DE3788242T2 - Binäre logische Schaltung. - Google Patents
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Description
- Diese Erfindung befaßt sich mit integrierten Hochleistungs- Halbleiterschaltungen und insbesondere mit binären logischen Schaltungen, die für eine neue Familie von Hochleistungs-CMOS- Logikschaltungen eine Kombination aus komplementären Metalloxid- Halbleiter-Transistoren (CMOS-Transistoren) und einem Bipolartransistor verwenden.
- CMOS-Logikschaltungen sind zwar dicht gepackt und verbrauchen sehr kleine Energiemengen, besitzen jedoch eine geringere Leistung als bipolare logische Schaltungen. Ein großer Teil des Leistungsunterschieds zwischen CMOS-Logikschaltungen und bipolaren logischen Schaltungen resultiert aus der begrenzten Fähigkeit der CMOS-Schaltungen zur On-Chip-Kapazitätsansteuerung auf dem Chip. In einer CMOS-Schaltung, die als logisches Gatter arbeitet, werden normalerweise P-Kanal-Transistoren in Parallelschaltung und N-Kanal-Transitoren in Reihenschaltung angeordnet, um die Verzögerungen durch diese unterschiedlichen Vorrichtungen besser nahezu auszugleichen, da P-Kanal-Transistoren deutlich langsamer sind als N-Kanal-Transistoren. P-Kanal-Transistoren besitzen etwa 40% des Transferleitwerts von N-Kanal-Transistoren gleicher Größe. Bei hoher Ladekapazität wird in der CMOS- Technologie das logische Gatter oft mit einer zusätzlichen Stufe in Form eines Strominverters ausgestattet, um die Treiberfähigkeit zu verbessern.
- Beispielsweise aus DeWITT G. ONG: "Modern MOS Technology; Process, Devices, and Design", McGraw-Hill Book Company, 1984, S. 262-264, speziell Fig. 11-3, kennt man CMOS-NOR-Schaltungen mit mindestens ersten und zweiten Feldeffekttransistoren FETs eines ersten Kanal-Typs, die in Reihe zwischen einer ersten Spannungsquelle und einem ersten Schaltknotenpunkt geschaltet sind, und mit mindestens ersten und zweiten parallelgeschalteten FETs eines zweiten Kanal-Typs, die zwischen eine Bezugsspannungsquelle und den erwähnten ersten Schaltknoten geschaltet sind, und die ferner mindestens erste und zweite Eingangsanschlüsse besitzen, wobei der erste Eingangsanschluß mit den Steuerelektroden der ersten FETs vom ersten und zweiten Kanal- Typ verbunden ist, und wobei der zweite Eingangsanschluß mit den entsprechenden Steuerelektroden der zweiten FETs vom ersten und zweiten Kanal-Typ verbunden ist.
- Aus DE-A-35 04 930, Fig. 7, kennt man ein BiCMOS-NOR-Gatter, das ein CMOS-NOR-Gatter enthält, das eine bipolare Gegentaktausgangsstufe treibt, die zwei npn-Transistoren enthält. Die Basis des Pull-up-Transistors ist mit dem Ausgang eines CMOS- NOR-Gatters verbunden, und eine Diode ist zwischen Emitter und Basis des Pull-up-Transistors geschaltet. Das CMOS-NOR-Gatter enthält einen Schalttransistor, so daß die Funktion eines Phasenteilers gegeben ist.
- BiCMOS-Schaltungen, d. h. Schaltungen, die sowohl CMOS-Transistoren als auch Bipolartransistoren verwenden, sind wohlbekannt, z. B. wurden sie in der US-Patentschrift 3 636 372 vom 6. Dezember 1968 offenbart, worin eine Schaltung einen Bipolartransistor besitzt, der als Emitterfolger mit dem Ausgang eines CMOS-Inverters verbunden ist.
- In der US-Patentschrift 4 159 450 vom 22. Mai 1978 wird ein Paar Komplementär-Feldeffekttransistoren in einer Gegentakttreiberstufe offenbart, die ein Paar mit einem Ausgangsanschluß verbundener Komplementär-Bipolartransistoren besitzt. Auch die US- Patentschriften 4 301 383 vom 5. Oktober 1979 und 4 425 516 vom 1. Mai 1981 beschreiben Pufferschaltungen, die Komplementär- Feldeffekttransistoren mit Ausgängen in Anordnung einer bipolaren Emitterfolgerschaltung besitzen.
- Andere Treiberschaltungen, die hohe Kapazitätsladungen speisen, mit sowohl CMOS-Transistoren als auch Bipolartransistoren werden von W.B. Chin in "PUSH-PULL DRIVER USING BIPOLAR AND COMPLEMENTARY METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR DEVICES" im IBM Technical Disclosure Bulletin vom 11. April 1974, Band 16, Nr. 11, S. 3570 und 3571, sowie von W.D. Pricer in "COMBINATION CMOS/BIPOLAR DRIVER FOR HIGH CAPACITANCE" im Band 27, Nr. 4A vom September 1984, S. 1974 und 1975, gezeigt und beschrieben.
- Es ist Gegenstand dieser Erfindung, eine Familie verbesserter Hochleistungslogikschaltungen aus dichtgepackten, Niederleistungs-CMOS-Schaltungen zur Verfügung zu stellen, die zur Einspeisung hoher Kapazitätsladungen eingesetzt werden können, ohne eine oder mehrere zusätzliche Strominverter-Stufen zu verwenden. Es ist ein weiterer Gegenstand dieser Erfindung, die Geschwindigkeit und die Stromsteuerung von CMOS-Logikschaltungen zu erhöhen, ohne deren Größe bzw. Komplexität wesentlich zu erhöhen.
- Diese Aufgaben werden durch die Möglichkeiten von Anspruch 1 erreicht.
- Der vorhergehende und andere Gegenstände, Möglichkeiten und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden detaillierteren Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele der Erfindung deutlich, die in den beiliegenden Zeichnungen abgebildet sind, in denen
- Fig. 1 ein Schaltplan eines Ausführungsbeispiels der logischen Schaltung der vorliegenden Erfindung ist,
- Fig. 2 die Anordnung der in Fig. 1 abgebildeten Schaltung in einem Halbleitersubstrat ist,
- Fig. 3 ein Aufriß der Schaltung aus Fig. 1 entlang der Linie 3-3 aus Fig. 2 ist, und
- Fig. 4 ein Aufriß der Schaltung aus Fig. 1 entlang der Linie 4-4 aus Fig. 2 ist.
- Um auf die Zeichnungen genauer Bezug zu nehmen, wird in Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel der logischen Schaltung der vorliegenden Erfindung gezeigt, das eine NOR-Schaltung 10 mit einer Vielzahl von in Serie geschalteten P-Kanal-Feldeffekttransistoren 12, 14 und 16 und einer Vielzahl von parallelgeschalteten N-Kanal- Transistoren 18, 20 und 22 enthält, deren Source an Masse liegt. Ein Eingang A ist mit der Steuerelektrode bzw. dem Gatter des P- Kanal-Transistors 12 und der Steuerelektrode bzw. dem Gatter des N-Kanal-Transistors 22 verbunden, während ein Eingang B mit dem Steuergatter des P-Kanal-Transistors 14 und dem Steuergatter des N-Kanal-Transistors 18 und ein Eingang C mit den Steuergattern des P-Kanal-Transistors 16 und des N-Kanal-Transistors 20 verbunden ist. Die Source des P-Kanal-Transistors 12 ist mit einer Quellenspannung von +5 Volt verbunden. Eine erste Diode 24, vorzugsweise eine Schottky-Diode, ist zwischen den Drain des P-Kanal-Transistors 16 und die Drains der N-Kanal-Transistoren 18, 20 und 22 geschaltet. Eine zweite Diode 26, vorzugsweise eine weitere Schottky-Diode, ist zwischen die Drains der N- Kanal-Elektroden 18, 20 sowie 22 und einen Ausgangsanschluß 28 geschaltet. Der Kollektor eines NPN-Bipolartransistors 30 ist mit der Quellenspannung von +5 Volt verbunden, während dessen Emitter mit dem Ausgangsanschluß 28 und dessen Basis mit der Drain des P-Kanal-Transistors 16 verbunden ist. Eine kapazitive Last CLAST ist zwischen den Ausgangsanschluß 28 und Masse geschaltet.
- Fig. 2 der Zeichnungen ist eine Anordnung der in Fig. 1 dargestellten logischen Schaltung in einem Halbleitersubstrat 32, vorzugsweise Silicium mit P&supmin;-Leitung, auf das eine Isolationsschicht 34, vorzugsweise aus Siliciumdioxid, abgeschieden ist. Eine Wanne 36 mit N-Leitung wird im Substrat 32 durch eine beliebige, bekannte Verfahrenstechnik gebildet. Die Reihe der P-Kanal-Transistoren 12, 14 und 16 liegt in der Wanne 36 zwischen den Kontakten C1 und C2, wobei C1 mit der Quellenspannung von +5 Volt und C2 mit der Basis b des Bipolartransistors 30 verbunden, welcher ebenfalls im N-Schacht 36 liegt. Der Kontakt C3 ist mit dem Emitter e des Transistors 30 verbunden, während Kontakt C4 mit dem Kollektor c des Transistors 30 verbunden ist, wobei Kontakt C4 ebenfalls mit der Quellenspannung von +5 Volt verbunden ist.
- Die parallelgeschalteten N-Kanal-Transistoren 18, 20 und 22 sind auf das Siliciumsubstrat 32 vom P&supmin;-Typ abgeschieden, das einen Feldbereich in Form eines ausgesparten Oxids ROX besitzt, der zwischen den Transistoren 12, 14, 16 und 30 in der N-Wanne 36 und den N-Kanal-Transistoren 18, 20 und 22 liegt. Die Drains der Transistoren 18, 20 und 22 sind gemeinsam mit einem N&supmin;-Bereich verbunden, während die Source-Anschlüsse der Transistoren 18 und 22 mit einem gemeinsamen Kontakt C5 verbunden sind, wobei die Source des Transistors 20 mit Kontakt C6 verbunden ist und die Kontakte C5 und C6 an Masse (nicht abgebildet) liegen. Die Steuergatter der mit den Eingängen B bzw. A verbundenen Transistoren 18 bzw. 22 werden durch einen Bereich des ausgesparten Oxids ROX voneinander getrennt. Wie man der Fig. 2 entnehmen kann, sind die Steuergatter des P-Kanal-Transistors 12 und des N-Kanal-Transistors 22 Teil einer gemeinsamen, mit Eingang A verbundenen Leitungsbahn, während die Steuergatter des P-Kanal-Transistors 14 und des N-Kanal-Transistors 18 Teil einer gemeinsamen, mit Eingang B verbundenen Leitung sind und die Steuergatter des P-Kanal-Transistors 16 und des N-Kanal- Transistors 20 Teil einer gemeinsamen, mit Eingang C verbundenen Leitungsbahn sind. Die gemeinsamen, mit den Eingängen A, B und C verbundenen Leitungsbahnen bestehen vorzugsweise aus dotiertem Polysilicium. Der N&supmin;-Bereich 38 besitzt Kontakte C7 und C8, die aus einem beliebigen, geeigneten Material wie Aluminium bestehen können und die auf ihm abgeschieden sind, um die Schottky-Dioden 24 bzw. 26 zu bilden. Um die logische Schaltung aus Fig. 1 in der Anordnung der Fig. 2 zu vervollständigen, ist der Kontakt C2 an der Basis b des Bipolartransistors 30 mit dem Kontakt C7 an der Anode der ersten Diode 24 verbunden, während Kontakt C3 am Emitter e des Transistors 30 mit dem Kontakt C8 an der Anode der zweiten Diode 26 verbunden ist, und Kontakt C5 an den Source- Anschlüssen der N-Kanal-Transistoren 18 und 22 ist mit Kontakt C6 an der Source von N-Kanal-Transistor 20 verbunden. Diese Kontakte können bequem durch Abscheidung einer nicht abgebildeten, leitenden Metallschicht, z. B. Aluminium, und unter Verwendung wohlbekannter Maskierungs- und Ätztechniken miteinander verbunden werden.
- Fig. 3 der Zeichnungen ist ein Aufriß der in Fig. 2 abgebildeten Anordnung entlang deren Linie 3-3, der die P-Kanal-Transistoren 12, 14 und 16 zusammen mit dem Bipolartransistor 30 in der N- Wanne 36 zeigt. Wie aus Fig. 3 ersichtlich ist, enthält der Transistor 12 den Eingang bzw. die Steuerelektrode A, die von der Oberfläche der N-Wanne 36 durch die Siliciumdioxidschicht 34 getrennt ist, die P&spplus;-Source S1 und den P&spplus;-Drain S/D1, während Transistor 14 den Eingang bzw. die Steuerelektrode B, die P&spplus;- Source S/D1 und den P&spplus;-Drain S/D2 enthält und während Transistor 16 den Eingang bzw. die Steuerelektrode C, die P&spplus;-Source S/D2 und den P&spplus;-Drain D1 enthält. Der Bipolartransistor 30 enthält den N&spplus;/N&supmin;-Kollektor c, die P&spplus;/P&supmin;-Basis b und den N&spplus;-Emitter e.
- Fig. 4 der Zeichnungen ist ein Aufriß der in Fig. 2 abgebildeten Anordnung entlang deren Linie 4-4, der die N-Kanal-Transistoren 18 und 20 zusammen mit der ersten Schottky-Diode 24 zeigt, die im P&supmin;-Siliciumsubstrat gebildet sind. Wie aus Fig. 4 zu entnehmen ist, enthält der Transistor 18 den Eingang bzw. die Steuerelektrode B, die von der Oberfläche des P&supmin;-Siliciumsubstrats 32 durch die Siliciumdioxidschicht 34 getrennt ist, die N&spplus;-Source S2 und den N&spplus;-Drain D2, während Transistor 20 den Eingang bzw. die Steuerelektrode C, die N&spplus;-Source S3 und den N&spplus;-Drain D3 enthält. Die erste Schottky-Diode 24 enthält als Anode den Kontakt C7 und als Kathode den N&supmin;-Bereich 38.
- Aus den Fig. 2, 3 und 4 wird leicht ersichtlich, daß die logische Schaltung aus Fig. 1 in einen sehr kompakten Aufbau integriert werden kann, um so in einem Halbleitersubstrat eine hohe Packungsdichte dieser logischen Schaltungen zu erreichen.
- Wenn während des Betriebs der logischen Schaltung dieser Erfindung an jeden der Eingänge A, B und C eine binäre 1 oder ein hoher Spannungspegel, z. B. +5 Volt, angelegt werden, werden die Transistoren 18, 20 und 22 wieder durchlässig. Die Diode 26 hat so lange Durchgang, bis der Ausgang 28 bis auf einen Spannungsabfall der Diode gegenüber Masse entladen wird. Wenn an jeden der Eingänge A, B und C eine binäre 0 bzw. ein kleiner Spannungspegel, z. B. Null Volt, angelegt wird, werden die Transistoren 12, 14 und 16 wieder durchlässig, und Transistor 30 hat so lange Durchgang, bis an Ausgang 28 fast +5 Volt anliegen.
- Es ist zu erkennen, daß der hohe Serienwiderstand der P-Kanal- Transistoren, die mit dem relativ niederkapazitiven Knotenpunkt N verbunden sind, von dem großen Lastkondensator CLAST durch die Stromverstärkung des Bipolartransistors 30 abgekoppelt ist.
- Obwohl vorstehend ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung erläutert und beschrieben wurde, ist es selbstverständlich, daß viele andere logische Schaltungen hergestellt werden können, die in den Bereich dieser Erfindung fallen. Die logische Schaltung kann zum Beispiel nur zwei Eingänge A und B enthalten, wobei der P-Kanal-Transistor 16 und der N-Kanal- Transistor 20 aus der logischen Schaltung entfernt werden würden. Sofern gewünscht, könnten überdies die ersten und zweiten Schottky-Dioden 24 und 26 durch beliebige gewöhnliche oder normale Dioden mit P-N-Übergang ersetzt werden, wenngleich Schottky-Dioden bevorzugt werden, da sie eine niedrige Kapazität und eine niedrige Durchlaßspannung besitzen. Auf Wunsch kann auch die erste Diode 24 aus der logischen Schaltung entfernt werden, so daß der Drain des P-Kanal-Transistors 16 direkt mit den Drains der N-Kanal-Transistoren 18, 20 und 22 verbunden ist. Die Entfernung der ersten Diode 24 vermindert die Geschwindigkeit der Schaltung leicht, da das Vorhandensein dieser Diode 24 den Spannungshub an der Basis des NPN-Transistors 30 auf ein Minimum reduziert und für einen geringeren Stromverbrauch sorgt.
- Es ist auch selbstverständlich, daß die zweite Diode 26 für den Betrieb der logischen Schaltung aus Fig. 1 dadurch eine wichtige Rolle spielt, daß sie das direkte Treiben des Ausgangs 28 durch die N-Kanal-Transistoren gestattet und daß sie für einen schnelleren Betrieb während des Aufladens die Basis des NPN- Transistors 30 vom Lastkondensator isoliert.
- Es sei auch darauf hingewiesen, daß die Ladung CLAST am Ausgang durch die logische Schaltung, die nur einen CMOS-Inverter wie die Transistoren 16 und 20, den Bipolartransistor 30 und die zweite Diode 26 enthält, schnell geladen und entladen werden kann, wobei der P-Kanal-Transistor 16 durchschaltet, um den Lastkondensator durch den Bipolartransistor 30 zu laden, und wobei der N-Kanal-Transistor durchschaltet, um den Lastkondensator über die zweite Diode 26 und den N-Kanal-Transistor 20 zu entladen.
- Es ist zu erkennen, daß gemäß der Lehren dieser Erfindung logische Schaltungen, die eine Schaltungsklasse sind, beschrieben wurden, die in einem Halbleitersubstrat als dichtgepackte, Schwachstrom-Hochleistungs-CMOS-Schaltungen hergestellt werden können, die zur Einspeisung großer kapazitiver Ladungen eingesetzt werden können, ohne eine zusätzliche Strominverter Stufe zu verwenden.
Claims (3)
1. Binäre logische Schaltung aus einer CMOS-NOR-Schaltung mit
mindestens ersten und zweiten, hintereinandergeschalteten P-
Kanal-Feldeffekttransistoren (12, 14, 16), wobei die Source
des zweiten P-Kanal-Transistors (12) mit einer
Spannungsquelle verbunden ist,
mit mindestens ersten und zweiten parallelgeschalteten N-
Kanal-Feldeffekttransistoren (18, 20, 22), deren Source-
Anschlüsse an einer Bezugsspannung liegen und deren Drain-
Anschlüsse mit der Drain des ersten P-Kanal-Transistors (16)
verbunden sind, und
mit mindestens ersten und zweiten Eingangsanschlüssen (A, B,
C), wobei der erste Eingangsanschluß mit den
Steuerelektroden der ersten P-Kanal- und N-Kanal-Transistoren und
der zweite Eingangsanschluß mit den Steuerelektroden der
zweiten P-Kanal- und N-Kanal-Transistoren verbunden ist,
die erwähnte Schaltung, gekennzeichnet durch einen Bipolar-
NPN-Transistor (30), dessen Kollektor mit der erwähnten
Spannungsquelle verbunden, dessen Basis mit der Drain des
ersten P-Kanal-Transistors (16) verbunden ist,
erste und zweite Dioden (24, 26), wobei die erste Diode (24)
zwischen die Drains der ersten P-Kanal-Transistoren (16) und
N-Kanal-Transistoren (18, 20, 22) geschaltet ist und wobei
die zweite Diode (26) zwischen den Emitter des
Bipolartransistors (30) und die Drains der N-Kanal-Transistoren
(18, 20, 22) geschaltet ist,
mit einem Lastkondensator, der zwischen den Emitter des
Bipolartransistors (30) und die erwähnte Bezugsspannung
geschaltet ist, und
mit einem Ausgangsanschluß (28), der mit dem Emitter des
Transistors (30) verbunden ist.
2. Binäre logische Schaltung gemäß Anspruch 1, wobei die erste
Diode (24) eine Schottky-Diode ist.
3. Binäre logische Schaltung gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die
zweite Diode (26) eine Schottky-Diode ist.
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Families Citing this family (27)
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JPS62230221A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-08 | Toshiba Corp | バツフア回路 |
JPS6362411A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nec Corp | 半導体回路 |
JPS63153910A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-27 | Nec Corp | レベルシフト回路 |
US4800303A (en) * | 1987-05-19 | 1989-01-24 | Gazelle Microcircuits, Inc. | TTL compatible output buffer |
US4912347A (en) * | 1987-08-25 | 1990-03-27 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | CMOS to ECL output buffer |
EP0318624B1 (de) * | 1987-12-01 | 1993-11-10 | International Business Machines Corporation | Logische Schaltkreisfamilie von Multibasis-bi-CMOS |
US4806785A (en) * | 1988-02-17 | 1989-02-21 | International Business Machines Corporation | Half current switch with feedback |
US4871928A (en) * | 1988-08-23 | 1989-10-03 | Motorola Inc. | BICMOS driver circuit with complementary outputs |
JPH02143711A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Nec Corp | トランジスタ回路 |
US5001367A (en) * | 1989-04-14 | 1991-03-19 | Thunderbird Technologies, Inc. | High speed complementary field effect transistor logic circuits |
EP0426597B1 (de) * | 1989-10-30 | 1995-11-08 | International Business Machines Corporation | Bitdekodierungsschema für Speichermatrizen |
US5022010A (en) * | 1989-10-30 | 1991-06-04 | International Business Machines Corporation | Word decoder for a memory array |
US5068548A (en) * | 1990-05-15 | 1991-11-26 | Siarc | Bicmos logic circuit for basic applications |
US5055716A (en) * | 1990-05-15 | 1991-10-08 | Siarc | Basic cell for bicmos gate array |
US5111077A (en) * | 1990-06-19 | 1992-05-05 | Intel Corporation | BiCMOS noninverting buffer and logic gates |
US5113096A (en) * | 1990-06-19 | 1992-05-12 | Intel Corporation | BiCMOS circuit |
US5049765A (en) * | 1990-06-19 | 1991-09-17 | Intel Corporation | BiCMOS noninverting buffer and logic gates |
US5075571A (en) * | 1991-01-02 | 1991-12-24 | International Business Machines Corp. | PMOS wordline boost cricuit for DRAM |
US5247212A (en) * | 1991-01-31 | 1993-09-21 | Thunderbird Technologies, Inc. | Complementary logic input parallel (clip) logic circuit family |
US5283479A (en) * | 1991-04-30 | 1994-02-01 | Microunity Systems Engineering, Inc. | BiCMOS logic gate having plural linearly operated load FETs |
US5124580A (en) * | 1991-04-30 | 1992-06-23 | Microunity Systems Engineering, Inc. | BiCMOS logic gate having linearly operated load FETs |
US5245225A (en) * | 1992-04-24 | 1993-09-14 | International Business Machines Corporation | High performance BiFET complementary emitter follower logic circuit |
US5671397A (en) | 1993-12-27 | 1997-09-23 | At&T Global Information Solutions Company | Sea-of-cells array of transistors |
US6675361B1 (en) | 1993-12-27 | 2004-01-06 | Hyundai Electronics America | Method of constructing an integrated circuit comprising an embedded macro |
US5398000A (en) * | 1994-03-30 | 1995-03-14 | Intel Corporation | Simple and high speed BICMOS tristate buffer circuit |
JP3614210B2 (ja) * | 1994-06-10 | 2005-01-26 | アジレント・テクノロジーズ・インク | トライステート・バッファ |
US5777510A (en) * | 1996-02-21 | 1998-07-07 | Integrated Device Technology, Inc. | High voltage tolerable pull-up driver and method for operating same |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3217181A (en) * | 1962-09-11 | 1965-11-09 | Rca Corp | Logic switching circuit comprising a plurality of discrete inputs |
US3541353A (en) * | 1967-09-13 | 1970-11-17 | Motorola Inc | Mosfet digital gate |
JPS4836975B1 (de) * | 1967-12-06 | 1973-11-08 | ||
US4069428A (en) * | 1976-09-02 | 1978-01-17 | International Business Machines Corporation | Transistor-transistor-logic circuit |
US4159450A (en) * | 1978-05-22 | 1979-06-26 | Rca Corporation | Complementary-FET driver circuitry for push-pull class B transistor amplifiers |
JPS5545207A (en) * | 1978-09-26 | 1980-03-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | Complementary mos inverter circuit unit and its production |
US4321490A (en) * | 1979-04-30 | 1982-03-23 | Fairchild Camera And Instrument Corporation | Transistor logic output for reduced power consumption and increased speed during low to high transition |
US4301383A (en) * | 1979-10-05 | 1981-11-17 | Harris Corporation | Complementary IGFET buffer with improved bipolar output |
DE3274039D1 (en) * | 1981-02-25 | 1986-12-04 | Toshiba Kk | Complementary mosfet logic circuit |
US4425516A (en) * | 1981-05-01 | 1984-01-10 | Zytrex Corporation | Buffer circuit and integrated semiconductor circuit structure formed of bipolar and CMOS transistor elements |
JPH0783252B2 (ja) * | 1982-07-12 | 1995-09-06 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置 |
JPS5919435A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPS59196625A (ja) * | 1983-04-22 | 1984-11-08 | Nec Corp | 論理回路 |
JPS6021626A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-04 | Nec Corp | 出力回路 |
JPH0693626B2 (ja) * | 1983-07-25 | 1994-11-16 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置 |
JPS6059818A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-06 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPS60141018A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-26 | Nec Corp | バイポ−ラ−cmos混成集積回路 |
JPH0795395B2 (ja) * | 1984-02-13 | 1995-10-11 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路 |
DD225286A1 (de) * | 1984-06-04 | 1985-07-24 | Zentr Wissenschaft & Tech Veb | Integrierte schaltungsanordnung |
-
1986
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