DE3644354A1 - Optisches projektionssystem - Google Patents
Optisches projektionssystemInfo
- Publication number
- DE3644354A1 DE3644354A1 DE19863644354 DE3644354A DE3644354A1 DE 3644354 A1 DE3644354 A1 DE 3644354A1 DE 19863644354 DE19863644354 DE 19863644354 DE 3644354 A DE3644354 A DE 3644354A DE 3644354 A1 DE3644354 A1 DE 3644354A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- optical
- plane
- projection system
- image
- real
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 163
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 29
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 28
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/24—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/041—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with variable magnification
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein optisches Projektionssystem,
das zur Projizierung einer Objektebene, d. h. einer
Originalabbildung, auf eine Bildebene in optischen Geräten,
wie elektrophotographischen Kopier- und Faksimile-
Geräten, geeignet ist. Insbesondere bezieht sich die Erfindung
auf ein optisches Projektionssystem, das für die Projektion
einer Objektebene auf eine Bildebene mit verschiedenen
Vergrößerungen, einschließlich verkleinerter und vergrößerten
Maßstäbe, unter Verwendung eines sog. zusammengesetzten
Augensystems, in welchem eine Mehrzahl von aus
konvergierenden optischen Übertragern, Mikrolinsen od. dgl.
bestehenden Linsenelementen in Reihen angeordnet sind,
geeignet ist.
Bisher wird in optischen Geräten, wie elektrophotographischen
Kopier- und Faksimile-Geräten, eine Objektebene auf
eine Bildebene mit einer vorbestimmten Vergrößerung unter
Verwendung eines zusammengesetzten Augensystems projiziert.
Die Verwendung eines derartigen zusammengesetzten Augensystems
hat Vorteile insofern, als eine günstige optische
Leistung auf einfache Weise erhalten werden kann, weil der
Aufnahmebildwinkel einer Linse für die Projektion einer
vorgegebenen Bildebene klein sein kann, und insofern, als
die gesamte optische Länge, d. h. der Abstand von der Objekt-
zur Bildebene, kurz gemacht werden kann, was zum Ergebnis
hat, daß die gesamte Vorrichtung ohne Schwierigkeiten
kompakt ausgebildet werden kann. Als Aufnahmeverfahren
unter Verwendung dieses zusammengesetzten Augensystems werden
die folgenden beiden Verfahren angewendet: bei dem
einen wird zur Projektion einer Objektebene auf eine Bildebene
als eine aufrechte reelle Abbildung ein aufrechtes
reelles Abbildungssystem verwendet, während bei der anderen
ein umgekehrtes oder kopfstehendes reelles Abbildungsystem
zu deren Projektion auf eine Bildebene als eine umgekehrte
reelle Abbildung zur Anwendung kommt.
Zum relevanten Stand der Technik, von dem die Erfindung
ausgeht, wird auf die beigefügten
Fig. 1-5 sowie 6A und 6B Bezug genommen, die schematische
Darstellungen von Ausführungsformen von
Projektionssystemen nach dem Stand der Technik
zeigen.
Die beigefügte Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung
eines zusammengesetzten Augensystems der aufrechten Bauart
mit gleicher Vergrößerung von 1 : 1, das beispielsweise
durch die JP-Patent-OS Nr. 83 001/1980 vorgeschlagen wurde.
Das zusammengesetzte Augensystem 20 besteht aus einer Mehrzahl
von aufrechten reellen Abbildungssystemen 21, von
denen jedes durch einen konvergierenden optischen Übertrager,
Mikrolinsen od. dgl. gebildet ist. Der bestimmte Bereich
einer Objektebene 1 wird auf eine Bildebene 2 als
aufrechte gleichvergrößerte Bilder mittels des einzelnen
aufrechten Reellabbildungssystems projiziert, wobei eine
integrierte Abbildung dadurch erzeugt wird, daß die aufrechten,
gleichvergrößerten Bilder einander überdecken
oder überlappen. Als Ergebnis dessen kann eine große Objektebene,
die von einem unabhängigen aufrechten Reellabbildungssystem
nicht abgedeckt oder erfaßt werden kann,
auf die Bildebene projiziert werden. Das zusammengesetzte
Augensystem von Fig. 1 verwendet eine gleiche Aufnahmevergrößerung,
so daß das zusammengesetzte Augensystem derart
angeordnet wird, daß die optischen Achsen der jeweiligen
aufrechten Reellabbildungssysteme 21 zueinander parallel
werden und die jeweiligen Lichtstrahlen auf den optischen
Achsen die Objektebene 1 und die Bildebene 2 rechtwinklig
schneiden. Diese Anordnung ermöglicht die Erzeugung einer
integrierten Abbildung durch Überlappen der auf die Bildebene
mittels der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme
21 projizierten Abbildungen, d. h. die Erzeugung von sog.
Mehrfachabbildungen.
Wenn jedoch im Fall der Fig. 1 der Objektabstand verändert
wird, um das optische Projektionssystem in ein verkleinertes
oder vergrößertes System umzuwandeln, dann überlappen
sich die Mehrfachabbildungen, die durch die aufrechten
Reellbildsysteme gebildet wurden, auf der Bildebene nicht
gleichmäßig oder übereinstimmend und sind voneinander auf
Grund der Diskrepanz zwischen der vorbestimmten Vergrößerung
und der Vergrößerung eines Teils zwischen optischen
Achsen auf der Bildebene versetzt, was eine sog. "Fehlanpassung
von Abbildungen" zum Ergebnis hat. Diese Erscheinung
der Fehlanpassung von Abbildungen ruft eine erhebliche Abnahme
in der optischen Leistung eines projizierten Bildes
hervor.
Um dieses Problem zu bewältigen, wurde ein Verfahren zur
Kompensation der Fehlanpassung von Mehrfachabbildungen,
die auftritt, wenn unter Verwendung eines zusammengesetzten
Augensystems eine verkleinerte oder eine vergrößerte
Projektion ausgeführt wird, beispielsweise in der JP-Patent-
OS Nr. 16 415/1982 vorgeschlagen. Gemäß dieser Veröffentlichung
werden aufrechte Reellbildsysteme 31, die ein zusammengesetztes
Augensystem 30 bilden, in einer Mehrzahl derart
angeordnet, daß ihre optischen Achsen schrittweise mit
Bezug zur optischen Achse 311 des zentralen, aufrechten
Reellbildsystems 310 geneigt werden, womit ein Ausgleich
für die Fehlanpassung der Mehrfachabbildungen geschaffen
wird. Bei diesem zusammengesetzten Augensystem ändern sich
jedoch die optische Leistung und die optische Achsenlänge
(die optische Länge der optischen Achse von der Objekt-
zur Bildebene) in Abhängigkeit von jedem aufrechten Reellbildsystem.
Zusätzlich weichen bei diesem zusammengesetzten
Augensystem die Lichtstrahlen auf den optischen Achsen
der aufrechten Reellbildsysteme für eine Projektion der
Peripherie der Objektebene wesentlich von der Senkrechten
ab, wenn diese Strahlen die Objektebene und die Bildebene
schneiden. Aus diesem Grund ist im Fall eines aufrechten
Reellbildsystems 41, das unter einem beträchtlichen Winkel
geneigt ist, wie die Fig. 3 zeigt, die Objektebene, deren
Projektionsvergrößerung gleich ist, zur normalen Objektebene 1
geneigt und wird gleich der Objektebene 42.
Die Bildebene, deren Projektionsvergrößerung in gleichartiger
Weise gleich ist, erhält dabei eine Neigung gegenüber
der normalen Bildebene 2 und wird zur Bildebene 43. Demzufolge
tritt eine sog. "Veränderung in der Vergrößerung"
auf, wobei die Vergrößerung der Bilderzeugung teilweise
innerhalb eines Bildfeldes um einen Wert differiert, der
dem Unterschied in den Längen zwischen den Strahlengängen
l 41 und l 42 entspricht, wie die Fig. 3 zeigt.
Bei einem herkömmlichen optischen Projektionssystem, das
ein zusammengesetztes Augensystem verwendet, tritt diese
Änderung in der Vergrößerung auch dann auf, wenn für die
Fehlanpassung von Mehrfachabbildungen eine Kompensation
herbeigeführt wird, so daß es schwierig ist, ein projiziertes
Bild zu erhalten, das eine hohe optische Leistung bei
der Ausführung einer Projektion mit gegenüber der gleichen
Vergrößerung anderen Vergrößerungen hat.
Gemäß der gleichen Veröffentlichung ist man bemüht, die
Vergrößerungsänderung zu vermindern, indem eine einfallende
Endfläche oder Austrittsendfläche eines jeden aufrechten
Reellbildsystems dezentriert oder eine Brechkraft dieser
hinzugefügt wird. Bei einer solchen Ausbildung wird
jedoch das gesamte optische Projektionssystem kompliziert.
Theoretisch kann die optische Achse eines jeden der aufrechten
Reellbildsysteme nicht zur Objekt- und zur Bildebene
rechtwinklig sein. Deshalb bestehen Beschränkungen in Bezug
auf eine solche Kompensation, so daß es schwierig ist,
durch diese Maßnahmen die Änderung in der Vergrößerung im
wesentlichen zu überwinden.
Darüber hinaus wurden andere optische Projektionssysteme,
in denen die Fehlanpassung von Mehrfachabbildungen zur Zeit
der Ausführung einer verkleinerten oder vergrößerten Projektion
unter Verwendung eines zusammengesetzten Augensystems,
das aus einer Mehrzahl von aufrechten Reellbildystemen
besteht, korrigiert wird, beispielsweise in den JP-
Patent-OS'en Nr. 45 420/1984 und Nr. 2 16 115/1984 vorgeschlagen.
Wie die beigefügte Fig. 4 zeigt, sieht die JP-PatentOS
Nr. 45 420/1984 ein optisches Projektionssystem vor, bei
dem die Fehlanpassung von Mehrfachabbildungen durch eine
Anordnung kompensiert wird, bei der Lichtstrom-Ablenkelemente
52 und 53, die aus Fresnel-Linsen od. dgl. mit unterschiedlichen
Ablenkwinkeln für jedes aufrechte Reellbildsystem
gebildet sind, wenigstens auf der Seite der Objektebene 1
oder wenigstens auf der Seite der Bildebene 2 eines
zusammengesetzten Augensystems 50, das aus einer Mehrzahl
von aufrechten Reellbildsystemen 51 gebildet ist, angeordnet
werden.
Gemäß der JP-Patent-OS Nr. 2 16 115/1984 wird, wie die Fig. 5
zeigt, ein Projektionssystem vorgeschlagen, bei dem die
Fehlanpassung von Mehrfach-Abbildungen durch eine Anordnung
kompensiert wird, in der eine Vielzahl von sphärischen
Linsen 62, 63 wenigstens an der Seite der Objektebene 1
oder wenigstens an der Seite der Bildebene 2 eines zusammengesetzten
Augensystems 60, das aus einer Vielzahl von aufrechten
Reellbildsystemen 61 besteht, angeordnet werden.
Bei den beiden optischen Projektionssystemen nach den zwei
zuletzt genannten Vorschlägen sind die optischen Achslängen
der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme zueinander
verschieden und die optischen Achsen der aufrechten Reellbildsysteme
zur Projektion der Peripherie der Objektebene
wesentlich gegenüber der Objekt- sowie der Bildebene geneigt.
Folglich tritt, obwohl es möglich ist, die Fehlanpassung
der Mehrfachabbildungen zu kompensieren, wie oben beschrieben
wurde, die Änderung in der Vergrößerung auf, was
eine erhebliche Abnahme in der optischen Leistung einer
projizierten Abbildung hervorruft.
Zusätzlich tritt auch bei dem anderen Verfahren eines optischen
Projektionssystems, wobei ein umgekehrtes Reellbildsystem
verwendet wird, die "Fehlanpassung von Abbildungen"
und die "Abweichung in der Vergrößerung" aus gleichartigen
Gründen ebenfalls auf. Jedoch ist ein solches umgekehrtes
reelles Bildsystem imstande, die gesamte optische Länge
zu verkürzen, da eine Bilderzeugung im Vergleich zu der
zweimaligen Bilderzeugung, die für ein aufrechtes Reellbildsystem
notwendig ist, einmal bewirkt werden kann. Insofern
ist dem umgekehrten Reellbildsystem ein vorteilhaftes
Merkmal eigen, daß nämlich die gesamten optischen Systeme
vereinfacht werden können, womit die gesamte Apparatur
kompakt ausgebildet werden kann.
Ein derartiges umgekehrtes Reellbildsystem wird in vielen
Arten von elektrophotographischen Kopiergeräten verwendet.
Bei dem umgekehrten Reellbildsystem dreht das Objektbild
mit 180° auf der Bildebene, so daß es notwendig ist, auf
der Bildebene von den jeweiligen umgekehrten Reellbildsystemen
erzeugte Objektbilder unter Verwendung von Umlenkspiegeln
od. dgl. zu überlappen, um eine vorgegebene Beziehung
unter den Objektabbildungen beizubehalten.
Wenn beispielsweise ein auf der Objektebene 1 angeordnetes
Objekt 23 auf die Bildebene 2 unter Verwendung von zwei
umgekehrten Reellbildsystemen 221 und 222 projiziert wird,
wie die Fig. 6A zeigt, so tritt, falls ein bestimmter Bereich
der Objektebene 1 nur auf die Bildebene durch die
umgekehrten Reellbildsysteme 221, 222 projiziert wird,
eine sog. "Bild-Fehlanpassung durch Drehung" um 180° auf,
wobei eine durch das umgekehrte Reellbildsystem 221 erzeugte
Abbildung 24-1 und eine durch das umgekehrte Reellbildsystem
222 erzeugte Abb. 24-2 voneinander versetzt
sind, wie die Zeichnung zeigt.
Als Ergebnis dessen wird es unmöglich, ein Objektbild genau
zu projizieren. Deshalb wurde, wie die Fig. 6B zeigt, bisher
eine Anordnung vorgesehen, so daß die jeweiligen Objektbilder
26-1 und 26-2 einer Objektabbildung 26 genau auf
die Bildebene 2 unter Verwendung einer Mehrzahl von Bilddreheinrichtungen
25, wie Umlenkspiegel, projiziert werden.
Um jedoch Objekte 23-1, 23-2 auf der Bildebene 2 so anzuordnen,
daß die Objektbilder 26-1 und 26-2 erzeugt werden,
ist es notwendig, die Vielzahl der Umlenkspiegel in einer
komplizierten Weise anzuordnen, was zum Ergebnis hat, daß
die gesamte Apparatur dazu neigt, große Abmessungen zu erhalten.
Im Hinblick auf die obigen Ausführungen zum Stand der Technik
ist es die Aufgabe der Erfindung, ein optisches Projektionssystem
zu schaffen, das eine verbesserte optische Leistung
eines projizierten Bildes erreichen läßt, indem die
Fehlanpassung von Mehrfachabbildungen kompensiert und die
Änderung in einer Vergrößerung zu der Zeit, da eine Objektebene
mit anderen Vergrößerungen als der gleichen Vergrößerung,
einschließlich einer verkleinerten oder vergrößerten
Projektion, unter Verwendung eines aus einer Vielzahl von
aufrechten Reellbildsystemen oder umgekehrten Reellbildsystemen
bestehenden zusammengesetzten Augensystems projiziert
wird, vermindert oder beseitigt werden.
Ein Ziel der Erfindung ist es, ein optisches Projektionssystem
mit einer einfachen Anordnung zu schaffen, in dem,
wenn unter Verwendung eines aus einer Vielzahl von umgekehrten
Reellbildsystemen bestehenden zusammengesetzten Augensystems
die Objektebene projiziert wird, die 180°-Fehlanpassung
durch Drehung der Objektabbildung auf einfache
Weise kompensiert werden kann.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist darin zu sehen, ein
optisches Projektionssystem zu schaffen, in welchem die
Einstellung der optischen Systeme auf einfache Weise bewirkt
werden kann und das imstande ist, das Auftreten von verschiedenen
optischen Aberrationen, insbesondere der chromatischen
Aberration, unter Verwendung von beispielsweise
einem Umlenkspiegel zu vermindern.
In einem optischen Projektionssystem gemäß der Erfindung
wird eine solche Anordnung vorgesehen, daß, wenn die Objektebene
auf die Bildebene mit einer vorgegebenen Vergrößerung
unter Verwendung eines zusammengesetzten Augensystems aus
einer Vielzahl von aufrechten Reellbildsystemen oder umgekehrten
Reellbildsystemen projiziert und überlappt wird,
die jeweiligen Lichtstrahlen auf den optischen Achsen der
Vielzahl der aufrechten Reellbildsysteme im wesentlichen
einen rechten Winkel zu wenigstens entweder der Objekt-
oder der Bildebene mittels einer Ablenkeinrichtung, die
eine Vielzahl von optischen Elementen zur Ablenkung eines
Lichtstroms hat, angeordnet werden.
In einem optischen Projektionssystem gemäß der Erfindung
wird eine derartige Anordnung vorgesehen, daß, wenn unter
Verwendung eines zusammengesetzten Augensystems mit einer
Mehrzahl von umgekehrten Reellbildsystemen die Objektebene
auf die Bildebene mit einer bestimmten Vergrößerung projiziert
und überlappt wird, die optischen Achsen der Vielzahl
der umgekehrten Reellbildsysteme sich in einem Raum
mittels einer Ablenkeinrichtung, die eine Vielzahl von optischen
Elementen zur Ablenkung eines Lichtstroms aufweist,
schneiden.
In Übereinstimmung mit einer Ausführungsform eines erfindungsgemäßen
optischen Projektionssystems wird eine Anordnung
derart vorgesehen, daß, wenn die Objektebene auf die
Bildebene mit einer vorgegebenen Vergrößerung unter Verwendung
eines zusammengesetzten Augensystems, das eine Vielzahl
von aufrechten oder umgekehrten reellen Bildsystemen
aufweist, projiziert und überlappt wird, die Vielzahl der
aufrechten oder umgekehrten Reellbildsysteme im wesentlichen
in der gleichen Ebene angeordnet wird und die jeweiligen
Lichtstrahlen auf den optischen Achsen der Vielzahl
der aufrechten oder umgekehrten Reellbildsysteme im wesentlichen
zu wenigstens entweder der Objekt- oder der
Bildebene rechtwinklig sind.
In Übereinstimmung mit einer weiteren Ausführungsform eines
erfindungsgemäßen optischen Projektionssystems wird eine
derartige Anordnung vorgesehen, daß, wenn die Objektebene
auf die Bildebene mit einer vorbestimmten Vergrößerung unter
Verwendung eines aus einer Vielzahl von Reellbildsystemen
bestehenden zusammengesetzten Augensystems projiziert
und überlappt wird, eine Vielzahl von Reihen von optischen
Elementen, in denen eine Vielzahl von optischen Elementen
für eine Ablenkung von Lichtströmen in Reihen in bestimmten
Richtungen angeordnet sind, in mehreren Stufen vorgesehen
wird, so daß die Punkte, an denen die optischen Achsen
der jeweiligen Reellbildsysteme die Objekt- und die Bildebene
schneiden, längs einer geraden Linie ausgerichtet
sind.
Entsprechend einer weiteren Ausführungsform eines optischen,
erfindungsgemäßen Projektionssystems wird eine derartige
Anordnung vorgesehen, daß, wenn die Objektebene auf
die Bildebene mit einer vorbestimmten Vergrößerung unter
Verwendung eines aus einer Vielzahl von reellen Bildsystemen
bestehenden Augensystems projiziert und überlappt wird,
eine Vielzahl von Reihen von optischen Einrichtungen, in
deren jeder eine Vielzahl von optischen Elementen zur Ablenkung
von Lichtströmen in Reihen in vorgegebenen Richtungen
angeordnet ist, vorgesehen wird, so daß eine Vielzahl
von länglichen Flächenbereichen an der Objektebene als eine
Vielzahl von länglichen Flächenbereichen an der Bildebene
erzeugt wird.
In Übereinstimmung mit einer noch anderen Ausführungsform
eines optischen Projektionssystems gemäß der Erfindung werden,
wenn die Objektebene auf die Bildebene mit einer vorbestimmten
Vergrößerung unter Verwendung eines aus einer
Vielzahl von reellen Bildsystemen bestehenden zusammengesetzten
Augensystems projiziert und überlappt wird, die
jeweiligen Lichtstrahlen auf den optischen Achsen der Vielzahl
von Reellbildsystemen unter den von der Objektebene
austretenden Lichtstrahlen zu zueinander parallelen Lichtstrahlen
gemacht, die parallelen Lichtstrahlen anschließend
zu nicht-parallelen Lichtstrahlen gemacht, die Lichtstrahlen
dazu gebracht, einander in einem Raum zu schneiden,
und die nicht-parallelen Lichtstrahlen zu parallelen
Lichtstrahlen mit einem Abstand (Teilung), der (die) unterschiedlich
von demjenigen der oben genannten parallelen
Lichtstrahlen ist, gemacht, so daß sie zur Bildfläche gelenkt
werden, und zwar mit Hilfe einer Ablenkeinrichtung,
die eine Vielzahl von optischen Elementen zur Ablenkung
von Lichtströmen aufweist.
Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
erläutert. Es zeigen:
Fig. 7, 8 und 9 eine erste Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 10, 11, 12 und 13 eine zweite Ausführungsform gemäß
der Erfindung;
Fig. 14 eine dritte erfindungsgemäße Ausführungsform;
Fig. 15 und 16 eine vierte Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 17 und 18 eine fünfte Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 19-24 eine sechste Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 25A und 25B eine siebente Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 26A und 26B eine achte Ausführungsform gemäß der
Erfindung;
Fig. 27A, 27B und 27C eine neunte erfindungsgemäße Ausführungsform.
Die Fig. 7 zeigt schematisch eine Ausführungsform, wenn
das optische Projektionssystem gemäß der Erfindung als Verkleinerungssystem
ausgebildet ist. Es sind eine Objektebene 1,
eine Bildebene 2 und ein aus einer Vielzahl von aufrechten
Reellbildsystemen 111, 112, 113, . . . bestehendes
zusammengesetztes Augensystem 100 gezeigt.
Die Punkte A 2, B 2, C 2, . . . und die Punkte A 3, B 3, C 3, . . .
bezeichnen jeweils Stellen, an denen optische Elemente
zur Ablenkung von Lichtströmen, die durch die jeweiligen
aufrechten Reellbildsysteme treten, in Reihen angeordnet
sind. Insbesondere sind bei dieser Ausführungsform die optischen
Elemente durch Umlenkelemente gebildet und mit einer
vorbestimmten Neigung angeordnet.
Bei dieser Ausführungsform wurden übrigens die Umlenkspiegel
aus Gründen einer Vereinfachung weggelassen und nur
die Strahlengänge der Lichtstrahlen auf den optischen Achsen
der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme gezeigt.
Es ist darauf hinzuweisen, daß das auch für alle anderen,
nachfolgend noch zu beschreibenden Ausführungsformen gilt.
Bei der in Rede stehenden Ausführungform ist eine Vielzahl
von optischen Elementen in Reihen entlang der Punkte
A 2, B 2, C 2, . . . und A 3, B 3, C 3, . . . jeweils angeordnet,
die als Ablenkeinrichtungen dienen.
Die Punkte A 1, B 1, C 1, . . . auf der Objektebene 1 und die
Punkte A 4, B 4, C 4, . . . auf der Bildebene 2 bezeichnen Stellen,
an denen Lichtstrahlen L 1, L 2, L 3, . . . auf den optischen
Achsen der aufrechten Reellbildsysteme 111, 112,
113, . . . jeweils die Ebenen schneiden.
Die Neigung der Ablenkspiegel, die an den Punkten A 2-E 2
angeordnet sind, wird in geeigneter Weise festgesetzt, um
zu gewährleisten, daß die jeweiligen Lichtstrahlen
L 1-L 5, die von der Objektebene 1 austreten und die Punkte
A 2-E 2 erreichen, zu zueinander parallelen Lichtstrahlen
werden.
Diese Lichtstrahlen L 1-L 5 werden nach ihrer Reflexion
durch die Umlenkspiegel, die an den Stellen A 2-E 2 angeordnet
sind, zu zueinander nicht-parallelen Lichtstrahlen
gemacht und jeweils zu den entsprechenden aufrechten Reellbildsystemen
111-115 gelenkt. Anschließend werden durch
geeignete Einstellung der Neigung der an den Punkten
A 3-E 3 vorgesehenen Umlenkspiegel die nicht-parallelen
Lichtstrahlen, die aus den aufrechten Reellbildsystemen
111-115 austreten, auf die Bildebene 2 als parallele
Lichtstrahlen gelenkt, die zu den Abständen der von der
Objektebene 1 austretenden parallelen Lichtstrahlen unterschiedliche
Abstände oder Teilungen haben.
Auf diese Weise werden bei dieser Ausführungsform die Abstände
der parallelen Lichtstrahlen in Übereinstimmung mit
der Projektionsvergrößerung zum Zeitpunkt, da die Lichtstrahlen
L 1-L 5 jeweils die Objektebene 1 und die Bildebene 2
in einem parallelen Zustand schneiden, verändert,
so daß eine gewünschte Projektionsvergrößerung ohne Schwierigkeiten
zu erhalten ist. Ein bestimmter Bereich der Objektebene 1,
z. B. ein Teil der Objektebene in der Nachbarschaft
des Punkts C 1, wird bei dieser Ausführungsform durch
den am Punkt C 3 angeordneten Umlenkspiegel mittels des aufrechten
Reellbildsystems 113 über den am Punkt C 2 angeordneten
Umlenkspiegel mit einer vorbestimmten Neigung reflektiert
und dann mit einem verkleinerten Maßstab in der Nachbarschaft
des Punkts C 4 auf die Bildebene 2 projiziert.
Die Punkte C 1, C 2, C 3 und C 4 sind bei dieser Ausführungsform
so angeordnet, daß sie in der gleichen Ebene liegen.
Diese Anordnung gewährleistet, daß die Orte der optischen
Achsen der aufrechten Reellbildsysteme in derselben Ebene
liegen und daß die durch die aufrechten Reellbildsysteme
projizierten Bilder keine Relativdrehung, die eine "Fehlanpassung
durch Drehung" zum Ergebnis hat, ausführen. Die
oben erläuterte Anordnung gilt auch vollständig für die
anderen aufrechten Reellbildsysteme, wobei vorgegebene Bereiche
der Ojektebene 1 jeweils in einem verkleinerten
Maßstab auf die Bildebene projiziert werden.
Es ist zu bemerken, daß unter der Annahme einer Projektionsvergrößerung
m das Verhältnis eines Abstandes A 1, B 1 zwischen
den Punkten A 1 und B 1 auf der Objektebene 1 zu einem
Abstand A 4, B 4 zwischen den Punkten A 4 und B 4 auf der Bildebene 2
m-fach wird. Das gilt auch für die Abstände der
jeweils anderen Punkte.
In dem in Fig. 7 gezeigten Koordinatensystem können die
Koordinaten von beispielsweise den Punkten B 1, B 2, B 3 und
B 4 folgendermaßen ausgedrückt werden:
B 1 = (x · 1/2 · h/2)
B 2 = (x · 1/2 ·-h 1)
B 3 = (mx · -1/2 · h 2)
B 4 = (mx · -1/2 · -h/2)
B 2 = (x · 1/2 ·-h 1)
B 3 = (mx · -1/2 · h 2)
B 4 = (mx · -1/2 · -h/2)
Die Anordnung wird so getroffen, daß, wenn angenommen wird,
daß L die optische Achsenlänge eines aufrechten Reellbildsystems
ist, die Korrdinaten der Punkte B 2, B 3 in der
Z-Achsenrichtung die folgenden werden:
worin die optische Achsenlänge L als eine Funktion der Projektionsvergrößerung
m ausgedrückt wird und ihr Wert in
Abhängigkeit von der Projektionsvergrößerung m veränderlich
ist.
Bei dieser Ausführungsform werden durch die aufrechten
Reellbildsysteme erzeugte und auf die Bildebene projizierte
Bilder, d. h. die sog. Mehrfachabbildungen, dazu gebracht,
einander zu überlappen, indem die Ausgestaltungen
und die Neigung der in Vielzahl vorhandenen Umlenkspiegel,
die auf der Seite der Objektebene 1 und der Bildebene 2
angeordnet sind, verändert werden, so daß eine integrierte
Abbildung als Ganzes erzeugt wird, um die Fehlanpassung
der Abbildungen zu verhindern.
Darüber hinaus wird bei dieser Ausführungsform die Neigung
der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme und der Umlenkspiegel
derart festgesetzt, daß die Lichtstrahlen L 1-L 5
auf der optischen Achse der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme
die Objektebene 1 und die Bildebene 2 im wesentlichen
unter rechten Winkeln schneiden. Das heißt mit anderen
Worten, daß die Anordnung derart getroffen ist, daß
die Lichtstrahlen L 1-L 5 auf den optischen Achsen der jeweiligen
aufrechten reellen Bilder nach einem Umlenken
durch die Umlenkspiegel zueinander parallel werden und die
Objektebene 1 sowie die Bildebene 2 unter rechten Winkeln
schneiden.
Durch diese Anordnung wird das Auftreten einer "Änderung
in der Vergrößerung", die vorkommt, wenn die Lichtstrahlen
auf den optischen Achsen der aufrechten Reellbildsysteme
die Objektebene oder die Bildebene unter einer Neigung
schneiden, was im Zusammenhang mit Fig. 3 beschrieben
wurde, verhindert.
Die Fig. 8 zeigt eine Draufsicht auf die Fig. 7, während
die Fig. 9 eine Seitenansicht ist, die den Punkt C 1 auf
der Objektebene 1 und das aufrechte Reellbildsystem 113,
das in Fig. 7 gezeigt ist, einschließt.
Die in den Fig. 8 und 9 gezeigten Elemente sind zu den in
Fig. 7 mit dem gleichen Bezugszeichen bezeichneten Elementen
identisch.
Eine in Fig. 8 die Punkte A 1, B 1, C 1, . . . auf der Objektebene 1
verbindende gerade Linie D 11 und eine die Punkte
A 4, B 4, C 4, . . . auf der Bildebene 2 verbindende gerade
Linie D 41 sind zueinander parallel. Die einzelnen Elemente
sind derart angeordnet, daß bei einer Verlängerung der
optischen Achsen der in Vielzahl vorhandenen aufrechten
Reellbildsysteme 111, 112, 113, . . . diese Verlängerungen
sich in einem Punkt 0 in einer mehrstufigen Weise - gesehen
in einer zur Zeichnungsebene senkrechten Richtung -
oder einfach diesen Punkt in einem Raum schneiden.
Unter Verwendung der Abstände D 71, D 72 zwischen den in
Fig. 7 gezeigten geweiligen Elementen wird übrigens die
Projektionsvergrößerung m des optischen Projektionssystems
in diesem Fall folgendermaßen ausgedrückt:
m = D 72/D 71
Die in Vielzahl vorhandenen aufrechten Reellbildsysteme
sind bei dieser Ausführungsform jeweils aus identischen
Linsen gebildet. Aus diesem Grund sind die aufrechten
Reellbildsysteme jeweils dreidimensional in unterschiedlichen
Ebenen angeordnet, so daß ihre optischen Achsenlängen
identisch werden. Diese Anordnung ermöglicht es allen aufrechten
Reellbildsystemen, die Abbildungen unter den gleichen
Bedingungen zu projizieren, so daß für die jeweiligen
aufrechten Reellbildsysteme gleichförmige optische
Kennwerte gewährleistet werden.
Die Positionen A 2, B 2, C 2, . . . und die Posititonen A 3, B 3,
C 3, . . . der jeweiligen Umlenkspiegel können nach Wunsch
innerhalb des Bereichs, der die Gleichung (1) erfüllt,
festgesetzt werden, jedoch können die Positionen der anderen
Umlenkspiegel, wenn einmal die Positionen von einem
Satz der Umlenkspiegel festgesetzt sind, nacheinander dank
der Kennwerte der aufrechten Reellbildsysteme bestimmt
werden.
Die Fig. 10 zeigt schematisch ein weiteres optisches Projektionssystem
mit der Objektebene 1, der Bildebene 2 und
dem aus einer Mehrzahl von umgekehrten Reellbildsystemen
121, 122 bestehenden zusammengesetzten Augensystem 120.
Die Punkte A 2, B 2 und A 3, B 3 bezeichnen jeweils Positionen,
an denen optische Elemente zur Ablenkung von durch
die jeweiligen umgekehrten Reellbildsysteme tretenden
Lichtströmen in Reihen angeordnet sind. Bei dieser Ausführungsform
werden die optischen Elemente insbesondere durch
reflektierende Elemente gebildet, und sie sind mit einer
vorbestimmten Neigung angeordnet.
Auch hier sind die Umlenkspiegel weggelassen und nur die
Strahlengänge der Lichtstrahlen auf den optischen Achsen
der einzelnen umgekehrten Reellbildsysteme gezeigt.
Eine Vielzahl von optischen Elementen, die in Reihen längs
der Punkte A 2, B 2 und A 3, B 3 jeweils angeordnet sind,
dienen als eine Ablenkeinrichtung.
Die Punkte A 1, B 1 auf der Objektebene 1 und die Punkte
A 4, B 4 auf der Bildebene 2 bezeichnen Stellen, an denen
die Lichtstrahlen L 1, L 2 auf den optischen Achsen der
umgekehrten Reellbildsysteme 121, 122 jeweils die Ebenen
schneiden.
Ein bestimmter Bereich der Objektebene 1, z. B. ein Teil
der Objektebene 1 in der Nachbarschaft des Punkts B 1,
wird bei dieser Ausführungsform durch den am Punkt B 2 angeordneten
Umlenkspiegel reflektiert, durch das umgekehrte
Reellbildsystem 122 geführt und durch den an der Position
B 3 unter einer bestimmten Neigung angeordneten Umlenkspiegel
reflektiert, so daß er in der Nachbarschaft des Punkts
B 4 auf die Bildebene 2 projiziert wird. Die Punkte B 1,
B 2, B 3 und B 4 sind bei dieser Ausführungsform in der gleichen
Ebene angeordnet. Durch diese Anordnung wird gewährleistet,
daß die Orte der optischen Achsen der umgekehrten
Reellbildsysteme in der gleichen Ebene liegen und die durch
die Reellbildsysteme projizierten Bilder eine Relativdrehung
nicht ausführen, so daß eine "Fehlanpassung durch
Drehung" nicht auftritt. Die oben beschriebene Anordnung
gilt vollständig auch für die anderen umgekehrten Reellbildsysteme,
wobei bestimmte Bereiche der Objektebene 1
jeweils auf die Bildebene 2 projiziert werden.
Die Fig. 11 zeigt schematisch die Beziehungen einer Bilderzeugung.
Wie gezeigt ist, wird mit Bezug zu einem Teil
123-1 eines Objekts 123 auf der Objektebene 1 ein Objektbild
124-1 auf der Bildebene 2 mit Hilfe eines umgekehrten
Reellbildsystems 121 und einer durch Umlenkspiegel, die
an den Punkten A 2 sowie A 3 angeordnet sind, gebildeten
Umlenkeinrichtung erzeugt.
In gleichartiger Weise wird mit Bezug zu einem anderen
Teil 123-2 des Objekts 123 ein Objektbild 124-2 auf der
Bildebene 2 mit Hilfe des umgekehrten Reellbildsystems
122 und einer durch an den Punkten B 2, B 3 angeordneten
Umlenkspiegeln gebildeten Umlenkeinrichtung erzeugt.
Bei dieser Ausführungsform wird eine 180°-Fehlanpassung
einer Drehung der Teile 123-1 und 123-2 des Objekts, die
bei Anwendung von zwei umgekehrten Reellbildsystemen auftritt,
kompensiert, und es wird eine Bildaufnahme erhalten,
die derjenigen gleich ist, die man unter Verwendung
von einem umgekehrten Reellbildsystem erhält.
Es ist zu bemerken, daß unter der Annahme der Projektionsvergrößerung
m das Verhältnis eines Abstands A 1, B 1 zwischen
den Punkten A 1 und B 1 auf der Objektebene 1 zu einem
Abstand A 4, B 4 zwischen den Punkten A 4 und B 4 auf der Bildebene 2
m-fach wird. Das gilt auch für die Abstände der
anderen jeweiligen Punkte.
Bei dem in Fig. 10 gezeigten Koordinatensystem können die
Koordinaten von beispielsweise den Punkten B 1, B 2, B 3und
B 4 folgendermaßen ausgedrückt werden:
B 1 = (x · 1/2 · h/2)
B 2 = (x · 1/2 · -h/1)
B 3 = (-mx · -1/2 · h 2)
B 4 = (-mx · -1/2 · -h/2)
B 2 = (x · 1/2 · -h/1)
B 3 = (-mx · -1/2 · h 2)
B 4 = (-mx · -1/2 · -h/2)
Hierbei wird eine derartige Anordnung getroffen, daß, wenn
L als die optische Achsenlänge eines umgekehrten Reellbildsystems
angenommen wird, die Koordination der Punkte B 2
und B 3 in der Z-Achsenrichtung die folgenden werden:
worin die optische Achsenlänge L als eine Funktion der
Projektionsvergrößerung m ausgedrückt ist und ihr Wert
sich in Abhängigkeit von der Projektionsvergrößerung m
ändert.
Bei dieser Ausführungsform werden auf die Bildebene projizierte,
durch die umgekehrten Reellbildsysteme erzeugte
Abbildungen, d. h. die sog. Mehrfachabbildungen, dazu
gebracht, sich einander zu überlappen, indem die Ausgestaltungen
und die Neigung der in Vielzahl vorhandenen, auf
der Seite der Objektebene 1 und der Bildebene 2 angeordneten
Umlenkspiegel derart verändert werden, daß die optischen
Achsen der umgekehrten Reellbildsysteme einander
in einem Raum schneiden, d. h. in einer solchen Weise, daß
sich die optischen Achsen einander schneiden, wenn eine
Projektion dieser optischen Achsen an einer Ebene ausgeführt
wird. Dadurch wird ein integriertes Bild als Ganzes
erzeugt, so daß die Fehlanpassung der Bilder verhindert
wird.
Darüber hinaus wird bei dieser Ausführungsform die Neigung
der jeweiligen umgekehrten Reellbildsysteme und der Umlenkspiegel
derart festgesetzt, daß die Lichtstrahlen L 1-L 2
auf den optischen Achsen der jeweiligen umgekehrten Reellbildsysteme
die Objektebene 1 und die Bildebene 2 im wesentlichen
unter rechten Winkeln schneiden. Das bedeutet,
daß die Anordnung derart getroffen ist, daß die Lichtstrahlen
L 1-L 2 auf den optischen Achsen der jeweiligen umgekehrten
reellen Abbildungen nach ihrer Reflexion durch
die Umlenkspiegel zueinander parallel werden und die Objektebene 1
sowie die Bildebene 2 unter rechten Winkeln
schneiden. Diese Anordnung verhindert das Auftreten einer
"Veränderung in der Vergrößerung", auf die im Zusammenhang
mit Fig. 3 eingegangen worden ist.
Die Fig. 12 zeigt eine Draufsicht auf die Fig. 10, während
die Fig. 13 eine Seitenansicht der Fig. 10 zeigt.
Die in Fig. 12 und 13 dargestellten Elemente, die zu denen
der Fig. 10 identisch sind, sind mit denselben Bezugszeichen
bezeichnet.
In Fig. 12 sind eine die Punkte A 1, B 1 auf der Objektebene 1
verbindende gerade Linie D 1 und eine die Punkte
A 4, B 4 auf der Bildebene 2 verbindende gerade Linie
D 4 zueinander parallel. Die einzelnen Elemente sind derart
angeordnet, daß bei einer Verlängerung der optischen
Achsen der in Vielzahl vorhandenen umgekehrten Reellbildsysteme
121, 122 diese Verlängerung einen Punkt 0 in einer
mehrstufigen Weise oder einfach diesen Punkt in einem
Raum schneiden.
Unter Verwendung der Abstände D 41 und D 42 zwischen den
in Fig. 12 gezeigten jeweiligen Elementen wird in diesem
Fall die Projektionsvergrößerung m des optischen Projektionssystems
folgendermaßen ausgedrückt:
m = D 42/D 41.
Bei dieser Ausführungsform sind die in Mehrzahl vorhandenen
umgekehrten Reellbildsysteme jeweils durch identische
Linsen gebildet. Aus diesem Grund werden die umgekehrten
Reellbildsysteme jeweils dreidimensional in verschiedenen
Ebenen angeordnet, so daß ihre optischen Achsenlängen
identisch werden. Diese Anordnung ermöglicht es,
daß alle umgekehrten Reellbildsysteme die Abbildungen unter
den gleichen Bedingungen projizieren, so daß für die
jeweiligen umgekehrten Reellbildsysteme gleichförmige optische
Kennwerte gewährleistet werden.
Die Positionen A 2, B 2 und A 3 der jeweiligen Umlenkspiegel
können nach Wunsch innerhalb des die Gleichung
(2) erfüllenden Bereichs festgesetzt werden, jedoch können
die Positionen der anderen Umlenkspiegel, wenn die Positionen
von einem Satz der Umlenkspiegel einmal festgesetzt
sind, anschließend dank der Kennwerte der umgekehrten
Reellbildsysteme bestimmt werden.
Die oben beschriebene Ausführungsform bezieht sich auf
einen Fall, wonach Umlenkspiegel als optische Elemente
verwendet werden. Jedoch kann das Auftreten der Fehlanpassung
der Abbildungen und der Änderung in der Vergrößerung
in gleichartiger Weise verhindert werden, wenn eine Anordnung
vorgesehen wird, bei der, wie die Fig. 14 zeigt, der
Lichtstrahl L 1 auf der optischen Achse des aufrechten
Reellbildsystems 121 oder des umgekehrten Reellbildsystems
121 die Objektebene 1 und die Bildebene 2 unter rechten
Winkeln schneidet.
Bei den Ausführungsformen der Fig. 7 und 10 ist ein Fall
beschrieben, wobei die Änderung in der Vergrößerung vollständig
durch eine Anordnung kompensiert wird, bei der
ein Lichtstrahl auf der optischen Achse des aufrechten
oder umgekehrten Reellbildsystems die Objektebene und die
Bildebene unter rechten Winkeln schneidet. Wenn jedoch
eine geringfügige Änderung in der Vergrößerung zulässig
ist, kann eine solche Anordnung getroffen werden, daß ein
Lichtstrahl auf der optischen Achse wenigstens entweder
die Objektebene oder die Bildebene unter rechten Winkeln
oder im wesentlichen unter rechten Winkeln schneidet. Darüber
hinaus kann auch eine Anordnung vorgesehen werden
derart, daß der Lichtstrahl beide Ebenen unter einer geringen
Neigung schneidet.
Die Fig. 15 und 16 sind eine zu den Fig. 8 bzw. 9 gleichartige
Draufsicht bzw. Seitenansicht, wobei aufrechte
Reellbildsysteme 131-135 vorgesehen sind. Die Fig. 16
zeigt einen Fall, wobei der Lichtstrahl L 3 auf der optischen
Achse des aufrechten Reellbildsystems 133 die Objektebene 1
unter einem Winkel δ 1 und die Bildebene 2
unter einem Winkel δ 2 in einer zur Anordnungsrichtung
von Teilen auf der Objekt- oder Bildebene senkrechten Ebene
schneidet.
Übrigens kann bei den in den Fig. 15 und 16 gezeigten Ausführungsformen
von den beiden Ablenkeinrichtungen, die
jeweils durch eine Mehrzahl von Umlenkspiegeln gebildet
sind, eine Ablenkeinrichtung auf der Seite der Objektebene 1
oder der Bildebene 2 weggelassen werden.
Die Fig. 17 und 18 zeigen Ausführungsformen, wobei die
optischen Achsen oder deren Verlängerungen von umgekehrten
Reellbildsystemen 141 und 142 (s. auch Fig. 12 und 13)
winklig mit Bezug zur Objekt- sowie Bildebene in der zur
oben erwähnten Anordnungsrichtung rechtwinkligen Ebene
angeordnet sind. Die Fig. 18 zeigt einen Fall, wobei der
Lichtstrahl auf der optischen Achse des umgekehrten Reellbildsystems
die Objektebene 1 unter dem Winkel δ 1 und
die Bildebene 2 unter den Winkel δ 2 schneidet.
Bei den in Fig. 17 und 18 dargestellten Ausführungsformen
kann übrigens von den zwei durch die Vielzahl von Umlenkspiegeln
gebildeten Ablenkeinrichtungen eine auf der Seite
von Objektebene 1 oder auf der Seite der Bildebene 2
weggelassen werden.
Eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen optischen
Projektionssystems ist in Fig. 19 gezeigt, wobei
aufrechte Reellbildsysteme 151-154, die ein zusammengesetztes
Augensystem 150 bilden, in einer Ebene angeordnet
sind.
Bei dieser Ausführungsform wird eine Mehrzahl von aufrechten
Reellbildsystemen jeweils durch Linsen mit unterschiedlichen
optischen Kennwerten gebildet, und alle diese
Systeme 151-154 sind in derselben Ebene angeordnet.
Dadurch wird eine Vereinfachung der Anordnung gewährleistet.
Jede der optischen Achsenlängen der aufrechten
Reellbildsysteme 151-154 ist unterschiedlich, und die
optische Achsenlänge des aufrechten Reellbildsystems 153,
das im Zentrum angeordnet ist, ist die kürzeste, während
die optischen Achsenlängen eines aufrechten Reellbildsystems
länger wird, je näher dieses an der Peripherie liegt.
Die übrigen Ausbildungen der in Fig. 19 gezeigten Ausführungsform
sind im wesentlichen zu der in Fig. 7 gezeigten
Ausführungsform identisch.
Bei der in Fig. 20 gezeigten weiteren Ausführungsform
sind die ein zusammengesetztes Augensystem 160 bildenden
umgekehrten Reellbildsysteme 161-163 alle in einer Ebene
angeordnet, wodurch eine Vereinfachung der gesamten Anordnung
erreicht wird. Jede der optischen Achsenlängen der
Mehrzahl von umgekehrten Reellbildsystemen ist unterschiedlich,
wobei die Achsenlänge des im Zentrum angeordneten
Reellbildsystems 161 die kürzeste ist, während die Achsenlängen
bzw. die Strahlengänge jeweils länger werden, je
näher das betreffende umgekehrte Reellbildsystem zur Peripherie
angeordnet ist.
Wenngleich bei der Ausführungsform von Fig. 20 die Anzahl
der umgekehrten Reellbildsysteme zu der Ausführungsform
von Fig. 10 unterschiedlich ist, so sind die übrigen Ausbildungen
grundsätzlich identisch zur in Fig. 19 gezeigten
Ausbildung.
Die Fig. 21 zeigt eine Ausführungsform gemäß der Erfindung
mit aufrechten, ein zusammengesetztes Augensystem
170 bildenden Systemen 171-175, während die Fig. 22
umgekehrte Systeme 181-183, die ein zusammengesetztes
Augensystem 180 bilden, zeigt.
Bei der in Fig. 21 gezeigten Ausführungsform sind ausgewählte,
abwechselnde, reihenartige reflektierende Punkte
B 2, D 2 nahe der Objektebene 1 im Vergleich zu reihenartigen
reflektierenden Punkten A 2, C 2 und E 2 angeordnet,
und die Vielzahl von aufrechten Reellbildsystemen ist
dementsprechend abwechselnd angeordnet, so daß zwei vertikal
zueinander beabstandete Reihen mit Bezug auf die Objektebene 1
gebildet werden.
Die eine Reihe von optischen Elementen wird durch zwei
in einer Reihe an den Punkten B 2, D 2 angeordnete optische
Elemente gebildet, während die andere Reihe von optischen
Elementen in ähnlicher Weise durch drei in einer
Reihe an den Punkten A 2, C 2 und E 2 angeordnete optische
Elemente gebildet wird. Diese beiden Reihen von optischen
Elementen, die auf zwei Stufen angeordnet sind, bilden
eine Ablenkeinrichtung.
Die Anordnung der Punkte A 3, B 3, C 3, . . . auf der Seite
der Bildebene 2 ist zur Anordnung der Punkte A 2, B 2,
C 2, . . . auf der Seite der Objektebene 1 gleichartig. Eine
in einer Reihe an den Punkten B 3, D 3 angeordnete Reihe
von optischen Elementen und eine in einer Reihe an den
Punkten A 3, C 3 und E 3 angeordnete Reihe von optischen Elementen
bilden eine weitere Ablenkeinrichtung.
Bei dieser Ausführungsform wird ein gegebener Bereich der
Objektebene 1, z. B. ein Teil der Objektebene in der Nachbarschaft
des Punkts C 1, durch den am Punkt C 3 angeordneten
Umlenkspiegel mit Hilfe des aufrechten Reellbildsystems
173 über den an der Stelle C 2 angeordneten Umlenkspiegel
mit einer vorbestimmten Neigung reflektiert und
dann in einem verkleinerten Maßstab in der Nachbarschaft
des Punkts C 4 auf die Bildebene 2 projiziert.
Die Punkte C 1, C 2, C 3 und C 4 sind bei dieser Ausführungsform
so angeordnet, daß sie in derselben Ebene liegen.
Durch diese Anordnung wird gewährleistet, daß die Orte
der optischen Achsen der aufrechten Reellbildsysteme sich
in der gleichen Ebene befinden und daß durch die aufrechten
Reellbildsysteme projizierte Bilder eine Relativdrehung
nicht ausführen, so daß eine "Fehlanpassung durch
Drehung" nicht die Folge ist.
Auf die Bildebenen projizierte, durch die aufrechten
Reellbildsysteme erzeugte Abbildungen, d. h. die sog.
Mehrfachabbildungen, werden bei dieser Ausführungsform
dazu gebracht, einander zu überdecken, indem die Ausgestaltungen
und die Neigung der Vielzahl von auf der Seite
der Objektebene 1 und auf der Seite der Bildebene 2 angeordneten
Umlenkspiegel verändert wird, so daß insgesamt
ein integriertes Bild erzeugt wird, um die Fehlanpassung
von Abbildungen zu verhindern.
Zusätzlich wird bei dieser Ausführungsform, um die oben
erwähnte Veränderung in der Vergrößerung zu unterbinden,
die Neigung der jeweiligen aufrechten Reellbildsysteme
und der Umlenkspiegel derart festgesetzt, daß die Lichtstrahlen
L 1-L 5 auf den optischen Achsen der jeweiligen
aufrechten Reellbildsysteme die Objektebene 1 und die Bildebene 2
jeweils unter im wesentlichen rechten Winkeln
schneiden. Das heißt mit anderen Worten, daß eine derartige
Anordnung getroffen wird, daß die Lichtstrahlen
L 1-L 5 auf den optischen Achsen der jeweiligen aufrechten
Reellbilder nach der Reflexion durch die Umlenkspiegel
zueinander parallel werden und die Objektebene 1 sowie
die Bildebene 2 unter rechten Winkeln schneiden.
Bei der in Fig. 22 gezeigten Ausführungsform sind die reihenartigen
Reflexionspunkte A 2 und C 2, die aus den Punkten
auf der Objektebene alternierend ausgewählt wurden, im
Vergleich zu dem Reflexionspunkt B 2 weiter entfernt angeordnet.
Wenngleich in Fig. 22 nur ein solcher Reflexionspunkt
B 2 dargestellt ist, sind tatsächlich solche Reflexionspunkte
in einer Mehrzahl vorhanden, da drei oder mehr
umgekehrte Reellbildsysteme existieren. Die Vielzahl von
umgekehrten Reellbildsystemen ist dementsprechend alternierend
angeordnet, um zwei vertikal zueinander beabstandete
Reihen mit Bezug zur Objektebene 1 zu bilden.
Eine Reihe von optischen Elementen wird durch die zwei
optischen Elemente 182 und 183, die in einer Reihe an den
Punkten A 2 und C 2 angeordnet sind, gebildet, während die
andere Reihe von optischen Elementen 181 in gleichartiger
Weise durch optische Elemente, die in einer Reihe am Punkt
B 2 angeordnet ist, gebildet wird. Diese beiden Reihen von
optischen Elementen bilden eine Ablenkeinrichtung. Die
Anordnung der Punkte A 3, B 3 und C 3 auf der Seite der Bildebene 2
ist zur Anordnung der Punkte A 2, B 2 und C 2 auf der
Seite der Objektebene gleichartig. Die Reihe von in einer
Reihe an den Punkten A 3 und C 3 angeordneten optischen Elementen
und die Reihe von optischen Elementen, die in einer
Reihe am Punkt B 3 angeordnet sind, bilden eine weitere Ablenkeinrichtung.
Bei der in Fig. 22 gezeigten Ausführungsform wird übrigens
auch eine Anordnung zur Kompensation der vorher erwähnten
"Fehlanpassung durch Drehung" und "Veränderung in der
Vergrößerung" angewendet.
In den Fig. 23 und 24 ist eine weitere Ausführungsform
eines erfindungsgemäßen optischen Projektionssystems gezeigt,
wobei in Fig. 23 aufrechte Systeme 191-200 ein
zusammengesetztes Augensystem 190 bilden, während die
Fig. 24 umgekehrte Systeme 211-216 zeigt. In den Fig. 23
und 24 mit bereits benutzten Bezugszeichen bezeichnete
Elemente sind zu vorher erläuterten Elementen gleichartig.
Gemäß Fig. 23 sind optische Elemente jeweils an den Punkten
A 2-E 2 mit Bezug zur Richtung der Punkte A 1-E 1
auf der Objektebene 1 angeordnet, wobei sie eine Reihe
von optischen Elementen bilden. An den Punkten F 2-J 2
sind ebenfalls jeweils mit Bezug zur anderen Richtung
der Punkte F 1-J 1 auf der Objektebene 1 optische Elemente
angeordnet, so daß eine weitere Reihe von optischen
Elementen gebildet wird. Diese beiden Reihen von optischen
Elementen liegen in vertikal beabstandeten Reihen. Bei
dieser Ausführungsform bilden zwei Reihen der optischen
Elemente eine Ablenkeinrichtung.
Auf der Seite der Bildebene 2 bildet wie auf der Seite
der Objektebene 1 eine Mehrzahl von an den Punkten A 3-E 3
angeordneten optischen Elementen eine Reihe von optischen
Elementen, während eine Vielzahl von an den Punkten
F 3-J 3 angeordneten optischen Elementen eine weitere
Reihe von optischen Elementen bilden. Diese beiden Reihen
von optischen Elementen sind in mit Bezug zur Bildebene 2
vertikal beabstandeten Reihen angeordnet, wobei sie die
Ablenkeinrichtung auf der Seite der Bildebene bilden.
Ferner ist bei dieser Ausführungsform die Anordnung so
getroffen, daß durch Vorsehen einer Mehrzahl von vertikal
beabstandeten Reihen von optischen Elementen sowohl auf
der Seite der Objekt- wie der Bildebene eine Mehrzahl von
umgekehrten Reellbildsystemen für die jeweiligen optischen
Elemente sich in einem Raum gegenseitig nicht stört
oder beeinflußt.
Bei den in den Fig. 23 und 24 gezeigten Ausführungsformen
wird eine Anordnung angewendet, die eine Kompensation der
erwähnten "Fehlanpassung durch Drehung" und "Änderung in
der Vergrößerung" ermöglicht.
Um zwischen einander benachbarten Reellbildsystemen eine
Beeinflussung durch Einstreuung oder nach Art eines
"Nebensprechens" zu unterbinden, wird bei den beschriebenen
Ausführungsformen vorzugsweise von der Anordnung
von Abschirmelementen Gebrauch gemacht, und zwar von der
ersten Ablenkeinrichtung, in der die Ablenkglieder, z. B.
reflektierende Flächen, Prismen od. dgl., für jedes Reellbildsystem
(aufrecht und umgekehrt) getrennt sind, bis
zur letzten Ablenkeinrichtung, in der die Ablenkglieder
für jedes Reellbildsystem über die Reellbildsysteme getrennt
sind.
Die vorstehende Beschreibung bezieht sich auf einen Fall,
wobei das optische Projektionssystem bei einem verkleinernden
System angewendet wird, jedoch kann die Erfindung
in vollkommen gleichartiger Weise auf ein vergrößerndes
System zur Anwendung kommen, wenn eine umgekehrte
Anordnung des gesamten verkleinernden Systems benutzt wird.
Es ist darauf hinzuweisen, daß bei den bisherigen Ausführungsformen
die Auslegung der Anordnung des gesamten optischen
Projektionssystems nach Wunsch bewerkstelligt werden
kann, indem eine gemeinsame Reflexionsfläche einfach
zur Ablenkung eines Lichtstroms wenigstens entweder zwischen
der Objektebene und der Ablenkeinrichtung oder zwischen
der Bildebene und der Ablenkeinrichtung vorgesehen
wird.
Eine solche Einrichtung oder Anordnung wird erreicht,
indem man die Relativbeziehung zwischen der Objekt- sowie
der Bildebene in eine bestimmte Lagebeziehung bringt und
für eine Kompensation der Vorwärts- und Rückwärtsbeziehung
einer Abbildung sorgt.
Wenn eine geringfügige Fehlanpassung der Abbildungen oder
Abweichung einer Vergrößerung bei den beschriebenen Ausführungsformen
zulässig ist, so kann darüber hinaus eine derartige
Anordnung vorgesehen werden, daß Lichtströme von
einer Vielzahl von Reellbildsystemen durch einen einzigen
Umlenkspiegel abgelenkt werden.
Ferner können die mit der Erfindung verfolgten Ziele erreicht
werden, wenn das zusammengesetzte Augensystem zwei
oder mehr Reellbildsysteme umfaßt.
Die bisherigen Ausführungsformen gemäß der Erfindung haben
sich auf einen Fall bezogen, wobei zwei Ablenkeinrichtungen
verwendet und ein Umlenkspiegel oder Prisma als
eine Ablenkeinrichtung für jedes Reellbildsystem benutzt
werden. Jedoch kann eine Anordnung vorgesehen werden,
wobei eine Mehrzahl von Umlenkspiegeln oder Ablenkgliedern
(Prismen) für jedes Reellbildsystem verwendet wird,
wenn eine Anordnung vorgesehen wird, um die "Fehlanpassung
durch Drehung", die "Fehlanpassung von Abbildungen"
und die "Veränderung in der Vergrößerung" zu kompensieren,
und es wird eine äquivalente Anordnung unabhängig für die
jeweiligen Teile der Objekt- und Bildebene geschaffen.
Beispielsweise kann, wie die Fig. 25A zeigt, eine solche
Anordnung vorgesehen werden, daß ein Lichtstrahl von der
Objektebene 1 von einer Ebene zu einer anderen Ebene geleitet
und dann zur ursprünglichen Ebene zurückgeführt wird,
um zum Reellbildsystem 225 geleitet zu werden. Ferner
ist es möglich, in Übereinstimmung mit einer Relativlagenbeziehung
zwischen der Objekt- und der Bildebene eine gewünschte
Anordnung anzuwenden, wenn die Anzahl der eine
Ablenkeinrichtung bildenden Umlenkspiegel vergrößert wird,
wie die Fig. 25B zeigt, und wenn zur Zeit der Projektion
eines Liniensegments 226 in der einen Richtung der Objektebene 1
auf die Bildebene 2 mit Hilfe des zugeordneten
Reellbildsystems 225 die Abbildung des Liniensegments 226
auf der Objektebene mit dem anderen Liniensegment 227 auf
der Bildebene 2 ausgerichtet wird, so daß die sog. Fehlanpassung
durch Drehung nicht auftritt.
Diese Anordnung ist vorzuziehen, weil sie den Freiheitsgrad
in der Auslegung erweitert und insofern die Möglichkeit
bietet, eine gewünschte Anordnung in Übereinstimmung
mit einer Relativlagebeziehung zwischen der Objekt-
und der Bildebene anzuwenden.
Zusätzlich kann, wie die Fig. 26A und 26B zeigen, ein zusammengesetztes
Augensystem 230, das aus einer Mehrzahl
von senkrecht zur Zeichnungsebene angeordneten Reellbildsystemen
besteht, entweder zwischen der Objektebene 1
und der Ablenkeinrichtung oder zwischen der Bildebene 2
und der Ablenkeinrichtung in Übereinstimmung mit der Projektionsvergrößerung
und dem Abstand zwischen dem Objekt
sowie der Abbildung angeordnet werden.
Diese Anordnung ist wünschenswert, da sie ermöglicht, die
optischen Achsen der Reellbildsysteme in paralleler Lagebeziehung
auszurichten und eine vereinfachte Anordnung
anzuwenden.
In einem Fall, da die Reellbildsysteme im optischen System
einen Raum aufweisen, z. B. als einen Satz von Mikrolinsen
240, kann die Ablenkeinrichtung am Ort des Raumes, wie
die Fig. 27A, 27B und 27C zeigen, angeordnet werden.
Wenn eine Objektebene unter Verwendung eines zusammengesetzten
Augensystems, das aus einer Mehrzahl von aufrechten
Reellbildsystemen oder einer Mehrzahl von umgekehrten
Reellbildsystemen gebildet ist, in einem verkleinerten
oder vergrößerten Maßstab projiziert wird, so ist es gemäß
der Erfindung möglich, unter Verwendung einer durch ein
optisches Element oder eine Mehrzahl von optischen Elementen
gebildete Ablenkeinrichtung zur Ablenkung eines
Lichtstroms ein optisches Projektionssystem zu erlangen,
das in günstiger und vorteilhafter Weise sowohl die Fehlanpassung
von Mehrfachabbildungen wie auch eine Änderung
in der Vergrößerung auf der Bildebene kompensiert.
Claims (20)
1. Optisches Projektionssystem zur Ausführung einer nichtgleichen
Vergrößerungsprojektion, gekennzeichnet
- durch ein zusammengesetztes Augensystem (100, 120, 150, 160, 170, 180, 190, 230), das eine Mehrzahl von reellen Abbildungssystemen (111-115, 121, 122, 131-135, 141, 142, 151-154, 161-163, 171-175, 181-183, 191-200, 211-216, 225), die Bilder von mehreren Teilen an einer Objektebene (1) auf eine Bildebene (2) projizieren, umfaßt, und
- durch wenigstens eine Ablenkeinrichtung zur Ablenkung eines Lichtstroms von jedem der mehreren Teile an der Objektebene (1),
- wobei die reellen Abbildungssysteme und die Ablenkeinrichtungen in einer derartigen Beziehung angeordnet sind, daß Lichtstrahlen (L 1-L 10) auf den optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme zu einer in einer Anordnungsrichtung von wenigstens einem der mehreren Teile an der Objektebene und der mehreren Bildteile an der Bildebene verlaufenden Linie im wesentlichen senkrecht sind.
- durch ein zusammengesetztes Augensystem (100, 120, 150, 160, 170, 180, 190, 230), das eine Mehrzahl von reellen Abbildungssystemen (111-115, 121, 122, 131-135, 141, 142, 151-154, 161-163, 171-175, 181-183, 191-200, 211-216, 225), die Bilder von mehreren Teilen an einer Objektebene (1) auf eine Bildebene (2) projizieren, umfaßt, und
- durch wenigstens eine Ablenkeinrichtung zur Ablenkung eines Lichtstroms von jedem der mehreren Teile an der Objektebene (1),
- wobei die reellen Abbildungssysteme und die Ablenkeinrichtungen in einer derartigen Beziehung angeordnet sind, daß Lichtstrahlen (L 1-L 10) auf den optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme zu einer in einer Anordnungsrichtung von wenigstens einem der mehreren Teile an der Objektebene und der mehreren Bildteile an der Bildebene verlaufenden Linie im wesentlichen senkrecht sind.
2. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ablenkeinrichtungen eine Mehrzahl von optischen
Elementen umfassen, die jeweils entsprechend den
reellen Abbildungssystemen angeordnet sind.
3. Projektionssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das optische Element ein Umlenkspiegel ist.
4. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ablenkeinrichtung in wenigstens einem Raum
der Räume zwischen dem zusammengesetzten Augensystem
sowie der Objektebene und zwischen dem zusammengesetzten
Augensystem sowie der Bildebene angeordnet ist.
5. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die reellen Abbildungssysteme allgemein auf
derselben Ebene angeordnet sind.
6. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß jedes der reellen Abbildungssysteme und Punkte,
an denen der Lichtstrahl auf der optischen Achse der
reellen Abbildungssysteme die Objektebene (1) sowie die
Bildebene (2) schneidet, in allgemein derselben Ebene
liegen.
7. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ablenkeinrichtungen mehrere Reihen von optischen
Elementen umfassen, wobei in jeder dieser Reihen
eine Mehrzahl der optischen Elemente in einer Richtung
angeordnet ist.
8. Projektionssystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die optischen Elemente in den mehreren Reihen
derart angeordnet sind, daß sie jeweils Lichtströme von
den mehreren, an der Objektebene in der einen Richtung
angeordneten Teilen ablenken.
9. Projektionssystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die optischen Elemente in den mehreren Reihen
so angeordnet sind, daß sie in jeder dieser Reihen jeweils
Lichtströme von den mehreren, an der Objektebene
in einer entsprechenden Richtung angeordneten Teilen
ablenken.
10. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme zueinanderparallel sind.
11. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens zwei Ablenkeinrichtungen vorgesehen
sind, von denen die eine parallele Lichtstrahlen auf
den optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme in
nicht-parallele Lichtstrahlen auf den Achsen der reellen
Abbildungssysteme und die andere die nicht-parallelen
Lichtstrahlen zu parallelen Lichtstrahlen auf den
optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme umwandelt.
12. Projektionssystem nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch
eine derartige Anordnung der reellen Abbildungssysteme
und der Ablenkeinrichtungen, daß die Ablenkeinrichtungen
so angeordnet sind, daß die nicht-parallelen Lichtstrahlen
auf den optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme
oder auf Verlängerungen dieser Achsen sich an
einem Punkt bei Betrachtung aus wenigstens einer Richtung
schneiden.
13. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens zwei Ablenkeinrichtungen allein
zwischen den reellen Abbildungssystemen und einer Ebene
aus der Objekt- sowie Bildebene vorgesehen und die
optischen Achsen der reellen Abbildungssysteme zueinander
parallel sind.
14. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das reelle Abbildungssystem einen Satz von
Linsen umfaßt und die Ablenkeinrichtung zwischen diesen
Linsen vorgesehen ist.
15. Projektionssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das optische Element ein Prismenglied ist.
16. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das reelle Abbildungssystem ein aufrechtes
Reellbildsystem (111-115, 131-135, 151-154,
161-163, 171-175, 191-200) ist und Verlängerungen
von nicht-parallelen Lichtstrahlen auf den optischen
Achsen dieser aufrechten Reellbildsysteme sich
an einem Punkt bei Betrachtung aus wenigstens einer
Richtung schneiden.
17. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das reelle Abbildungssystem ein umgekehrtes
Reellbildsystem (121, 122, 141, 142, 181-183,
211-216) ist und nicht-parallele Lichtstrahlen auf
den optischen Achsen dieser umgekehrten Reellbildsysteme
sich bei Betrachtung aus wenigstens einer Richtung
an einem Punkt in einer mehrstufigen Weise
schneiden.
18. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die optischen Achsenlängen der reellen Abbildungssysteme
die gleichen sind.
19. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtstrahlen auf den optischen Achsen der
reellen Abbildungssysteme zu wenigstens einer Ebene aus
der Objekt- sowie Bildebene senkrecht sind.
20. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß jedes der reellen Abbildungssysteme und Punkte,
an denen der Lichtstrahl auf der optischen Achse eines
dieser reellen Abbildungssysteme die Objektebene, die
Bildebene und die Ablenkeinrichtung kreuzt, in unterschiedlichen
Ebenen liegen.
Applications Claiming Priority (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60296327A JPH0614146B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296321A JPH0614141B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296328A JPH0614147B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296330A JPH0614149B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296324A JPH0614144B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296331A JPH0614150B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296322A JPH0614142B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296332A JPH0614151B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296326A JPS62153923A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296323A JPH0614143B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296329A JPH0614148B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
JP60296325A JPH0614145B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 投影光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3644354A1 true DE3644354A1 (de) | 1987-07-09 |
DE3644354C2 DE3644354C2 (de) | 1993-06-17 |
Family
ID=27583537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863644354 Granted DE3644354A1 (de) | 1985-12-27 | 1986-12-24 | Optisches projektionssystem |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4750022A (de) |
DE (1) | DE3644354A1 (de) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5233469A (en) * | 1987-10-22 | 1993-08-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging optical system using index distribution type optical elements |
US5729331A (en) | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JP2000047113A (ja) | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Canon Inc | 光学系 |
US7385168B2 (en) * | 2001-07-06 | 2008-06-10 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design |
US7109464B2 (en) * | 2001-07-06 | 2006-09-19 | Palantyr Research, Llc | Semiconductor imaging system and related methodology |
US7248716B2 (en) * | 2001-07-06 | 2007-07-24 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design |
US7288751B2 (en) * | 2001-07-06 | 2007-10-30 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design |
US7105795B2 (en) * | 2001-07-06 | 2006-09-12 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design |
US6884983B2 (en) * | 2002-06-10 | 2005-04-26 | Palantyr Research, Llc | Imaging system for examining biological material |
US7338168B2 (en) | 2001-07-06 | 2008-03-04 | Palantyr Research, Llc | Particle analyzing system and methodology |
US6872930B2 (en) * | 2003-03-31 | 2005-03-29 | Palantyr Research, Llc | Imaging system and methodology employing reciprocal space optical design |
US7439478B2 (en) * | 2001-07-06 | 2008-10-21 | Palantyr Research, Llc | Imaging system, methodology, and applications employing reciprocal space optical design having at least one pixel being scaled to about a size of a diffraction-limited spot defined by a microscopic optical system |
US7863552B2 (en) * | 2001-07-06 | 2011-01-04 | Palantyr Research Llc | Digital images and related methodologies |
US7132636B1 (en) | 2001-07-06 | 2006-11-07 | Palantyr Research, Llc | Imaging system and methodology employing reciprocal space optical design |
US6664528B1 (en) | 2001-07-06 | 2003-12-16 | Palantyr Research, Llc | Imaging system and methodology employing reciprocal space optical design |
US7151246B2 (en) * | 2001-07-06 | 2006-12-19 | Palantyr Research, Llc | Imaging system and methodology |
US6815659B2 (en) * | 2002-01-14 | 2004-11-09 | Palantyr Research, Llc | Optical system and method of making same |
US6813008B2 (en) * | 2002-06-10 | 2004-11-02 | Palantyr Research, Llc | Microdissection optical system |
US7013570B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-03-21 | Irwin-Industrial Tool Company | Stud finder |
CN102507592B (zh) * | 2011-11-01 | 2014-05-28 | 河海大学常州校区 | 表面缺陷仿蝇视觉在线检测装置及检测方法 |
CN105954292B (zh) * | 2016-04-29 | 2018-09-14 | 河海大学常州校区 | 基于复眼仿生视觉的水下构筑物表面裂缝检测装置及方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2637514A1 (de) * | 1976-08-20 | 1978-02-23 | Agfa Gevaert Ag | Optisches abbildungssystem fuer kopiergeraete |
US4168900A (en) * | 1978-04-24 | 1979-09-25 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Compact erect optical imaging copier system and method |
EP0040548A1 (de) * | 1980-05-21 | 1981-11-25 | Xerox Corporation | Gradientenlinsenanordnung |
JPS5945420A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-14 | Olympus Optical Co Ltd | 変倍光学像投影装置 |
JPS59216115A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-06 | Ricoh Co Ltd | 変倍光学系 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2654319A1 (de) * | 1976-11-30 | 1978-06-01 | Agfa Gevaert Ag | Belichtungseinrichtung fuer kopiergeraete |
-
1986
- 1986-12-24 DE DE19863644354 patent/DE3644354A1/de active Granted
- 1986-12-29 US US06/946,967 patent/US4750022A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2637514A1 (de) * | 1976-08-20 | 1978-02-23 | Agfa Gevaert Ag | Optisches abbildungssystem fuer kopiergeraete |
US4168900A (en) * | 1978-04-24 | 1979-09-25 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Compact erect optical imaging copier system and method |
EP0040548A1 (de) * | 1980-05-21 | 1981-11-25 | Xerox Corporation | Gradientenlinsenanordnung |
JPS5945420A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-14 | Olympus Optical Co Ltd | 変倍光学像投影装置 |
JPS59216115A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-06 | Ricoh Co Ltd | 変倍光学系 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4750022A (en) | 1988-06-07 |
DE3644354C2 (de) | 1993-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3644354A1 (de) | Optisches projektionssystem | |
EP0984312B1 (de) | Laserdiodenanordnung | |
DE19645150C2 (de) | Optische Anordnung zur Symmetrierung der Strahlung von Laserdioden | |
DE3137031C2 (de) | Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem | |
DE19948889C1 (de) | Vorrichtung zur Symmetrierung der Strahlung von linearen optischen Emittern und Verwendung der Vorrichtung | |
DE2410485B2 (de) | Prismensystem zur farbtrennung in drei farbkomponenten | |
DE3011053A1 (de) | Optisches system | |
DE102010001388A1 (de) | Facettenspiegel zum Einsatz in der Mikrolithografie | |
EP2463701A1 (de) | Mikroskopiesystem | |
DE102016106462B4 (de) | Optische Anordnung, Verwendungen derselben und Objektivanschluss | |
DE3117858C2 (de) | Binokulares Stereomikroskop | |
DE10317958B4 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen und Projizieren von Lichtmarken | |
EP1062540A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur optischen strahltransformation | |
EP0388704B1 (de) | Anamorphotischer Vorsatz für Aufnahme- oder Wiedergabezwecke zur Verwendung mit einem Grundobjektiv | |
DE19737170C2 (de) | Optisches Kaskade-Abtastsystem | |
DE102018214223A1 (de) | Pupillenfacettenspiegel | |
DE4234144A1 (de) | Zoomlinsensystem | |
DE102015209175A1 (de) | Pupillenfacettenspiegel | |
DE2942041A1 (de) | Lichtstrahlabtastsystem | |
DE60024006T2 (de) | Projektionsanzeigegerät | |
DE4227595C2 (de) | Laserscanner | |
DE2441294C2 (de) | Varioobjektiv | |
DE3228580A1 (de) | Optisches verbundaugensystem mit variabler vergroesserung | |
DE10062453B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln | |
DE1961940C3 (de) | Projektionsanordnung für Farbfernsehen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |