DE3501848A1 - Verfahren zur strukturierung einer maskierungsschicht fuer die mikrolithographie - Google Patents

Verfahren zur strukturierung einer maskierungsschicht fuer die mikrolithographie

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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BMFT-Bericht FB-T 84-182, Sept. 1984 *
US-Z.: Solid State Techn., Aug. 1981, S. 60-67 *
US-Z.: Solid State Techn., June 1984, S. 145-150 *
US-Z.: Thin solid films 83, 1981, S. 189-194 *

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