DE3439297A1 - Optisches reflektionssystem - Google Patents
Optisches reflektionssystemInfo
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Description
■ ituiivc ~~ biunuinu ~ ivnnc yinurc Vertreter beim EPA 'JfZm
rs Γ* O :-- "'::": ·'.'.· : Dipl.-lng. H Tiedtke *
FtLLMANN - UIRAMS " OTRUIF : : : ; : : ^Vpi.-Chem. G Buhiing
Dipl.-lng. R. Kinne Dipl.-lng. R Grupe
Dipl.-lng. B. Pellmann _ 4 _ Dipl.-lng. K. Grams
3439297 Dipl.-Chem. Dr. B. Struif
Bavariaring 4, Postfach 202403 8000 München 2
Tel.: 089-539653 Telex: 5-24 845 tipat Telecopier: 0 89-537377
,. , ..,.„·. cable: Germaniapatent München
26.'Oktober 198A Tokio, Japan DE 4370
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Reflektionssystem,
das beispielsweise als optisches Systen für eine Projektions-Belichtungs-Vorrichtunq, aenauer
gesagt eine Ausrichtungs- und Belichtungsvorrichtuno zur Herstellung von integrierten Schaltungen in großem
Maßstab etc. geeignet ist.
Für den Einsatz in derartigen Ausrichtungs- und Belichtungsvorrichtungen
sind bereits verschiedenartice Typen von optischen Reflektionssyste^en voraeschlagen
worden. Bei.SDielsweise umfasst eine Ausführunosforn einen
Konkavspiegel und einen Konvexspiegel, die konzentrisch oder exzentrisch angeordnet sind. Ein anderes ODtisches
Reflektionssystem umfasst'einen Konkavsoieael und einen
KonvexsoiegeJ, die im wesentlichen konzentrisch zueinander
angeordnet sind, sowie eine Meniskuslinse und einen Korrekturmechanismus für chromatische Aberrationen.
Bei diesen ODtischen Reflektionssystemen für derartine
Ausrichtunas- und Belichtunnsvorrichtunaen wird ein
höherer Bildbereich in einem in Abstand von der ootischen
Achse angeordneten bogenförmigen Bereich ausaebildet.
Ein Bild eines Teiles einer Maske, die den höheren Bildbereich entspricht, wird auf einen Plättchen erzeunt,
während die Maske und das Plättchen zusammen als Einheit relativ zu-dem ODtischen Reflektionssystem bewegt werden,
so daß Maske und Plättchen schlitzabgetastet werden, wodurch das Bild der gesanten Maske auf de^ Plättchen
erzeugt wird. Bei derartioen ODtischen Reflektionssystemen
ist jedoch die Breite des höheren Bildbereiches (die Breite des Abtastschlitzes) sehr gering und lieot beispielsweise
in der Größenordnung von lmm. Wenn daher
diese Systeme bei Ausrichtungs- und Belichtungsvorrichtungen verwendet werden, ist eine länoere Abtastzeit,
d.h. eine längere Belichtunoszeit, erforderlich, was zu einen niedrigerem Wert der Plättchenbelichtunasvor-
gänge pro Zeiteinheit führt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein optisches Reflektionssysten zu schaffen, das die bei den herkömmlich
ausgebildeten optischen Reflektionssystemen austretenden Nachteile nicht aufweist. Genauer gesagt soll
durch die Erfindung ein oDtisches Reflektionssystem zur Verfügung gestellt werden, das eine Vergrößerung des
höheren Bildbereiches (Schlitzbreite) und somit eine
Vergrößerung der Zahl der Belichtungsvorgänge pro Zeiteinheit
ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch ein ODtisches Reflektionssysten
nach Patentansoruch 1 aelöst.
Zusammengefasst basiert die vorliegende Erfindung auf
den folgenden Erkenntnissen:
Wie vorstehend erläutert, ist die Breite des höheren Bildbereiches und somit die Breite des Abtastschlitzes
bei herkömmlich ausgebildeten optischen Reflektionssystemen nur sehr gering. Dies ist darauf zurückzuführen,
daß das optische Reflektionssystem so angeordnet
ist, daß nur ein von einem oder in wesentlichen einen
Punkt auf der Objektebene abgegebener Hauptstrahl, der parallel zur optischen Achse des optischen Reflektionssystems
verläuft, auf den ScheitelDunktdes Konvexspiegels
(dem Schnittpunkt zwischen der Spieoelfläche und der ODtischen Achse) trifft. Eine derartige Anordnuna
bringt daher automatisch einen beträchtlichen Astiamatisnus
mit sich. Aufgrund dieses beträchtlichen Astiamatismus
muß die Breite des höheren Bildbereiches (die Breite des .Abtastschlitzes) sehr klein gehalten werden,
um eine gute Auflösung zu erzielen. ErfindungsgennäO
wurde festgestellt, daß dann., wenn alle von verschiedenen Objektpunkten, die innerhalb eines vorgeaebenen
Höhenbereiches lieaen, der in Abstand von der optischen
Achse des optischen Reflektionssystens anceordnet ist,
abgeaebenen Hauptstrahlen , die parallel zur optischen
Achse verlaufen, auf den Scheitelpunkt des konvexen Spiegels treffen, der Astignatis^us korrigiert und der
höhere Bildbereich des optischen Reflektionssystens vergrößert
weiden kann.
Wie im nachfolgenden Teil der Beschreibuno in einzelnen
erläutert wird, umfasst das erfindunasgenäß ausaebildete
optische Reflektionssysten ein erstes und ein zweites asphärisches Elenent sowie einen Konkavsoieoel
und einen Konvexspiegel. Das erste asohärische Elenent dient dazu,, die von verschiedenen Ob.iektpunkten, welche
alle innerhalb eines vorgeoebenen Höhenbereiches liegen,
der im Abstand von der ootischen Achse des ootischen
Reflektionssystens angeordnet ist, abgeoebenen HauDtstrahlen, die parallel zur ODtischen Achse verlaufen,
auf den Scheitelpunkt des KonvexsDiegels zu richten.
Das erste asphärische Element kann so anaeordnet wer-
esf
den, daß für den Fall, daß ein Hauptstrahl ohne Anordnung
des ersten asDhärischen Elementes auf den Scheitelpunkt des Konvexspiegels treffen kann, auf einen
derartigen-HauDtstrahl nicht ein-.virkt.. Das zweite
asphärische Element dient dazu, auf das von Konkavsoiegel
zweimal reflektierte Licht einzuwirken, so dan ·
sämtliche vom Scheitelpunkt des KonvexsDiegels abgegebenen und dann vom KonkavsDiegel reflektierten HauDtstrahlen
parallel zur ODtischen Achse des ootischen Reflektionssystems auf die Bildebene gerichtet v/erden.
Mit dieser Anordnung wird der Astignatisnus in ausaezeichneter
Weise korrigiert und der höhere Bildbereich vergrößert'.
Die Erfindung γ/ird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen
in Verbindung mit der Zeichnung in einzelnen erläutert. Es zeigen:
Figur 1 die optische Anordnung eines optischen
Reflektionssystens genäG einen Ausführuncs· beispiel der Erfindung;
die Figuren 2A, 2D
Ansichten, die Möglichkeiten des Astigna-
tismus bei der Ausführungsform der Fiaur
zeigen;
Figur 3 die optische Anordnung eines ontischen Reflektionssystens nach einer zweiten
Ausführungsform der Erfindung;
die Figuren 4A - AD
Ansichten, die nönlicne Erscheinunnsformen
von Astigmatismus bei der Ausführunosform
der Figur 3 zeigen;
Figur 5 die ODtische Änordnuna eines ODtischen
Reflektionssystems nach einer dritten Ausführungsform der Erfindung;
di.e Figuren 6A - 6Ό
Ansichten, die Erscheinungsformen von
Astigmatismus bei der Ausführunnsfor^
der Figur 5 zeigen;
Figur 7 die optische Anordnung eines optischen Reflektionssystens nach einer vierten
Ausführungsforn der Erfinduno;
die Figuren 8A - 8D
Ansichten, die Erscheinunrsfornen von
Astigmatismus bei der Ausführuncsfor~
der Figur 7 zeigen;
Figur 9 · eine Ansicht, die Astigmatismus bei einer
Anordnung zeigt, welche der der Figur enspricht, mit der Ausnahne, daß keine
asphärische Fläche vorgesehen ist;
die Fiauren 1OA und 1OB
Ansichten, die die asohärischen Größe·.
Δ S verdeutlichen;
Figur 11 die ODtische Anordnung einer Ausrich-
tunas- und Belichtuncisvorriehtuna, die
mit einen erfindungsgemäß ausgebildeten
optischen Reflektionssystem versehen ist; und
Figur 12 eine Vorderansicht der Belichtungsvorrichtung der Figur 11.
B?i der in Figur 1 gezeigten ersten Ausführungsfom unfasst
das optische Reflektionssysten einen Konkaysoiegel
Ml und einen Konvexsoienel M2, der einen oerinceren
Krümmungsradius als der Spiegel Ml aufweist. Diese Spiegel sind koaxial zueinander angeordnet, so da? sie
die gleiche optische Achse 0 besitzen. Die Krünmunosrnittelpunkte
dieser SDiegel befinden sich in der gleichen Richtung, so daQ die Spiegelflächen einander gegenüberliegen.
Eine Objektebene Sl und eine Bildebene S2 befinden sich in der gleichen Ebene und sind relativ zu eine"1
Punkt 01, bei dem es sich un den Schnittpunkt zwischen der optischen Achse 0 und der die Objektebene Sl und
die Bildebene S2 enthaltenden Ebene handelt ,symnetrisch
zueinander angeordnet.
Die von der Objektebene Sl austretenden Lichtstrahlen
werden vom Konkavspiegel Ml und dann von Kpnvexsoienel
M2 und wiederum vom Konkavspiegel Ml reflektiert. Nachdem
eine dreimalige Reflektion über die beiden Spiegel Ml und M2 durchgeführt v.'urde, wird scnit das eine Höhe
Pl aufweisende Objekt im Maßstab 1:1 auf der Bildebene ' ·.
S2 abgebildet, wobei das Bild eines Punktes Pl am Dunkt
PT. erzeuat wird. Der Konvexspiegel M2 funktioniert ri?>rüberhinaus
als Blendenanschlag des optischen Reflektionssystems.
Da das ootische Reflektionssyste^ relativ zum
Mittelpunkt 02 des wirksamen Durchnessers des Konvexspiegels
M2 symmetrisch angeordnet ist,tritt keine Unscharfe
oder Verzerruno auf, bei denen es sich un
asymiTie.trische Aberrationen handelt. Astigmatismus
verbleibt jedoch. Dieses Problen wird durch die vorliegende Ε-rfindung gelöst.
Erfindungsgemäß ist eine asohärische Linse Ll voroesehen,
die in Figur 1 gezeigt ist. Die obere Hälfte der asphärischen Linse ist zwischen der Objektebene Sl
und dem Konvexspiegel M2 vorgesehen, während die untere Hälfte der asohärischen Linse Ll zwischen den Konvexspiegel
H2-und der Bildebene S2 angeordnet ist. Die
obere Hälfte und die untere Hälfte der asohärischen Linse
Ll sind relativ zur optischen Achse C symmetrisch ausgebildet. Bei dieser Ausführungsforn ist die ssDhärische
Linse Ll als einstöckiges Elenent gezeigt; sie kann jedoch
auch durch getrennte Elemente gebildet werden.
Bei dem optischen Reflektionssystem der vorliegenden
Erfindung wird der Astigmatisms durch die ssohsrische
Linse Ll korrigiert. Un dies zu erreichen, ist die asDhärische Linse Ll so ausgebildet, da3 sM^tliche von
Objektpunk.ten mit Bildhöhen innerhalb eines vorgegebenen Bereiches (der in Ficur 2 daroestellte Korrekturbereich
h) abgegebenen Hauotstrahlen, die oarallel
zur optischen Achse 0 verlaufen, auf den Mittelnunkt
oder Scheitelpunkt 02 des Konvexsoiegels f'2 treffen,
während sämtliche vom Mittelounkt 02 des Kcnvexsoiecels
M2 reflektierten HauDtstrahlen auf die Bildebene parallel
35
zur optischen Achse treffen. In den Finuren 2Λ - 2D sind
verschiedenartige Erscheinunpsforren von Astigmatismus
bei Anordnungen nit unterschiedlichen asohärischen Formen gezeigt.
5
5
Alternativ dazu kann die asohärische Linse Ll so ausaeb'ildet*
sein, daß säntliche Hauotstrahlen an Punkten auf
die Oberfläche des Soiegels M2 treffen, die gegenüber
den MittelDunkt 02 geringfügig versetzt sind, oder da?·
ein Teil der Hauptstrahlen an Punkten auf die Oberfläche des Spiegels M2 trifft, die von Mittelpunkt 02
abweichen, wenn die Aberration innerhalb eines gut korriaierten Bereiches liegt. Darüberhinaus kann die
as'phärische Linse Ll so geformt sein, da3 sämtliche
oder ein Teil der Hauotstrahlen in einer oeringfücic
nicht-parallelen Relation relativ zur optischen Achse auf die Bildebene treffen, \-;enn die Aberration innerhalb
eines* gut korrigierten Bereiches liegt. In derartigen Fällen kann der auf der Seite der Objektebene Si
liegende Teil der asohärischen Linse Ll rr:it einer asDhärischen Oberfläche versehen sein, während der auf
der Seite der Bildebene S2 liecence Teil der asDsrischen
Linse Ll durch ein Meniskuslinsenele^ent cebilcet •.-.■erden
kann. Aus Gründen einer einfacheren Herstellunc wird
jedoch bevorzugt, sowohl den oberen als auch den unteren Teil nit einer asphärischen Oberfl=cKe zu versehen. Aus
Gründen einer einfacheren Beschreibuna '.Vird die Erfindunn
anhand einer aspärischen Linse erläutert, die sowohl an oberen als auch an unteren Teil nit einer asoh'irischen
Oberfläche versehen ist.
In Figur 1 versieht der Konkavspiegel Ml die Funktion
einer Sammellinse. Das bedeutet, daß der Konkavspiegel Ml eine bestimmte positive sphärische Aberration relativ
zu einen auf die Fläche des Spiegels Ml in einer bestimmten Höhe auftreffenden Lichtstrahl bewirkt. Die
asphärische Linse Ll dient daher dazu, in Abhängigkeit von einer derartigen schwankenden positiven sDhärischen
Aberration, die von dem Konksvsoiegel Ml erzeugt wird, relativ zu der schwankenden Einfallhöhe ensorechend der
variierenden 3ildhöhe innerhalb eines bogenförmigen Korrekturbereiches h (Figur 2) eine variierende negative
sphärische Aberration relativ zu den Lichtstrahlen zu erzeugen, die von ObjektDunkten auf Objekthöhen innerhalb
eines den Korrekturbereich h entsprechenden Bereiches abgegeben werden und in die asphärische Linse Ll eindringen.
Mit anderen Worten, die Forn der asphärischen Linse Ll ist so ausgewählt, daß bei jeder beliebigen Bildhöhe
innerhalb des Korrekturbereiches h die vom Konkavspiegel Ml erzeugte oositive sphärische Aberration durch die
negative sphärische Aberration kompensiert wird. Mit einer
derartigen Anordnung treffen sämtliche Hauptstrahlen parallel zur ootischen Achse 0, die von den Objekthchen
abgegeben und auf die Bildhöhe in Korrekturbereich η
treffen sollen, auf den Mittelpunkt 02 des optischen Reflektionssystems. Mit anderen Worten, in bezug auf
die Bildhöhen innerhalb des Korrekturbereiches h treffen die von unendlich abgegebenen Heuotstrahlen inner auf
den Mittelpunkt 02 des optischen Systems. Hierdurch wird der Astigmatismus des ODtischen Reflektionssystems als
ganzes korrigiert.
Wie in Figur 2 gezeigt, wird der Korrekturbereich h durch die Beziehung zwischen der Neigung der Sagittalbildfläche
s, der Neigung der Meridianbildfläche m und der zulässigen Tiefe bestimmt. Die asphärische Linse Ll wird daher
dazu verwendet, um den Astigmatismus zu korrigieren, d.h. die astigmatische Differenz zwischen der Sagittalbildfläche
s und der Meridianbildfläche m zu beseitigen und dadurch den Korrekturbereich h und somit die Schlitzbreite
zu vergrößern.
Bei der in Figur 1 gezeigten ersten Ausführungsform sind der Konkavspiegel Ml und der Konvexspiegel M2 exzentrisch
angeordnet. Die asphärische Linse Ll umfasst eine schwache Konvexlinse mit einer asphärischen Oberfläche,
die auf ihrer konvexen Fläche ausgebildet ist, die dem Konkavspiegel Ml gegenüberliegt. Der asphärische Oberflächenbereich,
durch den die dem Korrekturbereich h entsprechenden Hauptstrahlen dringen, ist so ausgebildet,
daß er im Vergleich zu der sphärischen Referenzfläche eine ansteigende negative Brechungskomponente vorsieht,
die mit einer Zunahme der Bildhöhe ansteigt. Die Zahl * der asphärischen Linsen ist nicht auf eins beschränkt,
sondern es können auch mehrere asphärische Linsen vorgesehen werden.
Figur 3 zeigt ein optisches Reflektionssystem nach einer
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und Figur 4 zeigt die verschiedenen Erscheinungsformen des
Astigmatismus für unterschiedliche asphärische Formen.
Bei dieser Ausführungsform sind Elemente, die entsprechende Funktionen erfüllen wie bei der Ausführungsform der
Figur 1 mit den gleichen Bezugsziffern gekennzeichnet. Gemäß Figur 3 sind ein Konkavspiegel Ml und ein Konvexspiegel
M2 konzentrisch angeordnet. Eine asphärische
Linse L2 umfasst eine schwache Konvexlinse mit einer asphärischen Oberfläche, die auf ihrer der Objektebene
Sl und der Bildebene S2 gegenüberliegenden konvexen Seite ausgebildet ist. Der asphärische Oberflächenbereich,
durch den die Hauptstrahlen relativ zu den Bildhöhen innerhalb des Korrekturbereiches h dringen,
ist derart angeordnet bzw. ausgebildet, daß er eine ansteigende negative Brechungskomponente im Vergleich zu
der der sphärischen Referenzfläche vorsieht, die mit einer Zunahme der Bildhöhe ansteigt, d.h. einem Ansteigen
der Einfallhöhe auf den Konkavspiegel Ml.
Figur 5 zeigt ein optisches Reflektionssystem nach einer
dritten Ausführun'gsform der Erfindung, und Figur 6 zeigt die Erscheinungsformen des Astigmatismus für unterschiedliche
asphärische Formen. In den Figuren 3 und h bezeichnen die gleichen Bezugsziffern Elemente oder Teile, die
entsprechende Funktionen besitzen wie die der Ausführungsform der Figur 1. Das optische Reflektionssystem umfasst
einen Konkavspiegel Ml und einen Konvexspiegel M2, die exzentrisch angeordnet sind. Eine asphärische Linse L3
- umfasst eine parallele flache Platte, die auf beiden Seiten mit asphärischen Oberflächen versehen ist.
Innerhalb eines Bereiches, durch den die Hauptstrahlen in bezug auf die Bildhöhen im Korrekturbereich h dringen,
ist die asphärische Linse L3 so ausgebildet, daß sie ein negatives Brechungsvermögen besitzt. Diese negative
Brechungskomponente steigt mit einer Zunahme der Bildhöhe an.
Die Figur 7 zeiot ein optisches Reflektionssystem nach
einer vierten Ausführungsform der Erfindung, und Figur 8 zeict die Erscheinungsformen des Astigmatismus für
unterschiedliche asphärische Formen. Wiederum bezeichnen
die gleichen Bezugsziffern der Figuren 5 und 6 Elemente
oder Teile mit entsprechenden Funktionen wie bei der Ausführungsform der Figur 1. Das in Figur 7 gezeigte
optische Reflektionssystem umfasst einen Konkavspiegel Ml und einen Konvexspiegel M2, die exzentrisch angeordnet
sind.Um die durch die Positiv- oder Konvexlinsenwirkung
des Konkavspiegels Ml verursachten Aberrationen zu beseitigen, ist eine asphärische Linse L4 vorgesehen, die
eine negative Meniskuslinse umfasst. Die dem Konkavspiegel Ml gegeüberliegende Seite der Linse LA ist mit einer
asphärischen Oberfläche versehen, um auf diese Weise den Astigmatismus innerhalb des Korrekturbereiches h
zu beseitigen oder nahezu zu beseitigen. Bei dieser Ausführungsform ist das Brechungsvermögen an der Rl-Seite
der negativen Meniskuslinse größer als das des Konkavspiegels Ml. Um dies zu kompensieren, besitzt der
asphärische Oberflächenabschnitt der asphärischen Linse L 4 eine solche Form, daß der asphärische Bereich
auf der R2-Seite im Vergleich zu dem der sphärischen Bezugsfläche eine positive Komponente aufweist.
Figur 9 zeigt den Astigmatismus eines optischen Reflektionssystems,
bei dem eine negative Meniskuslinse, wie in Figur 7 gezeigt, vorgesehen ist, auf der jedoch keine
asphärische Fläche ausgebildet ist. Aus Figur 9 kann man entnehmen, daß die Sagittalbildfläche s und die Meridianbildfläche
m im Vergleich zu einem Fall, bei dem keine Meniskuslinse vorgesehen ist, korrigiert sind.
Wenn jedoch die Aberration der Ausführungsform der Figur
9 mit den Aberrationen der Ausführungsform der Figuren 8a - 8d verglichen wird, wird augenscheinlich,
daß der Korrekturbereich h im Falle der Figur 9 im Vergleich zu denen der Figuren 8a - 8d sehr eng ist.
Numerische Werte der optischen Anordnungen der ersten
bis vierten Ausführungsform sind in den nachfolgenden Tabellen 1-4 aufgeführt, während die numerischen Werte
der Ausführungsform, bei der keine asphärische Fläche vorgesehen ist (Figur 9), in Tabelle 5 enthalten sind.
In diesen Tabelle ist mit Ri der Krümmungsradius der i-ten Fläche der optischen Elemente in der Reihenfolge
gemäß der Fortbewegungsrichtung des Lichtstrahles in den Figuren 1, 3, 5 und 7 bezeichnet. Mit Di ist die
Dicke oder der Luftraum des i-ten optischen Elementes entlang der optischen Achse bezeichnet. Die Richtung
von links nach rechts wird als positiv bezeichnet.
-6882 | .06 | Dl = | Tabelle 1 | Quarzglas | |
Rl« | -500 | • | D2= | 14.65 | Luft |
*1 R2= | -247 | .37 | D3= | 488. | Spiegel |
R3= | -500 | • | D4 = | -246.45 | Spiegel |
R4= | -6882 | .06 | D5 = | 246.45 | Luft |
R5= | CO | D6= | -488. | Quarzglas | |
*1 R6= | -14.65 | Luft | |||
R7= | |||||
In der vorstehenden Tabelle sind mit dem Symbol "*"
asphärische Flächen bezeichnet, die relativ zur optischen Achse symmetrisch zueinander ausgebildet sind und von
der Referenzfläche auf einer Höhe h von der optischen Achse um den Betrag X abweichen, der durch die nachfolgende
Gleichung wiedergegeben wird: X = f(h2/R)/ {l+il-Ch/Rf1 ]3
Bh4 + Ch6 + Dh8 + Eh10
Der asphärische Wert wird mit AS bezeichnet.
(1) Figur 2A
*1 R= -6882.06
8= 4.59302·108 C=-2.32609·10~12
- 17 -
D= -1.19195Ί0"18 AS= 5.58-10"2
(2) figur 2B
*1 R= -6882.06 B= 4.73080Ί0"8
D= -1.22770·10~18 AS= 5.75·ΙΟ2
(3) Figur 2C
*1 R= -6882.06 B= 4.82267-10"6
D= -1.25155'1O*"18 AS= 5.86.10"2
(4) Figur 2D
*1 R= -6882.06 B= 4.36337Ί0"8
D= -1.13235-10"18 AS= 5.30·10"2
E= 5.56425·10~22
C= -2.39587Ί0"12 E= 5.73117-ΙΟ"22
C= -2.44240·10"12 E= 5.84246-10"22
C= -2.20978Ί0""12 E= 5.28603·10"22
*1 Rl= 3602.40 R2= οο
R3= -500.
R4= -255.155 R5= -500.
R6= οο
R3= -500.
R4= -255.155 R5= -500.
R6= οο
*1 R7= 3602.40
Tabelle 2 Dl= 15. D2= 450. D3= -244.844 D4= 244.844 D5= -450.
D6= -15.
Quarzglas
Luft
Spiegel
Spiegel
Spiegel
Quarzglas
Luft
(1) Figur AA
*1 R= 3602.40 B= -1.47378-10
D= -2.02057-10""18
AS ■ 3.01-10"2 (2) Figur AB
*1 R= 3602.40
B= -1.51799·10~8 D« -2.08118-10""18
AS = 3.10·10~2 (3) ^ Figur AC
*1 R= 3602.40
B= -1.54747-10
D= -2.12160-10
AS = 3.16-10"2
(4) Γ Figur «AD
*1 R« 3602.40
-8
-18
B= -1.36324-10
-8 C= 5.18559-10
E= 3.46421-10
-13
-23
C= 5.34115·10~13 E= 3.56813Ί0"23
C= 5.44486-10"13 E= 3.63742-10"23
C= 4.79667-10
-13
D= -1.86903-10"18 E= 3.20440-10"23
2.80·10
-2
*1 Rl= οο
*2 R2» οο
R3= -500.
R4= -255.155 R5= -500.
Tabelle 3 Dl= 15. D2= 469.97 D3= -244.844 D4= 244.844
D5= -469.97
Quarzglas
Luft
Spiegel
Spiegel
Spiegel
C= 5.16459·10
-13
E= -1.48093-10
-20
C= 2.05192-10""12
E= -3.58277-10"21
*2 R6= οο 06= -15. Quarzglas
*1 R7= οο Luft
(1) Figur 6A
*1 R = co
B= 1.43677-10"8
D= 1.38587-10""16
AS « 5.25-10"2
*2 R-oo B= 8.51816-10"9 D= -8.62761-10"17
AS = 4.93-10"2
(2) Figur 6B
*1 R » oo
B= 1.47980-10"8 C= 5.31950-10""13
D= 1.42744-10"16 E- -1.52535-10"20
US - 5.43-10"2 *2 R — oo
B= 8.77370-10"9 D= -8.88643-10"17
AS = 5.10-10"2
(3) Figur 6C
*1 R = oo
B= 1.50853-10"8 D= 1.45516-10"16
As = 5.55-10"2
*2 R = oo
B= 8.94407-10"9
-12
C= 2.11348-10 E= -3.69025-10"21
-13
C= 5.42280-10 E= -1.55497·10"20
C= 2.15451-10
-12
D= -9.05899-10"17 4S = 5.21-10"2
(4) Figur 6Ό
*1 R = oo B= -1.36486-10"8
D= 1.31658-10"16 AS = 4.95·10"2
*2 R« oo . B= 8.09225·1<Γ9
D= -8.19623 ΊΟ""17 AS = 4.65·10~2
E= -3.76190·10~21
C= 4.90636-10"13
E= -1.40688-10
-20
C= 1.94932·10""12
E= -3.40363*10
-21
Tabelle Dl= 11.03 D2= 394.48 D3= -279.07 D4- 279.07
D5= -394.48
Rl= -141.91
*1 R2« -148.58 R3« -551.15 R4- -267.18 R5= -551.15
*1 R6= -148.58 D6= -11.03
R7= -141.91 (1) Fd-gur 8A
*1 R= -148.58
B= -6.22051·10~10 C= 1.08912-10"13
D= -7.69172·10"18 E= 2.41287-10"22
Quarzglas
Luft
Spiegel
Spiegel
Spiegel
Quarzglas
Luft
-4
(2)
AS = 1.98*10
Figur 8B
*1 R= -148.58
- 21 -
B= -6.41775-10"10 D= -7.92240·10~18
AS = 2.03-10"4
(3) Figur 8C
*1 R= -148.58
B= -6.53152·10"10 D* -8.07631-10"18
AS = 2.08-10"*4
(4) Figur 8D
*1 R= -148.58 B= -6.06498-10""10
D= -7.49900-10"18
ÄS = 1.93-10"4
C= -7.92240-10"13 B= 2.48525·10"22
C= 1.14358-10"13 E= 2.53351·10~22
C= 1.06189-10"13 E= 2.35254Ί0"22
Rl= -141.91 R2= -148.58 R3= -551.15 R4= -267.18 R5= -551.15
R6= -148.58 R7= -141.91
Tabelle 5 Dl= 11.03 D2= 394.49 D3= -279.07 D4= 279.07
D5= -394.48 D6= -11.03
Quarzglas
Luft
Spiegel
Spiegel
Spiegel
Quarzglas
Luft
In dieser Beschreibung wird dieser asphärische Wert ÄS wie folgt definiert:
Δ S = ( ARH2 - Δ RHI)/ΔΗ
wobei Δ RHI und ARH2 die Werte der asphärischen Abweichung
von der sphärischen Bezugsfläche auf den Höhen Hl und H2 darstellen (siehe die Figuren 1OA und 10B).
Bei dem Wert " ARH2-ARH1" handelt es sich somit um die asphärische Abweichungsdifferenz. In Figur 1OB zeigt
die durchgezogene Linie A die Bezugsfläche mit einem Mittelpunkt 03, während die gestrichelte Linie B die
asphärische Fläche zeigt.
Bei der vorstehenden Gleichung für den asphärischen Wert AS kennzeichnet das Symbol " ΔΗ" den höheren
Bildbereich bogenförmiger Gestalt (siehe Figur 10A), der durch den Bereich "H2 - Hl" definiert und von der
asphärischen Linse L gebildet wird.
Aus den vorangehenden Tabellen kann man entnehmen, daß . der asphärische Wert AS zwischen 1/10 und 1/10 liegt
und daß dann, wenn der Wert as kleiner wird als 1/10 , die Änderung im Brechungsvermögen gering wird, wodurch
der Effekt der asphärischen Fläche verringert wird.
Folglich ist eine größere Schlitzbreite nicht mehr möglich. Wenn andererseits AS größer wird als 1/10, wird
die Änderung des Brechungsvermögens groß, so daß die Sagittalbildfläche s und die Meridianbildfläche m allmählich
voneinander getrennt werden. Hieraus folgt, daß ein größere Schlitzbreite nicht mehr möglich ist.
Aus den Tabellen geht ferner hervor, daß sich der zulässige Bereich des asphärischen Wertes δ S in Abhängigkeit
von der Abmessung der sphärischen Bezugsfläche ändert
Wenn die sphärische BezugsfläeheJRlgrößer ist als
1000mm, liegt ÄS zwischen 1/10 und 1/10. Wenn der
untere Grenzwert oder der obere Grenzwert überschritten werden, treten ähnliche Nachteile wie vorstehend besehr
i&ien auf. Wenn die sphärische Bezugsfläche IRI nicht
größer ist als 200mm, liegt der Wert ^s zwischen 1/10
und 1/10 . Wenn der untere Grenzwert und der obere Grenzwert überschritten werden, treten entsprechende Nachteile
auf.
Vorzugsweise soll die Abbesehe Zahl v>
des die asphärischen Linsen Ll, L2, L3 oder L4 bildenden Glases die folgende Bedingung erfüllen:
6Q< >) <
100.
Wenn die Abbe'sche Zahl ^ kleiner ist als 60, tritt eine
beträchtliche chromatische Aberration auf, die die nutzbaren Wellenlängenbereiche in signifikanter Weise begrenzt.
Ein optisches Glas mit einer Abbeschen Zahl y?
größer als 100 gibt es gegenwärtig nicht.
Bei jeder der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen sind der Konkavspiegel Ml und der Konvexspiegel M2 koaxial
zueinander angeordnet. Wenn bei einem derartigen optischen Reflektionssystem keine asphärische Linse
verwendet wird, wird der Hauptstrahl, der von einem Objektpunkt auf einer vorgegebenen Objekthöhe H 0 abgegeben
wird und parallel zur optischen Achse 0 verläuft, vom Konkavspiegel Ml reflektiert und trifft auf den
Scheitelpunkt des Konvexspiegels M2, bei dem es sich um den Schnittpunkt zwischen der Spiegelfläche und der
optischen Achse 0 handelt. Der vom Scheitelpunkt des
Konvexspiegels M2 reflektierte Hauptstrahl wird wiederum vom Konkavspiegel Ml reflektiert und parallel zur optischen
Achse auf die Bildebene gerichtet. Dieses optische System ist somit sowohl auf der Eingangsseite als auch auf der
Ausgangsseite telezentrisch. Bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen ist der vorstehend erwähnte
Punkt H 0 auf der Höhe H 1 (Figuren 1OA und 10B) oder auf einer Höhe angeordnet, die niedriger ist als der
Wert Hl. Aus diesem Grunde ist die asphärische Linse so angeordnet bzw. ausgebildet, daß sie eine ansteigende
negative Brechungskomponente besitzt, die mit Zunahme der Entfernung von der optischen Achse größer wird, wie
vorstehend beschrieben.
Wie vorstehend erläutert, wird das optische Reflektionssystem
in erfindungsgemäßer Weise mit einer asphärischen Linse versehen, mittels der die Sagittalbildfläche s
und die Meridianbildfläche m in bezug auf die Bildhöhen innerhalb des Korrekturbereiches in einem breiteren
Bereich überlagert werden. Dadurch kann der höhere BiId-.
bereich, d.h. die Schlitzbreite, vergrößert werden, wodurch die Belichtungszeit herabgesetzt werden kann.
Insbesondere ist die asphärische Linse nicht auf den Fall beschränkt, bei dem sie konzentrisch zu dem Konkavspiegel
Ml und dem Konvexspiegel M2 angeordnet ist. Im Gegensatz zu einem Linsensystem, das nur durch sphärische
Flächen gebildet wird, ist die Anordnung der asphärischen Linse keinen Beschränkungen unterworfen.
Eine angemessene Berücksichtigung der Korrektur durch die asphärische Fläche ist ausreichend. Auf diese Weise
kann daher ein optisches Reflektionss-ystem mit einer
besseren Funktionsweise in einfacher Weise zur Verfügung gestellt werden. Die Versuchsergebnisse zeigten eine
Vergrößerung des höheren Bildbereiches, wobei der Bildhöhenbereich h (Korrekturbereich) zwischen 100 und
90mm, d.h. die Schlitzbreite etwa 10mm, betragen konnte.
Eine mit einem optischen Reflektionssystem nach der Erfindung versehene Halbleiterbelichtungsvorrichtung
ist in den Figuren 11 und 12 dargestellt. Figur 11 zeigt die optische Anordnung der Belichtungsvorrichtung, bei
der ein optisches System zur Beleuchtung einer Maske vorgesehen ist. Das optische Beleuchtungssystem umfasst
einen sphärischen Spiegel 2, eine Lichtquelle 3, beispielsweise eine Quecksilberbogenlampe, eine Linse 4,
ein Filter 5, einen 45°-Spiegel 6 und eine Linse 7, die entlang der optischen Achse des optischen Beleuchtungssystems
angeordnet sind. Der Filter 5 dient dazu, die Lichtkomponente, gegenüber der ein Plättchen 9 sensitiv
ist, zu entfernen, und kann während eines Ausrichtungsvorganges für die Maske und das Plättchen in die Bahn
des Lichtes eingesetzt werden. Das optische Beleuchtungssystem 1 dient dazu, einen Beleuchtungsbereich bogenförmiger
Gestalt für die Maske 8 vorzusehen, so daß das optische Reflektionssystem einen Bildbereich bogenförmiger
Gestalt bildet. Die Maske 8 ist horizontal angeordnet und wird von einem nicht gezeigten Maskenhalter
bekannter Bauart gehalten. Unter der Maske 8 ist ein erfindungsgemäß ausgebildetes optisches Reflektionssystem
10 zur Erzeugung des Bildes der Maske 8 auf dem Plättchen 9 vorgesehen. Das optische Reflektionssystem 10 umfasst
einen Konkavspiegel Ml und einen Konvexspiegel M2 wie bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen.
Asphärische Linsen Ll und L2 besitzen entsprechende Funktionen wie die entsprechenden Elemente der vorhergehenden
Ausführungsformen. Die asphärischen Linsen Ll und L2 sind jedoch im Gegensatz zu den vorstehend be-
schriebenen Ausführungsformen voneinander getrennt, wobei eine (Ll) der Objektebene (Maske 8) und die andere (L2)
der Bildebene (Plättchen 9) zugeordnet ist. Das optische Reflektionssystem 10 umfasst desweiteren Spiegel 11 und
12 zur Ablenkung des Lichtes von der asphärischen Linse Ll und des Lichtes zu der asphärischen Linse L2. Das
Plättchen 9 wird von einem nicht gezeigten bekannten Plättchenhalter gelagert, der zur Feineinstellung in
X-, Y- und0-Richtung bewegbar ist.
Während des Ausrichtungsvorganges wird ein mikroskopisches optisches System 13 zwischen das optische Beleuchtungssystem
1 und die Maske 8 gesetzt, um unterscheiden zu können, ob sich die Maske 8 und das Plättchen 9 in vorgegebenen
Positionen relativ zueinander befinden. Wenn die Maske 8 und das Plättchen 9 diese vorgegebene Lagebeziehung
nicht aufweisen, wird der Plättchenhalter in X-, Y- und/oder θ -Richtung eingestellt, so daß das
Plättchen 9 relativ zur Maske 8 bewegt wird, bis die vorgegebene Lagebeziehung erreicht ist.
Figur 12 zeigt eine Aussenansicht der Belichtungsvorrichtung. Hierbei nimmt ein Lampengehäuse 20 das in Figur
11 gezeigte optische Beleuchtungssystem 1 auf. Eine Einheit 21 nimmt das mikroskopische optische Ausrichtungssystem 13 auf und kann vor- und zurückbewegt werden.
Die Belichtungsvorrichtung umfasst desweiteren ein Maskenträgerelement 22 und ein Plättchenträgerelement 23, die
über Verbindungselemente 24 miteinander verbunden sind, so daß sie zusammen als Einheit bewegt werden können.
Während die Trägerelemente 22 und 23 als Einheit bewegbar sind, ist das Plättchen 9 relativ zum Trägerelement
23 zur Durchführung einer Feineinstellung bewegbar.
An jedem Verbindungselement 24 ist ein Arm 25 befestigt, der von einer Führung 26 getragen wird. Die Führung
umfasst einen horizontal bewegbaren Mechanismus, über den die Trägerelemente 22 und 23 in Horizontalrichtung
als Einheit bewegbar sind. Die Belichtungsvorrichtung umfasst desweiteren einen Zylinderabschnitt 27, der das
optische Reflektions-/Abbildungssystem aufnimmt, eine Basis 28, einen Drehtisch 29 und eine automatische Zuführeinrichtung
30. Über diese automatische Zuführeinrichtung 30 wird das Plättchen 9 automatisch mit Hilfe
des Drehtisches 29 zum Plättchenträgerelement 23 geführt.
Im Betrieb der Belichtungsvorrichtung wird zuerst die Relativlage zwischen der Maske 8 und dem Plättchen 9
eingestellt, um eine Ausrichtung zwischen beiden zu erreichen. Während dieses Ausrichtungsvorganges wird
der Filter 5 in die Lichtbahn des optischen Beleuchtungssystems 1 eingesetzt. Hierbei erzeugen die Linsen
4 und 7 ein bogenförmiges Bild der Lichtquelle auf der Maske 8. Das Bild wird durch das Licht erzeugt,
gegenüber dem die Maske 8 unempfindlich ist. Gleichzeitig damit wird das optische mikroskopische System 13 zwischen
die Linse 7 und die Maske 8 gesetzt. Auf der Maske 8 und dem Plättchen 9 ausgebildete Ausrichtungsmarken werden
durch das mikroskopische System 13 beobachtet, und die Lagebeziehung zwischen diesen Ausrichtungsmarken
wird durch Betätigung des Plättchenträgerelementes reguliert. Nach Beendigung des Ausrichtungsvorganges
zwischen der Maske 8 und dem Plättchen 9 werden der Filter und das mikroskopische System 13 aus der optischen
Bahn herausbewegt. Zur gleichen Zeit wird die Lichtquelle 3 über einen nicht gezeigten Verschlußmechanismus
abgeschaltet oder blockiert. Danach wird die Lichtquelle 3 eingeschaltet oder der Verschlußmechanismus
für die Lichtquelle ausgelöst, so daß ein· bogenförmiges
Bild der Lichtquelle über das Licht, gegenüber dem das Plättchen 9 empfindlich ist, auf der Maske 8 ausgebildet
wird. Gleichzeitig damit beginnt der Arm 25 die Führung 26 in Horizontalrichtung zu bewegen. Durch diese Horizontalbewegung
wird das Bild der gesamten Maske 8 auf dem Plättchen 9 erzeugt oder "gedruckt".
Erfindungsgemäß wird somit ein optisches Reflektionssystem vorgeschlagen, das einen Konkavspiegel und einen
Konvexspiegel umfasst, die gegenüberliegende Reflektionsflächen aufweisen und koaxial zueinander angeordnet sind.
Das optische Reflektionssystem ist mit asphärischen Linsenabschnitten versehen, die zwischen einem Objektfeld
und dem Konkavspiegel und zwischen dem Konkavspiegel und einem Bildfeld angeordnet sind, so daß ein
breiterer höherer Bildbereich bogenförmiger Gestalt erreicht wird.
- Leerseite -
Claims (4)
1. Optisches Reflektionssysten, gekennzeichnet durch:
Einen Konkayspiegel (Ml) zur Aufnahme von Lichtstrahlen,
die von einem vorgegebenen Bereich eines Objektfeldes abgegeben werden, der innerhalb eines vorgegebenen
Höhenbereiches von der optischen Achse (O) des Konkavspiegels (Ml) liegt;
einen Konvexspiegel (M2), der koaxial zu dem Konkavsoiegel
(Ml) angeordnet ist und Lichtstrahlen aufnimmt, die von
Konkavspiegel reflektiert norden sind, sowie die reflektierten Lichtstrahlen auf den Konkavspiegel (Ml) richtet;
ein erstes asphärisches Elenent, das in der Bahn des von
Objektfeld zum Konkavspiegel (Ml) abgegebenen Lichtes angeordnet ist und die von Punkten des Objektfeldes abgegebenen
und parallel zur optischen Achse (O) verlaufenden Hauptlichtstrahlen auf einen Schnittpunkt
zwischen den Konvexspiegel (M2) und der optischen Achse richtet, nachden diese zun ersten Mal durch den
Onsdner Bank (München) Klo 3939844 Deutsche Bank (München) Kto 2861060 Postscheckamt (München) Kto 670-43-804
Konkavspiegel (Ml) reflektiert worden sind; und
ein zweites asphärisches Elenent, das in der Bahn des zum zweiten Male durch den Konkavspiegel (Ml) reflektierten
Lichtes angeordnet ist und die vorn Schnittpunkt zwischen dem Konvexspiegel (M2) und der optischen Achse
(0) abgegebenen Hauptlichtstrahlen parallel zur optischen Achse auf ein Bildfeld richtet.
2. Reflektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sowohl das erste als auch das zweite asphärische Element eine negative Brechungskomponente
besitzt, die mit zunehmendem Abstand von der oDtischen Achse (0) ansteigt.
3. Reflektionssystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste asphärische Elenent die
gleiche asphärische Oberflächenform besitzt wie das zweite asphärische Element und daß das erste und
zweite asphärische Elenent relativ zur ODtischen Achse (0) symmetrisch zueinander angeordnet sind.
A. Reflektionssystem nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das erste und zweite asphärische Element durch Abschnitte einer einstückig
ausgebildeten asphärischen Linse (Ll - LA) gebildet sind.
5. Reflektionssysten nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
#daß das erste oder zweite asphärische Element
aus Glas besteht, das eine Abbesche Zahl V aufweist, die die nachfolgende Bedingung erfüllt:
60 <
6. Reflektionssystem nach einen der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß es die nachfolgende Bedingung erfüllt:
1/104 * K ARH2- ARHl)/ΔΗ 4 1/10
wobei Δ H dsr zwischen einsr Höhe Hl von der optischen
Achse und einer Höhe H2, die größer ist als Hl, gebildete Bereich des Objektfeldes ist und ARHl und 4RH2
die Größe der asphärischen Abweichung auf den Höhen Hl und H2 von. der optischen Achse darstellen, wenn die
asphärische Abweichung von einer sohärischen Bezugsfläche des ersten oder zweiten asphärischen Elementes
in der Richtung, in der das negative Brechungsvermögen
.15 zunimnt, mit einen positiven Synbol gekennzeichnet ist.
7. Reflektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das erste oder zweite asnhärische Element
eine Linse urcfasst, die rait einer asohärischen Oberfläche
versehen ist, und daß das Systen die folgenden
Bedingungen erfüllt:
IRI > 1000
1/103 < 1(£RH2- ARHl)/ AHl
< 1/10 25
wobei R der Krünnungsradius der Linsenoberfläche,
4 H der Bereich des Objektfeldes, der zwischen einer
Höhe Hl von der optischen Achse und einer Höhe H2, die größer isfals Hl, ausgebildet ist, und 4RHl und Λ RH2
die Größen der asphärischen Abweichung von einer sphärischen Bezugsfläche der asphärischen Oberfläche
auf den Höhen Hl und H2 von der optischen Achse bedeuten,
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58201801A JPS6093410A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 反射光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3439297A1 true DE3439297A1 (de) | 1985-05-09 |
DE3439297C2 DE3439297C2 (de) | 1996-12-12 |
Family
ID=16447148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3439297A Expired - Lifetime DE3439297C2 (de) | 1983-10-27 | 1984-10-26 | Spiegellinsenobjektiv |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4688904A (de) |
JP (1) | JPS6093410A (de) |
DE (1) | DE3439297C2 (de) |
GB (1) | GB2150314B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2678742A1 (fr) * | 1991-07-04 | 1993-01-08 | Hugues Edgard | Systeme optique a miroirs de revolution sans obturation centrale. |
FR2721718A1 (fr) * | 1994-06-27 | 1995-12-29 | Dario Souhami | Objectif catadioptrique. |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0742854Y2 (ja) * | 1985-11-29 | 1995-10-04 | 矢崎総業株式会社 | 車両用表示装置 |
DE3752388T2 (de) * | 1986-07-11 | 2006-10-19 | Canon K.K. | Verkleinerndes Projektionsbelichtungssystem des Reflexionstyps für Röntgenstrahlung |
JPH0583717U (ja) * | 1992-04-13 | 1993-11-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 結像光学系 |
JP3037040B2 (ja) * | 1993-01-20 | 2000-04-24 | 日本電気株式会社 | 露光装置 |
JP3893626B2 (ja) * | 1995-01-25 | 2007-03-14 | 株式会社ニコン | 投影光学装置の調整方法、投影光学装置、露光装置及び露光方法 |
US7304737B1 (en) | 1995-09-20 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc | Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence |
US7304792B1 (en) * | 2003-08-25 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc. | System for sequentially providing aberation corrected electromagnetic radiation to a spot on a sample at multiple angles of incidence |
US5698941A (en) * | 1996-01-16 | 1997-12-16 | Motorola | Optical correction layer for a light emitting apparatus |
DE69728126T2 (de) * | 1996-12-28 | 2005-01-20 | Canon K.K. | Projektionsbelichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
JP3065017B2 (ja) | 1997-02-28 | 2000-07-12 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びデバイスの製造方法 |
WO1999052004A1 (fr) | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
US9429742B1 (en) * | 2011-01-04 | 2016-08-30 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US10095016B2 (en) | 2011-01-04 | 2018-10-09 | Nlight, Inc. | High power laser system |
US9409255B1 (en) | 2011-01-04 | 2016-08-09 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US9720244B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-08-01 | Nlight, Inc. | Intensity distribution management system and method in pixel imaging |
US9310248B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-04-12 | Nlight, Inc. | Active monitoring of multi-laser systems |
KR102099722B1 (ko) | 2014-02-05 | 2020-05-18 | 엔라이트 인크. | 단일-이미터 라인 빔 시스템 |
JP2022022911A (ja) * | 2020-07-10 | 2022-02-07 | キヤノン株式会社 | 結像光学系、露光装置、および物品製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4043643A (en) * | 1976-05-14 | 1977-08-23 | Kms Fusion, Inc. | Catadioptic telescope |
DE2801882A1 (de) * | 1977-02-11 | 1978-08-17 | Perkin Elmer Corp | Optisches system mit breitem, ringfoermigem abbildungsbereich und einfacher vergroesserung |
US4342503A (en) * | 1979-10-09 | 1982-08-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Catadioptric telescopes |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3748015A (en) * | 1971-06-21 | 1973-07-24 | Perkin Elmer Corp | Unit power imaging catoptric anastigmat |
US4293186A (en) * | 1977-02-11 | 1981-10-06 | The Perkin-Elmer Corporation | Restricted off-axis field optical system |
US4469414A (en) * | 1982-06-01 | 1984-09-04 | The Perkin-Elmer Corporation | Restrictive off-axis field optical system |
-
1983
- 1983-10-27 JP JP58201801A patent/JPS6093410A/ja active Granted
-
1984
- 1984-10-19 US US06/662,601 patent/US4688904A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-26 GB GB08427082A patent/GB2150314B/en not_active Expired
- 1984-10-26 DE DE3439297A patent/DE3439297C2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4043643A (en) * | 1976-05-14 | 1977-08-23 | Kms Fusion, Inc. | Catadioptic telescope |
DE2801882A1 (de) * | 1977-02-11 | 1978-08-17 | Perkin Elmer Corp | Optisches system mit breitem, ringfoermigem abbildungsbereich und einfacher vergroesserung |
US4342503A (en) * | 1979-10-09 | 1982-08-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Catadioptric telescopes |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2678742A1 (fr) * | 1991-07-04 | 1993-01-08 | Hugues Edgard | Systeme optique a miroirs de revolution sans obturation centrale. |
FR2721718A1 (fr) * | 1994-06-27 | 1995-12-29 | Dario Souhami | Objectif catadioptrique. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3439297C2 (de) | 1996-12-12 |
JPH0533368B2 (de) | 1993-05-19 |
GB2150314B (en) | 1986-12-10 |
GB8427082D0 (en) | 1984-12-05 |
GB2150314A (en) | 1985-06-26 |
JPS6093410A (ja) | 1985-05-25 |
US4688904A (en) | 1987-08-25 |
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