DE3852597T2 - Härtbare Zusammensetzung. - Google Patents
Härtbare Zusammensetzung.Info
- Publication number
- DE3852597T2 DE3852597T2 DE3852597T DE3852597T DE3852597T2 DE 3852597 T2 DE3852597 T2 DE 3852597T2 DE 3852597 T DE3852597 T DE 3852597T DE 3852597 T DE3852597 T DE 3852597T DE 3852597 T2 DE3852597 T2 DE 3852597T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- carbon atoms
- groups
- color filter
- compound
- hydrocarbon group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 81
- -1 tetracarboxylic acid dianhydride Chemical class 0.000 claims description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 49
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 33
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 27
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 10
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- GHGNXOMLLKVMCS-UHFFFAOYSA-N [diethyl-(trimethylsilylamino)silyl]ethane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)N[Si](C)(C)C GHGNXOMLLKVMCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- NSSFZNLWTXERTH-UHFFFAOYSA-N 1-[dipropyl-(tripropylsilylamino)silyl]propane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)N[Si](CCC)(CCC)CCC NSSFZNLWTXERTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- APDDLLVYBXGBRF-UHFFFAOYSA-N [diethyl-(triethylsilylamino)silyl]ethane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)N[Si](CC)(CC)CC APDDLLVYBXGBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- BNIWGIJIGJJEKG-UHFFFAOYSA-N 1-[dibutyl-(tributylsilylamino)silyl]butane Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)N[Si](CCCC)(CCCC)CCCC BNIWGIJIGJJEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WLBTUYGGORKKPC-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](N[Si](C)(C)C)(CCC)CCC Chemical compound C(CC)[Si](N[Si](C)(C)C)(CCC)CCC WLBTUYGGORKKPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AZCSKRGJQNPXJF-UHFFFAOYSA-N C(CCCC)[Si](N[Si](CCCCC)(CCCCC)CCCCC)(CCCCC)CCCCC Chemical compound C(CCCC)[Si](N[Si](CCCCC)(CCCCC)CCCCC)(CCCCC)CCCCC AZCSKRGJQNPXJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CLRCKAZRRYUFSZ-UHFFFAOYSA-N C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)N([SiH](C)C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)N([SiH](C)C)C1=CC=CC=C1 CLRCKAZRRYUFSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MFIOJXZLQGHANO-UHFFFAOYSA-N C[Si](N[Si](C1=CC=CC2=CC=CC=C12)(C)C)(C)C Chemical compound C[Si](N[Si](C1=CC=CC2=CC=CC=C12)(C)C)(C)C MFIOJXZLQGHANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PSHQCPSSPFRNTL-UHFFFAOYSA-N N-[ethyl(methyl)silyl]-N-trimethylsilylmethanamine Chemical compound C(C)[SiH](N([Si](C)(C)C)C)C PSHQCPSSPFRNTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ROTRESVNHZIYSL-UHFFFAOYSA-N N-[methyl(propyl)silyl]-N-trimethylsilylmethanamine Chemical compound C(CC)[SiH](N([Si](C)(C)C)C)C ROTRESVNHZIYSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DFFJWKOSAMSGRP-UHFFFAOYSA-N N-diethylsilyl-N-trimethylsilylmethanamine Chemical compound CC[SiH](CC)N(C)[Si](C)(C)C DFFJWKOSAMSGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GXONWYWCZKTTKG-UHFFFAOYSA-N [diphenyl-(trimethylsilylamino)silyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(N[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 GXONWYWCZKTTKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DTJXCEOOTSOEJB-UHFFFAOYSA-N [methyl-phenyl-(trimethylsilylamino)silyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(N[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 DTJXCEOOTSOEJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims description 2
- JIGSJHAFBFDQSI-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si](N[Si](C1=C(C=CC=C1)C)(C1=C(C=CC=C1)C)C1=C(C=CC=C1)C)(CC)CC Chemical compound C(C)[Si](N[Si](C1=C(C=CC=C1)C)(C1=C(C=CC=C1)C)C1=C(C=CC=C1)C)(CC)CC JIGSJHAFBFDQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LCMQDEJHSONROR-UHFFFAOYSA-N N-dipropylsilyl-N-trimethylsilylmethanamine Chemical compound CCC[SiH](CCC)N(C)[Si](C)(C)C LCMQDEJHSONROR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 10
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 7
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 6
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 6
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 6
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OLFJKJDFWDYOBW-UHFFFAOYSA-N 7-trimethoxysilyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CCCC2C(=O)OC(=O)C12 OLFJKJDFWDYOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIFKAGUROCTFSF-UHFFFAOYSA-N 4-diethoxysilylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C1)[SiH](OCC)OCC DIFKAGUROCTFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002043 Pluronic® L 35 Polymers 0.000 description 2
- 229920002070 Pluronic® P 84 Polymers 0.000 description 2
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BMFVGAAISNGQNM-UHFFFAOYSA-N isopentylamine Chemical compound CC(C)CCN BMFVGAAISNGQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- YKNMIGJJXKBHJE-UHFFFAOYSA-N (3-aminophenyl)-(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(N)=C1 YKNMIGJJXKBHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-azidophenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-aminophenyl)-1,3,3-trimethyl-2h-inden-5-amine Chemical compound C12=CC=C(N)C=C2C(C)(C)CC1(C)C1=CC=C(N)C=C1 CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 1-acetylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC(=O)N1CCCC1=O YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 1-azido-4-[(e)-2-(4-azidophenyl)ethenyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1C(=CC=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)CC1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZNOMHUYXSAUPB-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=C(CCC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 UZNOMHUYXSAUPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOKBFXZQXUZAMV-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO MOKBFXZQXUZAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVFJHAFRIJSPFI-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4,5-triphenylthiophen-2-yl)benzene-1,2-diamine Chemical compound NC=1C(=C(C=CC=1)C=1SC(=C(C=1C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)N MVFJHAFRIJSPFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGWSSXWLLHGGV-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)-1,1,3-trimethyl-2h-inden-5-amine Chemical compound C12=CC(N)=CC=C2C(C)(C)CC1(C)C1=CC=C(N)C=C1 GDGWSSXWLLHGGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDKYPBUWOIPGDY-UHFFFAOYSA-N 3-amino-n-(4-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC(N)=C1 UDKYPBUWOIPGDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTPUHTWBWRQNHL-UHFFFAOYSA-N 4,6-bis(2-aminophenyl)benzene-1,3-diamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1C1=CC(C=2C(=CC=CC=2)N)=C(N)C=C1N OTPUHTWBWRQNHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQXBFPOBVYEBIT-UHFFFAOYSA-N 4-(diethoxysilylmethyl)aniline Chemical compound CCO[SiH](OCC)CC1=CC=C(N)C=C1 DQXBFPOBVYEBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZXQOLDFDFBAE-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethoxysilylmethyl)aniline Chemical compound CO[SiH](OC)CC1=CC=C(N)C=C1 DQZXQOLDFDFBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBCRDGPAIUTPGK-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-aminophenyl)-9h-fluoren-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C(=CC=CC=2)C2)C2=C1C1=CC=C(N)C=C1 RBCRDGPAIUTPGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)C1=CC=C(N)C=C1 HSBOCPVKJMBWTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FREDKPAWJIASPV-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbut-1-enyl(dipropoxy)silane Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CCC=C[SiH](OCCC)OCCC FREDKPAWJIASPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZXCSTVSBHSDFY-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilyl-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O LZXCSTVSBHSDFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylaniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(N)C=C1 CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBVMDQYCJXEJCJ-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCN RBVMDQYCJXEJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJBNFYNWQPBYLY-UHFFFAOYSA-N 5-(2,5-dioxooxolan-3-yl)-3-methylcyclohex-2-ene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C)=CC(C(O)=O)(C(O)=O)CC1C1C(=O)OC(=O)C1 DJBNFYNWQPBYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHAFFSRNBIQYRM-UHFFFAOYSA-N 5-dimethoxysilyl-4-methyl-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CC1=C2C(C(=O)OC2=O)=CC=C1[SiH](OC)OC QHAFFSRNBIQYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWZFANDGMFTDAV-BURFUSLBSA-N [(2r)-2-[(2r,3r,4s)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]-2-hydroxyethyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O LWZFANDGMFTDAV-BURFUSLBSA-N 0.000 description 1
- PZQBWGFCGIRLBB-NJYHNNHUSA-N [(2r)-2-[(2s,3r,4s)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O PZQBWGFCGIRLBB-NJYHNNHUSA-N 0.000 description 1
- QNSQTJHTVQSWFR-UHFFFAOYSA-N [(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound [N-]=[N+]=NC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 QNSQTJHTVQSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHPWRTXYJFNZAW-UHFFFAOYSA-N [[4-[2-(4-diazonioimino-2-sulfocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)ethylidene]-3-sulfocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]hydrazinylidene]azanide Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1S(O)(=O)=O XHPWRTXYJFNZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQKAHLJBJHDPR-UHFFFAOYSA-N [[4-[2-carboxy-2-(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)ethylidene]cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]hydrazinylidene]azanide Chemical compound C=1C=C(N=[N+]=[N-])C=CC=1C(C(=O)O)=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 HEQKAHLJBJHDPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVPFFPOKBIISJF-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.2]oct-5-ene-2,3,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound C1CC2(C(O)=O)C=CC1C(C(=O)O)C2(C(O)=O)C(O)=O RVPFFPOKBIISJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N bis(4-azidophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- NSYXQZTVNVBNLA-UHFFFAOYSA-N but-1-enyl-dipropoxy-propylsilane Chemical compound C(CC)[Si](OCCC)(OCCC)C=CCC NSYXQZTVNVBNLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQWVIABJMXJTTB-UHFFFAOYSA-N butyl-diethoxy-phenylsilane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 VQWVIABJMXJTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229940075614 colloidal silicon dioxide Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- OOROVGKQPXQSTE-UHFFFAOYSA-N dibutoxy-(2,3-dimethylphenyl)-ethylsilane Chemical compound CCCCO[Si](CC)(OCCCC)C1=CC=CC(C)=C1C OOROVGKQPXQSTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- NZXPFQHBVYPZHU-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](CC)(OCC)OCC NZXPFQHBVYPZHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZCJJERBERAQKQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CC)(CC)OCCC BZCJJERBERAQKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)CCC JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDUWLPONQBXSZ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](C)(OC)OC UNDUWLPONQBXSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(C)OCCC ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJNRGJJYCUCFHY-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)C1=CC=CC=C1 IJNRGJJYCUCFHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STBFUFDKXHQVMJ-UHFFFAOYSA-N ethoxy(tripropyl)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)OCC STBFUFDKXHQVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWFNNCHTAVHPBL-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 OWFNNCHTAVHPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N methoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OC)C1=CC=CC=C1 BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJHCFVPNSKNMQ-UHFFFAOYSA-N methyl-(2-methylphenyl)-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)C1=CC=CC=C1C XGJHCFVPNSKNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N mono-methylamine Natural products NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)C BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 210000000707 wrist Anatomy 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/54—Nitrogen-containing linkages
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133519—Overcoatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine härtbare Zusammensetzung, die in geeigneter Weise zur Bildung eines Schutzfilms beispielsweise auf einem transparenten Substrat oder einem Farbfilter in Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen, verwendet wird.
- In jüngster Zeit wurden zahlreiche Vorschläge bezüglich einer farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung unterbreitet, bei der ein Farbfilter zur Farbtrennung mit einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung kombiniert ist.
- Beim Kombinieren eines Farbfilters mit einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung zur Verwendung als farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung werden der Farbfilter und die Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung relativ zum Lichtgang in Reihe angeordnet. Wenn folglich die Anzeige von vorne betrachtet wird, sind die auf der Anzeige erscheinenden Muster fein.
- Wenn jedoch beispielsweise der Farbfilter außerhalb der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung angeordnet ist, die angezeigten Bildelemente fein sind und die Anzeige schräg betrachtet wird, tritt infolge der Dicke des in der Flüssigkristall-Vorrichtung verwendeten Glases eine "Parallaxe" auf.
- Um diese Parallaxe zu verhindern, wurde eine farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung vorgeschlagen, bei der ein Farbfilter im Inneren einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung angeordnet ist.
- Bezüglich der Anordnung eines Farbfilters im Inneren einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung ist es bekannt, daß ein Farbfilter zwischen einer aus ITO (Indiumzinnoxid) o. dgl. bestehenden transparenten Elektrode und einem Substrat für den Farbfilter angeordnet wird. Es ist beispielsweise ein Verfahren bekannt, das die Anordnung eines Farbfilters auf einem transparenten Substrat, die Gasphasenabscheidung von ITO auf dem Farbfilter, ein Ausbilden einer transparenten Elektrode durch Photolithographie und ein anschließendes Aufbringen von Flüssigkristallen darauf umfaßt.
- Bei diesem Verfahren muß der Farbfilter eine ausreichende Wärmebeständigkeit und Chemikalienbeständigkeit aufweisen, da nach der Bildung eines Farbfilters auf dem transparenten Substrat ITO auf dem Farbfilter durch Gasphasenabscheidung aufgebracht wird und anschließend durch Photolithographie eine transparente Elektrode ausgebildet wird. Somit muß der Farbfilter vor der Gasphasenabscheidung des ITO mit einem Schutzfilm geschützt werden.
- Jüngst wurde eine farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung vorgeschlagen, bei der eine Glasplatte einer Dicke von etwa 500 um auf dem Farbfilter als Schutzfilm dafür angeordnet wird und auf der Glasplatte eine transparente Elektrode ausgebildet wird.
- Wenn eine Glasplatte als Schutzfilm für den Farbfilter verwendet wird, ist es nicht möglich, die obenerwähnte Parallaxe in ausreichendem Maße zu verhindern, da die Flüssigkristallschicht und der Farbfilter entfernt voneinander angeordnet sind. Wenn die angezeigten Bildelemente fein sind, kann infolge der Parallaxe kein scharfes Bild erhalten werden.
- Als das transparente Substrat für eine Flüssigkristall- Anzeigevorrichtung werden häufig Glassubstrate, die anorganische Ionen wie Na&spplus; enthalten, verwendet. Wenn eine herkömmliche Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung unter Verwendung des genannten Glassubstrats hergestellt wird, ist es bekannt, daß die anorganischen Ionen im Glassubstrat in die Flüssigkristalle eindringen, wodurch die Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung beschädigt wird.
- Hinsichtlich des Schutzfilms für einen derartigen Farbfilter oder ein derartiges transparentes Substrat wird eine sogenannte Grundierungsbehandlung vorgeschlagen, bei der auf dem Farbfilter oder dem transparenten Substrat ein aus einer anorganischen Substanz, beispielsweise Siliciumdioxid, bestehender dünner Schutzfilm ausgebildet wird. Da diese Grundierungsbehandlung bei einer hohen Temperatur, beispielsweise 400-500ºC, erfolgt, kann die Behandlung nicht bei einem Substrat mit einem Farbfilter angewendet werden, da der Farbfilter bei einer derartigen hohen Temperatur thermisch zersetzt wird. Darüber hinaus muß die Grundierungsbehandlung in einer inerten Atmosphäre durchgeführt werden, um die Oxidation der aus ITO bestehenden transparenten Elektrode zu verhindern.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die obenerwähnten technischen Probleme zu lösen.
- Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine härtbare Zusammensetzung bereitzustellen, die zur Ausbildung eines Schutzfilms für einen Farbfilter oder ein transparentes Substrat in farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen geeignet ist, wobei der Schutzfilm gleichmäßig und dicht ist, eine ausgezeichnete Wärmebeständigkeit und Reißfestigkeit aufweist, das Eindringen der in dem Farbfilter, dem transparenten Substrat usw. enthaltenen Komponenten in die Flüssigkristalle verhindert, die Bildung einer feinen transparenten Elektrode auf dem Farbfilter gewährleistet, eine ausgezeichnete Haftung an dem Farbfilter und der transparenten Elektrode aufweist und das Problem der Parallaxe bei herkömmlichen farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen zu lösen vermag.
- Um die Haftung eines Polyimidfilms an einem Substrat zu verbessern, wurden zwei Verfahren vorgeschlagen. Das eine besteht darin, in das Molekülende eines Polyimids oder einer den Vorläufer des Polyimids darstellenden Polyamidsäure eine hydrolysierbare Silangruppe einzuführen, um die Haftung an dem Substrat zu verbessern (vgl. EP-A-0 216 007). Das andere Verfahren besteht darin, ein Silankupplungsmittel mit einer Polyimidstruktur zu verwenden, um die Haftung des Polyimidfilms an dem Substrat zu verbessern (vgl. EP-A-0 230 891).
- Diese Verfahren können die Haftung eines linearen Polyimids am Substrat verbessern, sie sind jedoch nicht tauglich, die Eigenschaften des Schutzfilms in einer Flüssigkristall- Anzeigevorrichtung verbessern.
- Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine härtbare Zusammensetzung, die die folgenden Bestandteile (a) und (b) enthält:
- (a) (A) das Produkt aus der Umsetzung eines Tetracarbonsäuredianhydrids mit einer Siliciumverbindung, in dem das Molverhältnis von Tetracarbonsäuredianhydrid zu der Siliciumverbindung 1/1 bis 1/3 beträgt, wobei die Siliciumverbindung unter folgenden Verbindungen der Formeln (1)-(6)
- ausgewählt ist, worin bedeuten:
- - R, R', R'', die gleich oder verschieden sein können, aliphatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen,
- - X¹, X² und X³, die gleich oder verschieden sein können, Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder Halogenatome,
- - Y eine zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder eine zweiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Gruppe, in der die zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe an die zweiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe gebunden ist, oder
- (B) das Produkt der Umsetzung einer Diaminoverbindung mit einem Dicarbonsäureanhydrid, das ein Siliciumatom enthält, in dem das Molverhältnis von Diaminoverbindung zu dem Dicarbonsäureanhydrid, das das Siliciumatom enthält, 1/1 bis 1/3 beträgt, wobei das Dicarbonsäureanhydrid unter folgenden Verbindungen der Formeln (7)-(9)
- ausgewählt ist, worin bedeuten:
- - R und R', die gleich oder verschieden sein können, aliphatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen,
- - X¹, X² und X³, die gleich oder verschieden sein können, Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder Halogenatome, und
- - Y' eine dreiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine dreiwertige alicyclische Kohlenwasserstoffgruppe mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine dreiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine dreiwertige Gruppe, in der diese Gruppen aneinander gebunden sind;
- (b) eine Organosilanverbindung der Formel (I):
- worin R¹-R&sup6;, die gleich oder verschieden sein können, Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder Arylgruppen mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen sind.
- Das in der Reaktion (A) verwendete Tetracarbonsäuredianhydrid umfaßt aliphatische, alicyclische und aromatische Tetracarbonsäuredianhydride. Die aromatischen Tetracarbonsäuredianhydride umfassen Pyromellitsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Biphenylcarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,3',4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,3',4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)etherdianhydrid, Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid, 1,2,5,6-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid und 2,3,6,7-Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid. Die aliphatischen und die alicyclischen Tetracarbonsäuredianhydride umfassen Butantetracarbonsäuredianhydrid,, 1,2,3,4-Cyclobutantetracarbonsäuredianhydrid, 1,2,3,4-Cyclopentantetracarbonsäuredianhydrid, 2,3,5-Tricarboxycyclopentylessigsäuredianhydrid, 3,5,6-Tricarboxynorbornan-2-essigsäuredianhydrid, 5-(2,5-Dioxotetrahydrofuryl)-3-methylcyclohexendicarbonsäuredianhydrid und Bicyclo[2,2,2]-oct-7-entetracarbonsäuredianhydrid.
- Von diesen Tetracarbonsäuredianhydriden sind Pyromellitsäuredianhydrid, 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 2,2',3,3'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid, 3,3',4,4'- Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, 1,2,3,4-Cyclobutantetracarbonsäuredianhydrid und 2,3,5-Tricarboxycyclopentylessigsäuredianhydrid bevorzugt.
- Diese Tetracarbonsäuredianhydride können allein oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- Die obigen Tetracarbonsäuredianhydride können mit einer in der Reaktion (B) verwendeten Diaminoverbindung (im folgenden beschrieben) modifiziert werden. Diese modifizierten Tetracarbonsäuredianhydride können durch vorzugsweise stufenweise Zugabe einer Diaminoverbindung zu einem Tetracarbonsäuredianhydrid oder einer Lösung oder Suspension des Dianhydrids in einem Lösungsmittel (im folgenden beschrieben) in einer Menge, die zu der Menge des Dianhydrids äquimolar ist oder unter dieser Menge liegt, und Umsetzen derselben erhalten werden.
- Wenn das modifizierte Tetracarbonsäuredianhydrid verwendet wird, ist es bevorzugt, daß nach oder während der Reaktion des Tetracarbonsäuredianhydrids mit der Diaminoverbindung die Siliciumverbindung dem Reaktionssystem zugesetzt wird, um die Hydrolysatgruppe mit dem erhaltenen modifizierten Tetracarbonsäuredianhydrid umzusetzen. In diesem Fall beträgt die Reaktionstemperatur vorzugsweise beispielsweise etwa 0-80ºC.
- In den allgemeinen Formeln (1) bis (6) bedeuten R, R' und R'', die gleich oder verschieden sein können, aliphatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, Isobutyl, n-Pentyl, Isopentyl oder Neopentyl, oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Phenyl, Tolyl, Xylyl oder α-Naphthyl, oder Nitrophenyl, X¹, X² und X³, die gleich oder verschieden sein können, Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Methoxy, Ethoxy, Propoxy, oder Halogenatome, beispielsweise Fluor, Chlor oder Brom, und Y eine zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Methylen, Ethylen, Propylen oder Tetramethylen, oder eine zweiwertige aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Phenylen, Tolylen, Xylylen oder α-Naphthylen, oder Nitrophenylen, oder eine Gruppe, in der der zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffan den zweiwertigen aromatischen Kohlenwasserstoff gebunden ist.
- Spezielle Beispiele für die Siliciumverbindung umfassen Verbindungen der folgenden Strukturformeln:
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-Si(OCH&sub3;)&sub3;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-Si(OC&sub2;H&sub5;)&sub3;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-Si(CH&sub3;)(OCH&sub3;)&sub2;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-Si(CH&sub3;)(OC&sub2;H&sub5;)&sub2;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub3;-Si(C&sub2;H&sub5;)(OC&sub3;H&sub7;)&sub2;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub4;-Si(OCH&sub3;)&sub3;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub4;-Si(OC&sub2;H&sub5;)&sub3;,
- NH&sub2;-(CH&sub2;)&sub4;-Si(CH&sub3;)(OC&sub2;H&sub5;)&sub2;,
- Von diesen Siliciumverbindungen sind Aminopropyltriethoxysilan, Aminopropylmethyldiethoxysilan, p-Aminophenyldiethoxysilan, p-Aminophenyltrimethoxysilan und p-Aminophenylmethyldiethoxysilan bevorzugt.
- Diese Siliciumverbindungen können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren und ferner in Kombination mit einer Monoaminverbindung verwendet werden.
- Spezielle Beispiele für die Monoaminverbindung sind Alkylaminverbindungen mit niederen Alkylgruppen, wie Methylamin, Ethylamin, Propylamin, n-Butylamin, Isobutylamin, n- Pentylamin, Isopentylamin, n-Hexylamin, Cyclohexylamin, und Arylaminverbindungen, wie Anilin, Toluidin und Naphthylamin.
- Diese Monoaminverbindungen können üblicherweise in einer Menge von 90 mol-% oder weniger, vorzugsweise 10 bis 90 mol-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Siliciumverbindung und Monoaminverbindung, verwendet werden. Wenn die Menge unter 10 mol-% liegt, weist die erhaltene Zusammensetzung in einigen Fällen eine schlechtere Lagerstabilität auf. Wenn die Menge 90 mol-% übersteigt, weist die erhaltene Zusammensetzung eine unzureichende Härtbarkeit auf.
- Die Siliciumverbindung kann ein durch teilweises Hydrolysieren der Siliciumverbindung in Gegenwart einer Organosilanverbindung (I) (die Komponente (b)) und/oder einer Organosilanverbindung der folgenden allgemeinen Formel (II) (im folgenden einfach als die Organosilanverbindung (II) bezeichnet)
- R&sup7;nSi(OR&sup8;)4-n (II)
- worin R&sup7; für eine organische Gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht, R&sup8; eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Acylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeutet und n eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, erhaltenes Teilhydrolysat sein.
- In der obigen allgemeinen Formel (I) stehen R¹ bis R&sup6; beispielsweise für Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder Arylgruppen mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, n-Pentyl, Isopentyl, Neopentyl, n-Hexyl, Cyclohexyl, n- Heptyl, n-Octyl, n-Nonyl, n-Decyl, Phenyl, Tolyl, Xylyl, Nitrophenyl, Naphthyl.
- Spezielle Beispiele für die Organosilanverbindung (I) sind Hexamethyldisilazan, Hexaethyldisilazan, Hexapropyldisilazan, Hexa-n-butyldisilazan, Hexa-n-pentyldisilazan, Ethylpentamethyldisilazan, Diethyltetramethyldisilazan, Trimethyltriethyldisilazan, n-Propylpentamethyldisilazan, Di-npropyltetramethyldisilazan, Tri-n-propyltrimethyldisilazan, Tetramethyldiphenyldisilazan, Trimethyltriphenyldisilazan, Dimethyltetraphenyldisilazan, Triethyltritolyldisilazan und Pentamethyl-α-naphthyldisilazan. Von diesen sind Hexamethyldisilazan, Hexaethyldisilazan und Hexapropyldisilazan bevorzugt.
- Diese Organosilanverbindungen (I) können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- In der obigen allgemeinen Formel (II) umfaßt R&sup7; als eine organische Gruppe beispielsweise Alkylgruppen, wie Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, eine γ-Chlorpropylgruppe, eine Vinylgruppe, eine Allylgruppe, eine 3,3,3-Trifluorpropylgruppe, eine γ-Glycidoxypropylgruppe, eine γ-Methacryloyloxypropylgruppe, eine γ-Mercaptopropylgruppe, eine Phenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine 3,4-Epoxycyclohexylethylgruppe und eine γ-Aminopropylgruppe.
- In der allgemeinen Formel (II) umfaßt die Alkylgruppe bei R&sup8; beispielsweise Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec.-Butyl und tert.-Butyl, und die Acylgruppe bei R&sup8; Formyl, Acetyl, Propionyl und Butanoyl.
- Spezielle Beispiele für die Organosilanverbindung (II) sind Trialkoxysilane, wie Methyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, n-Propyltriethoxysilan, Isopropyltriethoxysilan, γ-Chlorpropyltriethoxysilan, Vinyltriethoxysilan, 3,3,3-Trifluorpropyltriethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltriethoxysilan, γ-Methacryloyloxypropyltriethoxysilan, γ-Mercaptopropyltriethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, 3,4-Epoxycyclohexylethyltriethoxysilan, Methyltri-n-propoxysilan, Methyltributoxysilan, Methyltriisopropoxysilan, Dialkoxysilane, wie Dimethyldimethoxysilan, Dimethyldiethoxysilan, Dimethyldipropoxysilan, Diethyldipropoxysilan, Ethylpropyldiethoxysilan, Dipropyldimethoxysilan, Methylpentyldimethoxysilan, Methylvinyldiethoxysilan, Ethylallyldimethoxysilan, Propylbutenyldipropoxysilan, Ethylphenyldimethoxysilan, Butylphenyldiethoxysilan, Methyltolyldipropoxysilan, Ethyl(dimethylphenyl)dibutoxysilan, Phenylvinyldimethoxysilan, Tolylallyldiethoxysilan, Phenylbutenyldipropoxysilan, und Monoalkoxysilane, wie Trimethylmethoxysilan, Triethylmethoxysilan, Tripropylethoxysilan, Tributylpropoxysilan, Triphenylrnethoxysilan und Triphenylethoxysilan.
- Von diesen sind Methyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Phenyltrimethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, Dimethyldimethoxysilan, Dimethyldiethoxysilan, Trimethylmethoxysilan und Trimethylethoxysilan bevorzugt.
- Diese können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- Die Anwesenheit von Wasser ist erforderlich, wenn die Siliciumverbindung in Gegenwart der Organosilanverbindung (I) und/oder der Organosilanverbindung (II) hydrolysiert wird, wobei dieses Wasser aus ultrareinem Wasser, entionisiertem Wasser, destilliertem Wasser oder Leitungswasser bestehen kann.
- In dem Teilhydrolysat in diesem Fall sind 30-90% der hydrolysierbaren Gruppe, die das Siliciumatom enthält, hydrolysiert.
- Die Menge der verwendeten Organosilanverbindung (I) oder Organosilanverbindung (11) oder die Gesamtmenge aus beiden Verbindungen, wenn sie zusammen verwendet werden, beträgt vorzugsweise 0,1-10 mol pro mol der Siliciumverbindung. Wenn die Menge unter 0,1 mol liegt, kann die erhaltene Zusammensetzung eine schlechtere Lagerungsstabilität aufweisen. Wenn die Menge mehr als 10 mol beträgt, kann die erhaltene Zusammensetzung eine schlechtere Härtbarkeit aufweisen. Die Menge des für die Hydrolyse der Siliciumverbindung erforderlichen Wassers beträgt vorzugsweise etwa 0,5-3 mol pro mol der Siliciumverbindung. Wenn die Menge weniger als 0,5 mol beträgt, findet die Hydrolyse nicht in ausreichendem Maße statt. Wenn die Menge mehr als 3 mol beträgt, reagiert überschüssiges Wasser mit dem Tetracarbonsäuredianhydrid, wodurch die Lagerungsstabilität der erhaltenen Zusammensetzung verschlechtert wird.
- Die für die Hydrolyse der Siliciumverbindung in Gegenwart der Organosilanverbindung (I) und/oder der Organosilanverbindung (II) erforderliche Temperatur beträgt vorzugsweise mindestens 60 00. Die für die Hydrolyse erforderliche Zeit beträgt etwa 0,1 bis 10 h.
- Bei der Reaktion (A) beträgt das Molverhältnis des Tetracarbonsäuredianhydrids zu der Siliciumverbindung vorzugsweise 1/1,5 bis 1/2,5. Die Reaktionstemperatur beträgt 0-60ºC, vorzugsweise 0-40ºC. Die Reaktionszeit beträgt etwa 5-500 min.
- Das bei der Reaktion (A) erhaltene Reaktionsprodukt weist üblicherweise ein auf Polystyrol bezogenes Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 500-50.000 auf.
- Wenn in der Reaktion (A) beispielsweise 3-Aminopropyltriethoxysilan und 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid verwendet werden, findet die folgende Reaktion statt:
- Die in der Reaktion (B) verwendete Diaminoverbindung umfaßt aliphatische, alicyclische und aromatische Diamine.
- Spezielle Beispiele für diese Amine umfassen p-Phenylendiamin, m-Phenylendiamin, 4,4'-Diaminodiphenylmethan, 4,4'-Diaminodiphenylethan, Benzidin, 4,4'-Diaminodiphenylsulfid, 4,4'-Diaminodiphenylsulfon, 4,4'-Diaminodiphenylether, 1,5- Diaminonaphthalin, 3,3'-Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'- Diaminobenzanilid, 3,4'-Diaminodiphenylether, 3,3'-Diaminobenzophenon, 3,4'-Diaminobenzophenon, 4,4'-Diaminobenzophenon, Metaxylylendiamin, 1,3-Propandiamin, Tetramethylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamin, Octamethylendiamin, Nonamethylendiamin, 4,4'-Dimethylheptamethylendiamin, 1,4-Diaminocyclohexan, Isophorondiamin, Tetrahydrodicyclopentadienylendiamin, Hexahydro-4,7-methanoindanylendimethylendiamin, Tricyclo- (6,2,1,02.7]-undecylendimethyldiamin sowie Diaminoorganosiloxane der folgenden Formel:
- worin R&sup9; eine Methylgruppe oder eine Phenylgruppe bedeutet, p eine ganze Zahl von 1-3 ist und q eine ganze Zahl von 1-20 bedeutet.
- Neben den obigen Diaminen können auch die folgenden Diamine verwendet werden: Bis(4-aminophenyl)fluoren, Diaminotetraphenylthiophen, 4,4'-Phthalido-3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-Phthalido-3,3'-diaminodiphenylmethan, 4,4'-Phthalido- 3,3'-diaminobenzophenon, 4,4'-Acetamido-3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-Acetamido-3,3'-diaminodiphenylmethan, 4,4'- Acetamido-3,3'-diaminobenzophenon, 4-Sulfonamido-1,3-phenylendiamin, 4,6-Bis(aminophenyl)-1,3-phenylendiamin, 5-Amino- 1-(4'-aminophenyl)-1,3,3-trimethylindan und 6-Amino-1-(4'- aminophenyl)-1,3,3-trimethylindan.
- Diese Diaminoverbindungen können entweder alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- Die obige Diaminoverbindung kann durch Reaktion mit dem obenerwähnten Tetracarbonsäuredianhydrid modifiziert werden. Dieses Modifizierungsprodukt kann durch vorzugsweise stufenweise Zugabe des Tetracarbonsäuredianhydrids zu einer Lösung oder Suspension der Diaminoverbindung in einem Lösungsmittel (im folgenden beschrieben) hergestellt werden.
- Die Menge des bei der Modifikation der Diaminoverbindung verwendeten Tetracarbonsäuredianhydrids beträgt vorzugsweise 0,5 mol oder weniger pro mol der Diaminoverbindung. Die Verwendung der mit dem Tetracarbonsäuredianhydrid modifizierten Diaminoverbindung ermöglicht, daß der erhaltene Bestandteil (a) ein höheres Molekulargewicht aufweist. Ferner erhöht sie die Filmbildungsfähigkeit der erhaltenen Zusammensetzung auf einem Substrat.
- Die Temperatur für eine Umsetzung des Tetracarbonsäuredianhydrids mit der Diaminoverbindung beträgt vorzugsweise etwa 0-80ºC.
- Spezielle Beispiele für die Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydride der Formeln (7) bis (9) umfassen die Verbindungen der folgenden Strukturformeln:
- Von diesen Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydriden sind 3-Trimethoxysilyl-1,2,5,6-tetrahydrophthalsäureanhydrid, 3-Trimethoxysilylphthalsäureanhydrid, 3-Methyldimethoxysilylphthalsäureanhydrid und 3-Dimethylmethoxysilylphthalsäureanhydrid besonders bevorzugt.
- Diese Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydride können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- In der Reaktion (B) kann ein Dicarbonsäureanhydrid, beispielsweise Phthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid (dieses Dicarbonsäureanhydrid wird im folgenden als das andere Dicarbonsäureanhydrid bezeichnet), in einer Menge von 90 mol-% oder weniger, vorzugsweise 10-90 mol-%, bezogen auf die Gesamtmenge des Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydrids und des anderen Dicarbonsäureanhydrids, verwendet werden. Wenn die Menge des anderen Dicarbonsäureanhydrids weniger als 10 mol-% beträgt, weist die erhaltene Zusammensetzung in einigen Fällen eine schlechtere Lagerungsstabilität auf. Wenn die Menge mehr als 90 mol-% beträgt, weist die erhaltene Zusammensetzung in manchen Fällen eine unzureichende Härtbarkeit auf.
- In der Reaktion (B) beträgt das Molverhältnis der Diaminoverbindung zu dem Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydrid vorzugsweise 1/1,5 bis 1/2,5. Die Reaktionstemperatur beträgt 0-60ºC, vorzugsweise 0-40ºC. Die Reaktionszeit beträgt etwa 5-500 min.
- Das auf Polystyrol bezogene Gewichtsmittel des Molekulargewichts des in der Reaktion (B) erhaltenen Reaktionsprodukts beträgt üblicherweise 500-50.000, vorzugsweise 500-20.000.
- Wenn in der Reaktion (B) beispielsweise 4,4'-Diaminodiphenylether und 3-Trimethoxysilyl-1,2,5,6-tetrahydrophthalsäureanhydrid verwendet werden, findet die folgende Reaktion statt:
- In den Reaktionen (A) und (B) kann, wenn nötig, ein Katalysator verwendet werden. Ein derartiger Katalysator umfaßt beispielsweise eine anorganische Säure, beispielsweise Schwefelsäure, Salzsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure, und eine organische Säure, beispielsweise Paratoluolsulfonsäure, Benzolsulfonsäure, Trifluoressigsäure oder Trichloressigsäure. Die verwendete Menge des Katalysators beträgt üblicherweise etwa 0,01-1 Gew.-% der Siliciumverbindung oder des Siliciumatome enthaltenden Dicarbonsäureanhydrids.
- Vorzugsweise werden die Reaktionen (A) und (B) in einer Stickstoffatmosphäre durchgeführt.
- In den Reaktionen (A) und (B) kann ein Lösungsmittel verwendet werden. Das Lösungsmittel umfaßt beispielsweise verschiedene organische Lösungsmittel (im folgenden beschrieben), die zur Einstellung der Konzentration der vorliegenden Zusammensetzung verwendet werden.
- Die verwendete Menge des Lösungsmittels beträgt üblicherweise 50-1000 Gew.-Teile, vorzugsweise 100-500 Gew.-Teile pro 100 Gew.-Teile der Gesamtmenge der dem Reaktionssystem zugeführten Verbindungen.
- Die Komponente (b) dient der Verbesserung der Lagerstabilität und der Haftung der Komponente (a) am Substrat und entspricht der obenerwähnten Organosilanverbindung (I).
- Die verwendete Menge der Komponente (b) beträgt üblicherweise 5-200 mol, vorzugsweise 50-150 mol, pro mol der Gesamtheit aus der Carboxylgruppe und der Imidgruppe in der Komponente (a). Wenn die Menge weniger als 5 mol beträgt, weist die erhaltene Zusammensetzung eine schlechtere Lagerungsstabilität auf. Wenn die Menge mehr als 200 mol beträgt, wird die Härte des erhaltenen Beschichtungsfilms in manchen Fällen gering.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung umfaßt die Bestandteile (a) und (b). Die Zusammensetzung wird üblicherweise in Form einer Lösung in einem organischen Lösungsmittel verwendet.
- Das organische Lösungsmittel umfaßt Alkohole, Ester, Ether, Ketone und Amide.
- Die Alkohole umfassen Methanol, Ethanol, n-Propylalkohol, Isopropylalkohol, Isobutylalkohol, sec.-Butylalkohol, tert.- Butylalkohol, Cyclohexanol, Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Tripropylenglykol, Glycerin, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykolmonobutylether, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykolmonobutylether und Diethylenglykolmonomethylether.
- Die Ester umfassen Ethylacetat, Ethylenglykolmonomethyletheracetat, Ethylenglykolmonoethyletheracetat, Ethylenglykolmonobutyletheracetat, Diethylenglykolmonomethyletheracetat, Diethylenglykolmonoethyletheracetat, Diethylenglykolmonobutyletheracetat und γ-Butyrolacton.
- Die Ether umfassen Tetrahydrofuran, Diethylether, Dioxan, Ethylenglykoldimethylether, Ethylenglykoldiethylether und Diethylenglykoldimethylether.
- Die Ketone umfassen Aceton, Methylethylketon, Diisopropylketon und Cyclohexanon.
- Die Amide umfassen Tetramethylharnstoff, Hexamethylphosphoramid, Methylformamid, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, N- Methylpyrrolidon und N-Acetylpyrrolidon.
- Es können auch schwefelhaltige Lösungsmittel, wie Dimethylsulfoxid, Dimethylsulfon, aus einem aromatischen Kohlenwasserstoff bestehende Lösungsmittel, wie Benzol, Toluol, Xylol, Durol und dgl., sowie aus einem halogenierten Kohlenwasserstoff bestehende Lösungsmittel, wie Dichlormethan, Chloroform, Trichlorethylen, Chlorbenzol und Dichlorbenzol verwendet werden.
- Von diesen organischen Lösungsmitteln sind Alkohole, Ester und Ketone bevorzugt.
- Diese organischen Lösungsmittel können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
- Vorzugsweise sind diese organischen Lösungsmittel auf einen Wassergehalt von beispielsweise 50 ppm oder weniger gemäß der Bestimmung nach der Karl Fischer Methode in einem ausreichenden Maße entwässert.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann des weiteren nicht-ionische grenzflächenaktive Stoffe umfassen.
- Die Einverleibung dieser nichtionischen grenzflächenaktiven Stoffe verbessert die Benetzbarkeit eines zu beschichtenden Substrats durch die Zusammensetzung und die Verlaufeigenschaften der Zusammensetzung, verhindert die Bildung zahlreicher kleiner Oberflächenrauhigkeiten beim Auftragen der Zusammensetzung, erleichtert das wiederholte Auftragen der Zusammensetzung und verleiht der Zusammensetzung eine verbesserte Stabilität.
- Die nicht ionischen grenzflächenaktiven Stoffe umfassen fluorhaltige grenzflächenaktive Stoffe mit einer Fluoralkylgruppe oder einer Perfluoralkylgruppe und grenzflächenaktive Stoffe vom Polyetheralkyltyp mit einer Oxyalkylgruppe.
- Die fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffe umfassen C&sub9;F&sub1;&sub9;CONHC&sub1;&sub2;H&sub2;&sub5;, C&sub8;F&sub1;&sub7;SO&sub2;NH-(C&sub2;H&sub4;O)&sub6;H, C&sub9;F&sub1;&sub7;O(PLURONIC L- 35)C&sub9;F&sub1;&sub7;, C&sub9;F&sub1;&sub7;O(PLURONIC P-84)C&sub9;F&sub1;&sub7;, C&sub9;F&sub7;O(TETRONIC-704) - (C&sub9;F&sub1;&sub7;)&sub2;, in denen PLURONIC L-35 ein Polyoxypropylen/Polyoxyethylen-Blockcopolymer mit einem mittleren Molekulargewicht von 1900 darstellt, das von ASAHI DENKA KOGYO K.K. hergestellt wurde, PLURONIC P-84 ein Polyoxypropylen/Polyoxyethylen-Blockcopolymer mit einem mittleren Molekulargewicht von 4200 darstellt, das von ASAHI DENKA KOGYO K.K. hergestellt wurde, und TETRONIC 704 ein N,N,N',N'-Tetrakis- (polyoxypropylen/polyoxyethylen-Blockcopolymer) mit einem mittleren Molekulargewicht von 5000 bedeutet, das von ASAHI DENKA KOGYO K.K. hergestellt wurde. Spezielle Beispiele für diese fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffe sind F TOP EF 301, F TOP EF 303, F TOP EF 352 (dies sind Produkte von SHIN AKITA KASEI K.K.), MEGAFAC F 171, MEGAFAC F 173 (dies sind Produkte von DAINIPPON INK & CHEMICALS, INC.), ASAHI GUARD AG 710 (Produkt der Asahi Glass Co., Ltd.), FLUORAD FC-170C, FLUORAD FC 430, FLUORAD FC 431 (dies sind Produkte von SUMI- TOMO 3M LIMITED), SURFLON 5-382, SURFLON SC 101, SURFLON SC 102, SURFLON SC 103, SURFLON SC 104, SURFLON SC 105, SURFLON SC 106 (dies sind Produkte der Asahi Glass Co., Ltd.), BM- 1000, BM-1100 (dies sind Produkte der B.M-Chemie) und Schsego-Fluor (Produkt von Schwegmann).
- Die grenzflächenaktiven Stoffe vom Polyetheralkyltyp umfassen Polyoxyethylenalkylether, Polyoxyethylenallylether und Polyoxyethylenalkylphenylether. Spezielle Beispiele für diese grenzflächenaktiven Stoffe vom Polyetheralkyltyp sind EMULGEN 105, EMULGEN 430, EMULGEN 810, EMULGEN 920, RHEODOL SP-40S, RHEODOL TW-L120, EMANOL 3199, EMANOL 4110, EXCEL P- 40S, ERIJ 30, ERIJ 52, ERIJ 72, ERIJ 92, ARLACEL 20, EMASOL 320, TWEEN 20, TWEEN 60, MYRJ 45 (dies sind Produkte der Kao Corp.) und NONIPOL (Produkt der SANYO CHEMICAL INDUSTRIES LTD.).
- Die von den obenerwähnten grenzflächenaktiven Stoffen verschiedenen nicht ionischen grenzflächenaktiven Stoffe umfassen beispielsweise Fettsäureester von Polyoxyethylen, Fettsäureester von Polyoxyethylensorbitan und Polyalkylenoxid- Blockcopolymere. Spezifische Beispiele für diese nichtionischen grenzflächenaktiven Stoffe sind CHEMSTAT 2500 (Produkt der SANYO CHEMICAL INDUSTRIES LTD.), SN-EX 9228 (Produkt der SAN NOPCO LIMITED) und NONAL 530 (Produkt der TOHO KAGAKU KOGYO K.K.).
- Die verwendete Menge der nicht ionischen grenzflächenaktiven Stoffe beträgt zweckmäßigerweise 0,01-10 Gew.-Teile, vorzugsweise 0,1-5 Gew.-Teile pro 100 Gew.-Teile der Gesamtheit der Bestandteile (a) und (b). Wenn die Menge weniger als 0,01 Gew.-Teile beträgt, wird die Wirkung der nichtionischen grenzflächenaktiven Stoffe nicht entfaltet. Wenn die Menge mehr als 10 Gew.-Teile beträgt, neigt die erhaltene Zusammensetzung zum Schäumen und erfährt in manchen Fällen beim Erwärmen eine Farbänderung.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann neben den nichtionischen grenzflächenaktiven Stoffen anionische oder kationische grenzflächenaktive Stoffe umfassen.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann des weiteren in Wasser und/oder einem hydrophilen organischen Lösungsmittel dispergiertes kolloidales Siliciumdioxid umfassen.
- Dieses kolloidale Siliciumdioxid wird dazu verwendet, den Feststoffgehalt der Zusammensetzung zu erhöhen. Die Dicke des aus dieser Zusammensetzung gebildeten Beschichtungsfilms kann durch Einstellen der verwendeten Menge an kolloidalem Siliciumdioxid gesteuert werden.
- Wenn kolloidales Siliciumdioxid verwendet wird, muß das in der Zusammensetzung zu verwendende organische Lösungsmittel im Hinblick auf seine Verträglichkeit mit dem kolloidalen Siliciumdioxid sorgfältig gewählt werden.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann des weiteren - wenn nötig - feine Pulver von Metalloxiden, wie Aluminiumoxid, Zirkoniumoxid und Zinnoxid umfassen, um die Zusammensetzung einzudicken, um die Gelbildung der Zusammensetzung zu verhindern, um die Wärmebeständigkeit, Chemikalienbeständigkeit, Härte und Haftung des gehärteten Produkts zu erhöhen und um der Zusammensetzung eine antistatische Eigenschaft zu verleihen.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann des weiteren weitere mit den Bestandteilen (a) und (b) verträgliche Polymere, wie Polyimid, Polyimid, Siliconharz, Epoxyharz, Acrylatharz und Urethanharz, umfassen.
- Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Zusammensetzung kann jedes beliebige Herstellungsverfahren verwendet werden. Es ist jedoch allgemein üblich, die obige Reaktion (A) oder (B) in dem obenerwähnten organischen Lösungsmittel durchzuführen, die Komponente (b) der erhaltenen Komponente (a) zuzusetzen und des weiteren - wenn nötig - die obenerwähnten grenzflächenaktiven Stoffe zuzusetzen, um die Zusammensetzung herzustellen.
- Somit umfaßt die erfindungsgemäße Zusammensetzung die Bestandteile (a) und (b) und - wenn nötig - weitere Bestandteile. Der Gesamtfeststoffgehalt der Zusammensetzung beträgt zweckmäßigerweise 10-50 Gew.-%, vorzugsweise 15-40 Gew.-%. Wenn der Gesamtfeststoffgehalt unter 10 Gew.-% liegt, ist die Konzentration der Feststoffe zu niedrig, so daß der aus dieser Zusammensetzung gebildete Schutzfilm seine Eigenschaften, wie Wärmebeständigkeit, Wasserbeständigkeit, Chemikalienbeständigkeit und Verwitterungsbeständigkeit, in einigen Fällen nicht zeigt. Ferner treten in dem gebildeten Schutzfilm in einigen Fällen feine Löcher auf. Wenn der Gesamtfeststoffgehalt mehr als 50 Gew.-% beträgt, ist die Feststoffkonzentration zu hoch, so daß in einigen Fällen Nachteile auftreten, wie eine Verringerung der Lagerstabilität der Zusammensetzung oder eine Erschwerung der Bildung eines gleichmäßigen Schutzfilms durch die Zusammensetzung.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann selbst bei Einarbeiten der obenerwähnten Zusatzstoffe durch Hochgeschwindigkeitsrühren oder andere Maßnahmen zu einer gleichmäßigen Dispersion ausgeformt werden.
- Ein Wärmebeständigkeit und Chemikalienbeständigkeit aufweisender Schutzfilm kann aus der erfindungsgemäßen Zusammensetzung durch Auftragen einer Lösung der Zusammensetzung auf ein im folgenden beschriebenes Substrat, beispielsweise ein transparentes Substrat oder ein Farbfilter, im Rahmen eines Sprühbeschichtens, Walzenbeschichtens, Vorhangbeschichtens, Spinnbeschichtens, Siebdruckens oder Offsetdruckens, so daß die Dicke nach Trocknen des ausgebildeten Films zweckmäßigerweise etwa 0,01-50 um, vorzugsweise etwa 0,1-10 um beträgt, und Härten des erhaltenen Films durch Erwärmen mit einer Heizvorrichtung, beispielsweise einer Heizplatte oder einem Geer-Ofen, auf eine Temperatur von etwa 50-300ºC, vorzugsweise etwa 100-200ºC, während einer Dauer von beispielsweise etwa 10-120 min oder durch Trocknen während 1-7 Tagen bei Raumtemperatur ausgebildet werden.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung eignet sich insbesondere zur Verwendung als Material zur Ausbildung eines Schutzfilms für farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen.
- Die farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit einem Schutzfilm aus der vorliegenden Zusammensetzung kann beispielsweise im Rahmen des folgenden Verfahrens hergestellt werden.
- Zuerst wird auf einem transparenten Substrat beispielsweise im Rahmen eines photolithographischen Verfahrens eine Farbschicht aus den drei Grundfarben Rot, Grün und Blau ausgebildet. Darauf wird die erfindungsgemäße Zusammensetzung aufgetragen und gehärtet, um einen Schutzfilm zu bilden. Darauf wird ITO durch Gasphasenabscheidung aufgebracht. Durch Photolithographie wird eine transparente Elektrode ausgeformt. Anschließend wird auf das ITO eine aus einem Polyimid bestehende Schicht zur Orientierung des Flüssigkristalls aufgebracht und durch Reiben des Films mit einer Walze aus einer synthetischen Faser, beispielsweise Nylon, einer Behandlung zur Orientierung des Flüssigkristalls unterzogen.
- Anschließend werden das so behandelte Substrat und ein gegenüberliegendes transparentes Substrat mit einer darauf ausgebildeten, geriebenen Schicht zur Orientierung des Flüssigkristalls parallel mit einem dazwischenliegenden Spacer so angeordnet, daß ihre Reibrichtungen senkrecht zueinander stehen. Die Ränder des Substrats werden versiegelt. Der zwischen den beiden Substraten gebildete Raum wird mit Flüssigkristallen gefüllt, um eine farbige Flüssigkristall-Anzeigezelle zu bilden. Ferner wird an jede der beiden Oberflächen der Zelle derart eine Polarisationsfolie preßgebunden, daß die Durchlaßrichtungen der beiden Polariationsfolien unter Bildung einer farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung um 90º verdreht sind.
- Als in der farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung verwendbare transparente Substrate können transparente Substrate aus Floatglas, Natronkalkglas, flexiblem Polyester, wie Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat o. dgl., Polyethersulfon, Polycarbonat oder einem anderen Kunststoff verwendet werden.
- Als transparente Elektroden können NESA-Filme aus SnO&sub2; und ITO-Filme aus In&sub2;O&sub3;-SnO&sub2; verwendet werden. Das Elektrodenmuster kann durch Photolithographie oder ein Verfahren unter Verwendung einer Maske erzeugt werden.
- Die Farbschicht kann beispielsweise im Rahmen der folgenden Verfahren (i) und (ii) ausgebildet werden:
- (i) Ein Verfahren, bei dem eine gemusterte Resistschicht durch Photolithographie auf einer zu färbenden Schicht auf einem transparenten Substrat ausgebildet wird. Der freiliegende Teil der zu färbenden Schicht wird unter Bildung eines gefärbten Teils angefärbt. Die Resistschicht wird danach entfernt. Anschließend wird das obige Verfahren unter Ausbildung eines weiteren gefärbten Teils wiederholt (dies ist das sogenannte Flachtypverfahren, bei dem eine einzelne zu färbende Schicht unter Ausbildung mehrerer gefärbter Teile angefärbt wird).
- (ii) Ein Verfahren, bei dem eine anzufärbende lichtempfindliche Schicht auf einem transparenten Substrat durch eine ein Muster aufweisende Maske belichtet und anschließend unter Bildung eines anzufärbenden Reliefmusters entwickelt wird. Das Reliefmuster wird unter Bildung einer gefärbten Schicht angefärbt. Die gefärbte Schicht wird anschließend mit einem transparenten, färbungsresistenten Film beschichtet. Anschließend wird eine weitere gefärbte Schicht darauf ausgebildet, indem das obige Vorgehen wiederholt wird (dies ist das sogenannten Laminierverfahren, bei dem eine anzufärbende Schicht und eine färbungsresistente Schicht alternierend ausgebildet werden). Folglich ist die schließlich erhaltene gefärbte Schicht vom Laminattyp.
- Die gefärbte Schicht kann auch anstatt durch Photolithographie durch ein Druckverfahren oder durch galvanische Abscheidung erzeugt werden.
- Das Material für die anzufärbende Schicht ist nicht kritisch und umfaßt beispielsweise natürliche Proteine, wie Gelatine, Casein, Leim und Albumin, synthetische Polymere, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon und Polyacrylamid. Als das Photovernetzungsmittel, das diesen Materialien eine Lichtempfindlichkeit verleiht, können Dichromate, wie Ammoniumdichromat, Kaliumdichromat und Bisazidverbindungen verwendet werden. Spezielle Beispiele für die Bisazidverbindungen sind wasserlösliche Bisazidverbindungen, wie 4,4'-Diazidostilben- 2,2'-disulfonsäure, 4,4'-Diazidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4,4'-Diazidostilben-α-carbonsäure, ihre Alkalimetall- oder Ammoniumsalze, sowie p-Phenylenbisazid, 4,4'-Diazidobenzophenon, 4,4'-Diazidostilben, 4,4'-Diazidophenylmethan, 4,4'-Diazidobenzalacetophenon, 2,6-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon und 2,6-Di(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon.
- Die zur Ausbildung der gefärbten Schicht verwendeten Farbstoffe umfassen wasserlösliche Farbstoffe, wie saure Farbstoffe und basische Farbstoffe.
- Als Polarisationsfolien können auf den Außenflächen der Substrate (den Außenflächen der Flüssigkristallzelle) Folien angeordnet werden, die aus einer Polarisationsfolie bestehen, die zwischen zwei Celluloseacetatschutzfilmen angeordnet ist, wobei die Polarisationsfolie erhalten wurde, indem man einen Polyvinylalkohol beim Recken und Orientieren Jod absorbieren läßt (wird als H-Folie bezeichnet), oder eine Polarisationsfolie aus einer H-Folie an sich verwendet werden.
- Als das Abdichtmittel kann beispielsweise eine Epoxyharzzusammensetzung mit einem Härtungsmittel und kugeligen Aluminiumoxidteilchen eines Durchmessers von etwa 1- 10 um, das als Spacer fungiert, verwendet werden. Als das Abdichtmittel für den Flüssigkristalleinlaß können organische oder anorganische Abdichtmittel verwendet werden. Organische Abdichtmittel sind bevorzugt, da sie einen Betrieb bei niedrigen Temperaturen ermöglichen.
- Damit das Abdichtmittels an dem Schutzfilm haftet, ist es bevorzugt, den Schutzfilm vorher einer Oberflächenbehandlung beispielsweise mit UV-Strahlen und/oder Ozon, zu unterziehen, da eine derartige Behandlung die Bindungsstärke zwischen dem Abdichtmittel und dem Schutzfilm zu erhöhen vermag.
- Die so hergestellte farbige Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung weist eine ausgezeichnete Orientierbarkeit und Zuverlässigkeit auf und kann bei Kombination mit einer polarisierenden Folie, beispielsweise einer linear oder zirkular polarisierenden Folie oder einer reflektierenden Folie, in wirksamer Weise in den verschiedensten Vorrichtungen, beispielsweise Anzeigevorrichtungen in einem tragbaren elektronischen Rechner, einer Armbanduhr, einer Tischuhr, einem Zahlendisplay oder einem Fernsehgerät mit Flüssigkristallbildschirm, verwendet werden.
- Wenn der gehärtete Film der erfindungsgemäßen Zusammensetzung auf der Innenfläche des Substrats als Bestandteil einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung oder auf dem durch Gasphasenabscheidung auf dem transparenten Substrat der Vorrichtung aufgebrachten ITO-Film ausgebildet wird, dringen keine Verunreinigungen aus dem transparenten Substrat in den Flüssigkristall ein und die Isolierung zwischen dem ITO und den Flüssigkristallen ist besser, so daß eine Flüssigkristall -Anzeigevorrichtung ausgezeichneter Leistungsfähigkeit entsteht.
- Die vorliegende Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf Beispiele eingehender beschrieben. Es ist jedoch selbstverständlich, daß die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt ist.
- In den Beispielen sind die Teile und Prozente, sofern nicht anders angegeben, auf das Gewicht bezogen.
- In den Beispielen wurden das Ausmaß, in dem Na&spplus; herausgelöst wird, durch Auftragen und Härten der erfindungsgemäßen Zusammensetzung auf ein Natronkalkglassubstrat unter Ausbildung eines gehärteten Films, 12stündiges Eintauchen des Substrats in ultrareines Wasser bei 120ºC, Bestimmen der aus dem Substrat durch den Film in das Wasser ausgetretenen Na&spplus;- Menge durch Atomabsorptionsphotometrie und Teilen der Menge durch die Fläche des mit dem Wasser in Berührung stehenden Films zur Berechnung der Menge des pro Flächeneinheit des Films ausgetretenen Na&spplus; bestimmt.
- In 80 Teilen ultrareinem Wasser wurden 20 Teile Gelatine und 2 Teile Ammoniumdichromat gelöst, worauf die erhaltene Lösung durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert wurde. Dabei wurde eine zur Bildung einer anzufärbenden Schicht zu verwendende lichtempfindliche Zusammensetzung hergestellt.
- Diese lichtempfindliche Zusammensetzung wurde durch Spinnbeschichten bei einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 3000 min&supmin;¹ auf ein optisch poliertes Glassubstrat aufgebracht und in einer Stickstoffatmosphäre getrocknet. Der erhaltene Beschichtungsfilm wies eine Dicke (im trockenen Zustand) von 1 um auf.
- Der obige Film wurde durch eine Photomaske mit UV-Licht bestrahlt und anschließend mit ultrareinem Wasser entwickelt, wobei ein Reliefbild von Gelatine erhalten wurde. Dieses Reliefbild wurde in das folgende rotfärbende Bad
- Rot-14P (Produkt der NIPPON KAYAKU CO., LTD.) 1 g
- Essigsäure 1 g
- Ultrareines Wasser 98 g
- eingetaucht und anschließend in einer Stickstoffatmosphäre getrocknet, wobei ein rotes Reliefbild erhalten wurde.
- Eine Glycidylmethacrylatpolymer als Hauptkomponente enthaltende Lösung wurde durch Spinnbeschichtung auf das rote Reliefbild auf dem Glassubstrat aufgetragen und in der oben beschriebenen Weise getrocknet, wobei ein färbungsbeständiger Schutzfilm mit einer Dicke (in getrocknetem Zustand) von 1,0 um erhalten wurde.
- Auf diesem färbungsbeständigen Schutzfilm wurde wie oben ein Reliefbild aus Gelatine ausgebildet. Das Reliefbild wurde in das folgende grünfärbende Bad
- Grün-1P (Produkt der NIPPON KAYAKU CO., LTD.) 1 g
- Essigsäure 1 g
- Ultrareines Wasser 98 g
- eingetaucht, wobei ein grünes Reliefbild erhalten wurde.
- Auf dem grünen Reliefbild wurde wie oben ein färbungsbeständiger Schutzfilm ausgebildet, worauf ein Gelatinereliefbild darauf ausgebildet wurde. Das Gelatinereliefbild wurde in das folgende blaufärbende Bad
- Blau-SC (Produkt der NIPPON KAYAKU CO., LTD.) 1 g
- Essigsäure 1 g
- Ultrareines Wasser 98 g
- eingetaucht, wobei ein blaues Reliefbild erhalten wurde.
- So wurde eine Farbfiltergrundlage der drei Grundfarben (Rot, Grün und Blau) erhalten. Anschließend wurde eine Glycidylmethacrylatpolymer als Hauptbestandteil enthaltende Lösung durch Spinnbeschichtung darauf aufgebracht und getrocknet, um einen Oberflächenschutzfilm mit einer Dicke (im trockenen Zustand) von 2 um auszubilden. Dadurch wurde ein Farbfilter hergestellt.
- In einen mit einem Tropftrichter und einem Rührer ausgerüsteten Rundkolben wurden 322 g 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid und 644 g Methylcellosolve eingetragen. 360 g 3-Aminopropyltriethoxysilan wurden aus dem Tropftrichter bei 20ºC langsam in die Lösung eingetropft. Anschließend wurde das Gemisch 2 h lang bei 20ºC gerührt. Nach Zugabe von 161 g Hexamethyldisilazan und 5 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-1000, Produkt der B.M. Chemie) unter Bildung einer gleichmäßigen Lösung wurde das erhaltene Reaktionsgemisch durch ein Membranfilter eines mittleren Porendurchmessers von 0,2 um filtriert, wobei eine härtbare Zusammensetzung hergestellt wurde.
- Diese Zusammensetzung wurde auf den im Referenzbeispiel hergestellten Farbfilter durch Spinnbeschichtung bei einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 1000 min&supmin;¹ aufgebracht und einer 1stündigen Wärmebehandlung bei 180ºC zur Ausbildung eines Schutzfilms mit einer Dicke (im trockenen Zustand) von 8 um unterworfen.
- Dieser Farbfilter mit einem Schutzfilm wurde unter Verwendung einer von E.H.C. hergestellten Photoreinigungsvorrichtung 10 min bei Raumtemperatur in Gegenwart von Sauerstoff mit UV-Licht bestrahlt.
- Auf dem so hergestellten Farbfilter mit einem Schutzfilm wurde im Rahmen eines herkömmlichen Verfahrens ITO durch Gasphasenabscheidung aufgebracht. Darauf wurde ein gewünschtes Muster eines Resists vom Positivtyp (PFR-3003, Produkt der Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) ausgebildet. Der belichtete Teil des ITO wurde durch 5minütiges Eintauchen in eine wäßrige Lösung aus konzentrierter Salzsäure und Eisen(III)chlorid bei Raumtemperatur entfernt. Nach einem Waschen mit Wasser wurde die Resistschicht vom Positivtyp abgestreift.
- Der so erhaltene Farbfilter mit dem gewünschten ITO-Muster wurde detailliert mit Hilfe eines Lichtmikroskops beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen keine Risse oder Schrumpfstrukturen auf. Aus den Farbschichten des Farbfilters war kein Farbstoff ausgetreten. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Auf den anderen Teilen der obigen Farbfiltergrundlage mit Ausnahme des Bereichs der Anschlüsse für die Verdrahtung wurde durch Auftragen eine Flüssigkristall-Orientierungsschicht vom Polyimidtyp (JIB, Produkt der Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) ausgebildet. Der Film wurde anschließend getrocknet und einer Reibbehandlung unterworfen.
- Auf die verbindenden Bereiche zwischen dem mit einem Farbfilter versehenen Substrat und dem kein Farbfilter aufweisenden Substrat wurde ein 1% eines Spacers aus Aluminiumoxid eines Teilchendurchmessers von 8 um enthaltendes Abdichtmittel (das Abdichtmittel: STRUCT-BOND XN-10, ein Produkt der Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) zum Abdichten der Zelle mit Ausnahme des Flüssigkristalleinlasses aufgebracht. Anschließend wurden in den durch die Substrate gebildeten Raum nematische Flüssigkristalle (ZLI-1565, ein Produkt von Merck, USA) eingegossen, wodurch eine Flüssigkristall-Zelle hergestellt wurde.
- Unter Anlegen einer Spannung von 30 Hz und 5 V wurde die obige Flüssigkristallzelle 2000 h bei 60ºC stehengelassen. Der Stromwert am Ende entsprach dem Anfangswert von 1 uA, wobei keine Änderung beobachtet wurde.
- Die obige Flüssigkristall-Zelle wurde zur Herstellung einer farbigen Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit polarisierenden Folien versehen. Die Vorrichtung wies keine Parallaxe auf.
- Getrennt davon wurde die erfindungsgemäße Zusammensetzung durch Eintauchen auf ein Natronkalkglassubstrat aufgetragen und anschließend einer 30minütigen Wärmebehandlung bei 150ºC zur Ausbildung eines Schutzfilms mit einer Dicke (in trockenem Zustand) von 0,2 um unterworfen. Der Film wies eine ausgezeichnete Glätte auf. Die Bestimmung des Ausmaßes, in dem Na&spplus; aus dem Natronkalkglas gelöst wird, ergab einen Wert von 0,2 ppm. Zum Vergleich betrug dieser Wert für das Natronkalkglassubstrat alleine 3,0 ppm.
- Auf dem in Referenzbeispiel 1 hergestellten Farbfilter wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise ein ITO-Muster ausgebildet, mit der Ausnahme, daß auf das Spinnbeschichten mit der erfindungsgemäßen Zusammensetzung verzichtet wurde. Der erhaltene Farbfilter wurde detailliert beobachtet. Es waren eine Verfärbung in den gefärbten Schichten und feine Risse erkennbar. Somit ist der Farbfilter für eine praktische Verwendung ungeeignet.
- In den in Beispiel 1 verwendeten Rundkolben wurden 224 g 2,3,5-Tricarboxycyclopentylessigsäuredianhydrid und 672 g N- Methyl-2-pyrrolidon eingetragen. Nach langsamem Eintropfen eines Gemisches von 221 g 3-Aminopropyltriethoxysilan und 73 g n-Butylamin bei 20ºC aus dem Tropftrichter wurde das erhaltene Gemisch weitere 2 h bei 20ºC verrührt.
- Anschließend wurde das erhaltene Reaktionsgemisch mit 161 g Hexamethyldisilazan und 4 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-1000, Produkt der B.M. Chemie) unter Ausbildung einer gleichmäßigen Lösung versetzt. Die Lösung wurde durch ein Membranfilter eines mittleren Porendurchmessers von 0,2 um filtriert, wobei eine härtbare Zusammensetzung erhalten wurde.
- Die härtbare Zusammensetzung wurde auf den im Referenzbeispiel hergestellten Farbfilter durch Spinnbeschichten bei einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2000 min&supmin;¹ aufgebracht und anschließend 2 h bei 200ºC wärmebehandelt. Dabei wurde ein Schutzfilm mit einer Dicke (im trockenen Zustand) von 1,5 um erhalten.
- Darauf wurde entsprechend Beispiel 1 ein ITO-Muster ausgebildet. Der erhaltene Farbfilter mit dem gewünschten ITO-Muster wurde detailliert unter einem Lichtmikroskop betrachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen keine Risse oder Schrumpfstrukturen auf. Aus den gefärbten Schichten des Farbfilters war kein Farbstoff ausgetreten. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Unter Verwendung des obigen Farbfilters wurde entsprechend Beispiel 1 eine Flüssigkristall-Zelle hergestellt. Die Zelle wurde 2000 h lang bei 60ºC unter Anlegen einer Spannung von 30 Hz und 5 V stehengelassen. Der Stromwert am Ende entsprach dem ursprünglichen Wert von 0,8 uA, wobei keine Änderung erkennbar war.
- Des weiteren lieferte eine Bestimmung des Ausmaßes, in dem Na&spplus; aus dem Natronkalkglassubstrat herausgelöst wird, entsprechend Beispiel 1 einen Wert von 0,4 ppm.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde eine härtbare Zusammensetzung erhalten, mit der Ausnahme, daß 450 g p-Aminophenyldiethoxysilan anstelle des Aminopropyltriethoxysilans verwendet wurden.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde unter Verwendung der härtbaren Zusammensetzung ein Schutzfilm ausgebildet und ein Farbfilter mit einem ITO-Muster hergestellt und beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Aus den gefärbten Schichten des Farbfilters war kein Farbstoff ausgetreten. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Unter Verwendung des obigen Farbfilters mit einem ITO-Muster wurde eine Flüssigkristall-Zelle entsprechend Beispiel 1 hergestellt. Die Zelle wurde unter Anlegen einer Spannung von 30 Hz und 5 V 2000 h bei 60ºC stehengelassen. Der Stromwert am Ende entsprach dem anfänglichen Wert von 1,1 uA, wobei keine Änderung beobachtet wurde.
- Des weiteren ergab eine Messung des Ausmaßes, in dem Na+ aus dem Natronkalkglassubstrat gelöst wird, entsprechend Beispiel 1 einen Wert von 0,4 ppm.
- In den in Beispiel 1 verwendeten Rundkolben wurden 292 g 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid und 882 g N-Methylpyrrolidon eingetragen. Nach langsamem Zutropfen eines Gemisches von 221 g 3-Aminopropyltriethoxysilan und 73 g n- Butylamin aus dem Tropftrichter bei 20ºC wurde das erhaltene Gemisch weitere 2 h bei 20ºC verrührt. Nach Versetzen des erhaltenen Reaktionsgemisches mit 245 g Hexamethyldisilazan und 6 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-100, Produkt der B.M. Chemie) unter Bildung einer homogenen Lösung wurde letztere durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert. Dabei wurde eine härtbare Zusammensetzung erhalten.
- Diese härtbare Zuammensetzung wurde mit Hilfe einer Beschichtungswalze auf einen im Rahmen eines Druckverfahrens hergestellten Farbfilter aufgetragen und 1 h bei 180ºC wärmebehandelt. Dabei wurde ein Schutzfilm in einer Dicke (in trockenem Zustand) von 8 um erhalten.
- Auf dem obigen, mit einem Schutzfilm versehenen Farbfilter wurde entsprechend Beispiel 1 ein ITO-Muster ausgebildet. Anschließend wurde der Farbfilter mit dem ITO-Muster detailliert unter einem Lichtmikroskop beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Aus den gefärbten Schichten des Farbfilters war kein Farbstoff ausgetreten. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Unter Verwendung des obigen Farbfilters wurde entsprechend Beispiel 1 eine Flüssigkristall-Zelle hergestellt. Die Zelle wurde nach Anlegen einer Spannung von 30 Hz und 5 V 2000 h bei 60ºC stehengelassen. Der Stromwert am Ende entsprach dem anfänglichen Wert von 0,9 uA, wobei keine Änderung beobachtet wurde.
- Des weiteren ergab eine Messung des Ausmaßes, in dem Na&spplus; aus dem Natronkalkglassubstrat gelöst wird, entsprechend Beispiel 1 einen Wert von 0,3 ppm.
- In den in Beispiel 1 verwendeten Rundkolben wurden 200 g 4,4'-Diaminodiphenylether und 300 g Carbitol eingetragen. Nach langsamem Zutropfen von 548 g 3-Trimethoxysilyl- 1,2,5,6-tetrahydrophthalsäureanhydrid aus dem Tropftrichter bei 10ºC wurde das erhaltene Gemisch 1 weitere h lang bei 10ºC verrührt. Nach Zugabe von 203 g Trimethyltriethyldisilazan und 4 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-1000, Produkt der B.M. Chemie) unter Bildung einer gleichmäßigen Lösung wurde letztere durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert. Dabei wurde eine härtbare Zusammensetzung erhalten.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde unter Verwendung der härtbaren Zusammensetzung ein Schutzfilm ausgebildet, worauf ein Farbfilter mit einem ITO-Muster hergestellt und beobachtet wurde. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Aus den gefärbten Schichten des Farbfilters war kein Farbstoff ausgetreten. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Unter Verwendung des obigen Farbfilters wurde entsprechend Beispiel 1 eine Flüssigkristallzelle hergestellt. Die Zelle wurde unter Anlegen einer Spannung von 30 Hz und 5 V 2000 h bei 60ºC stehengelassen. Der Stromwert am Ende entsprach dem anfänglichen Wert von 3 uA, wobei keine Änderung festgestellt wurde.
- Des weiteren ergab eine Bestimmung des Ausmaßes, in dem Na&spplus; aus dem Natronkalkglassubstrat gelöst wird, entsprechend Beispiel 1 einen Wert von 0,4 ppm.
- Der in Beispiel 1 verwendete Rundkolben wurde mit gasförmigem Stickstoff gespült. Nach Eintragen von 35 g Dimethylformamid, 100 g Aminopropyltriethoxysilan und 72,6 g Hexamethyldisilazan wurden 16,5 g entionisiertes Wasser zugegeben. Nach einem Einsetzen des Kolbens in ein Ölbad bei 90ºC wurde der Kolbeninhalt 1 h unter Rückfluß gehalten und anschließend auf Raumtemperatur gekühlt. Nach Zugabe von 440 g Carbitol wurden des weiteren unter Rühren 72,7 g 3,3',4,4'- Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid zugegeben. Das erhaltene Gemisch wurde bei Raumtemperatur eine weitere h lang reagierengelassen, wobei eine das Reaktionsprodukt mit einem auf Polystyrol bezogenen Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 40.000 enthaltende Lösung erhalten wurde.
- Die obige Lösung wurde mit 72,6 g Hexamethyldisilazan und 2,5 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM- 1100, Produkt der B.M. Chemie) unter Rühren versetzt, wobei eine homogene Lösung hergestellt wurde. Diese Lösung wurde durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert. Dabei wurde eine härtbare Zusammensetzung hergestellt.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde unter Verwendung der härtbaren Zusammensetzung ein Schutzfilm ausgebildet und anschließend ein Farbfilter mit einem ITO-Muster hergestellt und beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Der in Beispiel 1 verwendete Rundkolben wurde mit Stickstoffgas gespült. Nach Eintragen von 35 g Dimethylformamid, 89 g p-Aminophenylmethyldimethoxysilan und 54 g Dimethyldimethoxysilan und anschließend von 16,5 g entionisiertem Wasser wurde der Kolben in ein Ölbad bei 90ºC eingesetzt, um den Kolbeninhalt 1 h zu erwärmen. Anschließend wurde der Inhalt auf Raumtemperatur gekühlt. Nach Zugabe von 400 g Ethylenglykolmonomethylether und anschließender Zugabe von 66 g 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid unter Rühren wurde das erhaltene Gemisch 1 weitere h lang bei Raumtemperatur reagierengelassen, wobei eine ein Reaktionsprodukt mit einem auf Polystyrol bezogenen Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 9000 enthaltende Lösung erhalten wurde.
- Die Lösung wurde unter Rühren mit 91 g Trimethyltriethyldisilazan und 3,1 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-1100, ein Produkt der B.M. Chemie) unter Ausbildung einer gleichmäßigen Lösung versetzt. Die Lösung wurde durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert, wobei eine härtbare Zusammensetzung erhalten wurde.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde unter Verwendung der erhaltenen härtbaren Zusammensetzung ein Schutzfilm ausgebildet und anschließend ein Farbfilter mit einem ITO-Muster hergestellt und beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Ferner war die Haftung des Schutzfilms an dem Farbfilter gut.
