DE3801065A1 - Photopolymerisierbare zusammensetzung - Google Patents
Photopolymerisierbare zusammensetzungInfo
- Publication number
- DE3801065A1 DE3801065A1 DE3801065A DE3801065A DE3801065A1 DE 3801065 A1 DE3801065 A1 DE 3801065A1 DE 3801065 A DE3801065 A DE 3801065A DE 3801065 A DE3801065 A DE 3801065A DE 3801065 A1 DE3801065 A1 DE 3801065A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- photopolymerizable composition
- composition according
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 87
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 54
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 30
- -1 fluorosulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical class O=C1CSC(=O)N1 ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical class O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 claims description 3
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JGRCHNVLXORPNM-UHFFFAOYSA-N 1,2-oxazol-4-one Chemical class O=C1CON=C1 JGRCHNVLXORPNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PTXVSDKCUJCCLC-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyindole Chemical class C1=CC=C2N(O)C=CC2=C1 PTXVSDKCUJCCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CZWWCTHQXBMHDA-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazol-2-one Chemical class OC1=NC=CS1 CZWWCTHQXBMHDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- IGGNNTSKHNEHLL-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound [Ce+3].O=NN(O)C1=CC=CC=C1 IGGNNTSKHNEHLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 claims description 2
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- GCSVNNODDIEGEX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-oxazolidin-4-one Chemical class O=C1COC(=S)N1 GCSVNNODDIEGEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 19
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 11
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKEPGIQTWYTRIW-ODZAUARKSA-N (z)-but-2-enedioic acid;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.OC(=O)\C=C/C(O)=O MKEPGIQTWYTRIW-ODZAUARKSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000182 1,3,5-triazines Chemical class 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDDLMJULQGRLU-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane-4,6-dione Chemical compound O=C1CC(=O)OCO1 XJDDLMJULQGRLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 1,3-indandione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CC(=O)C2=C1 UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOLHRFLIXVQPSZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound O=C1CSCN1 NOLHRFLIXVQPSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNNRBDNSVJZCFQ-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenyl]ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 JNNRBDNSVJZCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHMNIYLDJAUBMU-BTJKTKAUSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;(z)-but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO QHMNIYLDJAUBMU-BTJKTKAUSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCZNFGBAORROPB-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(dibromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound BrC(Br)C1=NC(C(Br)Br)=NC(C(Br)Br)=N1 CCZNFGBAORROPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URJAUSYMVIZTHC-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(tribromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound BrC(Br)(Br)C1=NC(C(Br)(Br)Br)=NC(C(Br)(Br)Br)=N1 URJAUSYMVIZTHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUKYYIQMUCVKHI-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dichlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 GUKYYIQMUCVKHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2C=CC=CC=2)=N1 DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JENKIIWNWASCFW-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 JENKIIWNWASCFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URPRWILECKGGKP-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-methyl-6-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=NC(C)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 URPRWILECKGGKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOTIJEQQGSMAIN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(tribromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Br)(Br)Br)=NC(C(Br)(Br)Br)=N1 GOTIJEQQGSMAIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYDGUUYUAMPNZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1h-triazine Chemical compound N1C(C(Cl)(Cl)Cl)=CC(C(Cl)(Cl)Cl)=NN1C1=CC=CC=C1 OEYDGUUYUAMPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PWLCHMWZECZUCZ-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-1-sulfanyl-4h-imidazol-5-one Chemical compound CCCC1=NCC(=O)N1S PWLCHMWZECZUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical group O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGMPPRWUROZRFF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound CCN1CSCC1=O QGMPPRWUROZRFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKQROFBYABVNTB-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical compound CCN1C(=O)CSC1=O IKQROFBYABVNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPCYEFFISUGBRW-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound CCN1C(=O)CSC1=S UPCYEFFISUGBRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVGKKACSLZHMQT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CCN1C(=O)CNC1=O PVGKKACSLZHMQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYUQCOIVVOLGJK-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4h-1,2-oxazol-5-one Chemical compound CC1=NOC(=O)C1 PYUQCOIVVOLGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTGPITKQSNYMJM-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1CSC(=O)N1C1=CC=CC=C1 WTGPITKQSNYMJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVRWEKGUWZINTQ-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound O=C1CSC(=S)N1C1=CC=CC=C1 DVRWEKGUWZINTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHKNLPPRTQQACK-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-4h-1,2-oxazol-5-one Chemical compound O1C(=O)CC(C=2C=CC=CC=2)=N1 IHKNLPPRTQQACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYGUTBCTEJBRAN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enyl-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound C=CCN1C(=O)CSC1=S GYGUTBCTEJBRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- VBNIYPOGDJUMEM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-6-(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(N)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 VBNIYPOGDJUMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEAYCTGEHOJKBI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-6-(tribromomethyl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(C(Br)(Br)Br)=N1 AEAYCTGEHOJKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 4-one Natural products O1C(C(=O)CC)CC(C)C11C2(C)CCC(C3(C)C(C(C)(CO)C(OC4C(C(O)C(O)C(COC5C(C(O)C(O)CO5)OC5C(C(OC6C(C(O)C(O)C(CO)O6)O)C(O)C(CO)O5)OC5C(C(O)C(O)C(C)O5)O)O4)O)CC3)CC3)=C3C2(C)CC1 LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A ethoxylate diacrylate Chemical compound C=1C=C(OCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N Butylate Chemical compound CCSC(=O)N(CC(C)C)CC(C)C BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAMBHXFNGJJGRJ-UHFFFAOYSA-N C(C=C/C(=O)O)(=O)O.C(COCCOCCO)O Chemical compound C(C=C/C(=O)O)(=O)O.C(COCCOCCO)O HAMBHXFNGJJGRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTCVIMZVXASBBW-UHFFFAOYSA-O CCSC(N1)[S+]=CC1=O Chemical compound CCSC(N1)[S+]=CC1=O DTCVIMZVXASBBW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C Chemical compound C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN Chemical compound NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound CC(O)CCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- HJSLFCCWAKVHIW-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dione Chemical compound O=C1CCCC(=O)C1 HJSLFCCWAKVHIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N dimedone Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(=O)C1 BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N erythrosin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(C1C(C(=C(O)C(I)=C1)I)O1)=C2C1=C(I)C(=O)C(I)=C2 WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- UEKDRLRXXAOOFP-UHFFFAOYSA-N imidazolidine-2,4-dione Chemical group O=C1CNC(=O)N1.O=C1CNC(=O)N1 UEKDRLRXXAOOFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- QJYOTENOHMKILD-UHFFFAOYSA-N methylsulfinylmethane;oxolan-2-one Chemical compound CS(C)=O.O=C1CCCO1 QJYOTENOHMKILD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L rose bengal Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CDYRDVSFLKTXRU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl naphthalene-1-sulfonate;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OC(C)(C)C)=CC=CC2=C1 CDYRDVSFLKTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
- G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
- Y10S430/123—Sulfur in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/127—Spectral sensitizer containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare
Zusammensetzung, welche eine polymerisierbare
Verbindung mit ethylenisch ungesättigten Bindungen und
einen Photopolymerisationsinitiator einer neuen Zusammensetzung
und gegebenenfalls ein lineares organisches,
hochmolekulares Polymer umfaßt, welche beispielsweise
als lichtempfindliche Schicht, die ebenfalls
gegenüber Licht aus einer Argonionenlaserquelle empfindlich ist,
einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung bei der
Herstellung einer lithographischen Druckplatte geeignet ist.
Es ist bekannt, Duplikate von Bildern unter Verwendung
einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die aus einer
polymerisierbaren Verbindung mit ethylenisch ungesättigten
Bindungen und einem Photopolymerisationsinitiator
zusammengesetzt ist, die weiterhin ein geeignetes Bindemittel,
das einen Film bilden kann, und einen Wärmepolymerisationsinhibitor,
je nach Bedarf, enthält, zu bilden.
Wie in den US-PS 29 27 022, 29 02 356 und
38 70 524 offenbart, bewirkt eine lichtempfindliche
Schicht, die aus dieser Art einer lichtempfindlichen
Zusammensetzung zusammengesetzt ist, eine Photopolymerisation
und wird gehärtet, wenn sie mit Licht bestrahlt
wird, und deshalb werden die belichteten Bereiche in
einem Entwicklungsmittel unlöslich. Es kann deshalb ein
gewünschtes Bild aus solch einer lichtempfindlichen Zusammensetzung
erhalten werden, indem die lichtempfindliche
Zusammensetzung zu einem geeigneten Film gebildet
wird, der Film mit Licht durch eine negative Transparenz,
die ein gewünschtes Bild trägt, bestrahlt wird und dann
nur die nichtbelichteten Bereiche durch selektives Auflösen
mit einem geeigneten Lösungsmittel (nachstehend
einfach als "Entwicklung" bezeichnet) entfernt werden.
Eine solche lichtempfindliche Zusammensetzung ist
deshalb zur Herstellung einer vorsensibilisierten Platte
zur Verwendung bei der Herstellung einer lichtempfindlichen
Druckplatte (nachstehend als "Druckplatte" bezeichnet)
und dgl. geeignet.
Es wurde ebenfalls vorgeschlagen, in solch eine lichtempfindliche
Zusammensetzung einen Photopolymerisationsinitiator
einzuarbeiten, um die Lichtempfindlichkeit zu
verstärken, da, wenn nur die polymerisierbare Verbindung
mit ethylenisch ungesättigten Bindungen verwendet wird,
die erhaltene lichtempfindliche Zusammensetzung keine
ausreichende Lichtempfindlichkeit aufweist. Beispiele
für solche Photopolymerisationsinitiatoren, die üblicherweise
verwendet wurden, schließen Benzil, Benzoin,
Benzoinethylether, Michler's Keton, Anthrachinon,
Akridin, Phenazin, Benzophenon und 2-Ethylanthrachinon
ein.
Wenn solch ein Photopolymerisationsinitiator in diese
Art von lichtempfindlicher Zusammensetzung eingearbeitet
wird, ist die erhaltene Zusammensetzung jedoch in ihrer
Lichtempfindlichkeit (oder der Fähigkeit, ein schnelles
Härten zu bewirken) verschlechtert, und deshalb ist eine
lange Zeit erforderlich, um sie mit Licht zur Bildung
von Bildern zu bestrahlen. Aus diesem Grund können im
Fall der Reproduktion von sehr feinen Bildern keine
Bilder mit guten Eigenschaften erhalten werden, auch
wenn nur eine geringe Schwankung der Bedingungen der
bildweisen Belichtung auftritt. In diesem Fall ist es
weiter notwendig, die Dosis der Strahlung aus einer
Lichtquelle zur Belichtung zu erhöhen, und deshalb ist
es notwendig, eine Einrichtung zum Diffundieren bzw. Ausbreiten einer
großen Wärmemenge, die während der Belichtung erzeugt
wird, zu verwenden. Weiterhin kann eine Deformation des
Films, der aus der Zusammensetzung gebildet wird, bewirkt
werden, und seine Eigenschaften können sich ändern
aufgrund der extremen Wärmeerzeugung.
Diese Photopolymerisationsinitiatoren weisen weiterhin
ein recht großes Vermögen zur Bewirkung einer Photopolymerisation
bezüglich Lichtquellen, die Licht mit einer
Wellenlänge von nicht mehr als 400 nm (Ultraviolettbereich)
aussenden, auf, während ihre Fähigkeit, eine
Photopolymerisation zu bewirken bezüglich Lichtquellen,
die Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als
400 nm (sichtbarer Bereich) aussenden, recht niedrig
ist. Die Verwendung der photopolymerisierbaren Zusammensetzung,
die einen üblichen Photopolymerisationsinitiator
enthält, ist deshalb auf einen sehr engen Bereich
begrenzt.
Es wurden deshalb bereits Vorschläge zur Verwendung von
Photopolymerisationssystemen, die gegenüber sichtbarem
Licht empfindlich sind, gemacht. Beispielsweise
offenbart die US-PS 28 50 445, daß bestimmte Arten von
photoreduzierbaren Farbstoffen, wie Rose Bengale,
Eosin und Erythrosin, eine wirksame Empfindlichkeit
gegenüber sichtbarem Licht aufweisen. Es wurde ebenfalls
ein Komplexinitiatorsystem, das aus einem Farbstoff und
einem Amin zusammengesetzt ist (JP-PS 44-20 189); ein
System, das aus einem Hexaaryl-biimidazol, einem
Radikalerzeuger und einem Farbstoff zusammengesetzt ist
(JP-PS 45-37 377); ein System aus einem Hexaaryl-biimidazol
und p-Dialakylamino-benzylidenketon (JP-OS 47-2 528
und 54-1 55 292); und ein System, zusammengesetzt aus
einem substituierten Triazin und einem Merocyaninfarbstoff
(JP-OS 54-1 51 024), vorgeschlagen. Diese Systeme
sind gegenüber sichtbarem Licht empfindlich. Die lichtempfindliche
Zusammensetzung, die solch ein Photopolymerisationssystem
enthält, ist jedoch in der Photopolymerisationsgeschwindigkeit
(oder der Empfindlichkeit
gegenüber Licht) immer noch unzureichend, und es besteht
deshalb ein Bedarf zur Entwicklung einer verbesserten
photopolymerisierbaren Zusammensetzung dieser Art.
Es wurde versucht, die lichtempfindliche Zusammensetzung
in ihrer Empfindlichkeit gegenüber Ultraviolettstrahlen
zu verbessern und ein Verfahren zur Bildung von Bildern
unter Verwendung eines Laserstrahls zu entwickeln. Als
Ergebnis wurden UV-Projektionsaussetzungsverfahren,
Direktlaserplattenherstellungsverfahren, Laserfaksimiletechniken,
Holographietechniken und dgl. bereits in
der Praxis verwendet. Es wurden deshalb verschiedene
Untersuchungen durchgeführt, um hochempfindliche, lichtempfindliche
Materialien zu entwickeln, die zur Verwendung
in diesen Verfahren und Techniken geeignet sind.
Solche lichtempfindlichen Materialien sind jedoch in
ihrer Empfindlichkeit noch unzureichend.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Verfügung zu
stellen, die eine hohe Empfindlichkeit gegenüber Licht,
einschließlich sichtbarem Licht, besitzt.
Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Verfügung zu
stellen, die einen Photopolymerisationsinitiator enthält,
der die Photopolymerisationsgeschwindigkeit einer
photopolymerisierbaren Zusammensetzung, einschließlich
einer polymerisierbaren Verbindung mit ethylenisch ungesättigten
Bindungen darin, verstärken kann.
Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Verfügung zu
stellen, die einen Photopolymerisationsinitiator enthält,
der eine hohe Empfindlichkeit auch gegenüber Licht
mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 400 nm
(sichtbarer Lichtbereich), insbesondere gegenüber Licht
von etwa 488 nm, entsprechend dem Ausgangsstrahl eines
Ar⁺-Lasers, aufweist.
Es wurde nun gefunden, daß bestimmte spezifische Photopolymerisationsinitiatorsysteme die Photopolymerisationsgeschwindigkeit
einer polymerisierbaren Verbindung
mit ethylenisch ungesättigten Bindungen verbessern und
daß die erhaltene Zusammensetzung ebenfalls eine hohe
Empfindlichkeit gegenüber sichtbarem Licht von nicht
weniger als 400 nm durch die Zugabe eines spezifischen
Photopolymerisationsinitiators besitzt.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare
Zusammensetzung, die wenigstens eine polymerisierbare
Verbindung mit wenigstens einer ethylenisch
ungesättigten Bindung und wenigstens einen Photopolymerisationsinitiator
und gegebenenfalls wenigstens ein
lineares organisches Polymer mit hohem Molekulargewicht
umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß der Photopolymerisationsinitiator
wenigstens eine 2,4,6-substituierte-
1,3,5-Triazinverbindung, dargestellt durch die folgende
allgemeine Formel (I)
worin X, Y und Z jeweils eine Alkylgruppe, eine substituierte
Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte
Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe bedeuten, mit der
Maßgabe, daß sie gleich oder verschieden sein können und
wenigstens einer dieser Substituenten eine Mono-, Di-
oder Trihalogenmethylgruppe sein sollte,
und wenigstens eine Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (II)
und wenigstens eine Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (II)
worin R₁ bis R₄ jeweils unabhängig voneinander ein
Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine
substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte
Arylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe,
eine substituierte Alkoxygruppe, eine Aminogruppe
oder eine substituierte Aminogruppe bedeuten mit der
Maßgabe, daß R₁ bis R₄ einen nichtmetallischen
Ring mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden
sind, bilden können; R₅ und R₆ jeweils unabhängig voneinander
ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine
substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte
Arylgruppe, eine heteroaromatische Gruppe, eine
Acylgruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe,
eine Carboxylgruppe oder eine substituierte Alkenylgruppe
bedeuten, mit der Maßgabe, daß R₅ und R₆ zusammen
mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind,
einen nichtmetallischen Ring bilden können; X ein Sauerstoffatom,
ein Schwefelatom, NH oder ein zweiwertiges
Stickstoffatom mit einem Substituenten bedeutet; und G₁
und G₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils
ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe,
eine substituierte Alkoxycarbonylgruppe, eine
Aryloxycarbonylgruppe, eine substituierte Aryloxycarbonylgruppe,
eine Acylgruppe, eine substituierte Acylgruppe,
eine Arylcarbonylgruppe, eine substituierte
Arylcarbonylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe,
eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe
oder eine Fluorsulfonylgruppe bedeuten mit der
Maßgabe, daß G₁ und G₂ nicht gleichzeitig ein Wasserstoffatom
sein können und zusammen mit den Kohlenstoffatomen,
an die sie gebunden, einen nichtmetallischen
Ring bilden können,
umfaßt.
Nachstehend wird die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung näher beschrieben.
Die polymerisierbaren Verbindungen mit ethylenisch ungesättigten
Bindungen sind vorzugsweise solche mit
wenigstens einer ethylenisch ungesättigten Bindung in
ihrer chemischen Struktur, die in irgendeiner chemischen
Form sein kann, wie ein Monomer, ein Prepolymer,
d. h. Dimer, Trimer oder Oligomer, oder einer Mischung
daraus oder ein Copolymer davon.
Beispiele für solche Monomere und Copolymere davon
schließen ungesättigte Carbonsäuren und Salze davon,
Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen
Polyolverbindungen, Amide von ungesättigten Carbonsäuren
und aliphatischen Polyaminverbindungen und Copolymere
dieser Monomere ein.
Spezifische Beispiele für solche ungesättigten Carbonsäuremonomere
schließen Acrylsäure, Methacrylsäure,
Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure und Maleinsäure
ein. Beispiele für die Salze der ungesättigten Carbonsäuren
schließen Natrium- und Kaliumsalze der vorstehenden
ungesättigten Carbonsäuren ein.
Zusätzlich können als Estermonomere der aliphatischen
Polyolverbindungen und ungesättigten Carbonsäuren die
folgenden Verbindungen genannt werden: ein Acrylat, wie
Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat,
1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat,
Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat,
Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat,
Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat,
Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat,
Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat,
Dipentaerythrittetraacrylat,
Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat,
Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat,
Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat oder Polyesteracrylatoligomere;
ein Methacrylat, wie Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat,
1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat,
Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat, Dipentaerythrithexamethacrylat,
Sorbittrimethacrylat, Sorbittetramethacrylat
oder Bis(p-(acryloxyethoxy)phenyl)dimethylmethan;
ein Itaconat, wie Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat,
1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat,
Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat
oder Sorbittetraitaconat; ein Crotonat,
wie Ethylenglykoldicrotonat, Tetramethylenglykoldicrotonat,
Pentaerythritdicrotonat, Sorbittetracrotonat
oder Sorbitdicrotonat; ein Isocrotonat, wie Ethylenglykoldiisocrotonat,
Pentaerythritdiisocrotonat oder
Sorbittetraisocrotonat, ein Maleat, wie Ethylenglykoldimaleat,
Triethylenglykoldimaleat, Pentaerythritdimaleat
oder Sorbittetramaleat; oder eine Mischung der
vorstehenden Estermonomere.
Beispiele für die Amidmonomere der aliphatischen Polyaminverbindungen
und ungesättigten Carbonsäuren schließen
Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid,
1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid,
Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid
und Xylylenbismethacrylamid ein.
Es ist ebenfalls möglich, Vinylurethanverbindungen mit
wenigstens zwei polymerisierbaren Vinylgruppen in den
Molekülen, erhalten durch Zugabe eines Vinylmonomers mit
einer Hydroxylgruppe, dargestellt durch die folgende
allgemeine Formel (III), zu einer Polyisocyanatverbindung
mit wenigstens zwei Isocyanatgruppen in dem Molekül, wie
in der JP-PS 48-41 708 beschrieben, zu verwenden:
CH₂ = C(R)COOCH₂CH(R′)OH (III)
worin R und R′ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine
Methylgruppe bedeuten.
Zusätzlich zu den vorstehenden Verbindungen können
Urethanacrylate, wie in den JP-PS 48-41 708 und 50-6 034
und der JP-OS 51-37 193 offenbart; Polyesteracrylate, wie
in der JP-PS 48-64 183 und den JP-OS 49-43 191 und
52-30 490 offenbart; und polyfunktionelle Acrylate und
Methacrylate, wie Epoxyacrylate, erhalten durch Umsetzen
eines Epoxyharzes und (Meth)acrylsäure, genannt werden.
Weiterhin ist es ebenfalls möglich, die in Bulletin of
Japan Adhesives Association (Nippon Setchaku Kyokai
Shi), 1984, Vol. 20, Nr. 7, Seiten 300-308, als photohärtbare
Monomere und Oligomere genannten Verbindungen
zu verwenden.
Diese polymerisierbaren Verbindungen mit ethylenisch
ungesättigten Bindungen können einzeln oder in Kombination
verwendet werden. Sie können in einer Menge von 5
bis 50 Gew.-% (nachstehend nur als "%" angegeben),
bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, vorzugsweise
in einer Menge von 10 bis 40%, verwendet
werden.
Nachstehend werden die erfindungsgemäß verwendeten Photopolymerisationsinitiatoren, die ein wesentlicher Bestandteil
der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren
Zusammensetzung sind, näher erläutert.
Spezifische Beispiele für die 2,4,6-substituierten-
1,3,5-Triazinverbindungen der allgemeinen Formel (I)
schließen die in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc.,
Japan, 1969, Vol. 42, 2924 genannten Verbindungen ein,
beispielsweise 2-Phenyl-4,6-bis(trichlormethyl)-s-
triazin, 2-(4-Acetylphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-
s-triazin, 2-(p-Chlorphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-
triazin, 2-(p-Tolyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin,
2-(p-Methoxyphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin,
2-(2′,4′-Dichlorphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-
triazin, 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-s-triazin, 2-Methyl-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-n-Nonyl-4,6-bis(trichlormethyl)-
2-triazin und 2-(α,α,β-Trichlorethyl)-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin. Zusätzlich zu
diesen Verbindungen können die in der GB-PS 13 88 492
offenbarten Verbindungen verwendet werden, wie 2-Styryl-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(p-Methylstyryl)-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(p-Methoxystyryl)-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(p-Methoxystyryl)-
4-amino-6-trichlormethyl-s-triazin; die in der JP-OS
53-1 33 428 offenbarten Verbindungen, wie 2-(4-Methoxynaphtho-
1-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-
Ethoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin,
2-(4-(2-Ethoxyethyl)naphtho-1-yl)-4,6-bis(trichlormethyl)-
s-triazin, 2-(4,7-Dimethoxynaphtho-1-yl)-4,6-
bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(Acenaphtho-5-yl)-
4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, die in der DE-PS
33 37 024 offenbarten Verbindungen und andere Verbindungen,
wie die durch die folgenden Formeln dargestellten
Verbindungen:
Zusätzlich ist es ebenfalls möglich, die in dem Artikel
von F. C. Schaefer (J. Org. Chem. 1964, Vol. 29, 1527)
offenbarten Verbindungen zu verwenden, beispielsweise
2-Methyl-4,6-bis(tribrommethyl)-s-triazin, 2,4,6-Tris(tribrommethyl)-
s-triazin, 2,4,6-Tris(dibrommethyl)-s-
triazin, 2-Amino-4-methyl-6-tribrommethyl-s-triazin und
2-Methoxy-4-methyl-6-trichlormethyl-s-triazin.
Weiterhin können die in der japanischen Patentanmeldung
60-1 98 868 offenbarten Verbindungen erfindungsgemäß verwendet
werden, beispielsweise die durch die folgenden
Formeln dargestellten Verbindungen:
Weiterhin schließen Beispiele für die 2,4,6-substituierten
1,3,5-Triazine solche Verbindungen, wie sie in
den japanischen Patentanmeldungen 61-1 86 238 und
61-2 27 489 offenbart sind, ein, beispielsweise die durch
die folgende Formel dargestellte Verbindung:
In den Photopolymerisationsinitiatoren der allgemeinen
Formel (II) können die Alkylgruppen, die in der Definition
von R₁ bis R₆ angegeben sind, 1 bis 20 Kohlenstoffatome
enthalten und können beispielsweise Methyl-,
Ethyl- und tert.-Butylgruppen sein. Die Arylgruppen
können 6 bis 10 Kohlenstoffatome enthalten und beispielsweise
eine Phenylgruppe sein. Die Alkoxygruppen in
der Definition von R₁ bis R₄ können 1 bis 6 Kohlenstoffatome
aufweisen und beispielsweise eine Methoxy-,
Ethoxy- oder Butoxygruppe sein.
Die substituierten Aminogruppen in der Definition von R₁
bis R₄ können Alkylaminogruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen
oder Arylaminogruppen mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen
sein, wie Methylamino-, Dimethylamino-,
Diethylamino-, Diphenylamino-, Piperidino- und Morpholinogruppen.
Diese Alkyl-, Aryl-, Alkoxy-, Alkylamino- und Arylaminogruppen
können Substituenten enthalten. Beispiele für
diese Substituenten schließen ein Halogenatom, wie ein
Fluor-, Chlor- oder Bromatom; eine Alkoxycarbonylgruppe,
wie eine Ethoxycarbonylgruppe, eine Alkoxygruppe, wie
eine Methoxy- oder Ethoxygruppe; eine Arylgruppe, wie
eine Phenylgruppe; und eine Cyanogruppe ein.
Wenn R₁ bis R₄ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an
die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden,
sind Beispiele für Verbindungen der Formel (II),
die solch einen Ring einschließen, solche der nachstehend
angegebenen allgemeinen Formeln (A) bis (C):
worin jeder Substituent die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt.
Wenn R₅ und R₆ Acylgruppen sind, sind Beispiele dafür
solche mit Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen
oder Arylgruppen mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, und
wenn sie Alkoxycarbonylgruppen sind, sind Beispiele
dafür solche mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
wie eine Ethoxycarbonylgruppe. Wenn sie
substituierte Alkenylgruppen sind, können sie solche mit
2 bis 10 Kohlenstoffatomen sein, wie eine Styrylgruppe.
Wenn diese Gruppen heteroatomatische Gruppen sind, sind
Beispiele dafür die durch die folgenden Formeln (D) bis
(F) dargestellten Gruppen:
Wie vorstehend angegeben, können R₅ und R₆ zusammen mit
den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen
nichtmetallischen Ring bilden. Beispiele für Verbindungen
der allgemeinen Formel (II), die einen solchen Ring
enthalten, sind durch die folgende allgemeine Formel (G)
dargestellt:
worin jeder Substituent die vorstehende angegebene Bedeutung
besitzt.
Wenn X ein Stickstoffatom mit einem Substituenten ist,
sind Beispiele für solche Substituenten die gleichen
Alkyl- und Arylgruppen, wie sie vorstehend im Zusammenhang
mit R₁ bis R₆ angegeben wurden.
G₁ und G₂ können gleich oder verschieden sein und jeweils
ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine
Alkoxycarbonylgruppe mit einer Alkylgruppe mit 1 bis
10 Kohlenstoffatomen, wie eine Ethoxycarbonylgruppe, und
eine Aryloxycarbonylgruppe mit einer Arylgruppe mit 6
bis 10 Kohlenstoffatomen, wie eine Phenoxycarbonylgruppe,
eine Acylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie
eine Acetyl- oder Propionylgruppe, eine Arylcarbonylgruppe
mit 7 bis 11 Kohlenstoffatomen, wie eine Benzoylgruppe,
eine Alkylthiogruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
wie eine Methylthio- oder Ethylthiogruppe, eine
Arylthiogruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie eine
Phenylthiogruppe, eine Arylsulfonylgruppe mit 6 bis 10
Kohlenstoffatomen, wie eine Phenylsulfonylgruppe, eine
Alkylsulfonylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie
eine Methylsulfonyl- oder Ethylsulfonylgruppe, oder eine
Fluorsulfonylgruppe bedeuten.
