DE3687749T2 - Photolack-behandlungsverfahren. - Google Patents

Photolack-behandlungsverfahren.

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DE3687749T2
DE3687749T2 DE19863687749 DE3687749T DE3687749T2 DE 3687749 T2 DE3687749 T2 DE 3687749T2 DE 19863687749 DE19863687749 DE 19863687749 DE 3687749 T DE3687749 T DE 3687749T DE 3687749 T2 DE3687749 T2 DE 3687749T2
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photoresist
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ultraviolet radiation
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exposed
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Yoshiki Mimura
Shinji Sugioka
Hiroko Suzuki
Shinji Suzuki
Kazuya Tanaka
Kazuyoshi Ueki
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Ushio Denki KK
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Ushio Denki KK
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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