DE3228177A1 - Verfahren zur herstellung von silicium - Google Patents
Verfahren zur herstellung von siliciumInfo
- Publication number
- DE3228177A1 DE3228177A1 DE19823228177 DE3228177A DE3228177A1 DE 3228177 A1 DE3228177 A1 DE 3228177A1 DE 19823228177 DE19823228177 DE 19823228177 DE 3228177 A DE3228177 A DE 3228177A DE 3228177 A1 DE3228177 A1 DE 3228177A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- boron
- silicon
- sif4
- na2sif6
- sio2
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10778—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/023—Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
- C01B33/025—Preparation by reduction of silica or free silica-containing material with carbon or a solid carbonaceous material, i.e. carbo-thermal process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/10—Compounds containing silicon, fluorine, and other elements
- C01B33/103—Fluosilicic acid; Salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
- C01B33/184—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane by hydrolysis of tetrafluoride
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
-
- Verfahren zur Herstelluna von Silicium
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Silicium, bei dem SiF4 durch Hydrolyse in SiO2 umgewandelt wird, das dann mit Kohle in einem Lichtbogenofen zu Si reduziert wird.
- Bei den meisten bisherigen Verfahren zur Herstellung von Silicium werden relativ unreine Ausgangsmaterialien eingesetzt, aus denen dann ein Zwischenprodukt, beispielsse Silikochloroform (SiHCL3) gewonnen wird, das dann durch Reduktion mit Wasserstoff in Silicium umgewandelt wird. Damit nun das Silicium die notwendige Reinheit besitzt, muß das Zwischenprodukt, also in diesem Beispiel Silikochloroform, einem aufwendigen Reinigungsverfahren ausgesetzt werden.
- Es wurde auch bereits schon daran gedacht, möglichst reine natürliche Ausgangsmaterialien einzusetzen, um so das umständliche Reinigen des Zwischenprodukts zu vermeiden.
- Derartige Verfahren haben sich in der Praxis aber nicht durchgesetzt, da zur Entfernung von Bor ohnehin ein Reinigungsprozeß vorgenommen werden muß: Bei der Reduktion von Siliciumdioxid zu Silicium im Lichtbogen werden nämlich zahlreiche Verunreinigungen abgereichert. Dies gilt aber nicht für Bor, das zudem auch nicht durch die üblichen Weiterverarbeitungsmethoden von durch den Lichtbogenprozeß erhaltenem Silicium entfernt wird. Beispielsweise vermindert das tiegellose Zonenziehen praktisch alle Verunreinigungskonzentrationen mit der Ausnahme von Bor.
- Es ist daher Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung von Silicium zu schaffen, bei dem möglichst reine Ausgangsmaterialien verwendet werden, die dann auf einfache Weise von unerwünschtem Borgehalt befreit werden können, um so das aufwendige Reinigen eines Zwischenprodukts zu vermeiden.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß SiF4 hoher Reinheit durch Lösen in Wasser und Ausfällen mit NaF zu Na2SiF6 umgesetzt wird, das durch Umkristallisieren in Wasser von Bor und Borverbindungen gereinigt und dann durch Zersetzen bei hoher Temperatur in Si02 umgesetzt wird, und daß das SiO2 mit reinster Kohle zu Si reduziert wird.
- In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß das Reinigen des Na2SiF6 von Bor und Borverbindungen bei einer Temperatur von ca. 26 OC vorgenommen wird.
- Die Erfindung beschreitet also einen vollkommen anderen Weg als bisher übliche Verfahren: Es werden möglichst reine Ausgangsmaterialien benutzt, die in ein Zwischenprodukt umgesetzt werden, das auf besonders einfache Weise von Bor durch Umkristallisieren befreit werden kann.
- Die Reinigung von Si02 über Na2SiF6 als Zwischenprodukt ist sehr vorteilhaft, weil sich die entsprechende Borverbindung (NaBF4) gut in Wasser löst, nämlich bei 26 0C zu 52 %. Dagegen löst sich Na2SiF6 in Wasser nur äußerst wenig, nämlich etwa zu 0,68 % bei 20 OC Durch diesen, einen Faktor von nahezu 100 betragenden Unterschied in der Löslichkeit verbleiben die Borverunreinigungen beim Ausfällen von Na2SiF6 in der Mutterlauge und können so leicht abgetrennt bzw. abfiltriert werden.
- Beim abschließenden Lichtbogenprozeß werden ebenfalls zahlreiche Verunreinigungen abgereichert. Dies gilt aber nicht für Bor. Auch bei der Weiterverarbeitung des durch den Lichtbogenprozeß erhaltenen Siliciums, also beispielsweise beim tiegellosen Zonenziehen, werden praktisch alle Verunreinigungskonzentrationen mit Ausnahme von Bor und Borverbindungen vermindert.
- Das erfindungsgemäße Verfahren ist also ganz speziell an die Reduktion von SiO2 zu Si im Lichtbogenprozeß angepaßt. Durch Na2SiF6 als Zwischenprodukt können nämlich Bor und Borverbindungen relativ einfach abgesondert werden, was bei den anderen Prozeßschritten nicht erfolgt.
- Als reines und zugleich billiges Ausgangsmaterial bietet sich das bei der Herstellung von Phosphatdüngern aus Fluorapatit in großen Mengen anfallende SiF4 bzw. dessen Umwandlungsprodukte, beispielsweise H2SiF6 oder Na2SiF6 an. Diese Stoffe können zudem in einfacher Weise, beispielsweise durch Ionenaustausch oder Umkristallisation, nachgereinigt und anschließend durch Hydrolyse zu Quarzschlamm (SiO2) umgewandelt werden. Durch Umsetzung des reinen Quarzschlammes mit reinster Kohle wird dann im Lichtbogenofen reines Silicium gewonnen.
- Nachfolgend wird die Erfindung an Hand der Zeichnung näher erläutert, in deren einziger Figur ein Flußdiagramm zur Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt ist.
- Von der Düngemittelindustrie werden Abfälle gewonnen, die SiF4 enthalten (Schritt 1). Ebenso könnte als Ausgangsmaterial auch roher Quarzsand verwendet werden (Schritt 2).
- Aus diesen Abfällen bzw. aus dem rohen Quarzsand wird rohes SiF4 abgesondert (Schritt 3). Dieses SiF4 wird in Wasser gelöst, so daß Fluorokieselsäure entsteht (Schritt 4). Diese Fluorokieselsäure wird mit NaF ausgefällt (Schritt 5), so daß Na2SiF6 entsteht, das dann bei 400 oC zersetzt wird (Schritt 6), um so reines SiF4 zu erhalten.
- Anstelle der Schritte 5 und 6 kann auch zur Reinigung von SiF4 ein Ionentauschen (Schritt 7) vorgenommen werden.
- Das im Schritt 6 als Zusatzprodukt erhaltene NaF wird zum Schritt 5 rückgeführt, um so beim Ausfällen der Fluorokieselsäure wirksam zu sein.
- Zur Befreiung von Bor und Borverbindungen schließt sich ein Lösen in Wasser (Schritt 8) an, wodurch reines H2SiF6 erhalten wird, das sodann bei Rotglut (Schritt 9) oder bei 120 OC (Schritt 10) jeweils mit Wasser zersetzt wird.
- Auf diese Weise werden kristallines Si02 (Schritt 11) und schlammartiges Si02 (Schritt 12) erhalten, wobei jeweils noch Flußsäure (Schritt 13) abgesondert wird, die zusammen mit der im Schritt 5 erhaltenen Flußsäure zum Schritt 2 rückgeführt wird, um dort bei der Gewinnung von SiF4 (Schritt 3) verwendet zu werden. Aus dem kristallinen Quarz (Schritt 11) und dem Quarzschlamm (Schritt 12) wird sodann im Lichtbogenofen mittels Reduktion durch reinste Kohle Silicium gewonnen (Schritt 14). Die Flußsäure HF kann gegebenenfalls noch zur Aluminium gewinnung eingesetzt werden (Schritt 15).
- 1 Figur 2 Patentansprüche Leerseite
Claims (2)
- Patentansprüche 1. Verfahren zur Herstellung von Silicium, bei dem SiF4 durch Hydrolyse in SiO2 umgewandelt wird, das dann mit Kohle in einem Lichtbogenofen zu Si reduziert wird, da d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß SiF4 hoher Reinheit durch Lösen in Wasser und Ausfällen mit NaF zu Na2SiF6 umgesetzt wird, das durch Umkristallisieren in Wasser von Bor und Borverbindungen gereinigt und dann durch Zersetzen bei hoher Temperatur in SiO2 umgesetzt wird, und daß das SiO2 mit reinster Kohle zu Si reduziert wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß das Reinigen des Na2SiF6 von Bor und Borverbindungen bei einer Temperatur von ca. 26 OC vorgenommen wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823228177 DE3228177A1 (de) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | Verfahren zur herstellung von silicium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823228177 DE3228177A1 (de) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | Verfahren zur herstellung von silicium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3228177A1 true DE3228177A1 (de) | 1984-02-09 |
Family
ID=6169522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823228177 Withdrawn DE3228177A1 (de) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | Verfahren zur herstellung von silicium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3228177A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2451743A1 (de) * | 2009-07-08 | 2012-05-16 | SRI International | Verfahren zur wiederverwendung von ionischen halogeniden bei mässiger temperatur |
US20120256125A1 (en) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of complex fluoride and complex fluoride phosphor |
-
1982
- 1982-07-28 DE DE19823228177 patent/DE3228177A1/de not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2451743A1 (de) * | 2009-07-08 | 2012-05-16 | SRI International | Verfahren zur wiederverwendung von ionischen halogeniden bei mässiger temperatur |
EP2451743A4 (de) * | 2009-07-08 | 2013-04-10 | Stanford Res Inst Int | Verfahren zur wiederverwendung von ionischen halogeniden bei mässiger temperatur |
US20120256125A1 (en) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of complex fluoride and complex fluoride phosphor |
US8974696B2 (en) * | 2011-04-08 | 2015-03-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of complex fluoride and complex fluoride phosphor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2029056B2 (de) | Verfahren zum Entfernen von Fluor aus Abwässern | |
DD236511A5 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumtetrafluorid | |
DE1263718B (de) | Verfahren zur Herstellung von Fluorwasserstoff | |
DE2726182A1 (de) | Verfahren zur herstellung von phosphorsaeure | |
DE2635912A1 (de) | Verfahren zur reinigung von durch ein nassverfahren hergestellter phosphorsaeure unter erzielung von phosphorsaeure mit einem fuer lebensmittel geeigneten reinheitsgrad | |
DE2753868A1 (de) | Verfahren zur reinigung von gips enthaltendem natriumhexafluorosilikat | |
DE2612745C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Aluminiumfluorid | |
EP0527309A1 (de) | Verfahren zur abwasserfreien Aufarbeitung von Rückständen einer Chlorsilandestillation mit Salzsäure | |
DE3434611A1 (de) | Verfahren zur reinigung von phosphorsaeure | |
DE3228177A1 (de) | Verfahren zur herstellung von silicium | |
DE2447390C3 (de) | Verfahren zur Reinigung von Naßphosphorsäure | |
DE2649734A1 (de) | Verfahren zur herstellung von natriumfluorid aus natriumsilicofluorid | |
DE2930825C2 (de) | ||
DE2320877A1 (de) | Verfahren zur reinigung von durch nassaufschluss gewonnener phosphorsaeure | |
DE2757068B2 (de) | Verfahren zur Gewinnung von Gallium unter Aufbereitung von Aluminatlösungen aus dem Aufschluß von Nephelin o.a. minderwertigen aluminiumhaltigen Erzen | |
DE2535971A1 (de) | Verfahren zum entfernen von fluorverbindungen aus phosphorsaeure | |
DE2365882A1 (de) | Verfahren zur reinigung von durch nassaufschluss gewonnener phosphorsaeure durch loesungsmittelextraktion | |
DE1467131A1 (de) | Verfahren zum Aufschliessen von Phosphatmineralen mit Salpetersaeure | |
EP0230582A1 (de) | Verfahren zur Reinigung von Kieselsäure | |
DE2915129A1 (de) | Verfahren zur grosstechnischen gewinnung von magnesiumoxid hoher reinheit | |
EP0085343B1 (de) | Verfahren zur Reinigung von Nassverfahrensphosphorsäure | |
DE2043346C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kryolith | |
DE634756C (de) | Herstellung von Flusssaeure | |
DE2837694A1 (de) | Verfahren und extraktionsmittel zur herstellung von reiner phosphorsaeure | |
DE621713C (de) | Verfahren zum Aufschliessen von Rohphosphaten mit Chlorwasserstoff |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |