DE3133885C2 - Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von DimethylhydrogenchlorsilanInfo
- Publication number
- DE3133885C2 DE3133885C2 DE19813133885 DE3133885A DE3133885C2 DE 3133885 C2 DE3133885 C2 DE 3133885C2 DE 19813133885 DE19813133885 DE 19813133885 DE 3133885 A DE3133885 A DE 3133885A DE 3133885 C2 DE3133885 C2 DE 3133885C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gas
- reaction
- hydrogen chloride
- tetramethyl
- production
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/123—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-halogen linkages
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan durch Umsetzung von 1.1.3.3.-Tetramethyl-1.3-dihydrogendisiloxan mit Chlorwasserstoff.
Description
trennung der wäßrigen Phase und langsamen Aufwärmen auf Raumtemperatur wurde eine Probe des Produktes
gaschromatographisch untersucht Sie bestand zu 98,1% aus DnnethyUiydrogenchlorsflan.
5 Beispiel 3
In einem 4-1-Autoklaven mit Ruhrer wurden 1000 g
1.133.-Tetramethyl-13-<iihydrogendisiloxan vorgelegt
und aus einer HO-Bombe bei Raumtemperatur unter Rühren 15 bar Chlorwasserstoffgas aufgedrückt. Der
Druck Sei zu Beginn relativ schnell ab, wurde dann aber immer wieder auf 15 bar erhöht. Mit fortschreitender
Umsetzung nahm der HO-Verbrauch ab. Nach 3 Stunden war kein HO-Verbrauch mehr zu erkennen. Der is
Autoklav wurde vorsichtig entspannt und die Mischung zum Entgasen und Absitzen der beiden Phasen eine
halbe Stunde st£t«n gelassen. Ein Gaschromatogramm
der oberen Phase zeigte einen Gehalt von 98,6% DirnethyihydrogenchlorsQan.
25
30
45
55
60
65
Claims (1)
1 2
Salzsäure ab. Die obere Phase enthält das gewünschte
Patentanspruch: Dimethylhydrogenchlorsflaii zu etwa 75 Gew.-% neben
Aosgangsprodukt, wenn man bei Normaldruck und
Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydro- Raumtemperatur gearbeitet haL
genchlorsDan aus l.i33.-Tetramethyl-13-dfliydro- 5 In einer anderen Ausführungsform der vorliegenden
gendisDoxan, dadurch gekennzeichnet, Erfindung kann die Reaktion auch bei niedrigen TempedaB
man 1.133--TetramethyI-13 Jihydrogendisilo- raturen (etwa +5 bis—20°C) durchgeführt werden. Unxan
bei Temperaturen von 30 bis —200C mit Chlor- ter diesen Bedingungen entsteht die Verbindung in der
wasserstoffumsetzt. oberen Phase in einer Konzentration von
10 98—99Gew.-%.
Eine weitere Ausführungsform stellt die Umsetzung
unter erhöhtem Chlorwasserstoffdruck dar. Führt man die Reaktion bei Raumtemperatur unter HCl-Über-
Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfah- druck aus (bis etwa 20 bar) erhält man ebenfalls Konren
zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan 15 zentranbnen von fiber 98 Gew.-%. Besonders schnell
durch Reaktion von Chlorwasserstoffgas mit und weitgehend verläuft die Reaktion unter Druck bei
1.133L-Tetramethyl-13-dihydrogendisiloxan gemäß tiefen Temperaturen.
dem Anspruch. Die Ausgangsverbindung 1.133.-Tetramethyl-
idh das unter anderem als 13-dihydrogendisBoxan iäßi sich durch Hydrolyse und
j yg yy
Ausgangsprodukt bei der Herstellung von Suiconhar- 20 anschließende Aufarbeitung der oben beschriebenen zen mit endständigen Si—Η-Gruppen benötigt wird. Fraktion der Methylchlorsilan-Destillation rein herstelkann auf verschiedenen Wegen hergestellt werden, zum len. Die Spaltung der Substanzen mit Chlorwasserstoff-Beispiel durch Methyfienmg von Methylhydrogendi- gas läßt sich aber auch mit unreiner Ausgangsverbinchlorsilan mit Methylmagnesiumchiorid. Diese Umset- dung durchführen.
Ausgangsprodukt bei der Herstellung von Suiconhar- 20 anschließende Aufarbeitung der oben beschriebenen zen mit endständigen Si—Η-Gruppen benötigt wird. Fraktion der Methylchlorsilan-Destillation rein herstelkann auf verschiedenen Wegen hergestellt werden, zum len. Die Spaltung der Substanzen mit Chlorwasserstoff-Beispiel durch Methyfienmg von Methylhydrogendi- gas läßt sich aber auch mit unreiner Ausgangsverbinchlorsilan mit Methylmagnesiumchiorid. Diese Umset- dung durchführen.
zung liefert ein Gemisch verschiedener mehr oder weni- 25 Der Prozeß kann entsprechend Verfahrensweisen
ger methyüerter Hydrogenchlorsilane aus dem die ge- und Trennoperationen, die dem Stand der Technik entwünschte
Substanz nur sehr schwer rein zu isolieren ist. sprechen auch kontinuierlich gestaltet werden.
Auch bei der Reduktion von Dimethykfichlorsuan mit Mit dem erfmdungsgemäßen Verfahren gelingt es, in zum Beispiel LiAlH4 erhält man eine Mischung ver- besonders einfacher Weise Dimethylhydrogenchlorsilan schiedener Silane, deren Trennung schwer und gefahr- 30 sehr rein herzustellen. Es wird als Ausgangsprodukt für lieh ist, da auch wasserstoffreiche Verbindungen entste- spezielle Siliconverbindungen wie zum Beispiel Siliconhen. Eine technische Quelle für die Substanz ist bisher ölen und Harzen mit Dimethylhydrogenchlorsiloxydie Rochow-Synthese von Methyfchlorsilanen aus Silizi- gruppen benötigt
Auch bei der Reduktion von Dimethykfichlorsuan mit Mit dem erfmdungsgemäßen Verfahren gelingt es, in zum Beispiel LiAlH4 erhält man eine Mischung ver- besonders einfacher Weise Dimethylhydrogenchlorsilan schiedener Silane, deren Trennung schwer und gefahr- 30 sehr rein herzustellen. Es wird als Ausgangsprodukt für lieh ist, da auch wasserstoffreiche Verbindungen entste- spezielle Siliconverbindungen wie zum Beispiel Siliconhen. Eine technische Quelle für die Substanz ist bisher ölen und Harzen mit Dimethylhydrogenchlorsiloxydie Rochow-Synthese von Methyfchlorsilanen aus Silizi- gruppen benötigt
ummetall und Methylchlorid, bei der auch Dimethylhy- Die folgenden Beispiele sollen das Verfahren näher
drogenchlorsilan in geringen Mengen gebildet wird und 35 erläutern,
bei der anschließenden fraktionierten Destillation der
bei der anschließenden fraktionierten Destillation der
Methylchlorsilane zusammen mit anderen, ähnlich sie- Beispiel 1
denden Methylchlorsilane und Kohlenwasserstoffen als
denden Methylchlorsilane und Kohlenwasserstoffen als
Nebenprodukt anfällt. Wegen der ähnlich siedenden In einem mit Stickstoff gefüllten 1-1-GIaskolben mit
Beimischungen ist eine destiUative IsoUerung der Sub- 40 Rührer, Gaseinleitungsrohr mit Blasenzähler und Fritstanz
jedoch nur mit unvertretbar hohem Aufwand tenausgang, Gasableitungsrohr mit Blasenzähler und eimöglich.
nem Ablaßstutzen mit Hahn an der untersten Stelle des Die vorliegende Erfindung zeigt nun einen neuen, ein- Kolbens wurden 500 g 1.133.-Tetramethyl-13-dihydrofachen
Weg zur Herstellung von Dimethylhydrogen- gendisiloxan vorgelegt Ober 3 Stunden wurde unter
chlorsilan auf. Erstaunlicherweise kann man nämlich 45 Rühren ein so starker HO-Gasstrom durch das Einleit-1.133.-Tetramethyl-13-dihydrogendisuoxan
mit Chlor- rohr mit Fritte in die Flüssigkeit geleitet, daß der Blasenwasserstoff
zu der gewünschten Verbindung und Was- zähler am Ausgang des Kolbens nur eij&sn ganz schwaser
umsetzen nach: chen Gasstrom anzeigte. Der eingeleitete Chlorwasserstoffstrom
mußte mit zunehmender Zeit immer mehr
(CU\.<li η <uit-vt\. ^ OH^i M gedrosselt werdrn. Nach 3 Stunden nahm die inzwi-
lCH,j,&i— o— Si(CH3), + 2HCl sehe,, ^be gewordene Flüssigkeit kein HCl-Gas mehr
I I auf. Nun wurde der Rührer abgestellt und das Gaseinlei-
** H tungsrohr entfernt Beim Stehen über eine halbe Stunde
bildeten sich zwei wasserhelle, klare Phasen im Kolben,
* 2(CHj)2SiCl + HjO 55 deren Phasengrenzfläche nur schwach zu erkennen war.
I Die untere wäßrige Salzsäurephase wurde über den
H Auslaß am Boden des Kolbens abgelassen. Im Kolben
blieben 638 g der oberen Phase zurück. Ein Gaschroma-
Weder die Si—Cl-Gruppe nach die Si—Η-Bindung togramm zeigte, daß sie zu 73,4% aus Dimethylhydro-
werden unter den erfindungsgemäßen Bedingungen von 60 genchlorsilan bestand,
dem entstehenden Wasser hydrolysiert
dem entstehenden Wasser hydrolysiert
Man führt die Umsetzung bei Temperaturen von et- B e i s ρ i e I 2
wa 30° C oder darunter durch. Dazu läßt man fein verteiltes Chlorwasserstoffgas unter Rühren in 1.133.-Tet- Die Umsetzung entsprechend Beispiel 1 wurde bei ramethyI-13-dihydrogendisiloxan perlen, bis kein HCI 65 einer Produkttemperatur von—18°C wiederholt Dazu mehr aufgenommen wird. Dann stellt man Rührer und war der Kolben mit einer gläsernen Kühlschüssel umge-HCl-Zufuhr ab und läßt die Mischung sich absetzen. ben, in die das Ablaßrohr eingeschmolzen war. Die Dabei trennt sich eine untere Phase von gesättigter Durchführung war sonst gleich mit Beispiel 1. Nach Ab-
wa 30° C oder darunter durch. Dazu läßt man fein verteiltes Chlorwasserstoffgas unter Rühren in 1.133.-Tet- Die Umsetzung entsprechend Beispiel 1 wurde bei ramethyI-13-dihydrogendisiloxan perlen, bis kein HCI 65 einer Produkttemperatur von—18°C wiederholt Dazu mehr aufgenommen wird. Dann stellt man Rührer und war der Kolben mit einer gläsernen Kühlschüssel umge-HCl-Zufuhr ab und läßt die Mischung sich absetzen. ben, in die das Ablaßrohr eingeschmolzen war. Die Dabei trennt sich eine untere Phase von gesättigter Durchführung war sonst gleich mit Beispiel 1. Nach Ab-
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813133885 DE3133885C2 (de) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813133885 DE3133885C2 (de) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3133885A1 DE3133885A1 (de) | 1983-03-10 |
DE3133885C2 true DE3133885C2 (de) | 1986-03-27 |
Family
ID=6140228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813133885 Expired DE3133885C2 (de) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3133885C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780556A (en) * | 1987-02-06 | 1988-10-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing chlorosilanes |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2500761A (en) * | 1947-06-19 | 1950-03-14 | Gen Electric | Preparation of organo-substituted halogenosilanes |
DE2141881A1 (de) * | 1970-08-21 | 1972-02-24 | Rhone Poulenc S A , Paris | Verfahren zur Herstellung von Chlor silanen aus Disiloxanen |
JPS5592392A (en) * | 1979-01-05 | 1980-07-12 | Toyama Chem Co Ltd | Preparation of tri-substituted halogenosilane |
-
1981
- 1981-08-27 DE DE19813133885 patent/DE3133885C2/de not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2500761A (en) * | 1947-06-19 | 1950-03-14 | Gen Electric | Preparation of organo-substituted halogenosilanes |
DE2141881A1 (de) * | 1970-08-21 | 1972-02-24 | Rhone Poulenc S A , Paris | Verfahren zur Herstellung von Chlor silanen aus Disiloxanen |
JPS5592392A (en) * | 1979-01-05 | 1980-07-12 | Toyama Chem Co Ltd | Preparation of tri-substituted halogenosilane |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Studies in Soviet Science, The Siloxane Bond, Physical Properties and Chemical Transfractions, Consultants Bureau-New York u. London 1978, S. 90ff. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3133885A1 (de) | 1983-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0032376B1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von SiOC-Gruppen aufweisenden Silanen oder SiOC-Gruppen aufweisenden Polysiloxanen | |
EP2318384B1 (de) | Verfahren zur herstellung von epichlorydrin aus glyzerin | |
DE2409731C2 (de) | Verfahren zur Veresterung von Trichlorsilan | |
DE2247873A1 (de) | Verfahren zur herstellung von silanen | |
DE3133885C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethylhydrogenchlorsilan | |
DE60201337T2 (de) | Kontinuierliche umesterung von alkoxysilanen | |
DE1289842B (de) | Verfahren zur Spaltung von Disilanen | |
FI65215B (fi) | Foerfarande och anordning foer framstaellning av alkoholhaltiga fosforsyraloesningar av sura fosfat | |
EP2935091B1 (de) | Verfahren zum hydrieren höherer halogen-haltiger silanverbindungen | |
CN103333200A (zh) | 一种正丁基氨丙基三烷氧基硅烷的合成方法 | |
CN107986971A (zh) | 一种硝酸环己酯的制备方法 | |
DE4240311A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkylnitriten | |
DE10355696A1 (de) | Verfahren zur Trennung eines Phosphorpentafluorid-Chlorwasserstoff-Gemisches bzw. zur Anreicherung von Phosphorpentafluorid in einem Phosphorpentafluorid-Chlorwasserstoff-Gemisch | |
DE2033373A1 (en) | Alkoxy silane prepn | |
KR950008887B1 (ko) | 이소프로필 알콜 정제방법 | |
DE3013920C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Triorganomonochlorsilan | |
CN106946829A (zh) | 一种利用残液生产色甘酸钠原料药的方法 | |
DE2141881A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Chlor silanen aus Disiloxanen | |
CN104671219A (zh) | 一种硫酰氯分离提纯工艺 | |
DE1094261B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- oder Alkylhalogensilanen | |
CN111356671A (zh) | 从2-乙基己醇工艺的循环流中回收乙基己醇 | |
DE2645792A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hexamethyldisilazan | |
DE3431839A1 (de) | Verfahren zur herstellung von trialkylorganoxysilanen | |
JPH10265429A (ja) | 高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方法 | |
DE4021870A1 (de) | Verfahren zur herstellung von ditertiaerbutoxydiacetoxysilan |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |