JPH10265429A - 高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方法 - Google Patents
高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方法Info
- Publication number
- JPH10265429A JPH10265429A JP10060927A JP6092798A JPH10265429A JP H10265429 A JPH10265429 A JP H10265429A JP 10060927 A JP10060927 A JP 10060927A JP 6092798 A JP6092798 A JP 6092798A JP H10265429 A JPH10265429 A JP H10265429A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cpmk
- column
- distillation
- methyl ketone
- cyclopropyl methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D307/28—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/81—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C45/82—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S203/00—Distillation: processes, separatory
- Y10S203/20—Power plant
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２−アセチルブチロラクトンからのシクロプ
ロピルメチルケトンの合成から生じうるシクロプロピル
メチルケトン、４，５−ジヒドロ−２−メチルフラン、
４，５−ジヒドロ−２−メチルフランの付加生成物なら
びに場合によってはさらなる不純物を含有している反応
排出物もしくは混合物を使用することによる、著しく良
好な収率での高純度ＣＰＭＫの簡単な製造方法の提供。 【解決手段】 精留によって分離すべき混合物の塔底部
の上の精留装置への側面供給を伴った少なくとも１つの
連続的に行なわれる精留段階を含む。
ロピルメチルケトンの合成から生じうるシクロプロピル
メチルケトン、４，５−ジヒドロ−２−メチルフラン、
４，５−ジヒドロ−２−メチルフランの付加生成物なら
びに場合によってはさらなる不純物を含有している反応
排出物もしくは混合物を使用することによる、著しく良
好な収率での高純度ＣＰＭＫの簡単な製造方法の提供。 【解決手段】 精留によって分離すべき混合物の塔底部
の上の精留装置への側面供給を伴った少なくとも１つの
連続的に行なわれる精留段階を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２−アセチルブチ
ロラクトン（ＡＢＬ）からのＣＰＭＫの合成から生じう
るＣＰＭＫ、４，５−ジヒドロ−２−メチルフラン（Ｄ
ＨＭＦ）、ＤＨＭＦの付加生成物ならびに場合によって
はさらなる不純物を含有している反応排出物ないしは混
合物からの高純度シクロプロピルメチルケトン（ＣＰＭ
Ｋ）の製造方法に関する。
ロラクトン（ＡＢＬ）からのＣＰＭＫの合成から生じう
るＣＰＭＫ、４，５−ジヒドロ−２−メチルフラン（Ｄ
ＨＭＦ）、ＤＨＭＦの付加生成物ならびに場合によって
はさらなる不純物を含有している反応排出物ないしは混
合物からの高純度シクロプロピルメチルケトン（ＣＰＭ
Ｋ）の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＰＭＫは、農業用及び医薬用の作用物
質の合成のために高純度で必要とされる価値の高い中間
体である。農業用及び医薬用の分野についての合成成分
としてのＣＰＭＫの使用に対しては、純度＞９９重量％
が要求される。
質の合成のために高純度で必要とされる価値の高い中間
体である。農業用及び医薬用の分野についての合成成分
としてのＣＰＭＫの使用に対しては、純度＞９９重量％
が要求される。
【０００３】ＣＰＭＫは、ＡＢＬをアルカリ金属ハロゲ
ン化物の触媒によってＣＯ2−分離下に環化することに
よって、特に有利にＡＢＬから製造されることができる
（Chemistry Letters 11, 1149〜52頁(1975)）。この製
造は、アルカリ金属ハロゲン化物を高められた温度で溶
剤中に装入し、かつＡＢＬを連続的に計量供給すること
によって、連続的に実施することができる。反応の場合
には主要生成物ＣＰＭＫの他にＤＨＭＦも通常５〜３０
重量％の含量をもって生じるので、反応の価値のある生
成物として同時に反応の際に常にＣＰＭＫとＤＨＭＦの
混合物が連続的に留去される。相応する製造方法は、例
えば欧州特許出願公開第０５５２５８６号明細書又はド
イツ国特許出願公開第１９５０３２４１号明細書から公
知である。しかし、このようにして獲得されたＣＰＭＫ
は、ＤＨＭＦの含量のために上記の純度の要求を満足さ
せていない。
ン化物の触媒によってＣＯ2−分離下に環化することに
よって、特に有利にＡＢＬから製造されることができる
（Chemistry Letters 11, 1149〜52頁(1975)）。この製
造は、アルカリ金属ハロゲン化物を高められた温度で溶
剤中に装入し、かつＡＢＬを連続的に計量供給すること
によって、連続的に実施することができる。反応の場合
には主要生成物ＣＰＭＫの他にＤＨＭＦも通常５〜３０
重量％の含量をもって生じるので、反応の価値のある生
成物として同時に反応の際に常にＣＰＭＫとＤＨＭＦの
混合物が連続的に留去される。相応する製造方法は、例
えば欧州特許出願公開第０５５２５８６号明細書又はド
イツ国特許出願公開第１９５０３２４１号明細書から公
知である。しかし、このようにして獲得されたＣＰＭＫ
は、ＤＨＭＦの含量のために上記の純度の要求を満足さ
せていない。
【０００４】ＤＨＭＦは、ＣＰＭＫより十分に低沸点で
あり、かつ従って基本的に問題なく、を高い純度で得る
ために蒸留によりＣＰＭＫから分離することができる。
あり、かつ従って基本的に問題なく、を高い純度で得る
ために蒸留によりＣＰＭＫから分離することができる。
【０００５】しかしながら、ＤＨＭＦは、酸の存在下で
数多くの求核性試薬、例えば水、アルコール、アミン等
と反応して高沸点の付加生成物になる（Houben/Weyl: M
ethoden der organischen Chemie, 第VI/3巻, 1965, 69
8頁参照）。ＤＨＭＦへの水の付加の場合には、例え
ば、それ自体が再度ＤＨＭＦに付加することができるア
セトプロパノールが生じる。この付加反応は、可逆的で
あり、その結果、高められた温度でアセトプロパノール
又はＤＨＭＦへのその付加生成物ないしはＤＨＭＦへの
他の付加生成物は、脱離ないしは環化によってＤＨＭＦ
を遊離することができる。
数多くの求核性試薬、例えば水、アルコール、アミン等
と反応して高沸点の付加生成物になる（Houben/Weyl: M
ethoden der organischen Chemie, 第VI/3巻, 1965, 69
8頁参照）。ＤＨＭＦへの水の付加の場合には、例え
ば、それ自体が再度ＤＨＭＦに付加することができるア
セトプロパノールが生じる。この付加反応は、可逆的で
あり、その結果、高められた温度でアセトプロパノール
又はＤＨＭＦへのその付加生成物ないしはＤＨＭＦへの
他の付加生成物は、脱離ないしは環化によってＤＨＭＦ
を遊離することができる。
【０００６】ＣＰＭＫとＤＨＭＦからの粗製混合物は中
に常に、上記方法でＤＨＭＦを可逆的に高沸点物質に変
換する僅かな水量又は別の求核反応する不純物も存在し
ている。従ってＤＨＭＦを分離するためのＣＰＭＫの精
留は、塔底部温度に依存して高沸点ＤＨＭＦ−付加生成
物の再分裂がもたらされ、ひいては蒸留の後方でのＤＨ
ＭＦによるＣＰＭＫの汚染が改めてもたらされる。即
ち、ＣＰＭＫの精留の場合には常に塔底部温度に依存し
たＤＨＭＦの付加生成物の再分裂によるＣＰＭＫの汚染
の問題が存在する。これまでの蒸留の場合に必要とされ
る塔底部温度１１０〜１８０℃のために、純度の維持の
ために、蒸留の前方及び後方での留分からの更なるＤＨ
ＭＦを分離除去する必要性が生じる。しかし、このよう
な状況は、高い技術的出費を要求し、かつＣＰＭＫの収
率の負荷に至る。
に常に、上記方法でＤＨＭＦを可逆的に高沸点物質に変
換する僅かな水量又は別の求核反応する不純物も存在し
ている。従ってＤＨＭＦを分離するためのＣＰＭＫの精
留は、塔底部温度に依存して高沸点ＤＨＭＦ−付加生成
物の再分裂がもたらされ、ひいては蒸留の後方でのＤＨ
ＭＦによるＣＰＭＫの汚染が改めてもたらされる。即
ち、ＣＰＭＫの精留の場合には常に塔底部温度に依存し
たＤＨＭＦの付加生成物の再分裂によるＣＰＭＫの汚染
の問題が存在する。これまでの蒸留の場合に必要とされ
る塔底部温度１１０〜１８０℃のために、純度の維持の
ために、蒸留の前方及び後方での留分からの更なるＤＨ
ＭＦを分離除去する必要性が生じる。しかし、このよう
な状況は、高い技術的出費を要求し、かつＣＰＭＫの収
率の負荷に至る。
【０００７】真空にすることによる塔底部温度の低下ひ
いてはＤＨＭＦ−付加生成物の再分解及びこのことによ
って惹起されるＣＰＭＫの汚染の防止は、比較的低い沸
点のＣＰＭＫの縮合のための技術的出費が過大であるた
めに排除される。
いてはＤＨＭＦ−付加生成物の再分解及びこのことによ
って惹起されるＣＰＭＫの汚染の防止は、比較的低い沸
点のＣＰＭＫの縮合のための技術的出費が過大であるた
めに排除される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、装入物質として２−アセチルブチロラクトン（ＡＢ
Ｌ）からのＣＰＭＫの合成から生じうるＣＰＭＫ、ＤＨ
ＭＦ、ＤＨＭＦの付加生成物ならびに場合によってはさ
らなる不純物を含有している反応排出物ないしは混合物
を使用することによる、著しく良好な収率での高純度Ｃ
ＰＭＫの簡単な製造方法を提供することである。
は、装入物質として２−アセチルブチロラクトン（ＡＢ
Ｌ）からのＣＰＭＫの合成から生じうるＣＰＭＫ、ＤＨ
ＭＦ、ＤＨＭＦの付加生成物ならびに場合によってはさ
らなる不純物を含有している反応排出物ないしは混合物
を使用することによる、著しく良好な収率での高純度Ｃ
ＰＭＫの簡単な製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明によ
れば、請求項１によれば、精留によって分離すべき混合
物の塔底部の上の精留装置中への側面供給を伴った少な
くとも１つの連続的に行なわれる精留段階を特徴とす
る、ＡＢＬからのＣＰＭＫの合成から生じうるＣＰＭ
Ｋ、ＤＨＭＦ、ＤＨＭＦの付加生成物及び場合によって
はさらなる不純物を含有している反応排出物又は他の混
合物からの高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方
法によって解決される。
れば、請求項１によれば、精留によって分離すべき混合
物の塔底部の上の精留装置中への側面供給を伴った少な
くとも１つの連続的に行なわれる精留段階を特徴とす
る、ＡＢＬからのＣＰＭＫの合成から生じうるＣＰＭ
Ｋ、ＤＨＭＦ、ＤＨＭＦの付加生成物及び場合によって
はさらなる不純物を含有している反応排出物又は他の混
合物からの高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方
法によって解決される。
【００１０】意外にも本発明による方法を用いて純度＞
９９重量％を有する高純度ＣＰＭＫを高い収率で製造す
ることができる。本発明によれば高純度ＣＰＭＫの９０
％を越える収率（本発明によって処理すべき出発混合物
に対して）を達成することができる。
９９重量％を有する高純度ＣＰＭＫを高い収率で製造す
ることができる。本発明によれば高純度ＣＰＭＫの９０
％を越える収率（本発明によって処理すべき出発混合物
に対して）を達成することができる。
【００１１】このことは、塔底部中に入っているその際
に分離すべき混合物の量が、これまでの精留による方法
と比較して減少される、本発明による、精留によって分
離すべき混合物の塔底部の上の精留装置中への側面供給
を伴った連続的に行なわれる精留段階によって可能とな
る。塔底釜中の本発明によれば処理すべき出発混合物の
常に小さな部分量のみの受器を備えた、本発明による精
留段階は、場合によっては更なる蒸留による処理段階を
含む、出発混合物の処理全体のあいだの塔底部温度を１
６０℃以下、有利に１４０℃以下、特に有利に１２０℃
以下に低下させることを可能にする。このことによって
ＤＨＭＦの付加生成物の再分解は、抑制され、かつ高純
度ＣＰＭＫの獲得が達成される。
に分離すべき混合物の量が、これまでの精留による方法
と比較して減少される、本発明による、精留によって分
離すべき混合物の塔底部の上の精留装置中への側面供給
を伴った連続的に行なわれる精留段階によって可能とな
る。塔底釜中の本発明によれば処理すべき出発混合物の
常に小さな部分量のみの受器を備えた、本発明による精
留段階は、場合によっては更なる蒸留による処理段階を
含む、出発混合物の処理全体のあいだの塔底部温度を１
６０℃以下、有利に１４０℃以下、特に有利に１２０℃
以下に低下させることを可能にする。このことによって
ＤＨＭＦの付加生成物の再分解は、抑制され、かつ高純
度ＣＰＭＫの獲得が達成される。
【００１２】本発明による方法は、その実施において著
しく簡単であり、それというのも本発明による精留段階
にこれまでの精留装置を使用することができるからであ
る。既述のとおり、出発混合物の、本発明による処理方
法は、上記の段階の他に別の、例えば蒸留による、処理
段階を含む。
しく簡単であり、それというのも本発明による精留段階
にこれまでの精留装置を使用することができるからであ
る。既述のとおり、出発混合物の、本発明による処理方
法は、上記の段階の他に別の、例えば蒸留による、処理
段階を含む。
【００１３】本発明による方法の有利な実施態様の場合
には、先ず、ＣＰＭＫに比較して低沸点であるＤＨＭＦ
の部分が分離すべき出発混合物から留去される。この蒸
留は、連続的又は不連続的に有利に１２０℃未満の塔底
部温度で行なうことができる。引き続き、生じた、特に
なおＤＨＭＦの高沸点付加生成物によってか又は２−ア
セチルブチロラクトン（ＡＢＬ）からのＣＰＭＫの合成
から生じうるさらなるなる化合物によって汚染されてい
る粗製ＣＰＭＫは、塔底部の上で蒸留塔中に側面から計
量導入される。蒸留塔頭頂部で、定常の運転で純度＞９
９重量％を有するＣＰＭＫが取り出され、この際、塔底
部温度は、１６０℃、有利に１４０℃、特に有利に１２
０℃を越えない。分離すべき出発混合物中のＣＰＭＫ含
量に対して、高純度ＣＰＭＫの蒸留による９５％より大
きな収率が達成されることができる。
には、先ず、ＣＰＭＫに比較して低沸点であるＤＨＭＦ
の部分が分離すべき出発混合物から留去される。この蒸
留は、連続的又は不連続的に有利に１２０℃未満の塔底
部温度で行なうことができる。引き続き、生じた、特に
なおＤＨＭＦの高沸点付加生成物によってか又は２−ア
セチルブチロラクトン（ＡＢＬ）からのＣＰＭＫの合成
から生じうるさらなるなる化合物によって汚染されてい
る粗製ＣＰＭＫは、塔底部の上で蒸留塔中に側面から計
量導入される。蒸留塔頭頂部で、定常の運転で純度＞９
９重量％を有するＣＰＭＫが取り出され、この際、塔底
部温度は、１６０℃、有利に１４０℃、特に有利に１２
０℃を越えない。分離すべき出発混合物中のＣＰＭＫ含
量に対して、高純度ＣＰＭＫの蒸留による９５％より大
きな収率が達成されることができる。
【００１４】別の特に有利な実施態様の場合には本発明
による方法は、もっぱら、高純度ＣＰＭＫの製造のため
の唯一の連続的に行なわれる精留段階を含む。この場合
には分離すべき出発混合物は、側面から、例えば塔中央
で、塔の濃縮部分の分離段数（理論段数）の、分留部分
の分離段数に対する比が１〜２の値となるように精留装
置に供給することができる。塔頭頂部で、連続的に低沸
点ＤＨＭＦが分離除去され、その一方で側面での取り出
しの場合に迅速に蒸留塔底部によってＣＰＭＫは、＞９
９重量％の高純度及び通常９０％を越える収率で獲得す
ることができる。ＣＰＭＫの側面での取り出しは、有利
に塔底部の沸騰している液体の直接上で行なわれるが、
しかしこの取り出しは、塔底部近くに存在する、分留塔
の分離段数についての下側３分の１で行なうこともでき
る。必要に応じて、蒸留中に塔底部生成物の部分は、取
り出すことができる。
による方法は、もっぱら、高純度ＣＰＭＫの製造のため
の唯一の連続的に行なわれる精留段階を含む。この場合
には分離すべき出発混合物は、側面から、例えば塔中央
で、塔の濃縮部分の分離段数（理論段数）の、分留部分
の分離段数に対する比が１〜２の値となるように精留装
置に供給することができる。塔頭頂部で、連続的に低沸
点ＤＨＭＦが分離除去され、その一方で側面での取り出
しの場合に迅速に蒸留塔底部によってＣＰＭＫは、＞９
９重量％の高純度及び通常９０％を越える収率で獲得す
ることができる。ＣＰＭＫの側面での取り出しは、有利
に塔底部の沸騰している液体の直接上で行なわれるが、
しかしこの取り出しは、塔底部近くに存在する、分留塔
の分離段数についての下側３分の１で行なうこともでき
る。必要に応じて、蒸留中に塔底部生成物の部分は、取
り出すことができる。
【００１５】実際には最後に記載した特に有利な方法の
実施態様の実施のために、配置された蒸留充填物を有す
る蒸留塔が有効であることが判明している。良好な結果
は、例えば、３区分に配列された(angeordnet in 3 Sch
uessen)、理論段数２５の分離効率を有する蒸留塔又は
４区分に配列された(angeordnet in 4 Schuessen)、理
論段数３５の分離効率を有する蒸留塔を用いて達成され
た。高純度ＣＰＭＫの側面での取り出しは、この場合に
は塔底部の上の第１の充填物の下側もしくは上側で行な
われ、供給は、全部で３つの充填物の第１の充填物の上
で、中央部もしくは塔底部近くに配置されていた。この
一番最後に記載された一段階の有利な実施態様は、その
簡単な取扱い性及び実施可能性から殊に大規模工業的使
用に適当である。
実施態様の実施のために、配置された蒸留充填物を有す
る蒸留塔が有効であることが判明している。良好な結果
は、例えば、３区分に配列された(angeordnet in 3 Sch
uessen)、理論段数２５の分離効率を有する蒸留塔又は
４区分に配列された(angeordnet in 4 Schuessen)、理
論段数３５の分離効率を有する蒸留塔を用いて達成され
た。高純度ＣＰＭＫの側面での取り出しは、この場合に
は塔底部の上の第１の充填物の下側もしくは上側で行な
われ、供給は、全部で３つの充填物の第１の充填物の上
で、中央部もしくは塔底部近くに配置されていた。この
一番最後に記載された一段階の有利な実施態様は、その
簡単な取扱い性及び実施可能性から殊に大規模工業的使
用に適当である。
【００１６】本発明による方法は、有利に常圧で実施さ
れるが、しかし、圧力３００〜１０５０ミリバール、有
利に５００〜１０３０ミリバール、殊に８００〜１０２
０ミリバールで実施することもできる。
れるが、しかし、圧力３００〜１０５０ミリバール、有
利に５００〜１０３０ミリバール、殊に８００〜１０２
０ミリバールで実施することもできる。
【００１７】次に本発明による方法を実施例につき詳説
するが、本発明は、該実施例によって限定されるもので
はない。
するが、本発明は、該実施例によって限定されるもので
はない。
【００１８】
【実施例】 比較例 蒸留装入物： １２３９．３ｇ 組成： ＣＰＭＫ： １０８０．７ｇ（８７．２重量％） ＤＨＭＦ： １３７．６ｇ（１１．１重量％） 水： ７．４ｇ（ ０．６重量％） 装置： ０．５ｍマルチフィル蒸留塔(Multifil Destillationskolonne) ２ｌ−蒸留フラスコ 蒸留： 精留すべき混合物を蒸留釜に装入する。油浴を用いて混合物を沸騰する まで加熱する。先ず還流比２０：１でＤＨＭＦを留去する。さらに還流比５：１ で＞９９重量％のＣＰＭＫを得られる。後留出物として高められた温度でＤＨＭ Ｆで汚染されたＣＰＭＫ留分が得られる。
【００１９】第１表に記載した留分が得られる。
【００２０】
【表１】
【００２１】留分５は、価値のある生成物である。９９
重量％のＣＰＭＫの蒸留収率は、ＣＰＭＫの使用量１０
８０．７ｇに対して８６％である。二次ランナーとし
て、またもやＤＨＭＦで著しく汚染されているＣＰＭＫ
留分が得られる（留分６）。
重量％のＣＰＭＫの蒸留収率は、ＣＰＭＫの使用量１０
８０．７ｇに対して８６％である。二次ランナーとし
て、またもやＤＨＭＦで著しく汚染されているＣＰＭＫ
留分が得られる（留分６）。
【００２２】 例 １（本発明による、二段階蒸留）： 蒸留装入物： １５９３．５ｇ 組成： ＣＰＭＫ： １３６２．４（８５．５重量％） ＤＨＭＦ： ２００．８ｇ（１２．６重量％） 水： １５．９ｇ（ １．０重量％） 装置： 側面流出口を有する１ｌ−蒸留フラスコ、中央部の供給口を有する２つ の相互に重ねられた加熱可能な０．５ｍマルチフィル蒸留塔。
【００２３】ａ） ＤＨＭＦ／水の分離 実施：蒸留装入物約５００ｇを蒸留フラスコ中に装入す
る。塔底部温度１０９〜１１３℃及び１０：１の還流で
ＤＨＭＦ／水−混合物を先ず頭頂部温度８３℃までで留
去する。引き続き、残留している蒸留装入物を連続的に
約１５０ｇ／ｈの速度で塔の中央部に計量導入する。溢
流する塔底液は、受器に集められる。
る。塔底部温度１０９〜１１３℃及び１０：１の還流で
ＤＨＭＦ／水−混合物を先ず頭頂部温度８３℃までで留
去する。引き続き、残留している蒸留装入物を連続的に
約１５０ｇ／ｈの速度で塔の中央部に計量導入する。溢
流する塔底液は、受器に集められる。
【００２４】連続蒸留の条件： 塔底部温度： １１３〜１１４℃ 頭頂部温度： ８２〜８３℃ 還流（Ｒ／Ｄ）： １２：１。
【００２５】連続蒸留の後に次のとおり得られた： １． 留出物： ２１４．５ｇ 組成： ＣＰＭＫ： ２０．３ｇ（９．５重量％） ＤＨＭＦ： １８０．２ｇ（８４．０重量％） 水： １４．０ｇ（６．５重量％） ２． 蒸留塔底液： １３７８．０ｇ 組成： ＣＰＭＫ： １３４２．０ｇ（９７．４重量％） ＤＨＭＦ： ２０．８ｇ（１．５重量％） 水： １．９ｇ（０．１重量％） 残留物： １３．３ｇ（１．０重量％）。
【００２６】ｂ） ＣＰＭＫ−精留(Reindestillation
(Rektifikation)) 蒸留装入物： 上記蒸留の蒸留塔底液（1378.0ｇ）。
(Rektifikation)) 蒸留装入物： 上記蒸留の蒸留塔底液（1378.0ｇ）。
【００２７】実施：上記装置中に先に行なわれたＤＨＭ
Ｆ／水の分離の蒸留塔底液約４００ｇを装入し、この際
塔底液流出口を閉鎖する。塔底部温度１１３℃及び頭頂
部温度１１１℃で精留を開始し、かつ従って残っている
蒸留塔底液の塔中央部への計量導入（１５０ｇ／ｈ）を
開始する。
Ｆ／水の分離の蒸留塔底液約４００ｇを装入し、この際
塔底液流出口を閉鎖する。塔底部温度１１３℃及び頭頂
部温度１１１℃で精留を開始し、かつ従って残っている
蒸留塔底液の塔中央部への計量導入（１５０ｇ／ｈ）を
開始する。
【００２８】連続精留の条件： 塔底部温度： １１３〜１１４℃ 頭頂部温度： １１２℃ 還流Ｒ／Ｄ： ５：１０。
【００２９】結果として次の２つの留分が得られる： 留分１： ＤＨＭＦ９８．０重量％及びＣＰＭＫ１．５
重量％を含有する５０．０ｇ 留分２： ＣＰＭＫ９９．５重量％を含有する１２８
７．０ｇ 残留物： ４０．０ｇ。
重量％を含有する５０．０ｇ 留分２： ＣＰＭＫ９９．５重量％を含有する１２８
７．０ｇ 残留物： ４０．０ｇ。
【００３０】従って９９．５重量％のＣＰＭＫの収率
は、元来の蒸留装入物中のＣＰＭＫの質量に対して９
４．４％である。
は、元来の蒸留装入物中のＣＰＭＫの質量に対して９
４．４％である。
【００３１】例 ２（本発明による、一段階精留）： 蒸留装入物： ３９７１．９ｇ 装置： 中央部の供給口及び塔底部の直上に配置された
蒸留ブリッジ(Destillationsbruecke)を有する２つの相
互に重ねられた加熱可能な０．５ｍマルチフィル蒸留塔
を有する１ｌ−３口−蒸留フラスコ。
蒸留ブリッジ(Destillationsbruecke)を有する２つの相
互に重ねられた加熱可能な０．５ｍマルチフィル蒸留塔
を有する１ｌ−３口−蒸留フラスコ。
【００３２】実施：油浴温度１２８℃で蒸留装入物を１
５０ｇ／ｈの速度で塔の中央部に計量供給する。塔の頭
頂部でＤＨＭＦを留去し（留分Ｋ１）、一方で蒸留ブリ
ッジによってＣＰＭＫを蒸留する。
５０ｇ／ｈの速度で塔の中央部に計量供給する。塔の頭
頂部でＤＨＭＦを留去し（留分Ｋ１）、一方で蒸留ブリ
ッジによってＣＰＭＫを蒸留する。
【００３３】蒸留の条件： 塔底部温度： １１０〜１１６℃ 頭頂部温度Ｋ１： ７９〜８２℃ 頭頂部温度Ｋ２： １１３℃ 還流Ｒ１、Ｒ／Ｄ： ５０：１ 還流Ｒ２、Ｒ／Ｄ： １：２。
【００３４】留分Ｋ１： ＤＨＭＦ８７．２重量％、Ｃ
ＰＭＫ１．６重量％及び水１１．１重量％を含有する、
３０４．０ｇ 留分Ｋ２： ＣＰＭＫ９９．５重量％を含有する、３４
１８．８ｇ 残留物： ２４５．０ｇ。
ＰＭＫ１．６重量％及び水１１．１重量％を含有する、
３０４．０ｇ 留分Ｋ２： ＣＰＭＫ９９．５重量％を含有する、３４
１８．８ｇ 残留物： ２４５．０ｇ。
【００３５】従って９９．５重量％のＣＰＭＫの全体収
率は、元来の蒸留装入物中のＣＰＭＫの質量に対して９
３．６％である。
率は、元来の蒸留装入物中のＣＰＭＫの質量に対して９
３．６％である。
Claims (9)
- 【請求項１】 ２−アセチルブチロラクトンからのシク
ロプロピルメチルケトンの合成から生じうるシクロプロ
ピルメチルケトン、４，５−ジヒドロ−２−メチルフラ
ン、４，５−ジヒドロ−２−メチルフランの付加生成物
ならびに場合によってはさらなる不純物を含有している
反応排出物もしくは混合物からの高純度シクロプロピル
メチルケトンの製造方法において、精留によって分離す
べき混合物の塔底部の上の精留装置中への側面供給を伴
った少なくとも１つの連続的に行なわれる精留段階を特
徴とする、高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方
法。 - 【請求項２】 全ての蒸留処理段階の場合に塔底部温度
が１６０℃以下である、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 塔底部温度が１４０℃以下である、請求
項２記載の方法。 - 【請求項４】 塔底部温度が１２０℃以下である、請求
項３記載の方法。 - 【請求項５】 シクロプロピルメチルケトンより低沸点
の成分を精留段階の前に蒸留により分離する、請求項１
から４までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 精留によって分離すべき混合物の精留装
置中への供給が、濃縮塔の分離段数の、分留塔の分離段
数に対する比が１〜２の値となるように配置されてお
り、かつ塔底部の上の分留塔の分離段数についての下側
３分の１での側面での取り出しによってシクロプロピル
メチルケトンを得る、唯一の精留段階を行なう、請求項
１から４までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】 シクロプロピルメチルケトンを圧力３０
０〜１０５０ミリバールで蒸留により得る、請求項１か
ら６までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項８】 シクロプロピルメチルケトンを圧力５０
０〜１０３０ミリバールで蒸留により得る、請求項１か
ら７までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項９】 シクロプロピルメチルケトンを圧力８０
０〜１０２０ミリバールで蒸留により得る、請求項１か
ら８までのいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19710879.2 | 1997-03-15 | ||
| DE19710879A DE19710879A1 (de) | 1997-03-15 | 1997-03-15 | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Cyclopropylmethylketon |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10265429A true JPH10265429A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=7823551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10060927A Ceased JPH10265429A (ja) | 1997-03-15 | 1998-03-12 | 高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6045662A (ja) |
| EP (1) | EP0864556B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10265429A (ja) |
| DE (2) | DE19710879A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19809775A1 (de) * | 1998-03-06 | 1999-09-09 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von Cyclopropylalkylketonen |
| CN106554263B (zh) * | 2016-11-16 | 2019-11-08 | 江苏清泉化学股份有限公司 | 一种环丙基甲基酮的制备方法 |
| CN113582824B (zh) * | 2021-08-26 | 2024-01-30 | 江苏清泉化学股份有限公司 | 一种高纯度环丙基甲基酮的制备方法 |
| CN114573435B (zh) * | 2022-04-02 | 2023-11-07 | 安徽绩溪县徽煌化工有限公司 | 一种环丙基甲基酮的制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254739A (en) * | 1991-11-19 | 1993-10-19 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of cyclopropylmethylketone |
| TW210999B (ja) * | 1991-11-19 | 1993-08-11 | Ciba Geigy Ag | |
| DE4206917A1 (de) * | 1992-03-05 | 1993-09-09 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 1-fluorcyclopropyl-methyl-keton |
| DE19503241A1 (de) * | 1995-02-02 | 1996-08-08 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von Cyclopropylalkylketonen und 4,5-Dihydroalkylfuranen |
| DE19630449A1 (de) * | 1996-07-27 | 1998-01-29 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von Cyclopropylalkylketonen und 4,5-Dihydroalkylfuranen |
-
1997
- 1997-03-15 DE DE19710879A patent/DE19710879A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-02-05 EP EP98101963A patent/EP0864556B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-05 DE DE59800569T patent/DE59800569D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-02 US US09/033,071 patent/US6045662A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 JP JP10060927A patent/JPH10265429A/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59800569D1 (de) | 2001-05-03 |
| EP0864556B1 (de) | 2001-03-28 |
| EP0864556A1 (de) | 1998-09-16 |
| DE19710879A1 (de) | 1998-09-17 |
| US6045662A (en) | 2000-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2300083C (en) | Propylene oxide purification | |
| RU2338737C2 (ru) | Способ получения формальдегидного сырья с низким содержанием воды | |
| US2762760A (en) | Extractive distillation of phenol-containing mixtures | |
| KR100591625B1 (ko) | 포름 알데히드 함유 혼합물의 처리 | |
| JPH10265429A (ja) | 高純度シクロプロピルメチルケトンの製造方法 | |
| CA1166405A (en) | Process for the purification of hexamethyldisiloxane and azeotropic mixtures obtained therein | |
| CN113979925B (zh) | 在农药生产废液中提取3-甲基吡啶的方法 | |
| US6726811B2 (en) | Method of purifying N-(2-hydroxyethy)-2-pyrrolidone | |
| US6264800B1 (en) | Purification process | |
| JP2001002638A (ja) | 高純度ピロリドン類の製造方法 | |
| US3878058A (en) | Recovery of alkylvinylether by extractive distillation of a feed containing only trace amounts of water | |
| JPH0142930B2 (ja) | ||
| JP2924563B2 (ja) | 酢酸エチルの精製方法 | |
| JPS5646874A (en) | Purification of butylene oxide | |
| US5705039A (en) | Process for purifying a 2,6-dialkylphenol | |
| JP2505836B2 (ja) | 粗イソプロピルアルコ―ルの精製方法 | |
| JP2001002640A (ja) | 高純度ピロリドン類の製造方法 | |
| US2386755A (en) | Purification of hydrocarbons by azeotropic distillation | |
| JPH09324068A (ja) | アクリル系樹脂廃材からモノマーを回収する方法 | |
| JPH05230015A (ja) | カプロラクタムの精製法 | |
| US3069331A (en) | Separation of n-methyl piperazine from mixtures thereof with piperazine | |
| JPH09110749A (ja) | ベンジルクロリド、ベンジルアルコール、ジベンジルエーテル及び水性塩酸の混合物の分離法 | |
| US3190813A (en) | Process for separating acrylic acid nbutyl ester from mixtures containing butanol | |
| JPH03181440A (ja) | アクリル酸の蒸留精製方法 | |
| US2820001A (en) | Rectification process |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040611 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040617 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20041022 |