DE3604720C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Magnetwiderstandskopf
der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 vorausgesetzten
Art.
Dichten der magnetischen Aufzeichnungseinheiten wurden
mehr und mehr gesteigert. Als Köpfe zur Herstellung sol
cher Aufzeichnungseinheiten kamen Dünnschichtköpfe unter
Anwendung der Dünnschichttechnik in Gebrauch. Unter diesen
Dünnschichtköpfen liefert ein Magnetwiderstandskopf für
Vielspurbetrieb (im folgenden mit MW-Kopf bezeichnet),
der den magnetoresistiven Effekt einer ferromagnetischen
Dünnschicht ausnutzt,
vorteilhaft einen Hochpegelausgang trotz seiner hohen
Aufzeichnungsdichte, da sein Wiedergabeausgang nicht
von der relativen Geschwindigkeit zwischen dem Aufzeich
nungsmedium und dem Magnetkopf abhängt, sondern nur von
der Größe des durch das Aufzeichnungsmedium verursach
ten Signalmagnetfeld abhängt. Die MW-Köpfe werden bei
magnetischen Aufzeichnungseinheiten in verschiedenen
Gebieten als Wiedergabeköpfe verwendet.
Der allgemeine Aufbau des MW-Kopfes wird in der
JP-OS 50-59 023 offenbart. Wie Fig. 2 zeigt, ist auf
einer Basisplatte 1 ein Paar von magnetischen Abschirm
schichten 6, 7 auf beiden Seitenflächen eines MW-Ele
ments 2 über dünne Isolierschichten 8, 9 vorgesehen.
Eine Leiterschicht 5 zum Einlaß eines Stromflusses in
das MW-Element und zum Auslaß eines wiedergegebenen
Signals vom MW-Element ist mit dem MW-Element 2 verbun
den. Die magnetischen Abschirmschichten 6, 7 sind vor
gesehen, um einen unnötigen Teil des durch das Auf
zeichnungsmedium verursachten Signalmagnetfeldes abzu
schirmen, welcher Teil vom MW-Element 2 erfaßt, jedoch
nicht benötigt wird. So werden die Frequenzeigenschaf
ten des wiedergegebenen Signals verbessert, und die Auf
lösung wird gesteigert.
Bei einem solchen Aufbau werden jedoch Rausch
spitzen verursacht, wenn ein Auszeichnungsmedium, das
ein Isolator ist, in einem engen, der Kopfoberfläche
zugewandten Spalt läuft. Wenn die Information wiederge
geben wird, senken solche Rauschspitzen das Rauschab
standsverhältnis und verursachen Wiedergabefehler.
Aus der US-PS 45 23 243 ist ein Magnetwiderstandskopf
mit einer Einrichtung zum Anlegen eines Vorspannungsfeldes
an magnetoresistive Elemente mit drei Anschlüssen bekannt,
die so angeordnet ist, daß ein Kurzschluß zwischen Vor
spannungsleitern und Fühlerelementen vermieden wird, die
Vorspannungsleiter weniger Umgebungseinflüssen ausgesetzt
sind und Vorspannungsänderungen mit der Lebensdauer des
Magnetwiderstandskopfes vermieden werden. Diese US-PS
befaßt sich jedoch nicht mit dem Problem von Rauschspitzen
durch Reibung und Kontakt zwischen dem Magnetwiderstands
kopf und dem bewegten Aufzeichnungsmedium.
J. E. Rohen "Electrostatic shielding for magnetoresistive
read heads" in "IBM Technical Disclosure Bulletin",
April 1979, Vol. 21, No. 11, S. 4459-60 beschreibt einen
Magnetwiderstandskopf, bei dem zu beiden Seiten eines
magnetoresistiven Elements geerdete Leiterbahnen ange
ordnet sind, die zum Erhalten eines Faraday-Schirmeffekts
zwecks Verringerung des Effekts indirekter elektrostati
scher Entladungen dienen. Auf die durch die Reibung und
den Kontakt zwischen dem Magnetwiderstandskopf und einem
bewegten Aufzeichnungsmedium verursachte Rauschspitzen
geht auch diese Druckschrift nicht ein.
Schließlich ist aus der DE 32 30 416 A1 ein Magnetkopf
mit einem Magnetoresistenz-Wandlerelement bekannt, bei
dem das leitende Substrat geerdet oder eine bestimmte
Vorspannung daran angelegt wird, um eine Erosion des Magneto
resistenz-Wandlerelements zu vermeiden. Diese DE-OS befaßt
sich jedoch nicht mit einer Vermeidung von Rauschspitzen
beim Wiedergabebetrieb des Magnetkopfes durch dessen Rei
bung und Kontakt mit dem bewegten Aufzeichnungsmedium
und offenbart keinen Vierspuraufbau mit einer Mehrzahl
von magnetoresistiven Elementen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Magnet
widerstandskopf der eingangs vorausgestzten Art zu ent
wickeln, bei dem durch Reibung und Kontakt zwischen dem
Magnetwiderstandskopf und dem bewegten Aufzeichnungsmedium
verursachte Rauschspitzen und dadurch auftretende Wieder
gabefehler erheblich verringert werden.
Die Erfinder untersuchten das erwähnte Problem des Auf
tretens der Rauschspitzen im einzelnen. Als Ergebnis wurde
der Grund des Auftretens der Rauschspitzen folgendermaßen
aufgeklärt. Reibung und Kontakt werden zwischen dem Medium
130 und der Kopfoberfläche gemäß Darstellung in Fig. 1
hervorgerufen. Als Ergebnis entsteht Reibungselektrizität
und wird auf der Kopfoberfläche gespeichert. Die Elektri
zität wird auf dem Leiterteil (z. B. der Abschirmschicht 3)
der Kopfoberfläche konzentriert, wobei die Spannung des
Leiterteils merklich geändert wird. Eine Isolierschicht
4 ist zwischen dem magnetoresistiven Element 2 und diesen
Leiterteilen vorgesehen. Wenn die Spannungsdifferenz zwi
schen dem magnetoresistiven Element 2 und dem Leiterteil
3 soweit ansteigt, daß sie die Durchschlagspannung der
Luft übersteigt, tritt jedoch der Isolationsdurchschlag der
zwischen dem magnetoresistiven Element 2 und dem Leiterteil
3 auf. Der Einfluß des Durchschlags wird im Ausgang des
magnetoresistiven Elements 2 als Rauschspitzen beobachtet.
Vor anderen haben somit die Erfinder den Grund des Auf
tretens von für das magnetoresistive Element 2 charakteristi
schen Rauschspitzen ermittelt. Weiter entwarfen die Erfin
der einen konkreten Aufbau eines Magnetwiderstandskopfes,
der sich zur Verringerung des im wiedergegebenen Signal
enthaltenen Rauschanteils eignet.
Die genannte Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kenn
zeichnenden Merkmale des Patentanspruchs 1 gelöst.
Die Elektrizität aufgrund der Reibung od. dgl., die verur
sacht wird, wenn das Aufzeichnungsmedium läuft, kann so
durch die elektrische Leiterschicht beseitigt werden.
Ausgestaltungen dieses Magnetwiderstandskopfes sind in
den Unteransprüchen 2 und 3 gekennzeichnet.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung veranschau
lichten Ausführungsbeispiele näher erläutert; darin zeigt
Fig. 1 eine Schnittdarstellung eines Aufbaus eines be
kannten MW-Kopfes und eines Speichermediums zur
Veranschaulichung der Grundidee der Erfindung;
Fig. 2 eine Perpektivdarstellung des schon erläuterten
MW-Kopfes bekannter Art;
Fig. 3a einen Grundriß eines ersten Ausführungsbeispiels
eines einzelnen MR-Elements und
Fig. 3b eine
Schnittdarstellung nach der Linie IIIb-IIIb
in Fig. 3a;
Fig. 4a einen Grundriß eines zweiten Ausführungsbei
spiels eines einzelnen MR-Elements
und
Fig. 4b eine Schnittdarstellung
nach der Linie IVb-IVb in Fig. 4a;
Fig. 5a einen Grundriß eines dritten Ausfüh
rungsbeispiels eines einzelnen MR-Elements
und
Fig. 5b eine Schnittdarstellung
nach der Linie Vb-Vb in Fig. 5a;
Fig. 6 eine Schnittdarstellung eines vierten
Ausführungsbeispiels eines einzelnen MR-Ele
ments;
Fig. 7 eine Schnittdarstellung eines fünften
Ausführungsbeispiels eines einzelnen MR-Ele
ments;
Fig. 8a einen Grundriß eines sechsten Ausfüh
rungsbeispiels eines einzelnen MR-Elements und
Fig. 8b eine Schnittdarstellung längs
der Linie VIIIb-VIIIb in Fig. 8a;
Fig. 9a einen Grundriß eines siebenten Aus
führungsbeispiels eines einzelnen MR-Elements
und
Fig. 9b eine Schnittdarstellung
nach der Linie IXb-IXb in Fig. 9a;
Fig. 10a einen Grundriß eines achten Ausfüh
rungsbeispiels eines einzelnen MR-Elements und
Fig. 10b eine Schnittdarstellung nach
der Linie Xb-Xb in Fig. 10a;
Fig. 11a einen Grundriß eines ersten Ausführungs
beispiels eines Vielspur-MW-Kopfes gemäß
der Erfindung und
Fig. 11b eine Schnitt
darstellung nach der Linie XIb-XIb in
Fig. 11a;
Fig. 12a einen Grundriß eines zweiten Ausführungs
beispiels eines Vielspur-MW-Kopfes gemäß
der Erfindung,
Fig. 12b einen Grundriß
eines Ausführungsbeispiels, das eine
Variante des Ausführungsbeispiels von
Fig. 12a ist, und
Fig. 12c einen Grund
riß eines anderen Ausführungsbeispiels,
das eine Variante des Ausfüh
rungsbeispiels von Fig. 12a ist;
Fig. 13a eine Schnittdarstellung nach der Linie
XIIIa-XIIIa in Fig. 12a,
Fig. 13b eine
Schnittdarstellung nach der Linie XIIIb-
XIIIb in Fig. 12a und
Fig. 13c eine
Schnittdarstellung längs der Linie
XIIIc-XIIIc in Fig. 12a.
Es werden nun Beispiele einzelner MR-Elemente und des Vielspur-Kopfes gemäß der Erfindung im einzelnen
erläutert.
Fig. 1 ist eine Schnittdarstellung des Aufbaus
eines bekannten MW-Kopfes zur Veranschaulichung des Grundgedan
kens der Erfindung. Leitende permeable Abschirmschich
ten (z. B. aus "Permalloy") 3 sind auf beiden Seiten
des MW-Elements 2 über Isolierschichten (z. B. aus SiO2)
4 angeordnet. Ein Anschluß 50 ist von den leitenden Ab
schirmschichten 3 herausgeführt und geerdet. Das Ende
des Kopfes liegt unter Bildung einer dem Aufzeichnungs
medium 130 zugewandten Oberfläche frei. Das Ende des
Kopfes ist bezüglich der Richtung, in der das Aufzeich
nungsmedium 130 läuft, gekrümmt. Das MW-Element 2 ist
am Gipfel der gekrümmten Oberfläche positioniert. Bei
diesem Ausführungsbeispiel konnten die Elektrizität
aufgrund der Reibung od. dgl. beseitigt und die Auf
trittshäufigkeit von durch das durch den engen Spalt
laufende Medium 130 verursachten Rauschspitzen von zwei-
oder dreimal je Sekunde auf keinmal je Sekunde verbessert
werden.
Ein ähnlicher Effekt kann auch erhalten werden,
wenn entweder die Abschirmschicht 3 auf einer Seite
oder die Abschirmschichten 3 auf beiden Seiten aus
nichtmagnetischen Leiterschichten gemacht werden.
Konkrete Ausführungsbeispiele einzelner MR-Elemente und des Vielspur-MW-Kopfes gemäß der Erfindung werden
nun anhand der Fig. 3a bis 13c erläutert. Fig. 3a ist
ein Grundriß eines Beispiels eines Kopfes.
Fig. 3b ist eine Schnittdarstellung des längs
der Linie IIIb-IIIb in Fig. 3a gesehenen Kopfes. In einem
MW-Kopf muß ein geeignetes Vorspannungsfeld an das MW-
Element angelegt werden, um die Betriebseigenschaften
des MW-Kopfes zu linearisieren und die Verzerrung der
wiedergegebenen Wellenform zu beseitigen. Als Verfahren
zum Anlegen des Vorspannungsfeldes an das MW-Element
sind das Nebenschluß-Vorspannungsverfahren und das
Dauermagnet-Vorspannungsverfahren bekannt. Beim Neben
schluß-Vorspannungsverfahren wird das Vorspannungsfeld
erzeugt, indem man einen Strom durch die an das MW-Ele
ment angrenzende Schicht aus einem leitenden Material
fließen läßt. Beim Dauermagnet-Vorspannungsverfahren
wird eine Dauermagnetschicht nahe dem MW-Element ange
ordnet, und das Streufeld der Dauermagnetschicht wird
als das Vorspannungsfed verwendet. Das vorliegende Aus
führungsbeispiel wird für den MW-Kopf unter Anwendung
des Nebenschluß-Vorspannungsverfahrens beschrieben.
Nachdem eine untere Abschirmschicht 6 aus einem
magnetischen Material, wie z. B. "Permalloy", auf einer
Basisplatte 1 gebildet ist, wird eine erste Isolier
schicht 8 aus einem Isoliermaterial, wie z. B. Al2O3
oder SiO2, gebildet. Nachdem dann ein MW-Element 2
(z. B. "Permalloy") gebildet ist, wird eine Vorspannungs
schicht 13 aus einem leitenden Material, wie z. B. Ti,
gebildet. Dann wird die erste Isolierschicht 8 geätzt,
um ein durchgehendes Loch 20 herzustellen. Anschließend
wird eine Leiterschicht 5 aus Au, Al, Cu od. dgl. ge
bildet und elektrisch mit der unteren Abschirmschicht
6 verbunden. Das durchgehende Loch 20 kann unmittelbar
nach der Bildung der ersten Isolierschicht 8 gebildet
werden. Dann wird eine zweite Isolierschicht 9 aus Al2O3,
SiO2 od. dgl. gebildet und zur Herstellung eines durch
gehenden Loches 21 geätzt. Weiter wird eine obere Ab
schirmschicht 7 aus einem magnetischen Material, wie
z. B. "Permalloy", gebildet und elektrisch mit der leiten
den Schicht 5 verbunden. Danach wird die zweite Isolier
schicht 9 zur Herstellung eines durchgehenden Loches 22
geätzt. Anschließend wird ein Anschluß 10 aus einem
leitenden Material, wie z. B. Au, Al, Cu od. dgl.,
gebildet und elektrisch mit der leitenden Schicht 5
verbunden. Schließlich wird eine Schutzschicht 11 aus
Al2O3, SiO2 od. dgl. gebildet, und ihre Oberfläche
wird durch Läppen od. dgl. bearbeitet, bis der Anschluß
10 freigelegt ist. Bei dem vorstehend beschriebenen
Aufbau werden die untere Abschirmschicht 6 und die
obere Abschirmschicht 7 elektrisch mit dem Anschluß 10
durch die leitende Schicht 5 verbunden. Wenn der mitt
lere Anschluß 10 mit Erde verbunden wird und eine Strom
quelle zum Steuern des MW-Elements 2 sowie ein Differen
tialverstärker 12 zum Verstärken des vom MW-Element 2
abgelesenen wiedergegebenen Signals zwischen den beiden
übrigen Anschlüssen 10, wie in Fig. 3a dargestellt, ver
bunden werden, werden daher vom MW-Element 2 abgelesene
Rauschanteile durch die Differenzialverstärkung besei
tigt. Die Rauschanteile der unteren Abschirmschicht 6
und der oberen Abschirmschicht 7 können durch den ge
erdeten Anschluß 10 beseitigt werden. So werden die
durch den gesamten MW-Kopf erzeugten Rauschanteile ver
ringert, wobei das Rauschabstandsverhältnis S/N ver
bessert wird.
Ein gleichartiger Effekt läßt sich erzielen, auch
wenn die obere oder untere Abschirmschicht aus einer
nicht-magnetischen Leiterschicht besteht.
Fig. 4a zeigt ein Ausführungsbeispiel eines neben
schluß-vorgespannten MW-Kopfes mit einem Doppelanschluß
aufbau, bei dem zwei Leiterschichten
5 für das MW-Element 2 gebildet sind. Fig. 4b ist eine
Schnittdarstellung des längs der in Fig. 4a dargestell
ten Linie IVb-IVb gesehenen Kopfes. Die untere Abschirm
schicht 6 und die obere Abschirmschicht 7 sind mit je
einer der mit dem MW-Element 2 verbundenen Leiter
schichten 5 verbunden. In diesem Fall sind der Aufbau
und das Herstellverfahren zum elektrischen Verbinden
der Leiterschichten 5 mit der unteren Abschirmschicht 6
und der oberen Abschirmschicht 7 mittels des in der
ersten Isolierschicht 8 gebildeten durchgehenden Loches
20 und der in der zweiten Isolierschicht 9 gebildeten
durchgehenden Löcher 21 und 22 die gleichen wie die des
in den Fig. 3a und 3b veranschaulichten Ausführungsbei
spiels. Nur die Grundrißfigur 4a unterscheidet sich
von dem Grundriß nach Fig. 3a. Wenn der auf der Leiter
schicht 5 mit der oberen Abschirmschicht 7 angeordnete
Anschluß 10 und die damit verbundene Abschirmschicht 6
geerdet werden und die Stromquelle sowie der Differen
tialverstärker 12 zwischen diesem Anschluß 10 und dem
anderen Anschluß 10 angeschlossen werden, lassen sich
die Rauschanteile in der gleichen Weise wie beim Aus
führungsbeispiel nach den Fig. 3a und 3b verringern.
Fig. 5a ist ein Grundriß eines anderen Ausführungs
beispiels eines MW-Kopfes. Fig. 5b
is eine Schnittdarstellung des längs einer in Fig. 5a
dargestellten Linie Vb-Vb gesehenen MW-Kopfes. Der MW-
Kopf dieses Aufbaus kennzeichnet sich dadurch, daß an
einer von der des auf der Leiterschicht 5 angeordneten
Anschlusses 10 verschiedenen Stelle ein Anschluß 10
aus einem leitenden Material, wie z. B. Au, Al oder Cu,
angeordnet ist, um die untere Abschirmschicht 6 und die
obere Abschirmschicht 7 mit Erde in einem äußeren Kreis
zu verbinden. Das Herstellverfahren für den in den Fig.
5a und 5b veranschaulichten MW-Kopf wird nun erläutert.
Nachdem die untere Abschirmschicht 6, die erste
Isolierschicht 8, das MW-Element 2, eine Vorspannungs
schicht 13, die zweite Isolierschicht 9 nacheinander
auf der Basisplatte 1 gebildet sind, wird ein durch
gehendes Loch 23 durch die erste Isolierschicht 8 und
die zweite Isolierschicht 9 gebildet. Danach wird die
obere Abschirmschicht 7 gebildet und elektrisch mit der
unteren Abschirmschicht 6 verbunden. Nachdem der An
schluß 10 gebildet ist, wird die Schutzschicht 11 ge
bildet und durch Läppen od. dgl. bearbeitet, bis der
Anschluß 10 an der Oberfläche freiliegt. Dadurch wird
der Anschluß 10 elektrisch mit der unteren Abschirm
schicht 6 und der oberen Abschirmschicht 7 verbunden.
Durch Erden des Anschlusses 10 und Verbinden der Strom
quelle sowie des Differentialverstärkers 12 zwischen
den übrigen Anschlüssen 10 können daher die Rauschan
teile des MW-Kopfes in der gleichen Weise wie bei den
zuvor beschriebenen Ausführungsbeispielen verringert
werden.
Es werden nun weitere Ausführungsbeispiele einzelner MR-Elemente
beschrieben. Fig. 6 ist eine Schnittdarstellung
eines Ausführungsbeispiels, bei dem der Aufbau des an
der Vorspannungsschicht 13 des in den Fig. 5a und 5b
veranschaulichten MW-Kopfes angebrachten durchgehenden
Loches 23 modifiziert ist. Nachdem die untere Abschirm
schicht 6, die erste Isolierschicht 8, das MW-Element 2,
die Vorspannungsschicht 13, die zweite Isolierschicht 9
und die obere Abschirmschicht 7 gebildet sind, werden
alle diese Schichten geätzt, um ein durchgehendes Loch
24 zu erzeugen. Danach werden ein Anschluß 14 aus Au,
Cu od. dgl. und die Schutzschicht 11 gebildet. Das
durchgehende Loch 24 kann alternativ gebildet werden,
indem man die erste Isolierschicht 8 ohne Ätzen der
unteren Abschirmschicht 6 ätzt. Bei diesem Aufbau
kann ebenfalls der Anschluß 14 elektrisch mit der
unteren Abschirmschicht 6 und der oberen Abschirm
schicht 7 verbunden werden. Weiter kann dieser Aufbau
auf die entsprechend den Darstellungen in den Fig. 3a,
3b, 4a und 4b aufgebauten MW-Köpfe angewandt werden.
Und zwar können die durchgehenden Löcher 20 und 22
gleichzeitig nach der Bildung der oberen Abschirm
schicht 7 gebildet werden.
Fig. 7 ist eine Schnittdarstellung eines Ausfüh
rungsbeispiels, bei dem der Aufbau des durchgehenden
Loches 21 der in den Fig. 3b und 4b gezeigten MW-Köpfe
modifiziert ist. Nachdem die zweite Isolierschicht 9
gebildet ist, werden alle Schichten geätzt, um ein
durchgehendes Loch 25 zu erzeugen. Das durchgehende
Loch 25 kann alternativ durch Ätzen der ersten Isolier
schicht 8 gebildet werden. Indem man die obere Abschirm
schicht 7 danach bildet, kann die Leiterschicht 5
elektrisch mit der oberen Abschirmschicht 7 und der
unteren Abschirmschicht 6 verbunden werden.
Fig. 8a ist ein Grundriß eines Ausführungsbeispiels
eines MW-Kopfes des Dauermagnet-Vorspannungstyps mit
einem Doppelanschlußaufbau, bei
dem zwei Leiterschichten 5 am MW-Element 2 gebildet sind.
Fig. 8b ist eine Schnittdarstellung des in Fig. 8a ge
zeigten MW-Kopfes. Die untere Abschirmschicht 6 und die
obere Abschirmschicht 7 werden mit je einer der mit dem
MW-Element 2 verbundenen Leiterschichten 5 verbunden.
In diesem Fall sind der Aufbau und das Herstellverfahren
zum elektrischen Verbinden der Leiterschicht 5 mit der
unteren Abschirmschicht 6 und der oberen Abschirmschicht
7 über das in der ersten Isolierschicht 8 gebildete
durchgehende Loch 20 und die in der zweiten Isolier
schicht 9 gebildeten durchgehenden Löcher 21 und 22
die gleichen wie die des in den Fig. 3a und 3b gezeig
ten Ausführungsbeispiels des Nebenschluß-Vorspannungs
typs. Nur der Schnittdarstellungsaufbau unterscheidet
sich von dem nach Fig. 3a und 3b. Eine in Fig. 8b dar
gestellte Schicht 14 ist eine Isolierschicht zum Iso
lieren einer Dauermagnetschicht 13 vom MW-Element 2.
Jeder der Anschlüsse der Dauermagnetschicht 13, die ein
Vorspannungselement ist, wird mit der vom MW-Element 2
herausgeführten Leiterschicht 5 über die Leiterschicht
5 verbunden. Demgemäß wird die in der Dauermagnet
schicht 13 erzeugte Elektrizität unmittelbar durch den
Anschluß 10 entladen, so daß keine Rauschanteile verur
sacht werden.
Fig. 9a ist ein Grundriß eines Ausführungsbeispiels
eines Nichtabschirmungs-Nebenschlußvorspannungs-MW-
Kopfes mit einem Doppelanschlußaufbau,
bei dem die Nebenschluß-Vorspannungsschicht 13
über dem MW-Element gebildet ist und zwei Leiterschich
ten 5 an beiden Enden der Nebenschluß-Vorspannungs
schicht 13 gebildet sind. Fig. 9b ist eine Schittdar
stellung des in Fig. 9a dargestellten MW-Kopfes. Nach
dem die erste Isolierschicht 8 auf der nicht-magneti
schen leitenden Basisplatte 1 aus Aluminiumoxid-Titan
carbid (Al2O3-TiC) od. dgl. gebildet ist, wird das MW-
Element 2 gebildet. Anschließend wird die Vorspannungs
schicht 13 aus einem leitenden Material, wie z. B.
Titan (Ti) oder Molybdän (Mo), gebildet, und danach
werden die Leiterschichten 5 an beiden Enden der Vor
spannungsschicht 13 gebildet. Dann wird der Anschluß 10
gebildet. Weiter wird die Schutzschicht 11 gebildet,
und ihre Oberfläche wird einem Läppen unterworfen, bis
der Anschluß 10 freiliegt. Schließlich wird ein MW-
Kopfelementblock 100 an einem aus einem Metallmaterial,
wie z. B. Bronze, bestehenden Kopfblock 101 mittels
eines leitenden Bindemittels 105 befestigt. Dann wird
ein Anschluß 102 im Kopfblock 101 z. B. mittels eines
Schraubenlochs vorgesehen. Wenn der Anschluß 102 und
der vom MW-Element herausgeführte Anschluß 10 geerdet
werden und die Stromquelle mit dem verbleibenden An
schluß 10 verbunden wird, wird die Wechselspannungs
differenz zwischen den Anschlüssen 10 und 10 über Kon
densatoren 103 und einen Differentialverstärker 12 ab
gelesen. Die an der Oberfläche der Basisplatte 1 durch
Reibung erzeugte Elektrizität wird unmittelbar durch
den Anschluß 102 entladen, wodurch keine Rauschanteile
verursacht werden.
Die Fig. 10a und 10b zeigen ein Ausführungsbeispiel
eines Differential-MW-Kopfes.
Fig. 10a ist ein Grundriß des MW-Kopfes. Fig. 10b ist
eine Schnittdarstellung des MW-Kopfes. Nachdem die
untere Abschirmschicht 6 auf der Basisplatte 1 gebildet
ist, wird die erste Isolierschicht 8 gebildet. An
schließend wird das MW-Element 2 gebildet, und dann
wird die Vorspannungsschicht 13 aus einem leitenden
Material, wie z. B. Ti, gebildet. Die erste Isolier
schicht 8 wird zur Erzeugung des durchgehenden Loches 20
geätzt. Dann wird die Leiterschicht 5 gebildet und elek
trisch mit der unteren Abschirmschicht 6 verbunden. Die
zweite Isolierschicht 9 wird gebildet und schräg geätzt,
um die Leiterschicht 5 des mittleren Teils an der Oberfläche
freizulegen. Weiter wird die obere Abschirmschicht 7
gebildet und elektrisch mit der Leiterschicht 5 ver
bunden. Danach werden die Anschlüsse 10 gebildet.
Schließlich wird die Schutzschicht 11 gebildet und durch
Läppen od. dgl. bearbeitet, bis die Anschlüsse 10 an
der Oberfläche freiliegen. Beim vorstehend beschrie
benen Aufbau werden die untere Abschirmschicht 6, die
obere Abschirmschicht 7 und die Leiterschicht 5 elek
trisch mit den Anschlüssen 10 verbunden. Wenn der
mittlere Anschluß 10 geerdet wird und die Stromquelle
zum Steuern des MW-Elements 2 sowie der Differential
verstärker 12 zum Verstärken des vom MW-Element 2 ab
gelesenen wiedergegebenen Signals zwischen den übrigen zwei
Anschlüssen 10 angeschlossen werden, erfährt daher das
vom MW-Element 2 abgelesene Signal eine Differential
verstärkung, und gleichzeitig wird die in den oberen
und unteren Abschirmschichten 6, 7 erzeugte Elektrizität
unmittelbar durch den Anschluß 10 entladen. Daher werden
die Rauschanteile des MW-Kopfes verringert, was zu einem
erhöhten Rauschabstandsverhältnis S/N führt. Bei diesem
Ausführungsbeispiel können die durchgehenden Löcher in
nur einem Verfahrensschritt gebildet werden, was ein
vereinfachtes Verfahren bedeutet.
Bei einem Vielspur-MW-Kopf mit einem Aufbau, bei
dem Abschirmschichten der einzelnen Elemente als ein
Körper vereinigt werden, können die obere Abschirm
schicht und die untere Abschirmschicht leicht unter
Verwendung des oben beschriebenen Aufbaus geerdet werden.
Fig. 11a ist ein Grundriß eines MW-Kopfes gemäß der Erfindung zur Veran
schaulichung dieses Ausführungsbeispiels. Fig. 11b ist
die zugehörige Schnittdarstellung. An von denen der
Stromquelle zum Steuern des MW-Elements 2 und der An
schlüsse 10 zum Ablesen der wiedergegebenen Signale
unterschiedlichen Stellen werden Anschlüsse 13′ zum
Erden der unteren Abschirmschicht 6 und der oberen
Abschirmschicht 7 vorgesehen. Der Anschluß 13′ kann an
einer Seite vorgesehen werden. Jedoch wird der Rausch
anteil-Verringerungseffekt verbessert, wenn die An
schlüsse 13′ an beiden Seiten vorgesehen werden. Das
Herstellverfahren ist das gleiche wie für das Aus
führungsbeispiel gemäß den Fig. 5a und 5b. Weiter
können der Aufbau und das Herstellverfahren, die in
den Fig. 4a und 4b veranschaulicht sind, auch auf einen
Vielelement-MW-Kopf mit einem Aufbau angewandt werden,
bei dem Abschirmschichten 6, 7 der einzelnen Elemente
als ein Körper vereinigt sind. Und zwar wird über eine
oder zwei Leiterschichten 5 unter einer Mehrzahl von
Elementen die Leiterschicht 5 elektrisch mit der unte
ren Abschirmschicht 6 und der oberen Abschirmschicht 7
unter Verwendung des Aufbaus und des Herstellverfahrens
verbunden, die in den Fig. 4a und 4b veranschaulicht
sind. Weiter werden die Anschlüsse 10 zum Verbinden
der Leiterschichten 5 mit äußeren Kreisen vorgesehen.
Aufgrund dieser können die Rauschanteile des Vielelement-
MW-Kopfes mit einem Aufbau, bei dem die Abschirmschich
ten 6, 7 als ein Körper vereinigt sind, verringert
werden. Bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungs
beispiel können die obere Abschirmschicht 7 und die
untere Abschirmschicht 6 geerdet werden. Der Aufbau
zum Erden entweder der oberen Abschirmschicht 7 oder
der unteren Abschirmschicht 6 kann analog dem vor
stehenden Ausführungsbeispiel leicht vorgenommen werden.
Beispielsweise kann nur die obere, in den Fig. 3a, 3b,
4a und 4b dargestellte Abschirmschicht 7 mit der Leiter
schicht 5 verbunden werden, indem man die Bildung des
durchgehenden Loches 20 der ersten Isolierschicht 8 im
Fall der Fig. 3a, 3b, 4a und 4b vermeidet und die Bil
dung des durchgehenden Loches 23 der ersten Isolier
schicht 8 und der zweiten Isolierschicht 9 im Fall der
Fig. 5a und 5b vermeidet.
Weitere Ausführungsbeispiele eines Vielspur-MW-Kopfes
gemäß der Erfindung werden nun anhand der Fig. 12a bis
12c und 13a bis 13c beschrieben. Fig. 12a ist ein
Grundriß eines Beispiels eines Kopfes gemäß der Er
findung. Fig. 13a, 13b und 13c sind Schnittdarstellungen
nach den Linien XIIIa-XIIIa bzw. XIIIb-XIIIb bzw.
XIIIc-XIIIc. Im MW-Kopf muß ein geeignetes Vorspannungs
feld an das MW-Element 2 angelegt werden, um die Be
triebseigenschaften zu linearisieren und die Empfind
lichkeit zu verbessern. Als Verfahren zum Anlegen des
Vorspannungsfeldes an das MW-Element sind, wie schon
erwähnt, das Nebenschluß-Vorspannungsverfahren und das
Dauermagnet-Vorspannungsverfahren bekannt. Das vorlie
gende Ausführungsbeispiel wird für den MW-Kopf bei An
wendung des Nebenschluß-Vorspannungsverfahrens beschrie
ben.
Nachdem eine erste Abschirmschicht 6 aus einem
leitenden, weichmagnetischen Material, wie z. B.
"Permalloy", auf der Basisplatte 1 gebildet ist, wird
die erste Isolierschicht 8 aus einem Isoliermaterial,
wie z. B. Al2O3 oder SiO2, gebildet. Nachdem dann das MW-
Element 2 (z. B. "Permalloy") gebildet ist, wird die
Vorspannungsschicht 13 aus einem leitenden Material,
wie z. B. Ti, gebildet. Dann wird die zweite Isolier
schicht 9 als Al2O3, SiO2 od. dgl. gebildet. Das durch
gehende Loch 20 wird durch die Isolierschichten 8 und 9
hergestellt, um die Leitfähigkeit mit der zweiten Ab
schirmschicht 7 und der ersten Abschirmschicht 6 zu
sichern. Der Anschluß 10 aus einem leitenden Material,
wie z. B. Au, Al oder Cu, wird auf dem oberen Teil des
durchgehenden Loches gebildet. Schließlich wird die
Schutzschicht 11 aus Al2O3, SiO2 od. dgl. gebildet und
durch Läppen od. dgl. bearbeitet, bis der Anschluß 10
an der Oberfläche freiliegt. Beim vorstehend beschrie
benen Aufbau wird die erste Abschirmschicht 6 elek
trisch mit der zweiten Abschirmschicht 7 am Anschluß 10
über das durchgehende Loch 20 verbunden. Durch Verbin
den des Anschlusses 10 mit entweder einem festen Poten
tial oder Erde wird es möglich, die Rauschanteile, die
in die Abschirmschicht eintreten, zu entladen und ihren
Eintritt in das MW-Element zu verhindern. Wie in Fig.
12a dargestellt ist, wird ein Bereich der Abschirm
schicht zwischen den MW-Elementen, der eine Breite W
und eine Tiefe L hat, entfernt. Die Breite W muß breit
genug sein, um den in die Abschirmschicht in diesem
Bereich eintretenden Magnetfluß nicht kurzzuschließen.
Und die Breite W muß wenigstns den Abschirmabstand
(angenähert die Summe der Dicke der in Fig. 13 darge
stellten Isolierschichten 8 und 9) betragen. Der
geeignete Wert von W ist üblicherweise etwa das 2,5- bis
5fache des Abschirmabstandes. Es ist erwünscht, daß die
Tiefe L groß ist, soweit die Leitfähigkeit der Abschir
mung zwischen den Spuren gesichert werden kann. Die
Tiefe L darf nicht geringer als die Höhe H des MW-
Elements 2 sein und wird üblicherweise im Bereich des
2- bis 3fachen der Höhe H gewählt. Da im Ausführungs
beispiel der Abschirmabstand 2 µm war und die Höhe H
des MW-Elements 10 µm war, wurden die Breite und die
Tiefe mit W = 5 µm bzw. L = 25 µm festgesetzt, und die
Elektrode 10 wurde geerdet. Der äußere Rauschanteil
konnte auf nahezu 0 verringert werden. Außerdem konnte
ein Signalaustritt von der angrenzenden Spur auf ein
Drittel desjenigen des in Fig. 11 dargestellten Aufbaus
verringert werden.
Es ist offenbar, daß ein gleichartiger Effekt auch
erhalten werden kann, wenn der Bereich mit der entfern
ten Abschirmung durch einen Isolierstoff gebildet wird.
Bei der vorstehenden Beschreibung dieses Ausfüh
rungsbeispiels wurde das Nebenschluß-Vorspannungsver
fahren zum Vorspannen des MW-Elements verwendet. Jedoch
ist es klar, daß der Effekt der Erfindung gleichfalls
erhalten werden kann, wenn andere Vorspannungsverfahren
angewandt werden.
In diesem Ausführungsbeispiel war der entfernte
Bereich der Abschirmschicht rechteckigen Querschnitts.
Jedoch ist es offenbar, daß ein gleichartiger Effekt
erwartet werden kann, auch wenn diese Querschnittsform
dreieckig, wie in Fig. 12b dargestellt ist, oder ge
krümmt ist, wie in Fig. 12c dargestellt ist.
Weiter wurde in diesem Beispiel der von der Ab
schirmung herausgeführte Anschluß geerdet. Jedoch ist
es klar, daß ein gleichartiger Effekt auch erhalten
werden kann, wenn der Anschluß mit einem festen Gleich
strompotential, wie z. B. einem Potential verbunden wird,
das an einem mittleren Abgriff auftritt, wenn die MW-
Elemente 2 in der Differentialart angeschlossen sind.
Claims (3)
1. Magnetwiderstandskopf mit
einer Mehrzahl von magnetoresistiven Elementen (2), die auf einer ersten Seite einer ersten Isolierschicht (8) gebildet sind,
einer Mehrzahl von Leiterschichten (5), die auf der ersten Seite der ersten Isolierschicht gebildet und mit den magneto resistiven Elementen (2) zum Zuführen von Steuerströmen zu den magnetoresistiven Elementen und zur Ableitung von Wiedergabesignalen aus den magnetoresistiven Elementen verbunden sind,
einer zweiten Isolierschicht (9), die auf den magneto resistiven Elementen (2) und der Mehrzahl von Leiterschich ten (5) gebildet ist, und
einer ersten magnetischen Abschirmschicht (7), die auf der zweiten Isolierschicht (9) gebildet und mit einem Gleichstrompotential verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste magnetische Abschirmschicht (7) darin gebildete Nuten aufweist, deren jede so zwischen benachbarten der Mehrzahl der magnetoresistiven Elemente (2) angeordnet ist, daß unerwüschte elektrische Ladungen, die sich an einem Teil der magnetischen Abschirmschicht (7) für eines der magnetoresistiven Elemente ansammeln können, nicht in einen anderen Teil der magnetischen Abschirmschicht (7) für ein anderes, an das eine magnetoresistive Element angrenzendes magnetoresistives Element beim Entladen der unerwünschten elektrischen Ladungen zum Gleichstrompotential fließen, welcher andere Teil der magnetischen Abschirmschicht nahe einem Aufzeichnungsmedium ist, wenn der Magnetwider standskopf im Wiedergabebetrieb ist.
einer Mehrzahl von magnetoresistiven Elementen (2), die auf einer ersten Seite einer ersten Isolierschicht (8) gebildet sind,
einer Mehrzahl von Leiterschichten (5), die auf der ersten Seite der ersten Isolierschicht gebildet und mit den magneto resistiven Elementen (2) zum Zuführen von Steuerströmen zu den magnetoresistiven Elementen und zur Ableitung von Wiedergabesignalen aus den magnetoresistiven Elementen verbunden sind,
einer zweiten Isolierschicht (9), die auf den magneto resistiven Elementen (2) und der Mehrzahl von Leiterschich ten (5) gebildet ist, und
einer ersten magnetischen Abschirmschicht (7), die auf der zweiten Isolierschicht (9) gebildet und mit einem Gleichstrompotential verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste magnetische Abschirmschicht (7) darin gebildete Nuten aufweist, deren jede so zwischen benachbarten der Mehrzahl der magnetoresistiven Elemente (2) angeordnet ist, daß unerwüschte elektrische Ladungen, die sich an einem Teil der magnetischen Abschirmschicht (7) für eines der magnetoresistiven Elemente ansammeln können, nicht in einen anderen Teil der magnetischen Abschirmschicht (7) für ein anderes, an das eine magnetoresistive Element angrenzendes magnetoresistives Element beim Entladen der unerwünschten elektrischen Ladungen zum Gleichstrompotential fließen, welcher andere Teil der magnetischen Abschirmschicht nahe einem Aufzeichnungsmedium ist, wenn der Magnetwider standskopf im Wiedergabebetrieb ist.
2. Magnetwiderstandskopf nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch
eine zweite magnetische Abschirmschicht (6), die auf einer
zweiten Seite der ersten Isolierschicht (8) gebildet und
mit der ersten magnetischen Abschirmschicht (7) verbunden
ist.
3. Magnetwiderstandskopf nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß jede der Nuten einen darin enthaltenen Isolator auf
weist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5839985A JPS61217922A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
JP15017785A JPH0719341B2 (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | マルチトラツク磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
JP51986A JPS62159317A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3604720A1 DE3604720A1 (de) | 1986-10-02 |
DE3604720C2 true DE3604720C2 (de) | 1990-06-21 |
Family
ID=27274495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863604720 Granted DE3604720A1 (de) | 1985-03-25 | 1986-02-14 | Magnetwiderstandskopf |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3604720A1 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4987514A (en) * | 1989-02-15 | 1991-01-22 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for preventing parasitic electrical discharges in magnetic disk drives |
US5247413A (en) * | 1990-05-16 | 1993-09-21 | Sony Corporation | Magnetoresistance effect type thin film magnetic head with noise reducing electrode |
JPH0421916A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Sony Corp | 磁気抵抗効果型薄膜ヘッド |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5832221A (ja) * | 1981-08-17 | 1983-02-25 | Sony Corp | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
US4523243A (en) * | 1982-05-24 | 1985-06-11 | Storage Technology Corporation | Magnetoresistive transducer using an independent recessed electromagnetic bias |
JPH0559023A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-03-09 | Nippon Paint Co Ltd | 複数の末端2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル基を有する化合物 |
-
1986
- 1986-02-14 DE DE19863604720 patent/DE3604720A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3604720A1 (de) | 1986-10-02 |
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