DE3519070C2

DE3519070C2 -

Info

Publication number: DE3519070C2
Application number: DE3519070A
Authority: DE
Inventors: Atsuyuki Numazu Shizuoka Jp Watada; Nobuyuki Yokohama Kanagawa Jp Koinuma; Fumiya Omi; Motoharu Tanaka; Hitoshi Numazu Shizuoka Jp Nakamura; Hazime Tokio/Tokyo Jp Machida; Yasuo Numazu Shizuoka Jp Sawada
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1984-05-29
Filing date: 1985-05-28
Publication date: 1989-08-31
Also published as: DE3519070A1

Description

Die Erfindung betrifft ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium mit einem hitzewiderstandsfähigen Substrat nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 sowie ein Verfahren zur Herstellung desselben.

Aus der DE-OS 32 00 661 ist bereits ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium mit einem hitzewiderstandsfähigen Substrat bekannt. Das Substrat besteht aus einem hitzewiderstandsfähigen Material, wie beispielsweise Glas, und es ist ferner eine magnetische Schicht, eine Führungsspur-Schicht mit Führungsspuren, die aus einem nicht hitzewiderstandsfähigen Material bestehen kann und schließlich eine lichtdurchlässige Schutzschicht vorgesehen.

Ein gleichartiger Schichtaufbau ist auch aus der DE-OS 31 24 573 bekannt. Das wesentliche dieses bekannten magneto- optischen Aufzeichnungsmediums besteht darin, daß zusätzlich eine Reflexionsschicht über der Magnetschicht vorgesehen ist. Die Führungsschicht wird bei dieser bekannten Struktur in Form von streifenförmigen Spuren vorgesehen, die gemäß einer Ausführungsform in einem gegebenen Intervall Informationen in Verbindung mit Spur-Identifizierungszahlen und, falls erforderlich, Sektor-Identifizierungszahlen tragen können. Eine Kleberschicht dient zum Schutz der Reflektorschicht mit den Führungsspuren und ist durch einen geeigneten Kleber gebildet, der eine gute Haftung zwischen einem Träger und der Reflexionsschicht hat.

Aus der DE-OS 33 35 689 ist ein magneto-optisches Aufzeichnungs material bekannt, bei welchem eine magnetische Schicht mit einer ganz spezifischen Zusammensetzung bzw. amorphen magnetischen Legierung verwendet wird. Bei diesem bekannten magneto-optischen Aufzeichnungsmaterial gelangt ebenfalls eine Reflexionsschicht zur Anwendung.

Aus der Zeitschrift "Funkschau", 17/1983, Seiten 57 bis 60, ist eine löschbare Bildplatte bekannt, die auf magneto-optischen Effekten aufbaut, wobei verschiedene magneto-optische Speichermaterialien zur Anwendung gelangen können.

Aus der Zeitschrift "IBM TDB", Vol. 12, No. 10, März 1970, Seiten 1586 bis 1587, sind verschiedene magneto-optische Materialien bekannt, die nach ganz spezifischen Eigenschaften ausgewählt werden können, um ein ideales magneto-optisches Material für Speicherzwecke zu bilden.

Aus der US-Zeitschrift "IBM TDB", Vol. 15, No. 6, November 1972, Seite 1792, ist eine vielschichtige magneto-optische Struktur bekannt, in der eine Reflexionsschicht vorgesehen ist, so daß aufgezeichnete Informationen von einer Seite des Aufzeichnungsmediums her wieder gewonnen werden können bzw. auch die Aufzeichnung von dieser einen Seite her vorgenommen werden kann.

Schließlich ist aus "Patent Abstract of Japan", Vol. 7, No. 15, 21. Januar 1983, P-169, ein magneto-optisches Speicherelement mit einem vielschichtigen Aufbau bekannt, wobei aber auch bei dieser Struktur keine Führungsspur- Schicht vorhanden ist.

In Verbindung mit dem häufigsten Grundaufbau eine magneto- optischen Aufzeichnungsmedium, welches entsprechend einer hohen Dichte und der Möglichkeit einer Regeneration unter Verwendung von Laserstrahlen realisiert wird (das auch als magnetische Scheibe bezeichnet wird, da sie normalerweise scheibenförmig gestaltet wird), ist ein Aufbau bekannt, bei welchem ein Unterlagenfilm oder eine Zwischenschicht, wie beispielsweise ZnO, wenn dies erforderlich ist, auf einem Kunststoffsubstrat, auf Glas oder ähnlichem aufgetragen wird, und wobei dann danach auf diese Schicht eine magnetische Schicht und eine Schutzschicht aufgetragen wird, wobei die magnetische Schicht aus einer seltenen Erde-Metallübergangs-Metallegierung besteht und eine senkrechte magnetische Anisotropie besitzt, und wobei ein Aufbau bekannt ist, bei welchem eine Führungsspur zur Führung von Laserstrahlen zusätzlich vorgesehen ist. Auch ist ferner ein Aufbau bekannt, der beispielsweise in Fig. 29 veranschaulicht ist, bei welchem die zuvor erwähnte magnetische Schicht 3 vorgesehen ist und auch die Schutzschicht 4 vorgesehen ist, die aus SiO, SiO₂ oder einem ähnlichen Material besteht, welches direkt auf einem Kunststoffsubstrat 2 a aufgetragen wird (normalerweise eine Acrylharzplatte), die vorbereitend mit Nuten wie einer Führungsbahn oder Führungsspur 1 ausgestattet wird (die als "Substrat mit einer Führungsspur" oder "Substrat, welches unmittelbar mit einer Führungsspur versehen ist") im folgenden bezeichnet werden soll, und wobei ferner ein Aufbau bekannt ist, der in Fig. 30 veranschaulicht ist, bei welchem eine Führungsspur-Schicht 1 a dadurch aufgetragen wird, indem eine Ultraviolett-Einstellung (was im folgenden als Photopolymer bezeichnet werden soll) auf ein Kunststoff- oder Glassubstrat 2 mit Hilfe eines 2P Verfahrens ausgebildet wird und in dem ferner darauf eine magnetische Schicht 3 aufgetragen wird und ebenso eine transparente Schutzschicht 4. Der Pfeil zeigt die Strahlungsrichtung der Laserstrahlen zum Zeitpunkt der Aufzeichnung und Regeneration bzw. Wiedergewinnung an. Als Verfahren zur Herstellung der magnetischen Schichten, die bei derartigen magneto-optischen Aufzeichnungsmedien verwendet werden, werden allgemein das Dampfphasenauftragsverfahren und das Kathodenzerstäubungsverfahren und ein bipolares RF-Kathodenzerstäubungsverfahren, reaktives Kathodenzerstäubungsverfahren und ähnliche Verfahren eingesetzt. Die auf diese Weise erhaltenen magneto- optischen Aufzeichnungsmedien werden einer Aufzeichnung und Regeneration in der folgenden Weise unterworfen. Die Aufzeichnung wird dadurch realisiert, indem ein Laserstrahl, der mit einem Informationssignal moduliert ist, auf den magnetischen Film gelenkt wird, wobei Verwendung von der sehr schnellen Änderungseigenschaft einer Koerzitivkraft gemacht wird, die der Temperaturänderung in der Nähe der Curie-Temperatur oder der Kompensationstemperatur des magnetischen Films entspricht, wobei dann eine Aufheizung erfolgt, um die Richtung der Magnetisierung umzukehren. Die Regeneration wird dadurch realisiert, indem ein Auslesen vorgenommen wird unter Verwendung der Differenz in den magneto-optischen Effekten des auf diese Weise mit einer Inversionsaufzeichnung versehenen magnetischen Films. Bei dem herkömmlichen magneto-optischen Aufzeichnungsmedium werden die Aufzeichnungsoperation und die Regenerationsoperation in der Weise durchgeführt, daß ein Laserstrahl von der Substratseite her strahlt, wie dies mit den Pfeilen in Fig. 29 und Fig. 30 veranschaulicht ist. Der Grund, warum der Laserstrahl von der Substratseite her strahlt, besteht in der Schichtbeschaffenheit, speziell der Anordnung der magnetischen Schicht. Bei den herkömmlichen magneto-optischen Aufzeichnungsmedien sind jedoch Grenzen hinsichtlich der Auswahl der Materialien für die magnetische Schicht gesetzt, da die herkömmlichen Medien den Schichtaufbau aufweisen, wie er in Fig. 29 und Fig. 30 veranschaulicht ist. Es ist nämlich manchmal erforderlich, das Substrat auf einer hohen Temperatur zu halten, was von der Art des Materials abhängig ist, welches zum Zeitpunkt der Bildung der magnetischen Schicht verwendet wird, und zwar zum Zeitpunkt des Dampfphasen-Niederschlagens oder Kathodenzerstäubens des magnetischen Materials. Wenn beispielsweise in einem Fall Ba-Ferrit als magnetisches Material verwendet wird, ist es erforderlich, die Substrattemperatur bei 300 bis 700°C zu halten. Bei diesen hohen Temperaturen wird selbst das Glassubstrat geschweige denn das aus Kunststoff und Acrylharz bestehende Substrat, für die Verwendung unbrauchbar, da die aus Acrylharz hergestellte Führungsspur-Schicht, die auf dem Glassubstrat aufgetragen ist, seine Qualität ändert und eine Umwandlung erfährt.

Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe besteht darin, ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium der angegebenen Gattung hinsichtlich der Führungsqualität der Führungsspur zu verbessern und auch ein Verfahren anzugeben, mit dessen Hilfe eine besonders wirksame Führungsspur auf besonders einfache Weise hergestellt werden kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Kennzeichnungsteil des Anspruches 1 aufgeführten Merkmale gelöst.

Besonders vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Ansprüchen 2 bis 11.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines magneto- optischen Aufzeichnungsmediums ergibt sich aus dem Patentanspruch 12.

Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Hinweis auf die Zeichnung näher erläutert.

Es zeigen

Fig. 1 bis Fig. 27 jeweils eine schematische Darstellung eines magneto-optischen Aufzeichnungsmediums mit einer nicht hitzebeständigen Führungsspur mit Merkmalen nach der Erfindung;

Fig. 28 eine Ansicht zur Veranschaulichung eines Herstellungsverfahrens eines Beispiels einer nicht hitzebeständigen Führungsspur; und

Fig. 29 und 30 schematische Darstellungen eines herkömmlichen magneto-optischen Aufzeichnungsmediums.

Es bedeuten:
1 . . . eine Führungsspur, 1 a, 1′ a . . . eine nichthitzebeständige Führungsspur-Schicht, 1 b . . . eine hitzewiderstandsfähige Führungsspur-Schicht, 2 . . . ein transparentes hitzewiderstandsfähiges oder nichthitzewiderstandsfähiges Substrat, 2 a . . . ein transparentes bzw. lichtdurchlässiges nichthitzewiderstandsfähiges Substrat, 2′ . . . ein transparentes oder nichttransparentes hitzewiderstandsfähiges Substrat, 2′ a . . . ein transparentes hitzewiderstandsfähiges Substrat, 2′ b . . . ein lichtdurchlässiges hitzewiderstandsfähiges Substrat, 3 . . . eine magnetische Schicht, 3′ . . . eine transparente magnetische Schicht, 4, 4′ . . . eine transparente Schutzschicht (4′ . . . eine Schutzplatte), 5 . . . eine Verbindungsschicht, 6 . . . ein Abstandshalter, 7 . . . einen Luftspalt, 8 . . . eine transparente Zwischenschicht, 8′ . . . eine lichtdurchlässige Zwischenschicht, 9 . . . eine Reflexionsschicht, 10 . . . eine transparente dielektrische Schicht, 11 . . . eine Wärmeisolierschicht, 12 . . . eine Antireflexionsschicht, 20 . . . eine Photowiderstandsschicht, 20′ . . . eine Photopolymerschicht, 21 . . . ein Maskenmaterial mit einem Führungsspur-Muster, 21′ . . . eine Führungsspur ähnlich mit einer Nut ausgestattete Hauptschicht, 22 . . . eine Glas- oder Kunststoffunterlage, 23 . . . eine Kunststoffhauptschicht, 24 . . . einen Ni-Film, Zeile . . . einen Laserstrahl, W . . . die nutenförmige Spurbreite oder -weite, D . . . die Nuten- oder Spurtiefe, I . . . der Nuten- oder Spurraum.

Das magneto-optische Aufzeichnungsmedium mit den Merkmalen nach der Erfindung ist so ausgelegt, daß ein Spursignal erfaßt wird, indem der Unterschied im Brechungsindex zwischen der verbindenden Schicht und der Schutzschicht verwendet wird, wobei eine Führungsspur zwischen der Führungsspur-Schicht und der Schutzschicht vorgesehen ist, und zwar zum Zeitpunkt, wenn ein Laserstrahl dort hindurchtritt, wobei das Herstellungsverfahren so aussieht, daß grundsätzlich auf einem hitzebeständigen oder hitzewiderstandsfähigen Substrat eine magnetische Schicht ausgebildet wird, die eine senkrechte magnetische Anisotropie aufweist, daß eine nichthitzebeständige oder widerstandsfähige Führungsspur und eine transparente Schutzschicht in dieser Reihenfolge ausgebildet werden. Das magneto-optische Aufzeichnungsmedium kann in ein solches eingeteilt werden, bei dem die Führungsspur direkt auf der Schutzschicht in Form der transparenten Schutzplatte mit der Führungsspur vorgesehen wird (was im folgenden als B-X-Typ bezeichnet werden soll) (für den Fall bei welchem auch eine Verbindungsschicht zur Verbindung der Schutzplatte mit der magnetischen Schicht benötigt wird), und in ein solches, bei dem die Führungsspur unabhängig auf der magnetischen Schicht vorgesehen wird und zwar in Form einer Führungsspur-Schicht (was im folgenden als B-Y-Typ bezeichnet werden soll). Der typische Aufbau des magneto-optischen Aufzeichnungsmediums vom B-X-Typ ist in Fig. 1 und in Fig. 2 (a) und (b) gezeigt (wobei (a) eine Schnittdarstellung zeigt und (b) eine Draufsicht auf einen A-A-Teil oder Abschnitt von (a) zeigt), während der typische Aufbau des magneto-optischen Aufzeichnungsmediums vom B-Y-Typ in Fig. 3 (a) und (b) gezeigt ist. In den Zeichnungen ist mit 1 die Führungsspur bezeichnet; 1′ a, 1 a bezeichnet die nichthitzebeständige oder widerstandsfähige Führungsspur-Schicht; 2′ bezeichnet das hitzewiderstandsfähige Substrat; 3 bezeichnet die magnetische Schicht (lichtundurchlässig); 4 bezeichnet die transparente Schutzschicht; 4′ bezeichnet die transparente Schutzplatte (diejenige, die direkt mit der Führungsspur 1 versehen ist); 5 bezeichnet die Verbindungsschicht; 6 den Abstandshalter; und 7 bezeichnet den Luftspalt. Es sei darauf hingewiesen, daß der Unterschied in der Struktur zwischen 1 a und 1′ a in Fig. 3 durch die Art des Materials hervorgerufen wird, welches verwendet wird, wie im folgenden noch erläutert werden soll.

Das magneto-optische Aufzeichnungsmedium mit Merkmalen nach der Erfindung kann in vielfältiger Weise geändert werden, was von den Materialien abhängig ist, die für die Führungsspur-Schicht verwendet werden, ebenso für die Schutzschicht und die Verbindungsschicht verwendet werden, und was auch von den Verfahren abhängig ist, die zur Ausbildung dieser Schichten und ähnlichen Schichten verwendet werden. Die Strahlung des Laserstrahls wird jedoch zum Zeitpunkt der Aufzeichnung und Regeneration immer von der Schutzschichtseite aus durchgeführt, da sich dieses magneto-optische Aufzeichnungsmedium hinsichtlich des Schichtaufbaus unterscheidet und zwar speziell hinsichtlich der Anordnung der magnetischen Schicht gegenüber den herkömmlichen Aufbauten.

Es sollen nun im folgenden Abwandlungen, nämlich B-X- und B-Y-Typen der magneto-optischen Aufzeichnungsmedien erläutert werden.

Es folgen zunächst Abwandlungen magneto-optischer Aufzeichnungsmedien des B-X-Typs (Fig. 4 bis Fig. 7).

Das in Fig. 4 gezeigte Aufzeichnungsmedium wird dadurch hergestellt, indem eine Wärmeisolierschicht 11 zwischen der hitzewiderstandsfähigen Platte 2′ und der magnetischen Schicht 3 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 1 vorgesehen wird, wobei die magnetische Schicht lichtundurchlässig ist.

Das in Fig. 5 gezeigte Aufzeichnungsmedium betrifft das Beispiel, bei welchem die magnetische Schicht lichtdurchlässig ist und es gelangt dabei ein lichtdurchlässiges bzw. transparentes Material wie dasjenige für die magnetische Schicht 3 zur Anwendung, und es wird eine reflektierende Schicht 9 zwischen dem hitzebeständigen Substrat 2′ und der transparenten magnetischen Schicht 3′ in dem Aufzeichnungsmedium nach Fig. 1 vorgesehen.

Das in Fig. 6 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine Antireflexionsschicht 12 auf der Fläche der Führungsspur 1 der Schutzplatte vor der transparenten Schutzplatte 4′, wobei sich an die Führungsspur 1 flächig die magnetische Schicht 3 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 1 anschließt. Bei dieser Ausführungsform ist die magnetische Schicht lichtundurchlässig.

Das in Fig. 7 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente dielektrische Schicht 10 auf der magnetischen Schicht vor der transparenten Schutzplatte 4′, wobei sich die Führungsspur 1 an der Fläche der magnetischen Schicht 3 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 1 anschließt. Bei diesem Fall ist ebenfalls die magnetische Schicht lichtundurchlässig. Es braucht nicht erwähnt zu werden, daß ein Abstandshalter als Verbindungseinrichtung bei den zuvor erläuterten Aufzeichnungsmedien wie bei dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 2 verwendet werden kann.

Es sollen nun Abwandlungen von magneto-optischen Aufzeichnungsmedien des B-Y-Typs erläutert werden (Fig. 8 bis Fig. 27).

Das in Fig. 8 (a) und (b) gezeigte Ausführungsmedium umfaßt jeweils eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei sich an diese Platte flächig jede der Spurschichten 1′ a und 1 a über ein Bindemittel anschließen und zwar in jedem der Aufzeichnungsmedien der Fig. 3 (a) und (b). In diesem Fall ist die magnetische Schicht lichtundurchlässig.

Das in Fig. 9 gezeigte Aufzeichnungsmedium (wobei (a) eine Schnittdarstellung zeigt und (b) eine Draufsicht des A-A-Teils von (a)) umfaßt eine Führungsspur-Schicht 1′ a, an die sich die transparente Schutzplatte 4′ über einen Abstandshalter 6 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 8 (a) anschließt.

Das in Fig. 10 gezeigte Aufzeichnungsmedium (wobei (a) eine Schnittdarstellung zeigt und (b) eine Draufsicht auf den A-A-Teil von (a) zeigt) umfaßt eine Führungsspur- Schicht 1 a, an die sich die transparente Schutzplatte 4′ über einen Abstandshalter 6 im Aufzeichnungsmedium nach Fig. 8 (b) anschließt.

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 11 betrifft das Beispiel, bei welchem die magnetische Schicht transparent bzw. lichtdurchlässig ist und umfaßt eine reflektierende Schicht 9 zwischen der hitzewiderstandsfähigen oder beständigen Platte 2′ und der transparenten magnetischen Schicht 3′ im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (a).

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 12 enthält eine transparente dielektrische Schicht 10 zwischen der magnetischen Schicht 3 und der Führungsspur-Schicht 1′ a im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (a). In diesem Fall ist die magnetische Schicht lichtundurchlässig.

Das in Fig. 13 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente bzw. lichtdurchlässige dielektrische Schicht 10 zwischen der Führungsspur-Schicht 1′ a und der Schutzschicht 4 im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (a). In diesem Fall ist die magnetische Schicht lichtundurchlässig.

Das in Fig. 14 gezeigte Aufzeichnungsmedium betrifft das Beispiel, bei welchem die magnetische Schicht lichtdurchlässig ist und umfaßt ein transparentes Material wie das für die magnetische Schicht 3 und umfaßt eine reflektierende Schicht 9 zwischen dem hitzewiderstandsfähigen Substrat 2′ und der transparenten magnetischen Schicht 3′ im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (b).

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 15 umfaßt eine Antireflexionsschicht 12 zwischen der Führungsspur-Schicht 1 a und der Schutzschicht 4 im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (b), wobei die magnetische Schicht lichtundurchlässig ist.

Das in Fig. 16 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine lichtdurchlässige dielektrische Schicht 10 zwischen der magnetischen Schicht 3 und der Führungsspur-Schicht 1 a im Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (b). In diesem Fall ist die magnetische Schicht ebenfalls lichtundurchlässig.