Diese Alkoxycarbonyl-, Aryloxycarbonyl-, Acyl-, Arylcarbonyl-,
Alkylthio-, Arylthio-, Arylsulfonyl- und Alkylsulfonylgruppen,
die in der Bedeutung von G₁ und G₂ angegeben
sind, können Substituenten besitzen. Beispiele
dafür schließen Halogenatome wie Chlor; Alkoxycarbonylgruppen
mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen;
eine Carboxylgruppe; Arylgruppen mit 6 bis
10 Kohlenstoffatomen; Alkoxygruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen;
und eine Cyanogruppe ein. Diese Aryloxycarbonyl-,
Arylcarbonyl-, Arylthio- oder Arylsulfonylgruppen
können durch Alkylgruppen mit
1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie eine Methylgruppe, zusätzlich
zu den vorstehenden Substituenten substituiert
sein.
Wie vorstehend erwähnt, können G₁ und G₂ zusammen mit
den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen
Ring aus nichtmetallischen Atomen bilden. Solch ein Ring
wird üblicherweise als saurer Kern von Merocyaninfarbstoffen
verwendet, und Beispiele dafür schließen die
folgenden ein:
- (a) 1,3-Dicarbonylkern, beispielsweise 1,3-Indandion, 1,3-Cyclohexandion, 5,5-Dimethyl-1,3-cyclohexandion und 1,3-Dioxan-4,6-dion;
- (b) Pyrazolinonkern, beispielsweise 3-Methyl-1-phenyl- 2-pyrazolin-5-on, 1-Phenyl-2-pyrazolin-5-on und 1-(2-Benzothiazoyl)-3-methyl-2-pyrazolin-5-on;
- (c) Isoxazolinonkern, beispielsweise 3-Phenyl-2-isoxazolin- 5-on und 3-Methyl-2-isoxazolin-5-on;
- (d) Oxyindolkern, beispielsweise 1-Alkyl-2,3-dihydro- 2-oxyindol;
- (e) 2,4,6-Triketohexahydropyrimidinkern, beispielsweise Barbitursäure, 2-Thiobarbitursäure und Derivate davon, wobei Beispiele für diese Derivate 1-Alkylderivate, wie 1-Methyl- und 1-Ethylderivate, 1,3-Dialkylderivate, wie 1,3-Diethyl- und 1,3-Dibutylderivate, 1,3-Diarylderivate, wie 1,3-Diphenyl-, 1,3-Di-(p-chlorphenyl)- und 1,3-Di-(p- ethoxycarbonylphenyl)derivate, und 1-Alkyl-3-arylderivate, wie 1-Ethyl-3-phenylderivate, einschließen;
- (f) 2-Thio-2,4-thiazolidindionkern, beispielsweise Rhodanin und Derivate davon, wobei Beispiele für diese Derivate 3-Alkylrhodanine, wie 3-Ethylrhodanin und 3-Allylrhodanin, und 3-Arylrhodanine, wie 3-Phenylrhodanin, einschließen;
- (g) 2-Thio-2,4-oxazolidindion-(2-thio-2,4-(3H,5H)- oxazoldionkern, beispielsweise 2-Ethyl-2-thio-2,4- oxazolidindion;
- (h) Thianaphthenonkern, beispielsweise 3-(2H)-thianaphthenon und 3-(2H)-Thianaphthenon-1,1-dioxid;
- (i) 2-Thio-2,5-thiazolidindionkern, beispielsweise 3-Ethyl-2-thio-2,5-thiazolidindion;
- (j) 2,4-Thiazolidindionkern, beispielsweise 2,4-Thiazolidindion, 3-Ethyl-2,4-thiazolidindion und 3-Phenyl-2,4-thiazolidindion;
- (k) Thiazolidinonkern, beispielsweise 4-Thiazolidinon und 3-Ethyl-4-thiazolidinon;
- (l) 4-Thiazolinonkern, beispielsweise 2-Ethylmercapto- 5-thiazolin-4-on und 2-Alkylphenylamino-5-thiazolin- 4-on;
- (m) 2-Imino-2-oxozolin-4-onkern (Pseudohydantoinkern);
- (n) 2,4-Imidazolidindion(hydantoin)kern, beispielsweise 2,4-Imidazolidindion und 3-Ethyl-2,4-Imidazolidindion;
- (o) 2-Thio-2,4-imidazolidindion-(2-thiohydantoin)kern, beispielsweise 2-Thio-2,4-imidazolidindion und 3-Ethyl-2-thio-2,4-imidazolidindion;
- (p) 2-Imidazolin-5-onkern, beispielsweise 2-n-Propyl- mercapto-2-imidazolin-5-on; und
- (q) Furan-5-onkern.
Die durch die allgemeine Formel (II) dargestellten
Photopolymerisationsinitiatoren, die in der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung verwendet werden können, können
durch Umsetzung einer Verbindung der allgemeinen Formel
(IV) oder (V) mit einer Verbindung der allgemeinen Formel
(VI) hergestellt werden:
In den vorstehenden Formeln bedeuten L₁ und L₂ jeweils
eine Alkylgruppe und Z- bedeutet ein Anion.
Spezifische Beispiele für die Photopolymerisationsinitiatoren
der allgemeinen Formel (II) sind die folgenden:
Das Gewichtsverhältnis der Formel (I) zur Verbindung der
Formel (II), die in den Initiatorsystemen enthalten
sind, beträgt geeigneterweise 10 : 1 bis 1 : 10, vorzugsweise
5 : 1 bis 1 : 5.
Diese Photopolymerisationsinitiatorsysteme werden üblicherweise
in die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung in einer sehr kleinen Menge eingearbeitet.
Die Verwendung dieser Systeme in einer äußerst
großen Menge führt zu unerwünschten Ergebnissen, wie
einer Abschirmung der wirksamen Strahlung. Die Menge
dieser Photopolymerisationsinitiatorsysteme in der erfindungsgemäßen
photopolymerisierbaren Zusammensetzung
liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 60%, bezogen
auf die Gesamtmenge der photopolymerisierbaren
ethylenisch ungesättigten Verbindung und einem linearen
organischen Polymer mit hohem Molekulargewicht, das
darin, je nach Bedarf, eingearbeitet ist. Besonders bevorzugte
Mengen liegen im Bereich von 1 bis 30%, was zu
guten Ergebnissen führt.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
kann weiterhin eine Vielzahl von organischen
Aminverbindungen, je nach Bedarf, zur weiteren Verstärkung
des Photopolymerisationsinitiierungsvermögens der
Zusammensetzung enthalten. Beispiele für diese organischen
Aminverbindungen schließen Triethanolamin,
Dimethylamin, Diethanolanilin, Ethyl-p-dimethylaminobenzoat
und Michler's Keton ein. Die organischen Aminverbindungen
können einzeln oder in Kombination verwendet
werden. Diese Verbindungen werden in einer Menge
von etwa 50 bis etwa 200%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Polymerisationsinitiatoren, verwendet.
Um das Photopolymerisationsinitiierungsvermögen der
Photopolymerisationsinitiatoren weiter zu verbessern,
ist es ebenfalls möglich, wenigstens eine Verbindung
zuzugeben, die als Protonendonor dient, wie N-Phenylglycin,
2-Mercaptobenzothiazol und Alkyl-N,N-dialkylbenzoate,
je nach Bedarf. Die Menge dieser Protonen
liefernden Verbindungen liegt im Bereich von etwa 50 bis
etwa 100%, bezogen auf die Gesamtmenge der Photopolymerisationsinitiatoren.
Die "linearen organischen Polymere mit hohem Molekulargewicht",
die in der erfindungsgemäßen Zusammensetzung
verwendet werden können, sind nicht auf spezifische
Beispiele beschränkt, solange die Polymere eine gute
Verträglichkeit mit der photopolymerisierbaren, ethylenisch
ungesättigten Verbindung besitzen. Es ist jedoch
wünschenswert, ein lineares organisches Polymer mit
hohem Molekulargewicht zu wählen, das in Wasser oder
einer schwach alkalischen, wäßrigen Lösung löslich ist
oder darin quellen kann, was es ermöglicht, die
Schichten der Zusammensetzung mit Wasser oder einer
schwach alkalischen, wäßrigen Lösung als Entwicklungsmittel
zu entwickeln. Die linearen organischen Polymere
mit hohem Molekulargewicht werden als filmbildende
Mittel verwendet oder werden auf geeignete Weise
gemäß der Natur des gewählten Entwicklungsmittels gewählt.
Beispielsweise kann die Zusammensetzung mit
Wasser entwickelt werden, wenn ein wasserlösliches
organisches Polymer mit hohem Molekulargewicht verwendet
wird. Beispiele für diese linearen organischen
Polymere mit hohem Molekulargewicht sind
Additionspolymere mit Carbonsäuregruppen in ihrer Seitenkette,
wie Methacrylsäurecopolymere, Acrylsäurecopolymere,
Itaconsäurecopolymere, Crotonsäurecopolymere, Maleinsäurecopolymere und
teilweise veresterte Maleinsäurecopolymere (siehe beispielsweise
die JP-OS 59-44 615, 54-92 723, 59-53 836 und
59-71 048 und die JP-PS 54-34 327, 58-12 577 und
54-25 957). Weiterhin sind erfindungsgemäß ebenfalls
saure Cellulosederivate mit Carboxylgruppen ihrer
Seitenkette geeignet. Daneben sind ebenfalls Verbindungen,
die durch Zugabe von cyclischen Säureanhydriden
zu Additionspolymeren mit Hydroxylgruppen erhalten werden,
geeignet. Unter diesen sind Copolymere
von Benzyl(meth)acrylat, (Meth)acrylsäure und gegebenenfalls
einem weiteren polymerisierbaren Vinyladditionsmonomer
und Copolymere von Allyl(meth)acrylat, (Meth)acrylsäure
und gegebenenfalls einem weiteren polymerisierbaren
Vinyladditionsmonomer besonders bevorzugt. Zusätzlich zu
den vorstehenden Beispielen können als wasserlösliche
lineare organische Polymere mit hohem Molekulargewicht
beispielsweise Polyvinylpyrrolidon und Polyethylenoxid
genannt werden. Weiterhin sind alkohollösliches Nylon,
Polyether von 2,2-Bis-(4-hydroxyphenyl)propan und Epichlorhydrin
und dgl. geeignet, um die Festigkeit des
gehärteten Films zu verstärken.
Diese linearen organischen Polymere mit hohem Molekulargewicht
können in die erfindungsgemäße polymerisierbare
Zusammensetzung in irgendeiner Menge eingearbeitet
werden. Die Verwendung dieser Polymere in einer
Menge von mehr als 90% verschlechtert jedoch die Eigenschaften
wie die Festigkeit der erhaltenen Bilder. Es
ist deshalb bevorzugt, diese Polymere in einer Menge von
etwa 30 bis etwa 85% zu verwenden. Zusätzlich ist es
bevorzugt, daß das Verhältnis der photopolymerisierbaren
ethylenisch ungesättigten Verbindung zu dem linearen
organischen hochmolekularen Polymer im Bereich von
0,5/9,5 bis 5/5 (Gewichtsverhältnis) und insbesondere
bevorzugt im Bereich von 1/9 bis 4/6 liegt.
Weiterhin ist es wünschenswert, der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung eine geringe Menge eines Wärmepolymerisationsinhibitors,
der anders ist als die vorstehend
genannten wesentlichen Komponenten, zuzugeben, um eine
ungewünschte vorzeitige Wärmepolymerisation der polymerisierbaren,
ethylenisch ungesättigten Verbindung, die
während der Herstellung der lichtempfindlichen Zusammensetzung
oder ihrer Lagerung auftreten kann, zu verhindern.
Beispiele für geeignete Wärmepolymerisationsinhibitoren
schließen Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-tert.-
butyl-p-cresol, Pyrogallol, tert.-Butylcatechol, Benzochinon,
4,4′-Thiobis-(3-methyl-6-tert.-butylphenol),
2,2′-Methylenbis-(4-methyl-6-tert.-butylphenol), 2-Mercaptobenzoimidazol,
Cer(III)-N-nitrosophenylhydroxylamin
ein. Die bevorzugte Menge der Wärmepolymerisationsinhibitoren
beträgt etwa 0,01 bis etwa 5%, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Photopolymerisationszusammensetzung.
Um eine polymerisationsinhibierende Wirkung aufgrund der
Gegenwart von Sauerstoff zu verhindern, kann gegebenenfalls
ein höheraliphatisches Säurederivat zugegeben werden,
um auf der Zusammensetzung aufzuschwimmen (to float). Die
Menge davon liegt vorzugsweise bei etwa 0,5 bis etwa
10%, bezogen auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung.
Weiterhin kann ein Farbstoff oder ein Pigment der Zusammensetzung
zugegeben werden, um die erhaltene lichtempfindliche
Schicht zu färben, und die Menge davon
liegt im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 5%, bezogen auf
die Gesamtmenge der Zusammensetzung.
Weiterhin können ebenfalls anorganische Füllstoffe und
andere bekannte Additive der Zusammensetzung zugegeben
werden, um die physikalischen Eigenschaften des erhaltenen
gehärteten Films zu verbessern.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
wird in Form einer Lösung in einer Vielzahl von
organischen Lösungsmitteln verwendet. Beispiele für erfindungsgemäß
geeignete Lösungsmittel schließen Aceton,
Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat, Ethylendichlorid,
Tetrahydrofuran, Toluol, Ethylenglykolmonomethylether,
Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykoldimethylether,
Propylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether,
Acetylaceton, Cyclohexanon,
Diacetonalkohol, Ethylenglykolmonomethyletheracetat,
Ethylenglykolethyletheracetat, Ethylenglykolmonoisopropylether,
Ethylenglykolmonobutyletheracetat,
3-Methoxypropanol, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglykolmonomethylether,
Diethylenglykolmonoethylether,
Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykoldiethylether,
Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethyletheracetat,
3-Methoxypropylacetat, N,N-
Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid-γ-butyrolacton ein.
Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination
verwendet werden. Die geeignete Konzentration des festen
Materials (Festgehalt) der Beschichtungslösung liegt im
Bereich von 2 bis 50%.
Die Beschichtungsmenge davon liegt im Bereich von 0,1
bis 10 g/m² (Trockengewicht) und beträgt besonders bevorzugt
0,5 bis 5 g/m².
Die Beschichtungslösung der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren
Zusammensetzung wird im allgemeinen auf
die Oberfläche eines geeigneten Substrats aufgebracht,
um beispielsweise vorsensibilisierte bzw. Druckplatten zu bilden. Als ein solches
Substrat wird im allgemeinen ein plattenartiges
Material, das eine gute Formbeständigkeit besitzt, erfindungsgemäß
verwendet. Beispiele für solch ein formbeständiges
plattenartiges Material schließen Papier;
Papier, das mit einem Kunststoffilm, wie einem Polyethylen-,
Polypropylen- oder Polystyrolfilm, laminiert ist, eine Metallplatte,
wie eine Aluminiumplatte (einschließlich einer
Aluminiumlegierungsplatte), eine Zinkplatte oder eine
Kupferplatte; ein Kunststoffilm, wie ein Cellulosediacetat-;
Cellulosetriacetat-; Cellulosepropionat-; Cellulosebutylrat-;
Celluloseacetatbutyrat-; Cellulosenitrat-; Polyethylenterephthalat-;
Polyethylen-; Polystyrol-; Polypropylen-;
Polycarbonat- oder Polyvinylacetalfilm, und Papier
oder ein Kunststoffilm, auf dem eine Schicht des vorstehenden
Metalls abgeschieden ist, ein. Unter diesen ist
eine Aluminiumplatte besonders bevorzugt aufgrund ihrer
großen Formbeständigkeit und niedrigen Kosten. Weiterhin
ist es ebenfalls bevorzugt, eine Verbundbahn bzw. -platte, zusammengesetzt
aus einem Polyethylenterephthalatfilm, an
den eine Aluminiumbahn gebunden ist, wie in der JP-PS
48-18 327 offenbart, zu verwenden.
Wenn ein Substrat mit einer Metalloberfläche, insbesondere
Aluminium, verwendet wird, ist es bevorzugt, daß
dieses Substrat einer Oberflächenbehandlung, wie einem
Körnen, einer Eintauchbehandlung in eine wäßrige Lösung
von beispielsweise Natriumsilicat, Kaliumfluorzirkonat
oder einem Phosphat, oder einer Anodisierungsbehandlung
ausgesetzt wird.
Weiterhin schließen Beispiele für bevorzugte Substrate
eine Aluminiumplatte ein, die gekörnt worden ist, gefolgt
durch Tauchen in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilicat,
und eine Aluminiumplatte, die anodisiert worden
ist, gefolgt von Eintauchen in eine wäßrige Lösung eines
Alkalimetallsilicats. Die Anodisierung kann durchgeführt
werden, indem ein elektrischer Strom durch die Aluminiumplatte
geleitet wird, die als Anode in einem Elektrolyt
dient, umfassend eine wäßrige Lösung oder eine
nichtwäßrige Lösung oder eine Kombination daraus, enthaltend
eine anorganische Säure, wie Phosphorsäure,
Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure, eine organische
Säure, wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure, oder ein
Salz davon.
Weiterhin ist es ebenfalls wirksam, eine galvanische bzw. elektrolytische
Silikatabscheidung zu verwenden, wie in der US-PS
36 58 662 offenbart.
Zusätzlich ist es ebenfalls wirksam, ein Substrat, das
einem elektrolytischen Körnen ausgesetzt worden ist,
weiter zu anodisieren und mit einer Natriumsilicatlösung
zu behandeln, wie in der JP-PS 46-27 481 und den
JP-OS 52-58 602 und 52-30 503 offenbart.
Weiterhin kann eine Aluminiumplatte oder ein Substrat
mit einer Aluminiumoberfläche einer mechanischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung,
einer chemischen Ätzbehandlung,
einem elektrolytischen Körnen, einer Anodisierungsbehandlung
und weiterhin einer Natriumsilicatbehandlung
ausgesetzt werden, und das so hergestellte
Substrat wird ebenfalls erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
Bevorzugte Beispiele für Substrate schließen weiterhin
Aluminiumsubstrate, einschließlich solcher mit einer
Aluminiumoberfläche, auf die eine Unterschicht aufgebracht
ist, ein. Beispiele für solche Unterschichten
schließen ein wasserlösliches Harz, wie Polyvinylsulfonsäure,
ein Polymer oder Copolymer mit Sulfonsäuregruppen
an den Seitenketten davon oder Polyacrylsäure; ein
wasserlösliches Metallsalz, wie Zinkborat; einen gelben
Farbstoff oder ein Aminsalz ein.
Diese Hydrophilisierungsbehandlungen werden nicht nur durchgeführt,
um die Oberfläche des Substrats hydrophil zu
machen, sondern um auch das Auftreten einer möglichen
schädlichen Reaktion der photopolymerisierbaren Zusammensetzung
zu verhindern, als auch die Haftung der
lichtempfindlichen Schicht auf der Oberfläche des
Substrats zu verstärken.
Es kann eine Schutzschicht auf der Schicht der erfindungsgemäßen
photopolymerisierbaren Zusammensetzung,
die auf die Oberfläche eines Substrats
aufgebracht wird, gebildet werden, um die polymerisationsinhibierende
Wirkung von Sauerstoff in Luft auszuschalten. Eine solche
Schutzschicht kann aus einem Polymer, das einen ausgezeichneten
Sauerstoffabschirmungseffekt besitzt, wie
Polyvinylalkohol und Celluloseacetat, erhalten werden.
Bezüglich des Verfahrens zum Aufbringen einer solchen
Schutzschicht auf die Schicht der Zusammensetzung wird
beispielsweise auf die US-PS 34 58 311 und die JP-PS
55-49 729 verwiesen.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
kann auf wirksame Weise in den üblichen Polymerisationsreaktionen
verwendet werden. Zusätzlich zu
solch einer Verwendung kann sie auf verschiedenen Gebieten
verwendet werden, beispielsweise ist sie als
Photoresist zur Verwendung bei der Herstellung von
Druckplatten und Leiterplatten verwendbar. Insbesondere
wird ein gutes Ergebnis erwartet, wenn sie als lichtempfindliches
Material verwendet wird, das mit sichtbarem Licht
aus Lasern, wie einem Ar⁺-Laser, belichtet wird, aufgrund
ihrer hohen Empfindlichkeit und breiten Spektralempfindlichkeit,
die bis in den sichtbaren Bereich
reicht.
Wenn die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
verwendet wird, um eine lithographische
Druckplatte herzustellen, wird die mit einer lichtempfindlichen
Schicht der Zusammensetzung versehene
Druckplatte zuerst belichtet, und dann werden die nicht
belichteten Bereiche mit einem Entwicklungsmittel zur
Bildung von Bildern entfernt, wodurch die lithographische
Druckplatte erhalten wird. Beispiele für Entwicklungsmittel,
die zur Herstellung einer solchen Druckplatte
verwendet werden, sind in der JP-PS 57-7 472 beschrieben,
beispielsweise eine wäßrige Lösung aus einem
anorganischen Alkalimittel, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat,
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid,
Natrium-tert.-phosphat, Natrium-sek.-phosphat,
Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium-sek.-phosphat,
Natriummetasilicat, Natriumbicarbonat oder wäßriges
Ammoniak; oder einem organischen Alkalimittel, wie Monoethanolamin
oder Diethanolamin. Die Menge dieser alkalischen
Mittel in dem Entwicklungsmittel liegt im Bereich
von 0,1 bis 10%, vorzugsweise bei 0,5 bis 5%.
Diese alkalischen wäßrigen Lösungen können ein oberflächenaktives
Mittel und/oder ein organisches Lösungsmittel,
wie Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol oder
2-Butoxyethanol, in einer geringen Menge enthalten. Beispiele
für solche Entwicklungsmittel sind in den US-PS
34 75 171 und 36 15 480 offenbart. Zusätzlich sind die
in den JP-OS 50-26 601 und 58-54 341 und den JP-PS
56-39 464 und 56-42 860 offenbarten Entwicklungsmittel
ebenfalls ausgezeichnet.
Aus der vorstehenden Beschreibung ist ersichtlich, daß
die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
eine hohe Empfindlichkeit in einem extrem
breiten Bereich von aktinischen Strahlen, die von Ultraviolettlicht
bis sichtbares Licht reichen, aufweist.
Deshalb ist die erfindungsgemäße Zusammensetzung sehr
empfindlich gegenüber Licht aus einer Vielzahl von
Lichtquellen, wie Superhochdruck-, Hochdruck-, Mitteldruck-
oder Niedrigdruck-Quecksilberlampen, einer
chemischen Lampe, einer Kohlenbogenlampe, einer Xenonlampe
und Metallhalogenidlampen, verschiedenen Arten von
Laserlampen, die Licht aussenden, dessen Wellenlänge vom
sichtbaren bis ultravioletten Bereich reicht, fluoreszierenden
Lichtstrahlen und Sonnenstrahlen.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung
wird nachstehend näher mit Bezug auf die Beispiele
erläutert, und die erfindungsgemäß erzielten
Wirkungen werden ebenfalls im Vergleich zu Vergleichsbeispielen
diskutiert.
Die Oberfläche einer 0,03 mm dicken Aluminiumplatte
wurde mit einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension
aus Bimsstein mit einer Teilchengröße von 400 mesh
gekörnt und dann mit Wasser ausreichend gewaschen. Die
Aluminiumplatte wurde dann geätzt durch Eintauchen in
eine wäßrige 10%ige Lösung Natriumhydroxid bei 70°C
über 60 s, gefolgt von Waschen mit fließendem Wasser,
Neutralisieren und Waschen mit 20%iger Salpetersäure und
anschließendem Waschen mit Wasser. Die Aluminiumplatte
wurde dann einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung
in einer wäßrigen 1%igen Salpetersäurelösung
bei einer Anodenelektrizität von 160 Cb/dm²
unter Verwendung eines Wechselstroms mit V A = 12,7 V
ausgesetzt. Es wurde die Oberflächenrauhheit bestimmt.
Sie betrug 0,6 µm, ausgedrückt als Ra. Anschließend
wurde die Aluminiumplatte durch Eintauchen in eine
wäßrige 30%ige Schwefelsäurelösung bei 55°C über 2 min
gereinigt (desmutted) und danach in einer wäßrigen
20%igen Schwefelsäurelösung bei einer Stromdichte von
2 A/dm² anodisiert, um die Dicke auf 2,7 g/m² zu verringern.
Es wurde eine lichtempfindliche Schicht gebildet durch
Aufbringen auf die so behandelte Oberfläche der Aluminiumplatte
einer lichtempfindlichen Flüssigkeit mit der
folgenden Zusammensetzung, so daß die darauf aufgebrachte
Beschichtungsmenge 1,5 g/m² (Trockengewicht) betrug,
und anschließend wurde getrocknet.
Komponenteverwendete Menge (g)
Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether2,0
Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis = 80/20)2,0
PhotopolymerisationsinitiatorX
(siehe Tabelle I) Kupferphthalocyaninpigment0,2 nichtionisches fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel (hergestellt und
vertrieben von 3M Corp. unter dem Handelsnamen FLUORAD FC 430)0,03 Methylethylketon20 Propylenglykolmonomethyletheracetat20
(siehe Tabelle I) Kupferphthalocyaninpigment0,2 nichtionisches fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel (hergestellt und
vertrieben von 3M Corp. unter dem Handelsnamen FLUORAD FC 430)0,03 Methylethylketon20 Propylenglykolmonomethyletheracetat20
Auf die so gebildete lichtempfindliche Schicht wurde
eine wäßrige Lösung aus 3 Gew.-% Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad:
86,5 bis 89 Mol-%; Polymerisationsgrad: 1000)
aufgebracht, so daß das Trockengewicht davon 2 g/m²
betrug, und anschließend wurde bei 100°C über 2 min
getrocknet.
Es wurde ein Test zur Bestimmung der Empfindlichkeit
gegenüber sichtbarem Licht unter Verwendung von monochromatischem
Licht, d. h. sichtbarem Licht (Wellenlänge
488 nm) und Licht aus einem Ar⁺-Laser (Wellenlänge
488 nm), durchgeführt. Das monochromatische Licht,
sichtbares Licht von 488 nm, wurde erhalten durch Filtern
des Lichts aus einer Wolframlampe durch einen Filter
(Kento Optical Filter BP49). Die Messung der Empfindlichkeit
wurde durchgeführt unter Verwendung von Fuji PS
Step Guide (hergestellt und vertrieben von Fuji Photo
Film Co., Ltd.; Stufentablette (step tablet) mit 15 Stufen,
wobei die optische Transmissionsdichte der ersten
Stufe 0,05 und der Dichteunterschied zwischen zwei
benachbarten Stufen 0,01 war). Die lichtempfindliche
Schicht wurde monochromatischem sichtbarem Licht von
488 nm über 120 s ausgesetzt, so daß die Intensität der
Bestrahlung 25 Lux auf den Bildbereichen betrug, und die
erhaltende Zahl der klaren Stufe des PS Step Guide, die
nach der Entwicklung beobachtet wurden, ist in Tabelle
I angegeben.
Die Laserstrahlen waren die einzelne Linie eines Ar⁺-
Lasers von 488 nm (Ar⁺-Laser Modell 95-3; erhältlich von
Lexel Corporation), und seine Strahlgröße betrug 100 µm.
Die Laserstrahlen wurden auf der lichtempfindlichen
Schicht abgetastet, während die Stärke des Ar⁺-
Lasers (ein ND-Filter wurde verwendet) geändert wurde. Nach der
Entwicklung wurde die erhaltene Linienbreite gemessen.
Die Empfindlichkeit wurde als Stärke des Ar⁺-Lasers zur
Zeit, wenn die Linie einer Breite von 100 µm reproduziert
wurde, definiert, und die erhaltenen Ergebnisse
sind in Tabelle I angegeben.
Die Entwicklung der belichteten lichtempfindlichen
Schicht wurde durch Eintauchen in das Entwicklungsmittel
mit der folgenden Zusammensetzung bei 25°C über 1 min
durchgeführt.
KomponenteMenge (g)
1K Kaliumsilicat 30
Kaliumhydroxid 15
Verbindung A 3
Wasser1000
Verbindung A:
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, wenn verschiedene
Arten von Polymerisationsinitiatorsystemen verwendet
wurden, sind in Tabelle I angegeben.
Wie aus den Ergebnissen der Tabelle I ersichtlich ist,
wird gefunden, daß die Zusammensetzungen der Beispiele 1
bis 6 eine äußerst hohe Empfindlichkeit aufweisen, verglichen
mit denen der Vergleichsbeispiele 1 bis 9.
Es wurde eine Druckplatte durch Aufbringen der folgenden
lichtempfindlichen Flüssigkeit mit der folgenden Formulierung
auf eine Aluminiumplatte, die gemäß dem Verfahren
nach den Beispielen 1 bis 6 behandelt worden war,
mit der Ausnahme, daß anstelle des Aussetzens einer
Anodisierungsbehandlung in einer wäßrigen 20%igen H₂SO₄-
Lösung, die Platte in einer wäßrigen 5%igen Phosphorsäurelösung
bei einer Stromdichte von 2 A/dm² über 2 min
anodisiert wurde, um ihre Dicke auf 0,8 g/m² zu verringern,
und dann in einer wäßrigen 3%igen Natriumsilicatlösung
bei 70°C über 10 s behandelt wurde, hergestellt.
Formulierung der lichtempfindlichen Flüssigkeit
Pentaerythrittetraacrylat1,5 g
Benzylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis 65/35)3,0 g
PhotopolymerisationsinitiatorX g
(siehe Tabelle II) Kupferphthalocyaninpigment0,2 g nichtionisches fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel (hergestellt und
vertrieben von 3M Corporation unter dem Handelsnamen FLUORAD FC-430)0,03 g Methylethylketon20 g Propylenglykolmonomethyletheracetat20 g
(siehe Tabelle II) Kupferphthalocyaninpigment0,2 g nichtionisches fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel (hergestellt und
vertrieben von 3M Corporation unter dem Handelsnamen FLUORAD FC-430)0,03 g Methylethylketon20 g Propylenglykolmonomethyletheracetat20 g
Die Beschichtungsmenge der Zusammensetzung betrug
1,5 g/m² (Trockengewicht). Wie in den Beispielen 1 bis 6
wurde eine sauerstoffabschirmende Schicht aus Polyvinylalkohol
auf der lichtempfindlichen Schicht gebildet, die
erhaltene lichtempfindliche Schicht wurde auf die
gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 6 belichtet
und dann entwickelt. Die Entwicklung wurde durchgeführt
durch Eintauchen in das Entwicklungsmittel, offenbart in
der JP-PS 56-42 860, das die folgende Zusammensetzung besaß,
bei 25°C über 1 min, um die nichtbelichteten Bereiche
zu entfernen:
Natriumsulfit 3 g
Benzylalkohol 30 g
Triethanolamin 20 g
Monoethanolamin 5 g
Natrium-tert.-butylnaphthalinsulfonat (hergestellt und vertrieben von
Kao Atras Co., Ltd. unter dem Handelsnamen PEREX NBL) 30 g Wasser1000 g
Kao Atras Co., Ltd. unter dem Handelsnamen PEREX NBL) 30 g Wasser1000 g
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, wenn verschiedene
Arten von Polymerisationsinitiatorsystemen
verwendet wurden, sind in Tabelle II angegeben.
Wie aus den Ergebnissen der Tabelle II ersichtlich ist,
wird gefunden, daß die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen
der Beispiele 7 bis 9 eine äußerst hohe
Empfindlichkeit aufweisen, verglichen mit denen der
Vergleichsbeispiele 10 bis 15.
Claims (18)
1. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, die wenigstens
eine polymerisierbare Verbindung mit wenigstens
einer ethylenisch ungesättigten Bindung und
wenigstens einen Photopolymerisationsinitiator und
gegebenenfalls wenigstens ein lineares organisches
Polymer mit hohem Molekulargewicht umfaßt, dadurch
gekennzeichnet, daß der Photopolymerisationsinitiator
wenigstens eine 2,4,6-substituierte-1,3,5-
Triazinverbindung der folgenden allgemeinen Formel
(I)
worin X, Y und Z jeweils eine Alkylgruppe, eine
substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine
substituierte Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe
bedeuten mit der Maßgabe, daß diese gleich oder verschieden
sein können und daß wenigstens einer dieser
Substituenten einen Mono-, Di- oder Trihalogenmethylgruppe
sein sollte,
und wenigstens eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (II) worin R₁ bis R₄ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Arylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine substituierte Alkoxygruppe, eine Aminogruppe oder eine substituierte Aminogruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß R₁ bis R₄ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können;
R₅ und R₆ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Arylgruppe, eine heteroaromatische Gruppe, eine Acylgruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Carboxylgruppe oder eine substituierte Alkenylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß R₅ und R₆ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können;
X ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, NH oder ein zweiwertiges Stickstoffatom mit einem Substituenten bedeutet; und G₁ und G₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine substituierte Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine substituierte Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine substituierte Acylgruppe, eine Arylcarbonylgruppe, eine substituierte Arylcarbonylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe oder eine Fluorsulfonylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß G₁ und G₂ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können und daß G₁ und G₂ nicht gleichzeitig ein Wasserstoffatom sein können,
umfaßt.
und wenigstens eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (II) worin R₁ bis R₄ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Arylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine substituierte Alkoxygruppe, eine Aminogruppe oder eine substituierte Aminogruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß R₁ bis R₄ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können;
R₅ und R₆ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Arylgruppe, eine heteroaromatische Gruppe, eine Acylgruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Carboxylgruppe oder eine substituierte Alkenylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß R₅ und R₆ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können;
X ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, NH oder ein zweiwertiges Stickstoffatom mit einem Substituenten bedeutet; und G₁ und G₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom, eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine substituierte Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine substituierte Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine substituierte Acylgruppe, eine Arylcarbonylgruppe, eine substituierte Arylcarbonylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe oder eine Fluorsulfonylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß G₁ und G₂ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen nichtmetallischen Ring bilden können und daß G₁ und G₂ nicht gleichzeitig ein Wasserstoffatom sein können,
umfaßt.
2. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der polymerisierbaren Verbindung
mit wenigstens einer ethylenisch ungesättigten Bindung
im Bereich von 5 bis 50 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.
3. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
2, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der polymerisierbaren Verbindung
mit wenigstens einer ethylenisch ungesättigten Bindung
im Bereich von 10 bis 40 Gew.-% liegt.
4. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Verbindung der allgemeinen Formel
(II) die Alkylgruppe in den Substituenten R₁ bis R₆
1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzt, die Arylgruppe
darin 6 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, die Alkoxygruppe
in den Substituenten R₁ bis R₄ 1 bis 6 Kohlenstoffatome
besitzt; die substituierte Aminogruppe
darin eine Alkylaminogruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen
oder eine Arylaminogruppe mit 6 bis 20
Kohlenstoffatomen ist, wobei diese Alkyl-, Aryl-,
Alkoxy-, Alkylamino- und Arylaminogruppen Substituenten
besitzen können, die aus Halogenatomen,
Alkoxycarbonylgruppen, Alkoxygruppen, Arylgruppen
und Cyanogruppe gewählt werden;
daß die Verbindung (II), einschließlich des nichtmetallischen Rings, der durch R₁ bis R₄ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, gebildet wird, eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formeln (A), (B) oder (C) ist: worin die Acylgruppe in den Substituenten R₅ und R₆ eine solche mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder einer Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen ist, die Alkoxycarbonylgruppe darin eine solche mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist; die substituierte Alkenylgruppe 2 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt; die heteroaromatische Gruppe eine Gruppe der folgenden Formeln (D), (E) oder (F) ist,
die Verbindung (II), einschließlich des nichtmetallischen Rings, der aus R₅ und R₆ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die diese gebunden sind, gebildet wird, eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (G) ist, worin die Substituenten die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzen; worin der Substituent für das Stickstoffatom in der Definition von X aus solchen gewählt wird, wie sie als Substituenten für die Alkyl- oder Arylgruppe für R₁ bis R₆ vorstehend definiert sind.
daß die Verbindung (II), einschließlich des nichtmetallischen Rings, der durch R₁ bis R₄ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, gebildet wird, eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formeln (A), (B) oder (C) ist: worin die Acylgruppe in den Substituenten R₅ und R₆ eine solche mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder einer Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen ist, die Alkoxycarbonylgruppe darin eine solche mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist; die substituierte Alkenylgruppe 2 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt; die heteroaromatische Gruppe eine Gruppe der folgenden Formeln (D), (E) oder (F) ist,
die Verbindung (II), einschließlich des nichtmetallischen Rings, der aus R₅ und R₆ zusammen mit den Kohlenstoffatomen, an die diese gebunden sind, gebildet wird, eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (G) ist, worin die Substituenten die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzen; worin der Substituent für das Stickstoffatom in der Definition von X aus solchen gewählt wird, wie sie als Substituenten für die Alkyl- oder Arylgruppe für R₁ bis R₆ vorstehend definiert sind.
5. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen
Formel (II) G₁ und G₂ jeweils gleich oder verschieden
sein können und jeweils ein Wasserstoffatom,
eine Cyanogruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe mit
einer Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen,
eine Aryloxycarbonylgruppe mit einer Arylgruppe mit
6 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Acylgruppe mit 1
bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Arylcarbonylgruppe mit
7 bis 11 Kohlenstoffatomen, eine Alkylthiogruppe mit
1 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Arylthiogruppe mit 6
bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Arylsulfonylgruppe
mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Alkylsulfonylgruppe
mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder eine
Fluorsulfonylgruppe bedeuten, wobei diese Alkoxycarbonyl-,
Aryloxycarbonyl-, Acyl-, Arylcarbonyl-,
Alkylthio-, Arylthio-, Arylsulfonyl- und Alkylsulfonylgruppen
Substituenten besitzen können, die aus
Halogenatomen, Alkoxycarbonylgruppen mit einer
Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, einer
Carboxylgruppe, Arylgruppen mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen,
Alkoxygruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
einer Cyanogruppe oder Alkylgruppen mit 1
bis 6 Kohlenstoffatomen gewählt werden, und daß der
nichtmetallische Ring, der aus G₁ und G₂ zusammen
mit den Kohlenstoffatomen, an die diese gebunden
sind, gebildet wird, aus der Gruppe, bestehend aus
einem 1,3-Dicarbonylkern, einem Pyrazolinonkern,
einem Isoxazolinonkern, einem Oxyindolkern, einem
2,4,6-Triketohexahydropyrimidinkern, einem 2-Thio-
2,4-thiazolidindionkern, einem 2-Thio-2,4-oxazolidindionkern,
einem Thianaphthenonkern, einem
2-Thio-2,5-thiazolidindionkern, einem 2,4-Thiazolidindionkern,
einem Thiazolidinonkern, einem 4-Thiazolinonkern,
einem 2-Imino-2-oxozolin-4-onkern,
einem 2,4-Imidazolidindionkern, einem 2-Thio-2,4-
imidazolidindionkern, einem 2-Imidazolin-5-onkern
und einem Furan-5-onkern gewählt wird.
6. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des Photopolymerisationsinitiatorsystems
im Bereich von 0,01 bis 60 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der polymerisierbaren
ethylenisch ungesättigten Verbindung und des gegebenenfalls
zugegebenen linearen Polymers mit hohem
Molekulargewicht, liegt.
7. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
6, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des
Photopolymerisationsinitiatorsystems im Bereich von
1 bis 30 Gew.-% liegt.
8. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin
ein organisches Amin in einer Menge von etwa 50 bis
etwa 200 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
Photopolymerisationsinitiators, umfaßt.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin
eine Verbindung, die als Protonendonor dient, in
einer Menge von etwa 50 bis etwa 100 Gew.-%, bezogen
auf das Gesamtgewicht des Photopolymerisationsinitiators,
umfaßt.
10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß das lineare
organische Polymer mit hohem Molekulargewicht, das
gegebenenfalls zugegeben wird, in Wasser oder einer
schwach alkalischen wäßrigen Lösung löslich ist oder
in Wasser oder einer wäßrigen alkalischen Lösung
quellbar ist.
11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des
linearen organischen Polymers mit hohem Molekulargewicht
im Bereich von etwa 30 bis etwa 85 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung,
liegt.
12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
11, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis
der photopolymerisierbaren ethylenisch
ungesättigten Verbindung zu dem linearen organischen
Polymer mit hohem Molekulargewicht im Bereich von
0,5/9,5 bis 5/5 liegt.
13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
12, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis
zwischen den beiden Verbindungen im Bereich
von 1/9 bis 4/6 liegt.
14. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin
einen Wärmepolymerisationsinhibitor, gewählt aus der
Gruppe, bestehend aus Hydrochinon, p-Methoxyphenol,
Di-tert.-butyl-p-cresol, Pyrogallol, tert.-Butylcatechol,
Benzochinon, 4,4′-Thio-bis-(3-methyl-6-
tert.-butylphenol), 2,2′-Methylen-bis-(4-methyl-6-
tert.-butylphenol) und 2-Mercaptobenzoimidazol,
Cer(III)-N-nitrosophenylhydroxylamin, umfaßt.
15. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des Wärmepolymerisationsinhibitors
im Bereich von etwa 0,01
bis etwa 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
Zusammensetzung, liegt.
16. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin ein
höheres aliphatisches Säurederivat umfaßt.
17. Polymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des höheren
aliphatischen Säurederivats im Bereich von etwa 0,5
bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung, liegt.
18. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Farbstoff
oder ein Pigment in einer Menge von etwa 0,5 bis
etwa 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
photopolymerisierbaren Zusammensetzung, umfaßt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62007671A JPH0699496B2 (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3801065A1 true DE3801065A1 (de) | 1988-07-28 |
DE3801065C2 DE3801065C2 (de) | 1993-04-29 |
Family
ID=11672263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3801065A Granted DE3801065A1 (de) | 1987-01-16 | 1988-01-15 | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4810618A (de) |
JP (1) | JPH0699496B2 (de) |
DE (1) | DE3801065A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3926666A1 (de) * | 1988-08-11 | 1990-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche zusammensetzung und photopolymerisierbare zusammensetzung unter verwendung derselben |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5034156A (en) * | 1988-04-18 | 1991-07-23 | Mallinckrodt Specialty Chemicals Company | Method for inhibiting the polymerization of acrylic acid |
DE3830914A1 (de) * | 1988-09-10 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von kopien |
US4971892A (en) * | 1988-11-23 | 1990-11-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High sensitivity photopolymerizable composition |
US6010824A (en) * | 1992-11-10 | 2000-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same |
JPH08101498A (ja) | 1994-08-03 | 1996-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPH09269593A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
US6787286B2 (en) * | 2001-03-08 | 2004-09-07 | Shipley Company, L.L.C. | Solvents and photoresist compositions for short wavelength imaging |
DE10307451A1 (de) * | 2003-02-21 | 2004-09-16 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
JP4241418B2 (ja) | 2004-02-05 | 2009-03-18 | 富士フイルム株式会社 | 重合性平版印刷版 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
KR101222947B1 (ko) | 2005-06-30 | 2013-01-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인쇄용 용제, 및 그를 이용한 인쇄용 패턴 조성물 및 패턴 형성방법 |
US20080008957A1 (en) * | 2006-06-27 | 2008-01-10 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable elements |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
JP5264427B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5228631B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
US20110146516A1 (en) | 2008-08-22 | 2011-06-23 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
JP5405141B2 (ja) | 2008-08-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5171483B2 (ja) | 2008-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US20170240764A1 (en) * | 2014-09-05 | 2017-08-24 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive electroless plating undercoat agent |
EP3190207B1 (de) * | 2014-09-05 | 2019-05-08 | Nissan Chemical Corporation | Lichthärtbarer primer für stromlose abscheidung |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2850445A (en) * | 1955-01-19 | 1958-09-02 | Oster Gerald | Photopolymerization |
US2902356A (en) * | 1956-05-16 | 1959-09-01 | Du Pont | Certain 2-phenylimino, 3-alkyl oxazolidines, compositions and methods of use as herbicides |
US2927022A (en) * | 1956-07-09 | 1960-03-01 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements and processes of using same |
JPS4420189B1 (de) * | 1965-06-03 | 1969-08-30 | ||
JPS4537377B1 (de) * | 1965-06-03 | 1970-11-27 | ||
US3870524A (en) * | 1973-02-07 | 1975-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS5415521A (en) * | 1977-06-06 | 1979-02-05 | Hitachi Ltd | Liquid feeding device |
JPS54151024A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4147552A (en) * | 1976-05-21 | 1979-04-03 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive compositions with 3-substituted coumarin compounds as spectral sensitizers |
JPS5928328B2 (ja) * | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JPS5495687A (en) * | 1978-01-11 | 1979-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS6053300B2 (ja) * | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
US4289844A (en) * | 1979-06-18 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
US4366228A (en) * | 1980-09-05 | 1982-12-28 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
-
1987
- 1987-01-16 JP JP62007671A patent/JPH0699496B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-01-11 US US07/142,185 patent/US4810618A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-15 DE DE3801065A patent/DE3801065A1/de active Granted
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2850445A (en) * | 1955-01-19 | 1958-09-02 | Oster Gerald | Photopolymerization |
US2902356A (en) * | 1956-05-16 | 1959-09-01 | Du Pont | Certain 2-phenylimino, 3-alkyl oxazolidines, compositions and methods of use as herbicides |
US2927022A (en) * | 1956-07-09 | 1960-03-01 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements and processes of using same |
JPS4420189B1 (de) * | 1965-06-03 | 1969-08-30 | ||
JPS4537377B1 (de) * | 1965-06-03 | 1970-11-27 | ||
US3870524A (en) * | 1973-02-07 | 1975-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS5415521A (en) * | 1977-06-06 | 1979-02-05 | Hitachi Ltd | Liquid feeding device |
JPS54151024A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3926666A1 (de) * | 1988-08-11 | 1990-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche zusammensetzung und photopolymerisierbare zusammensetzung unter verwendung derselben |
DE3926666C2 (de) * | 1988-08-11 | 1998-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
DE3926666C5 (de) * | 1988-08-11 | 2005-07-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0699496B2 (ja) | 1994-12-07 |
US4810618A (en) | 1989-03-07 |
JPS63178105A (ja) | 1988-07-22 |
DE3801065C2 (de) | 1993-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3801065C2 (de) | ||
DE68921867T2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung. | |
DE69222234T2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung | |
DE3822921C2 (de) | ||
DE69327741T2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung | |
DE69618854T2 (de) | Fotopolymerisierbare Zusammensetzung | |
DE3822909C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
EP0332044B1 (de) | 4,6-Bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und lichtempfindliches Gemisch, das diese Verbindungen enthält | |
DE69509435T3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial | |
EP0364735B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE68921019T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzungen. | |
DE10356847B4 (de) | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente | |
DE60000524T2 (de) | Fotopolymerisierbare Zusammensetzung für kurzwellenlängige Halbleiterlaserbelichtung, lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Polymerisierung dieser Zusammensetzung | |
DE102004055733B3 (de) | Lithographie-Druckplattenvorläufer mit oligomeren oder polymeren Sensibilisatoren | |
DE19708201A1 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung | |
DE3834960A1 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung | |
JPS63258903A (ja) | 光重合性組成物 | |
EP0321828B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE3907666A1 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung | |
EP0355387B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE69616104T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung | |
EP0573805A1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
EP0321826B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE69621173T2 (de) | Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung | |
DE4129279A1 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP |