berücksichtigung der Dicke der Keilplatte 8 so gewählt, daß die Hauptebene des Referenzobjektivs optisch mit der genannten Brennebene des Abbildungsobjektivs 6 zusammenfällt.

So werden durch das Tubusobjektiv 13 die beiden Pupillen 8' und B" als gemeinsam Austrittspupille B; B" abgebildet. Dies führt bekannterweise zu einer Feldkompensation, d.h. es treten trotz unterschiedlicher Glas- und Luftwege im Objekt- und Referenzstrahlengang bei einer ebenen Objektoberfläche 7 keine Interferenzringe auf. Diese Abstimmung ist durch das Verschieben der Keilplatte 8 möglich, wobei auch die Krümmung der Objektoberfläche 7 einkorrigiert werden kann, so daß auch bei einer gekrümmten Objektoberfläche 7 keine Interferenzringe auftreten können.

2. Zur Messung der Feingestalt von Oberflächen entspi sehend Anordnung Fig. 2 wird das von einer quasimonochromatischen Lichtquelle 15 ausgehende Strahlenbündel durch eine Feldblende 16 begrenzt, durch ein Beleuchtungsobjektiv 17 kollimiert und gelangt in einen Teilerwürfel 18. Das von einer Weißlichtquelle 19 emittierte Licht wird ebenfalls durch eine Feldblende 20 begrenzt, durch ein Beleuchtungsobjektiv 21 kollimiert und gelangt in den Teiierwürfel 18. Die den Teilerwürfel 18verlassenden Strahlenbündel gelangen ir einen Glasblock 22 mit oiner teilverspiegeiten Schicht 23. Das an dieser reflektierte Objektstrahlenbündel wird von einem Abbildungsobjektiv 24 auf eine Objektoberfläche 25 fokussiert, an dieser reflektiert, durch das Abbildungsobjektiv 24 kollimiert und gelangt wieder in den Glasblock 22.

Das die teilverspiegelte Schicht 23 passierende Ralerenzstrahlenbündel gelangt über eine Keilplatte 26 durch eine Blende 27 auf ein Referenzobjektiv 28 auf eine konkav gekrümmte Spiegelfläche 23, wird von dieser reflektiert, von einem Referenzobjektiv 28 kollimici c, passiert die Blende 27 und die Keilplatte 26 und tritt wieder in den Glasblock 22 ein, wird dort an einer Reflexionsschicht 30 um 90° umgelenkt und gelangt auf eine teilverspiegelte Schicht 31.

Das in den Glesblock 22 eingetretene Objektstrahlenbündel passiert die toilverspiegelte Schicht 23 und wird an der Reflexioncschicht 30 um 90° abgelenkt, verläßt den Glasblock 22, durchsetzt einen drehbar angeordneten Prismenkeil 32 und wird durch einen Dachkantreflektor 33 in seiner Struhlrichtung umgekehrt, gelangt auf einon weiteren drehbar angeordneten Prismenkeil 34 und tritt wieder in den Glasblock 22 ein, wo es au/ die teilverspiegelte Schicht 31 trifft.

An dieser werden Objekt- und Referenzstrahlenbündel wieder vereinigt, so, daß zwei Interferenzbündelpaare entstehen, die den Glasblock 22 cn seinen beiden Ausgängen verlassen und je in ein Tubusobjektiv 35 und 36 gelangen und auf einen Bildempfänger 37, der mit einem hier nicht dargestellten Rechner verbunden ist, bzw. in einer Bildebene 38 abgebildet werden, wobei das Bild mittels eines Okulares 39 mit dem Auge beobachtet werden kann.

Um Weißlichtinterferenzen als Kriterium für die Fokussierung der Objektoberfläche benutzen zu können, ist der optische Gangunterschied zwischen Objekt- und Referenzstrahlenbündel in bekannter Weise für mindestens zwei verschiedene Lichtwellenlängen durch die Dimensionierung aller optischen Bauelemente und der Luftwege sowie der Wahl des Brechungsindexes und der Dispersion des Glases zu Null kompensier«.

Außerdem fallen die durch den Objekt- und Raferenzstrahlengang abgebildeten Pupillen B' und B" nach der Abbildung durch die Tubusobjektive 35; 36 zu je einer gemeinsamen Austrittapupillo B'; B" zusammen. Kleine-Abweichungen von diesen Kompensationen können durch Versch'eben der Keilplatte 26 bzw. des Referenzobjektivs 28

gemeinsam mit der Objektoberflflche 25 eliminiert werden.

Mit den drehbar angeordneten Prismenkeilen 32; 34 wird erreicht, daß die Bündelachsen von Objekt- und Referenzstrahlenbündel im gemeinsamen Strahlraum vor dem Tubusobjektiv 35; 36 zueinander parallol sind. Weißlichtinterferenzen treten nach diesem Abgleich genau dann auf, wenn im kompensierten Interferometer die ObjektoberflSche 25 durch das Abbildungsobjektiv 24 scharf abgebildet wird, so daß ein Einstellkriterium existiert.

Claims (14)

1. Verfahren zur Messung der Feingestalt von Oberflächen, bei dem ein Lichtetrahlbündel in seinem Raumwinkel begrenzt, kollimiert und durch Teilung der Amplitude in ein Objekt- und ein Referenzstrahlbündel aufgespalten wird, so daß ein Objekt- und ein Referenzstrahlengang entstehen, wobei das Objektstrahlenbündel auf eine Objektoberfläche fokussiert, von dieser reflektiert und anschließend wieder kollimiort wird, das Referenzstrahlenbündel ebenfalls fokussiert, in seinem Fokus reflektiert und dann kollimiert wird und das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel wieder vereinigt und sich in gemeinsamen Strahlraum kollinear oder sich im gemeinsamen Strahlraum zueinander parallel versetzt ausbreiten und fokussiert werden, wobei ein Bild der Objektoberfläche als Interferenzbild entsteht, dadurch gekennzeichnet, daß das Referenzstrahlenbündel in Ausbreitungsrichtung schwächer als das Objektstrahlenbündel fokussiert wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflexion des Referenzstrahlenbündels mit einer zweiten Fokussierung verbunden ist und so erfolgt, daß die über den Objekt- und Referenzstrahlengang abgebildeten Pupillen als gemeinsame Austrittspupille im gemeinsamen Strahlraum abgebildet werden und so eine Feldkompensation besteht oder daß die über den Objekt- und Referenzstrahlengang abgebildeten Pupillen im gemeinsamen Strahlraum als zwei getrennte Austrittspupillen in eine gemeinsame Ebene atigebildet werden.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Weglänge im Referenzstrahlengang in Bruchteilen der verwendeten Lichtwellenlänge verändert wird oder die Wellenlänge des verwendeten Lichtes so verändert wird, daß die Phase im Interferenzbild sich in Bruchteilen von 2Pi verändert und nach oder während der Veränderung eine Messung erfolgt.

4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß durch eine Fokussierung der parallel versetzt in einem gemeinsamen Strahlraum sich ausbreitenden Objekt- und Referenzstrahlenbündel in der Fokusebene ein Interferenzbild hoher Streifendichte erzeugt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Objektstrahlenbündel nach seiner zweiten Kollimierung vorzugsweise im rechten Winkel reflektiert und anschließend durch eine zweite und dritte Reflexion entgegengesetzt zur ursprünglichen Lichtrichtung in einem eigenen Strahlraum verläuft und durch Teilung der Amplitude in zwei Teilbündel aufgespalten wird, die vorzugsweise rechtwinklig zueinander sich ausbreiten und beide Teilbündel in eine Bildebene fokussiert werden, die Bündelachsen des Referenzstrahlenbündels vor und nach der Reflexion eine Winkel von weniger als 90° einschließen und dieses reflektierte Tei !bündel, das so in einem eigenen Strahlraum verläuft, wieder kollimiert und vorzugsweise um 90° reflektiert und in zwei Teilstrahlbündel aufgespalten wird, und diese in eine Bildebene fokussiert werden, und daß der optische Gangunterschied zwischen Objekt- und Referenzstrahlenbündel für mindestens zwei Lichtwellenlängen zu Null gemacht wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1,2,4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Aufspaltung des Objekt- und des Referenzstrahlenbündels in je zwei Teilstrahlenbündel je ein Teilbündel des Objekt- und Referenzstrahlenbündels in einem gemeinsamen Strahlraum sich parallel versetzt ausbreiten und diese in eine Bildebene fokussiert werden, so daß in dieser ein Interferenzbild hoher Streifendichte entsteht, wobei der Interferenzstreifenabstand mehrfach unterhalb der lateralen Auflösung liegt.

7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Objekt- oder das Referenzstrahlenbündel in seiner Ausbreitungsrichtung so korrigiert wird, daß sich das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel im gemeinsamen Strahl raum zueinander parallel ausbreiten.

8. Anordnung zur Messung der Feingestalt von Oberflächen mit einer Lichtquelle, eienr Feldblende, einem Beleuchtungsobjektiv, einer teilverspiegelten Schicht, einem Abbildungsobjektiv, einer Objektoberfläche, einem Referenzobjektiv, einer Referenzfläche, einem Tubusobjektiv und einem Bildempfänger, dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtquelle (1; 15) in Lichtrichtung die Feldblendp (2; 16), das Beleuchtungsobjektiv (3; 17), und dieteilverspiegelte Schicht (5; 23) folgen, wobei dieser zum ersten das Abbildungsobjektiv (6; 24) und die Objektoberf lach ^a. (7; 25), zum zweiten eine quer verschiebbar angeordnete Keilplatte (8; 26), eine Blende (9; 27), das Referenzobjektiv (10; 28), dessen Brennweite jedoch wesentlich größer als die des Abbildungsobjektives (6; 24) ist, eine vorzugsweise konkav gekrümmte Spiegelfläche (29) oder eine vorzugsweise konvexe Spiegellinse (11), und zum dritten das Tubusobjektiv (13; 35; 36) mit

dem in Lichtrichtung in der Brennebene des Tubusobjektivs (13; 35; 36) nachgeordneten Bildempfänger (14; 37), der mit einem Rechner verbunden ist, gegenüberstehen, wobei die Brennweite der Spiegelfläche (29) bzw. der Spiegellinse (11) so gewählt ist, daß durch den Objekt- und Referenzstrahlengang abgebildete Pupillen (B'; B") nach dem Tubusobjektiv (13; 35; ',6) ineinanderfallen und so in der Empfängerebene Feldkompensation besteht.

9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Beleuchtungsobjektiv (17) und derteilverspiegelten Schicht (23) ein Teilerwürfel (18) eingefügt ist, dem ein Beleuchtungsobjektiv (21), eine Feldblende (20) und eine polychromatische Lichtquelle (19) vorgeordnet sind, und derteilverspiegelten Schicht (23) eine hierzu parallel angeordnete Reflexionsschicht (30) und eine zu dieser im rechten Winkel stehende weitere teilverspiegelte Schicht (31) folgen, die sich in einem Glasblock (22) befinden, wobei der Reflexionsschicht (30) einerseits ein drehbar angeordneter Prismenkeil (32) und ein Dachkantreflektor (33), zum anderen die Keilplatte (26) gegenübersteht, derteilverspiegelten Schicht (31) zum einen ein weiterer drehbar angeordneter Prismenkeil (34) folgt, der sich zwischen dieser und dem Dachkantreflektor (33) befindet, zum zweiten zu dieser das Tubusobjektiv (36) und der Bildempfänger (37) und zum weiteren ein Tubusobjektiv (35) und ein Okular (39) folgend angeordnet sind, wobei der Bildempfänger (37) mit einem Rechner verbunden ist.

10. Anordnung nach Anspruch 8 und 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Brennweite der konkav gekrümmten Spielgelfläche (29) bzw. derSpiegeiiirise (11) die Hälfte der des Referenzobjektivs (10; 28) beträgt und die dem Teilerwürfel (4) bzw. dem Glasblock (22) gegenüberliegende Brennebene des Abbildungsobjektivs (6; 24) und die Hauptebene des Referenzobjektivs (10; 28) optisch ineinanderfallen.

11. Anordnung nach Anspruch 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelfläche (29) bzw. die Spiegellinse (11) auswechselbar ist.

12. Anordnung nach Anspruch 8 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildempfänger (14; 37) aus einer CCD-Matrix bestehen.

13. Anordnung nach Anspruch 8 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (1; 15) ein Halbleiterlaser ist.

14. Anordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterlaser durchstimmbar ist.