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 17 betrifft das Beispiel, bei welchem die magnetische Schicht transparent bzw. lichtdurchlässig ist und umfaßt eine reflektierende Schicht 9 und eine transparente isolierende Schicht 11 zwischen dem hitzebeständigen Substrat 2′ und der transparenten magnetischen Schicht 3′, und zwar in der geschilderten Reihenfolge von der Substratseite aus. Ferner ist eine transparente dielektrische Schicht 10 zwischen der transparenten magnetischen Schicht 3′ und der Führungsspur-Schicht 1 a vorgesehen und darüber hinaus ist noch eine Antireflexionsschicht 12 zwischen der Führungsspur- Schicht 1 a und der Schutzschicht 4 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 3 (b) vorgesehen.

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 18 umfaßt eine Wärmeisolierschicht 11 zwischen der hitzebeständigen Platte 2′ und der lichtundurchlässigen magnetischen Schicht 3 in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 8 (a). Die in den Fig. 18 bis Fig. 27 gezeigten Aufzeichnungsmedien können einen Abstandshalter aufweisen, um einen Anschluß für die Schutzplatte 4′ vorzusehen.

Das in Fig. 19 gezeigte Aufzeichnungsmedium betrifft das Beispiel, bei welchem die magnetische Schicht lichtdurchlässig transparent ist und umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei sich an diese Schutzplatte die Führungsspur-Schicht 1′ a im Aufzeichnungsmedium der Fig. 11 anschließt.

Das in Fig. 20 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei sich an diese Schutzplatte flächig die Führungsspur-Schicht 1′ a anschließt und zwar über ein Bindemittel im Aufzeichnungsmedium der Fig. 12.

Das in Fig. 21 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, es ist eine transparente dielektrische Schicht 10 auf der Führungsspur-Schicht 1′ a vorgesehen und die Schutzplatte 4′ ist mit der Fläche der transparenten dielektrischen Schicht 10 mit Hilfe eines Bindemittels in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 13 verbunden.

Das in Fig. 22 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, es ist ferner eine Antireflexionsschicht 12 auf dieser Schutzplatte 4′ vorgesehen und die Antireflexionsschicht 12 ist flächig mit der Führungsspur-Schicht 1′ a mit Hilfe eines Bindemittels in dem gleichen Aufzeichnungsmedium wie dasjenige der Fig. 15 verbunden mit der Ausnahme, daß eine Führungsspur-Schicht 1′ a verwendet ist, die aus einem durch einen Laserstrahl schmelzbaren Material hergestellt wurde.

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 23 umfaßt eine Wärmeisolierschicht 11 zwischen dem hitzebeständigen Substrat 2′ und der lichtundurchlässigen magnetischen Schicht 3 im Aufzeichnungsmedium der Fig. 8 (b).

Das Aufzeichnungsmedium nach Fig. 24 umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei sich an die Schutzplatte 4′ flächig eine Führungsspur- Schicht 1 a mit Hilfe eines Bindemittels in dem Aufzeichnungsmedium der Fig. 14 anschließt.

Das in Fig. 25 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei eine Antireflexionsschicht 12 auf der Fläche der Führungsspur-Schicht 1 a vorgesehen ist und wobei danach die Schutzplatte 4′ mit der Fläche dieser Antireflexionsschicht 12 mit Hilfe eines Bindemittels im Aufzeichnungsmedium der Fig. 15 verbunden wurde.

Das in Fig. 26 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente dielektrische Schicht 10 zwischen einer lichtundurchlässigen magnetischen Schicht 3 und der Führungsspur- Schicht 1 a im Aufzeichnungsmedium der Fig. 8 (b).

Das in Fig. 27 gezeigte Aufzeichnungsmedium umfaßt eine transparente Schutzplatte 4′ als Material für die Schutzschicht 4, wobei eine Antireflexionsschicht 12 auf dieser Schutzplatte 4′ vorgesehen ist und dann die Antireflexionsschicht 12 mit der Fläche der Führungsspur-Schicht 1 a mit Hilfe eines Bindemittels im Aufzeichnungsmedium der Fig. 15 verbunden wurde.

Es soll als nächstes eine Erläuterung der Materialien, der Schichtherstellungsverfahren und ähnlicher Verfahren für die Verwendung bei den magneto-optischen Aufzeichnungsmedien mit Merkmalen nach der Erfindung gegeben werden.

Zunächst werden die Materialien für die nichthitzebeständigen Führungsspur-Schichten 1 a und 1′ a grob eingeteilt in (1) solche, die mit Hilfe von Laserstrahlen geschmolzen und perforiert oder farblich verändert werden können, um die Lichtübertragungseigenschaften zu ändern und (2) Photopolymere. Die Führungsspur-Schicht, die aus dem erstgenannten Material (1) vom schmelzenden und perforierten Typ hergestellt ist, ist mit 1′ a bezeichnet und die Führungsspur-Schicht, die aus dem zweiten Material (2) hergestellt ist, ist mit 1 a bezeichnet. Als Materialien für die Änderung der Lichtübertragungseigenschaften bzw. des Transmissionsgrades sind folgende Calcogenid- Typ-Materialien, wie beispielsweise GeOx, TeOx, SeSb, SeTe, AsSeSGe, GeAsTe, MoOx, SbOx, SnOx, TeOx+GeSn, TeGeSbS, GeAsSe und ähnliche Materialien (die aufgeführten sind alle vom Verfärbungstyp); und ferner Te- oder Se- System-Legierungen oder Verbindungen wie beispielsweise TeBi, TeCSbS₃, As₂Se₃, SeTeSb, GeAsTe, SeTaAs, ferner Dyes wie beispielsweise Phthalocyanin Dyes, Cyanin Dye, Nigrosin Dye und ähnliche Materialien (die aufgeführten sind alle vom Schmelz- und Perforationstyp).

Die Nuttiefe (oder Schichtdicke) der nichthitzebeständigen Führungsspur ist wie folgt:
a) Im Falle der Führungsspur 1 a (Fig. 3 (b), Fig. 8 (b), Fig. 10 usw.), kann ein Spurfehlersignal sehr wirksam unter der Bedingung erfaßt werden:

λ/8|n-n′|

wobei
λ Wellenlänge des Laserstrahls,
n Brechungsindex einer Führungsspur-Schicht 1 a, und
n′ Brechungsindex einer transparenten Schutzschicht 4 oder Verbindungsschicht 5 oder Luft, Inertgas oder ähnlichem bedeuten.

Dieser Wert ist daher optimal, es kann jedoch auch ein anderer Wert verwendet werden.

b) Im Falle der Führungsspur 1 (Fig. 1, Fig. 2, Fig. 4 usw.) kann ein Spurfehlersignal sehr wirksam unter der Bedingung erfaßt werden:

λ/8 n-n′

wobei
λ Wellenlänge des Laserstrahls,
n Brechungsindex der transparenten Schutzschicht 4′ mit einer Führungsspur 1, und
n′ Brechungsindex einer Verbindungsschicht 5 oder der Luft, des Inertgases und ähnlichem innerhalb der Verbindungsschicht 5 bedeuten.

Daher ist dieser Wert optimal, es kann jedoch auch ein anderer Wert verwendet werden.

c) Im Falle der Führungsspur 1 a (Fig. 3 (a), Fig. 8 (a), Fig. 9 usw.) ist die Führungsspur-Schicht aus einem Material vom Schmelz- und Perforationstyp hergestellt, es läßt sich ein Spurfehlersignal sehr wirksam erfassen, wenn die Phasendifferenz zwischen dem von der Führungsspur- Schicht 1′ a reflektierten Licht und dem von der magnetischen Schicht 3 reflektierten Licht oder dem von der Reflexionsschicht 9 reflektierten Licht gleich ist

2N π + π/2 (N = 0, 1, 2, . . . . .) .

Die Dicke der Führungsspur-Schicht 1 a kann somit ca. 0,01 bis 2 µm betragen und kann bei ca. 0,01 bis 2 µm liegen, wenn die Führungsspur-Schicht aus einem Material vom Verfärbungstyp hergestellt ist. In jedem Fall sollte die Dicke nicht auf den angegebenen Bereich beschränkt werden.

Im Fall von a), b) und c) hängt der optimale Wert mit der Stärke des Auslesesignals zusammen und das Spurfehlersignal ist daher notwendigerweise nicht maximal zum Zeitpunkt dieses Wertes.

Zusammenfassend ergibt sich, daß die Nuttiefe jeder nichthitzebeständigen oder widerstandsfähigen Führungsspur sich im Bereich von 200 bis 5000 Å bewegt.

Im Falle der magneto-optischen Aufzeichnungsmedien gemäß den Fig. 3 (b), Fig. 14 usw. wird jedoch das Material beispielsweise in Form eines anorganischen Materials ausgewählt, welches sich hinsichtlich des Brechungsindex von der unteren Führungsspur-Schicht 1 a unterscheidet. Die geeignete Dicke liegt bei ca. 0,5 bis 2 mm, wobei die Verbindungsschicht inbegriffen ist.

Im Falle des magneto-optischen Aufzeichnungsmediums nach Fig. 1, Fig. 2 usw. wird als Material für die Verbindungsschicht dasjenige ausgewählt, welches sich hinsichtlich des Brechungsindex von der oberen transparenten Schutzschicht 4′ unterscheidet; so wird beispielsweise im Falle der magneto-optischen Aufzeichnungsmedien nach Fig. 8 (b), Fig. 10 usw. als Material für die Verbindungsschicht ein solches ausgewählt, welches sich hinsichtlich des Brechungsindexes von der unteren Führungsspur- Schicht 1 a unterscheidet. Die geeignete Dicke für die Verbindungsschicht kann 10 µm oder weniger sein, bevorzugt werden 2 µm oder weniger. Die Gesamtdicke kombiniert mit der Schutzschicht, wie zuvor erläutert wurde, liegt in geeigneter Weise bei ca. 0,5 bis 2 mm.

Die Dicke der Reflexionsschicht, die aus einem Metallfilm hergestellt ist, ist speziell nicht begrenzt, liegt jedoch geeignet bei ca. 0,02 bis 0,5 µm. Im Falle eines dielektrischen Films ergibt sich andererseits eine maximale Reflexionseigenschaft unter der Bedingung N λ/2N (worin λ die Wellenlänge des Laserstrahls, n Brechungsindex des dielektrischen Films und N eine ganze Zahl von 0, 1, 2, 3 usw. bedeuten. Dieser Wert bezeichnet somit eine optimale Dicke, es kann jedoch auch ein anderer Wert verwendet werden. Die Dicke liegt jedoch normalerweise bei ca. 0,05 bis 2 µm.

Die Antireflexionsschicht 12 ist für den Zweck vorgesehen das Auftreten eines Lichtverlustes zu verhindern, der durch Reflexion an der Grenzfläche zwischen der transparenten Schutzschicht 4, 4′ und der Führungsspur-Schicht 1 zum Zeitpunkt der Aufzeichnung und Regeneration verursacht wird, und um gleichzeitig eine Interferenz mit dem Licht zu verhindern, welches von der magnetischen Schicht 3 oder der Reflexionsschicht 9 reflektiert wird, wobei die Antireflexionsschicht die Form einer einlagigen Schicht oder einer mehrlagigen Schicht haben kann. Als Materialien für die Verwendung für die Antireflexionsschicht können dielektrische Substanzen angefügt werden wie SiO₂, Si₃N₄, AlN und ähnliche Stoffe, wie solche, die in der Isolierschicht verwendet werden und auch in der transparenten dielektrischen Schicht verwendet werden.

Als Herstellungsverfahren können Dampfphasenauftragsverfahren, Kathodenzerstäubungsverfahren und ähnliche Verfahren eingesetzt werden, wie dies auch im Falle der Zwischenschicht, der Reflexionsschicht und weiterer Schichten der Fall war.

Da die einlagige Antireflexionsschicht eine minimale Reflexionseigenschaft unter der folgenden Bedingung zeigt

(2N+1)g/4 N,

wobei

n Brechungsindex der Antireflexionsschicht,
λ Wellenlänge des Laserstrahls und
N eine ganze Zahl von 0, 1, 2, 3 usw.
bedeuten, stellt dieser Wert eine optimale Dicke dar, es kann jedoch auch ein anderer Wert realisiert werden. Die Dicke liegt jedoch normalerweise bei ca. 0,05 bis 2 µm.

Als nächstes sollen die Verfahren zur Herstellung der magneto-optischen Aufzeichnungsmedien mit Merkmalen nach der Erfindung erläutert werden. Beispielsweise können die magneto-optischen Aufzeichnungsmedien nach Fig. 3 (a) und (b) durch die Verfahrensschritte hergestellt werden, wonach (1) ein magnetisches Material einheitlich auf einem hitzewiderstandsfähigen Substrat 2′ angeklebt wird, und zwar mit Hilfe eines Dampfphasenniederschlagsverfahrens, Kathodenzerstäubungsverfahrens, Ionenauftrags- oder Plattierungsverfahren oder einem ähnlichen Verfahren, um dadurch eine magnetische Schicht 3 vorzusehen; (2) a) ein Führungsspur- Schichtmaterial, dessen Licht-Transmissionsgrad sich mit den Laserstrahlen einheitlich auf der magnetischen Schicht verändert, wird durch Dampfphasenniederschlagsverfahren, Spin-Beschichtungsverfahren oder ein ähnliches Verfahren aufgeklebt und es wird danach ein resultierender Film einer Laserstrahl-Bestrahlung entsprechend der Führungsspur ausgesetzt, um dadurch eine Führungsspur-Schicht 1′ a vorzusehen (die das Beispiel des schmelzbaren und perforierbaren Materials betrifft), indem der freiliegende Abschnitt geschmolzen und perforiert oder verfärbt wird und b) wonach ein Führungsspur- Schichtmaterial, nämlich Photopolymer 20′, einheitlich auf der magnetischen Schicht 3 mit Hilfe des Spin-Beschichtungsverfahrens oder eines ähnlichen Verfahrens aufgetragen wird, wie in Fig. 28 gezeigt ist (Fig. 28 (I) und (II)) (20′ bezeichnet eine Photopolymer-Schicht), worauf dann darauf eine Hauptschicht 21′ angeklebt wird, die führungsspur-gemäß zu einem früheren Zeitpunkt mit Nuten ausgestattet wurde (es wird ein transparentes oder lichtundurchlässiges Material verwendet, wenn das hitzewiderstandsfähige Substrat 2′ transparent ist und es wird ein transparentes Material verwendet, wenn das hitzebeständige Substrat 2′ lichtundurchlässig ist). (Fig. 28 (II) und (III)). Es wird dann die Photopolymerschicht 20′ durch Bestrahlen mit Ultraviolettstrahlung von der Hauptschicht 21′ und/oder der Substratseite 2′ gehärtet (Fig. 28 (IV)) und es wird dann die Hauptschicht 21′ abgeschält, um dadurch eine Führungsschicht 1 a vorzusehen (Fig. 28 (V)); (3) es wird dann ferner darauf eine transparente Schutzmaterialschicht einheitlich aufgetragen, und zwar mit Hilfe des Spin-Beschichtungsverfahrens oder einem ähnlichen Verfahren, um dadurch eine transparente Schutzschicht 4 vorzusehen. Der Schritt a) des Verfahrensabschnittes (2) und der Schritt (3) können in der Reihenfolge umgekehrt werden.

Die in Fig. 5 (a) und (b) gezeigten magneto-optischen Aufzeichnungsmedien können unter Verwendung eines plattenförmigen Materials hergestellt werden, wie das transparente Schutzschichtmaterial zum Zeitpunkt des Vorsehens der transparenten Schutzschicht 4, wobei dann das plattenförmige Material auf der Führungsspur-Schicht 1′ a, 1 a angefügt wird, und zwar unter Verwendung eines Bindemittels bei den zuvor erläuterten Verfahren zur Herstellung der magneto-optischen Aufzeichnungsmedien.

Als nächstes kann das magneto-optische Aufzeichnungsmaterial nach Fig. 1 dadurch hergestellt werden, indem auf einem hitzewiderstandsfähigen Substrat 2′ die magnetische Schicht 3 in der zuvor geschilderten Weise aufgetragen wird und indem daran eine transparente Schutzplatte angeschlossen wird (sh. Beispiel 1), deren eine Seite zu einem früheren Zeitpunkt spritztechnisch zur Herstellung der Führungsspur behandelt wurde, wobei zur Verbindung mit der Schutzplatte ein Bindemittel verwendet wird.

Wie sich aus der vorangegangenen Beschreibung ergibt, gelangt bei dem magneto-optischen Aufzeichnungsmedium das hitzewiderstandsfähige Substrat zur Anwendung und es wird die magnetische Schicht im wesentlichen direkt auf das Substrat aufgebracht. Es wird daher möglich, das magnetische Material zu verwenden, welches eine hohe Temperatur bzw. Substrattemperatur zum Zeitpunkt der Ausbildung der magnetischen Schicht und der Zwischenschicht erforderlich macht. Das magneto-optische Aufzeichnungsmedium bietet somit den Vorteil, daß der Bereich, innerhalb welchem das magnetische Material ausgewählt werden kann, vergrößert oder verbreitert ist.

Beispiel 1

Es wurde eine Reflexionsschicht auf einem scheibenförmigen Si-Substrat mit einer oxidierten Oberfläche ausgebildet, und zwar durch Dampfphasenniederschlagen von Ag in einer Filmdicke von 500 Å, ferner wurde eine Wärmeisolierschicht durch Dampfphasenniederschlagen von SiO₂ darauf ausgebildet, und zwar mit einer Filmdicke von 500 Å, und danach eine 5000 Å dicke magnetische Schicht darauf ausgebildet, und zwar unter Verwendung eines Sintermaterials von

[BaO]6.0[Co_0.1Al_0.1Ti_0.1Fe_1.7O₃]

als Zielelektrode, wobei das Kathodenzerstäubungsverfahren mit flächig gegenüberliegender Zielelektrode unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde:

Gasdruck:
1 mm Torr (Ar : O₂ = 3 : 1),
Substrattemperatur 650°C,
elektrische Stromversorgung Gleichstrom mit 500 V und 0,4 A.

Als nächstes wurde Te durch Dampfphasenniederschlagen auf der magnetischen Schicht in einer Dicke von 700 Å ausgebildet. Danach wurde dieses Substrat einer Strahlung eines 400-mW-Ar-Laserstrahls ausgesetzt, und zwar unter Verwendung einer Blende, um dadurch eine Öffnung von ca. 1 µm Durchmesser durch ein optisches System zu erhalten, welches eine Fokus-Servoeinrichtung enthielt, während jedoch das Substrat mit einer Geschwindigkeit von 6000 Umdrehungen pro Minute in Umdrehung versetzt wurde, wobei gleichzeitig der Laserstrahl oder das Substrat relativ mit einer Geschwindigkeit von 0,2 mm/sec in radialer Richtung bewegt wurde, um dadurch eine Führungsspur- Schicht mit einer 2 µm Steigung auszubilden. Darüber hinaus aus wurde eine ca. 1,2 mm dicke lichtdurchlässige Schutzschicht darauf ausgebildet und zwar durch Auftragen von Polymethylmethacrylat unter Anwendung des Spin-Beschichtungsverfahrens. Es wurde auf diese Weise ein magneto- optisches Aufzeichnungsmedium erhalten.

Es wurde als nächstes ein Informationssignal dadurch aufgezeichnet, indem ein Magnetfeld mit 300 Oersted auf dieses magneto-optische Aufzeichnungsmedium zur Einwirkung gebracht wurde, und zwar in der Richtung entgegengesetzt zur Richtung der Magnetisierung der magnetischen Schicht, wobei ferner auch eine Bestrahlung mit einem He-Ne-Laserstrahl vorgenommen wurde, der eine Frequenz von 1 MHz hatte und eine MFM-modulierte Wellenlänge (λ=630 mm) unter den folgenden Bedingungen hatte: Lineare Geschwindigkeit 3 m/sec und Laserleistung auf der Substratoberfläche 10 mW. Es wurde dann eine Regeneration durchgeführt, und zwar durch Auslesen des genannten Informationssignals, wobei eine Bestrahlung mit einem Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 780 nm auf der so mit einer Aufzeichnung versehenen Mediumsoberfläche unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde: Lineare Geschwindigkeit 2 m/sec und Laserleistung auf der Mediumoberfläche 1,5 mW. Ferner wurde ein Löschvorgang durchgeführt, indem ein Magnetfeld mit 600 Oersted aufgebracht wurde, und zwar in einer Richtung entgegengesetzt zu derjenigen, die zum Zeitpunkt der Aufzeichnung verwendet wurde, wobei eine Bestrahlung mit dem Laserstrahl mit der genannten Wellenlänge durchgeführt wurde, und zwar unter den Bedingungen: Lineare Geschwindigkeit 2 m/sec und Laserleistung auf der Mediumoberfläche 6 mW.

Beispiel 2

Es wurde eine reflektierende Schicht, eine Wärmeisolierschicht, eine magnetische Schicht und eine Führungsspur- Schicht auf dem gleichen scheibenförmigen Si-Substrat ausgebildet, wie dies im Beispiel 11 der Fall war, und zwar entsprechend dem exakt gleichen Vorgehen wie beim Beispiel 11 mit der Ausnahme, daß Te in der Dampfphase aufgetragen wurde, und zwar mit einer Dicke von 1000 Å. Andererseits wurde MgF₂ auf beiden Seiten eines scheibenförmigen Polymethylmethacrylat-Films durch Niederschlagen in der Dampfphase ausgebildet, der die gleichen Abmaße hatte (den gleichen Innendurchmesser und den gleichen Außendurchmesser) wie diejenigen des Substrats, und der mit einer Dicke von 0,7 mm ausgebildet wurde, um dadurch einen 1500 Å dicken Antireflexionsfilm vorzusehen. Dieser Film und die Führungsspur-Schicht des Substrats wurden verklebt, und zwar unter Verwendung eines 0,5 mm dicken Polymethylmethacrylat-Abstandshalters zwischen den innersten und den äußeren Umfangsabschnitten, wobei ein Epoxyharz- Klebemittel zur Anwendung gebracht wurde, um dadurch eine Verbindungsschicht (eine pneumatische Schicht) auszubilden. Es wurde auf diese Weise ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium fertiggestellt.

Dieses magneto-optische Aufzeichnungsmedium war in der Lage, das genannte Informationssignal aufzuzeichnen, zu regenerieren und zu löschen, und zwar in der gleichen Weise wie bei dem Vorgehen gemäß Beispiel 1.

Beispiel 3

Es wurde eine Reflexionsschicht, eine Isolierschicht und eine magnetische Schicht auf einem scheibenförmigen Substratplättchen, wie es beim Beispiel 11 verwendet wurde, in der gleichen Weise wie beim Beispiel 11 hergestellt. Ferner wurde Polymethylmethacrylat verarbeitet, indem es spritzgußtechnisch in eine 1,2 mm dicke Scheibe mit einer Führungsspur eingespritzt wurde (Nuttiefe 2000 Å), und zwar auf einer Fläche, und es wurde ferner ein Antireflexionsfilm auf beiden Seiten ausgebildet, genau wie beim Vorgehen gemäß dem Beispiel 12. Dieser Film und die magnetische Schicht des Substrats wurden in dieser Form an dem innersten Umfangsabschnitt und dem äußeren Umfangsabschnitt mit Hilfe eines Epoxyharz-Klebemittels verklebt, um dadurch eine 2 µm dicke Verbindungsschicht auszubilden (eine pneumatische Schicht). Es wurde somit ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium erhalten. Auch dieses magneto-optische Aufzeichnungsmedium war in der Lage, das Informationssignal aufzuzeichnen, zu regenerieren und zu löschen, und zwar genau so wie beim Vorgehen gemäß dem Beispiel 1.

Beispiel 4

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt mit der Ausnahme, daß

CoAl_1.0Fe_2.0O₄

und

[Bi_2.0Y_1.0][Ga_1.0Fe_4.0]O₁₂

verwendet wurde und auf SiO₂ aufgetragen wurde, und zwar mit einer Filmdicke von 3000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 5

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei CoRhFe₂O₃ als magnetisches Material verwendet wurde und direkt auf die Führungsspur aufgetragen wurde, und zwar mit einer Filmdicke von 3000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 6

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei

CoMn_1.0Fe_2.0O₄

als magnetisches Material verwendet wurde und auf die Führungsspur aufgetragen wurde mit einer Filmdicke von 5000 Å unter Verwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 7

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt wobei

BaO[Co_1.0Fe_1.0]Co_1.0Ti_1.4Fe₁₄O₂₆]

als magnetisches Material verwendet wurde und auf die Unterlage aufgetragen wurde mit einer Filmdicke von 3000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 8

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei

BaO[Co_2.0][Co_1.0Ti_1.0Al_2.0Fe₁₂O₂₆]

als magnetisches Material verwendet wurde und auf die Führungsspur aufgetragen wurde, und zwar in einer Filmdicke von 4000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 9

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei

SrO · 6.0[Co_1.0Rh_1.0Al_1.0Fe₁₃O₂₆]

als magnetisches Material verwendet wurde und auf das Substrat aufgetragen wurde, und zwar in einer Filmdicke von 3000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 10

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei

SrO 6.0[Co_1.0Fe_1.0][Co_1.0Ge_1.0Al_2.0Fe₁₂O₂₆]

als magnetisches Material verwendet wurde und auf das Substrat aufgetragen wurde mit einer Filmdicke von 2500 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 11

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei

SrO[Co_1.0Fe_1.0][Co_1.0Ge_1.0Al_2.0Fe₁₂O₂₆]

als magnetisches Material verwendet wurde und auf die Zwischenschicht aufgetragen wurde, und zwar mit einer Filmdicke von 4000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens mit gegenüberliegender Zielelektrode.

Beispiel 13

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei als magnetische Schicht

[Bi_1.4Y_1.6][Al_1.2Fe_3.8O₁₂]

auf der Zwischenschicht ausgebildet wurde, und zwar in einer Filmdicke von 3000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens, wobei anschließend eine Glühbehandlung bei 600 bis 650°C für zwei Stunden durchgeführt wurde.

Beispiel 13

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei eine magnetische Schicht durch Auftragen von

[Bi_1.0Y_2.0][Ga_1.0Gd_1.0Fe_3.0O₁₂]

auf die Führungsspur hergestellt wurde, und zwar mit einer Filmdicke von 5000 Å durch Kathodenzerstäubung, wobei anschließend eine Glühbehandlung bei 600 bis 650 C für zwei Stunden durchgeführt wurde.

Beispiel 14

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei die magnetische Schicht durch Auftragen von

[Bi_1.0Gd_2.0][Ga_1.0Fe_4.0O₁₂]

auf der Wärmeisolierschicht hergestellt wurde, und zwar bei einer Filmdicke von 3000 Å mit Hilfe des Kathodenzerstäubungsverfahrens, wobei anschließend eine Glühbehandlung bei 600 bis 650°C für zwei Stunden durchgeführt wurde.

Beispiel 15

[Bi_1.0Y_1.0Gd_1.0][Al_1.0Fe_4.0O₁₂]

auf die Führungsspur hergestellt wurde, und zwar bei einer Filmdicke von 4000 Å unter Anwendung des Kathodenzerstäubungsverfahrens, wobei anschließend eine Glühbehandlung bei 600 bis 650°C für zwei Stunden durchgeführt wurde.

Beispiel 16

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei die magnetische Schicht durch Aufdampfen von Bi, Mn und Cu in der Dampfphase auf die Zwischenschicht ausgebildet wurde, wobei anschließend eine Glühbehandlung bei 400 bis 500°C für drei Stunden durchgeführt wurde (die magnetische Schicht besteht bei diesem Beispiel aus Mn, Bi und Cu).

Beispiel 17

Es wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium hergestellt, wobei die magnetische Schicht durch Dampfphasenniederschlagen von Mn, Pt und Sb auf die Wärmeisolierschicht ausgebildet wurde, wobei anschließend diese Struktur bei 400 bis 500°C für drei Stunden wärmebehandelt wurde (die magnetische Schicht besteht bei diesem Beispiel aus Mn, Pt und Sb).

Beispiel 18

Es wurde ein 0,3 µm dicker SiO₂ Film durch Oxidationsbehandlung der Oberfläche eines Si-Substratplättchens ausgebildet, und es wurde dann ein 0,5 µm dicker ZnO- Film auf dieser Fläche durch reaktives Kathodenzerstäuben ausgebildet. Der erhaltene ZnO-Film zeigte eine Orientierungsfläche von (002). Es wurde dann auf dieser Fläche

[SrO]6.0[Al_0.2Co_0.15Ti_0.15Fe_1.5O₃]

durch Kathodenzerstäuben aufgetragen, und zwar in einer Filmdicke von 0,3 µm, während die Substrattemperatur bei 400 bis 700°C lag, um dadurch ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium zu erhalten.

Es wurde dann die Struktur dieses Films analysiert und es wurde festgestellt, daß die Kristallorientierungsfläche (001) war, wobei L=6,8 oder 14, und es wurde dann eine Röntgenstrahl-Diffraktion durchgeführt, um sicherzugehen, daß dieser Film aus einem senkrecht magnetisierten Film besteht, der entlang der Achse C orientiert ist.

Als nächstes wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium dadurch hergestellt, indem eine Führungsspur- Schicht und eine transparente Schutzschicht wie beim Vorgehen gemäß Beispiel 1 ausgebildet wurde.

Beispiel 19

Es wurde eine magnetische Schicht genau wie beim Vorgehen des Beispiels 18 ausgebildet mit der Ausnahme, daß AlN als Zwischenschichtfilm anstelle von ZnO verwendet wurde und

[BaO]6.0[Ga_0.2Co_0.15Rh_0.15Fe_1.5O₃]

als magnetische Substanz verwendet wurde. Als Ergebnis wurde festgestellt, daß die AlN-Kristallorientierungsfläche des Zwischenfilms (002) war, daß die Kristallfläche von

[BaO]6.0[Ga_0.1Co_0.15Rh_0.15Fe_1.5O₃]

gleich war (001), wobei L 6,8 und 14 war, und daß die magnetische Schicht aus einem senkrecht magnetisierten Film bestand.

Als nächstes wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium dadurch hergestellt, indem eine Führungsspur- Schicht und eine transparente Schutzschicht gemäß dem gleichen Vorgehen wie beim Beispiel 1 ausgebildet wurden.

Beispiel 20

Es wurde auf einem Quarzglassubstrat ein 0,3 µm dicker SiO₂-Film durch Kathodenzerstäuben ausgebildet und ferner wurde ein 0,3 µm dicker AlN-Film durch reaktives Kathodenzerstäuben ausgebildet. Als nächstes wurde

[SrO]6.0[Cr_0.1Co_0.1Ti_0.1Fe_1.7O₃]

durch Kathodenzerstäuben auf dieser Fläche aufgetragen, wobei die Substrattemperatur bei 550 bis 700°C gehalten wurde, so daß eine Filmdicke von 0,3 µm erreicht wurde und auf diese Weise eine magnetische Schicht ausgebildet wurde. Als Ergebnis wurde dann festgestellt, daß die AlN-Kristallorientierungsfläche des Zwischenschichtfilms (002) war, daß die Kristallorientierungsfläche der magnetischen Schicht darauf (001) war und daß die magnetische Schicht aus einem senkrecht magnetisierten Film bestand.

Als nächstes wurde ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium dadurch fertiggestellt, indem eine Führungsspur- Schicht und eine transparente Schutzschicht wie beim Vorgehen gemäß Beispiel 1 ausgebildet wurden.

Beispiele 21 bis 32

Es wurden magneto-optische Aufzeichnungsmedien unter Verwendung der im folgenden aufgeführten Materialien für Unterlagen, Zwischenschichten, magnetische Schichten und Reflexionsschichten hergestellt, wenn es notwendig war gemäß dem Vorgehen nach Beispiel 18 (wobei die Reflexionsschichten genau wie beim Vorgehen gemäß Beispiel 1 hergestellt wurden).

Claims

1. Magneto-optisches Aufzeichnungsmedium mit einem hitzewiderstandsfähigen Substrat (2), einer magnetischen Schicht (3) mit einer senkrechten magnetischen Anisotropie, mit einer nichthitzewiderstandsfähigen Führungsspur-Schicht (1 a, 1′ a) und mit einer lichtdurchlässigen Schutzschicht (4, 4′), dadurch gekennzeichnet, daß die Führungsspur-Schicht (1 a; 1′ a) aus für Laserstrahlen im wesentlichen durchlässigen Abschnitten oder aus für Laserstrahlen im wesentlichen undurchlässigen Abschnitten eines abschnittsweise verfärbbaren Materials besteht.

2. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das verfärbbare Material ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus GeOx, TeOx, SeSb, SeTe, AsSeSGe, GeAsTe, MoOx, SbOx, SnOx, TeOx+GeSn, TeGeSbS und GeAsSe.

3. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht (3) lichtundurchlässig ist, daß als Schutzschicht das Material einer lichtdurchlässigen Schutzplatte (4′) verwendet wird und daß diese Schutzplatte mit Hilfe eines Bindemittels auf der Führungsspur-Schicht (1 a, 1′ a) befestigt ist.

4. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung über einen Abstandshalter (6) hergestellt ist.

5. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht (3′) lichtdurchlässig ist und daß eine Reflektionsschicht (9) zwischen dem Substrat (2) und der lichtdurchlässigen magnetischen Schicht (3′) angeordnet ist.

6. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht (3) lichtundurchlässig ist und daß eine lichtdurchlässige dielektrische Schicht (10) zwischen der lichtundurchlässigen magnetischen Schicht (3) und der Führungsspur-Schicht (1 a, 1′ a) angeordnet ist.

7. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht (3) lichtundurchlässig ist und daß eine lichtdurchlässige dielektrische Schicht (10) zwischen der Führungsspur-Schicht (1 a, 1′ a) und der Schutzschicht (4, 4′) angeordnet ist.

8. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Wärmeisolationsschicht (11) zwischen dem Substrat (2) und der lichtdurchlässigen magnetischen Schicht (3) angeordnet ist.

9. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtdurchlässige Schutzplatte (4′) als Material für die Schutzschicht (4, 4′) verwendet wird und daß diese Schutzplatte (4′) an die Fläche der Führungsspur- Schicht (1 a, 1′ a) mit Hilfe eines Bindemittels oder Klebemittels gebunden ist.

10. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtdurchlässige Schutzplatte (4′) als Material der Schutzschicht (4, 4′) verwendet ist und daß diese Schutzplatte (4′) an die Fläche der Führungsspur- Schicht (1 a, 1′ a) mit Hilfe eines Bindemittels oder Klebemittels gebunden ist.

11. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtdurchlässige Schutzplatte (4′) als Material für die Schutzschicht (4, 4′) verwendet ist, daß ferner eine lichtdurchlässige dielektrische Schicht (10) auf der Führungsspur-Schicht (1 a, 1′ a) vorgesehen ist und daß die Schutzplatte (4′) mit der Fläche der lichtdurchlässigen dielektrischen Schicht (10) mit Hilfe eines Bindemittels oder Klebemittels verbunden ist.

12. Verfahren zur Herstellung eines magneto-optischen Aufzeichnungsmediums nach Anspruch 1, dadurch gekennnzeichnet, daß die Führungsspur (1) durch abschnittsweises Verfärben einer ein verfärbbares Material aufweisenden Schicht (1 a) unter Anwendung einer Laserbestrahlung der Schicht entlang des Ortes zu erzeugenden Führungsspur (1) hergestellt wird.