- Der in Beispiel 1 verwendete Rundkolben wurde mit gasförmigem Stickstoff gespült. Nach Eintragen von 500 g enthydratisiertem N-Methyl-2-pyrrolidon und 100 g (0,5 mol) 4,4'- Diaminodiphenylether ließ man im Verlauf von etwa 30 min 272 g (1 mol) 3-Trimethoxysilyl-1,2,5,6-tetrahydrophthalsäureanhydrid bei 5-10ºC eintropfen. Anschließend ließ man das Reaktionsgemisch reagieren. Nach Erwärmen auf Raumtemperatur wurde das Reaktionsgemisch weitere 2 h zur Reaktion gebracht, wobei eine ein Reaktionsprodukt mit einem auf Polystyrol bezogenen Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 3000 enthaltende Lösung erhalten wurde. Diese Lösung wurde unter Rühren mit 80 g Hexamethyldisilazan und 4 g eines fluorhaltigen grenzflächenaktiven Stoffs (BM-1000, ein Produkt der B.M. Chemie) unter Ausbildung einer homogenen Lösung versetzt. Die Lösung wurde durch ein Membranfilter mit einem mittleren Porendurchmesser von 0,2 um filtriert, wobei eine härtbare Zusammensetzung erhalten wurde.
- Entsprechend Beispiel 1 wurde unter Verwendung der härtbaren Zusammensetzung ein Schutzfilm ausgebildet und anschließend ein Farbfilter mit einem ITO-Muster hergestellt und beobachtet. Der Farbfilter und der Schutzfilm wiesen weder Risse noch Schrumpfstrukturen auf. Ferner war die Haftung zwischen dem Farbfilter und dem Schutzfilm gut.
Claims (4)
1. Härtbare Zusammensetzung, die folgende Bestandteile (a)
und (b) enthält:
(a) (A) das Reaktionsprodukt aus der Umsetzung eines
Tetracarbonsäuredianhydrids mit einer
Siliciumverbindung, in dem das Molverhältnis von
Tetracarbonsäureanhydrid zu Siliciumverbindung
1/1 bis 1/3 beträgt, wobei die
Siliciumverbindung unter folgenden Verbindungen der Formeln
(1) bis (6)
ausgewählt ist, worin bedeuten:
- R, R' und R'', die gleich oder verschieden
sein können, aliphatische
Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen,
aromatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 6
bis 18 Kohlenstoffatomen oder Nitrophenyl,
- X¹, X² und X³, die gleich oder verschieden
sein können, Alkoxygruppen mit 1 bis 5
Kohlenstoffatomen oder Halogenatome,
- Y eine zweiwertige aliphatische
Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen,
eine zweiwertige aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen
oder Nitrophenylen oder eine Gruppe, in der
die zweiwertige aliphatische
Kohlenwasserstoffgruppe an die zweiwertige aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe gebunden ist, oder
(B) das Produkt der Umsetzung einer
Diaminoverbindung mit einem Dicarbonsäureanhydrid, das
ein Siliciumatom enthält, in dem das
Molverhältnis von Diaminoverbindung zu dem
Dicarbonsäureanhydrid, das das Siliciumatom
enthält, 1/1 bis 1/3 beträgt, wobei das
Dicarbonsäureanhydrid unter folgenden
Verbindungen der Formeln (7) bis (9)
ausgewählt ist, worin bedeuten:
- R und R', die gleich oder verschieden sein
können, aliphatische
Kohlenwasserstoffgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder
aromatische Kohlenwasserstoffgruppen mit 6
bis 18 Kohlenstoffatomen,
- X¹, X² und X³, die gleich oder verschieden
sein können, Alkoxygruppen mit 1 bis 5
Kohlenstoffatomen oder Halogenatome' und
- Y' eine dreiwertige aliphatische
Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 bis 20
Kohlenstoffatomen' eine dreiwertige alicyclische
Kohlenwasserstoffgruppe mit 3 bis 20
Kohlenstoffatomen, eine dreiwertige aromatische
Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 20
Kohlenstoffatomen oder eine dreiwertige
Gruppe, in der diese Gruppen aneinander
gebunden sind;
(b) eine Organosilanverbindung der Formel (I)
worin R¹ bis R&sup6;, die gleich oder verschieden sein
können, Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen
oder Arylgruppen mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen
sind.
2. Härtbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei der
Anteil des Bestandteils (b) 5 bis 200 mol pro Mol der
Gesamtheit aus Carboxygruppen und Imidgruppen in
Bestandteil (a) beträgt.
3. Härtbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die
Organosilanverbindung der Formel (1) mindestens eine
Verbindung ist, die unter Hexamethyldisilazan,
Hexaethyldisilazan, Hexapropyldisilazan,
Hexa-n-butyldisilazan, Hexa-n-pentyldisilazan,
Ethylpentamethyldisilazan, Diethyltetramethyldisilazan,
Trimethyltriethyldisilazan, n-Propylpentamethyldisilazan,
Di-npropyltetramethyldisilazan,
Tri-n-propyltrimethyldisilazan, Tetramethyldiphenyldisilazan,
Trimethyltriphenyldisilazan, Dimethyltetraphenyldisilazan,
Triethyltritolyldisilazan und
Pentamethyl-α-naphthyldisilazan ausgewählt ist.
4. Verwendung der härtbaren Zusammensetzung nach Anspruch
1 zur Erzeugung eines gleichmäßigen Films für
Farbfilter oder transparente Substrate in farbigen
Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62237289A JP2679059B2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | 硬化性重合体の製造方法 |
JP25951687A JPH01103628A (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 硬化性重合体の製造方法 |
JP63039610A JPH0830167B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 硬化性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3852597D1 DE3852597D1 (de) | 1995-02-09 |
DE3852597T2 true DE3852597T2 (de) | 1995-05-11 |
Family
ID=27290193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3852597T Expired - Fee Related DE3852597T2 (de) | 1987-09-24 | 1988-09-26 | Härtbare Zusammensetzung. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4923948A (de) |
EP (1) | EP0310320B1 (de) |
DE (1) | DE3852597T2 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE68921139T2 (de) * | 1988-03-08 | 1995-06-01 | Toray Industries | Polarisationsfilter. |
DE3927312A1 (de) * | 1989-08-18 | 1991-02-21 | Wacker Chemie Gmbh | Anhydridfunktionelle organo(poly)siloxane, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung dieser organo(poly)siloxane |
JPH08239241A (ja) * | 1995-02-28 | 1996-09-17 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | ガラス用撥水処理剤および撥水性ガラス |
KR970011972A (ko) * | 1995-08-11 | 1997-03-29 | 쯔지 하루오 | 투과형 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
JPH0990397A (ja) * | 1995-09-28 | 1997-04-04 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板およびそれを用いた表示装置 |
JP3272212B2 (ja) * | 1995-09-29 | 2002-04-08 | シャープ株式会社 | 透過型液晶表示装置およびその製造方法 |
JP3205501B2 (ja) * | 1996-03-12 | 2001-09-04 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス表示装置およびその修正方法 |
DE19705909A1 (de) * | 1996-08-23 | 1998-08-20 | Inst Physikalische Hochtech Ev | Neuartige Dünnschichten für die Mikrosystemtechnik und Mikrostrukturierung sowie ihre Verwendung |
JP3173426B2 (ja) * | 1997-06-09 | 2001-06-04 | 日本電気株式会社 | シリカ絶縁膜の製造方法及び半導体装置の製造方法 |
KR102178216B1 (ko) * | 2017-09-28 | 2020-11-12 | 주식회사 엘지화학 | 폴리이미드 수지의 접착성을 증진시키는 화합물 및 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 공중합체 |
WO2019066203A1 (ko) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 주식회사 엘지화학 | 폴리이미드 수지의 접착성을 증진시키는 화합물 및 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 공중합체 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1024234A (en) * | 1962-06-27 | 1966-03-30 | Midland Silicones Ltd | Improvements in or relating to siloxane elastomers |
US4794153A (en) * | 1984-12-05 | 1988-12-27 | General Electric Company | Polyanhydride-siloxanes and polyimide-siloxanes obtained therefrom |
JPH0768347B2 (ja) * | 1985-09-25 | 1995-07-26 | 株式会社日立製作所 | 有機ケイ素末端ポリイミド前駆体とポリイミドの製造方法 |
US4795680A (en) * | 1986-05-09 | 1989-01-03 | General Electric Company | Polyimide-siloxanes, method of making and use |
US4780501A (en) * | 1986-09-02 | 1988-10-25 | General Electric Company | Imidopolysiloxanes and method for making |
-
1988
- 1988-09-22 US US07/247,449 patent/US4923948A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-26 EP EP88308913A patent/EP0310320B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-26 DE DE3852597T patent/DE3852597T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0310320A2 (de) | 1989-04-05 |
EP0310320B1 (de) | 1994-12-28 |
EP0310320A3 (en) | 1990-12-27 |
DE3852597D1 (de) | 1995-02-09 |
US4923948A (en) | 1990-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100349285B1 (ko) | 액정디스플레이장치 | |
DE3852597T2 (de) | Härtbare Zusammensetzung. | |
DE69700925T2 (de) | Polyamidsäure, Polyimid und Flüssigkristallausrichtungsmittel | |
US6720040B2 (en) | Material for liquid-crystal alignment film, liquid-crystal display element, process for its production and liquid-crystal display unit | |
DE69129596T2 (de) | Polyimid gegründeter Flüssigkristalle aufstellender Wirkstoff | |
JP2000143985A (ja) | 黒色被覆組成物、樹脂ブラックマトリックス、カラ―フィルタ―および液晶表示装置 | |
JPS5833217A (ja) | 電気光学用電極基板 | |
JPH0648338B2 (ja) | 液晶表示素子用配向処理剤 | |
JPH046926B2 (de) | ||
JPS62163016A (ja) | カラ−フイルタ− | |
JPH0153445B2 (de) | ||
JPH01215869A (ja) | 硬化性組成物 | |
JP4411697B2 (ja) | 樹脂ブラックマトリックスの製造方法、樹脂ブラックマトリックス、カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPH08220542A (ja) | 液晶配向膜および液晶表示素子 | |
JPS5949563B2 (ja) | 液晶表示素子並びにその製造方法 | |
JPS5817417A (ja) | 液晶表示素子 | |
JPH07331074A (ja) | 硬化性組成物 | |
JPS589125A (ja) | 液晶配向膜印刷塗布組成物 | |
JPH08220326A (ja) | カラーフィルタ | |
JP2603388B2 (ja) | 液晶配向膜 | |
JPH09279026A (ja) | カラーフィルター用樹脂溶液組成物、塗布方法、カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPH11281804A (ja) | 黒色被覆組成物およびこれを用いた樹脂ブラックマトリクス | |
JPS63100426A (ja) | 液晶表示素子 | |
JPH09281479A (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPS5949564B2 (ja) | 液晶表示素子並びにその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: JSR CORP., TOKIO/TOKYO, JP |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |