DE3124259A1 - "verfahren zur herstellung einer elektrischen entladungsvorrichtung mit einem auf einem glassubstrat angebrachten elektrodenmuster und durch dieses verfahren hergestellte elektrische entladungsvorrichtung" - Google Patents
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Description
ΪΧ Philips' GloeilampenfaKieb? Ondlröni . \"\ \ 3124259
PHN 9784 . m ^. -11.4.1981
"Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Entladungsvorrichtung
mit einem auf einem Glassubstrat angebrachten Elektrodenmuster und durch dieses Verfahren herge-.
· stellte elektrische Entladungsvorrichtung".
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahrenzur
Herstellung einer elektrischen Entladungsvorrichtung . . mit einem auf einem Glassubstrat angebrachten Elektrodenmuster,
dessen Elektroden durch ein anodisches Verbin- · dungsverfahren an das Glassubstrat geheftet sind.
Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf .eine
_ . durch dieses Verfahren erhaltene elektrische Entladungs-·
vorrichtung.
Bei der Herstellung einer elektrischen Entladungsvorrichtung ergibt sich häufig der Fall, dass
Elektrodenmuster auf einem Glassubstrat angebracht · werden müssen. Nach einem allgemein bekannten Verfahren
wird dazu auf der Oberfläche des Substrats eine Metallschicht durch Aufdampfen oder Zerstäuben angebracht und
durch örtliche Entfernung der Metallschicht das gewünschte
Elektrodenmuster erhalten. Nach diesem Verfahren können nur dünne Metalischichten mit einer Dicke von höchstens
einigen /um aufgebracht werden. Zum Anbringen dickerer Schichten mit einer Dicke von einigen zehn /um beanos 20 sprucht dieses Verfahren sehr viel Zeit, während für
diese dicken Schichten die Haftung der Metallschicht auf dem Substrat für viele Anwendungen ungenügend ist. Wenn,
wie z,B. bei Gasentladungswiedergabevorrichtungen, Elektroden einen gewissen Strom führen können müssen und
der elektrische Widerstand der Elektroden niedrig sein muss, ist ein derartiges Verfahren nicht besonders
geeignet.
Daher liegt der Bedarf für ein Verfahren vor, mit dem Elektrodenmustor vorhältnismässig dicker
Elektroden gut haftend auf einem Glassubstrat angebracht werden können.
In der US-PS k 083 710 ist ein Verfahren zum An-
PHN 9784 ? 11.4.1981
• V-
bringen eines Elektrodenmusters in Form paralleler streif enfb'rmiger Leiter auf einem Glassubstrat beschrieben.
Auf einer Druckplatte, die mit einem Reliefmuster versehen ist, das aus parallelen Rillen besteht, werden
auf diesen Rillen die streifenförmigen Leiter mit Hilfe
eines Klebers zeitweilig befestigt und dann auf das Glassubstrat übertragen. Dieses Uebertragen erfolgt dadurch,
dass die Druckplatte mit den Leitern gegen die Oberfläche des Substrats gedrückt wird und mittels eines
Druckverbindungsvorgangs die Leiter an der Oberfläche des· Substrates angeheftet werden. Auf diese Weise wird auf
dem Substrat ein Elektrodenmuster entsprechend dem' Relief der Druckplatte gebildet.
Die Genauigkeit in der gegenseitigen Lage der Leiter auf dem Substrat hängt von der Genauigkeit ab,
mit der sich die Leiter und das Rillenmuster bei der Befestigung auf der Druckplatte decken. Die streifenförmigen
Leiter werden sich deckend auf der' Druckplatte mit Hilfe eines Rollgliedes angebracht, das mit Nuten
versehen, ist, in die die· streif enförmigen Leiter geführt
werden. Der Abstand zwischen den Nuten bestimmt dabei den Abstand zwischen den Leitern. Die Massgenauigkeit
des Elektrodenmusters ist daher durch die Massgenauigkeit
der verwendeten Werkzeuge beschränkt. Dieses Verfahren ist weiter auf das Anbringen streifenförmiger
Elektrodenmuster beschränkt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Entladungsvorrichtung
mit einem auf einem Glassubstrat angebrachten Elektrodenmuster zu schaffen, bei dem auf einfache Weise
ein gut auf dem Substrat haftendes Elektrodenmuster beliebiger Form und gewünachtor Dicke mit uiner grossen
Massgenauigkeit in zwei Richtungen erhalten wird.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren eingangs
3E" . genannter Art nach der Erfindung dadurch gelöst, dass
auf der mit dem Elektrodenmuster zu versehenden Oberfläche des Substrats eine Metallfolie angebracht wird;
PHN 9784 y 11.Λ.1981
dass das Gebilde von Metallfolie und Substrat auf eine
Temperatur T1 erhitzt wird, die niedriger als der
Schmelzpunkt des Metalls der Folie ist und bei der die·
Viskosität des Glases des Substrates einen ¥ert von etwa 7 13
10 bis 10 Pa . see aufweist; dass die Metallfolie bei der Temperatur T1 während einer Zeit, die ausreichend ist, um einen gleichmässigen Kontakt zwischen Metallfolie und Substrat zu erhalten, gleichmässig gegen die Substratoberfläche gedrückt wird; dass bei einer Temperatur
10 bis 10 Pa . see aufweist; dass die Metallfolie bei der Temperatur T1 während einer Zeit, die ausreichend ist, um einen gleichmässigen Kontakt zwischen Metallfolie und Substrat zu erhalten, gleichmässig gegen die Substratoberfläche gedrückt wird; dass bei einer Temperatur
.10 T2 die Metallfolie durch ein anodisches Verbindungsverfahren
an das Substrat geheftet wird und dass dann das gewünschte Elektrodenmuster durch örtliche Entfernung
der Metallfolie gebildet wird.
Dadurch, dass die mit einem Elektrodenmuster zu' ;
versehende Oberfläche des Substrats mit einer Metallfolie bedeckt, dann die Metallfolie an das Substrat geheftet
und schliesslich aus der Folie das gewünschte Elektrodenmuster gebildet wird, werden eine Anzahl
wesentlicher Vorteile erhalten. Das Verfahren ist schnell und für Massenherstellung besonders geeignet.
Metallfolien jeder für das Anwendungsgebiet der Erfindung
gewünschten Dicke können verwendet werden. Aus der an dem Substrat gehefteten Metallfolie kann z.B. durch Photoätztechniken
jedes beliebige Elektrodenmuster mit der mit diesen Techniken verbundenen grossen Genauigkeit erhalten
werden. Für eine erfolgreiche Anwendung der Erfindung ist es aber notwendig, dass ein gleichmÄssiger Oberflächenkontakt
zwischen der Metallfolie und dem Substrat für wenigstens denjenigen Teil der Folie hergestellt wird,.
. aus dem nachher das Elektrodenmuster gebildet wird.' Unter
dem Ausdruck "gleichmässiger Kontakt".ist hier ein .enger
Oberflächenkontakt ohne Gaseinschlüsse zwischen der Metallfolie
und dem Substrat zu verstehen. Um dies zu erreichen, kann die Substratoberfläche durch Schleifen
und Polieren äusserst eben gemacht werden. Dies ist aber ein kostspieliges Verfahren, das sich praktisch schwer
durchführen lässt. Nach der Erfindung wird diese An-
• »aft« v· ^* ·♦ · ♦·
PHN 978^ tr 11.4.1981
·€·
förderung dadurch erfüllt, dass die Metallfolie auf die Substratoberfläche gelegt wird, das Ganze auf eine
den Schmelzpunkt des Metalls der Folie unterschreitende Temperatur erhitzt wird, bei der die Viskosität des
7 13 Glases des Substrats etwa 10 bis 10 Pa . see beträgt,
und dann die Metallfolie gleichmässig gegen die Substratoberfläche gedrückt wird. In dem angegebenen Viskositätsbereich
ist das Glas etwas verformbar, wodurch bei Ausüben eines gleichmässigen Druckes auf die Folie
ein gleichmässiger Druck zwischen der Folie und dem Substrat hergestellt wird. Die Ze'it, die für die Herstellung
eines gleichmässigen Kontakts zwischen der Metallfolie und dem Glas benötigt wird, hängt von der
Grosse des Druckes, der Oberflächenbeschaffenheit der
Metallfolie und des Glassubstrats und dem Ausmass der Verformbarkeit des Glases ab. Innerhalb des angegebenen
Viskositätsbereiches wird nach einer Ausführungsform der
Erfindung mit einem Druck von etwa 3 . 10 bis 8 . 10
N/m2 gearbeitet, der während einer Zeit von etwa 6o Minuten bis 5 Minuten aufrechterhalten wird. Nach einer
. bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird, wenn die
Folie und das Substrat gegeneinander gedrückt werden, die Folie zunächst über eine beschränkte Oberfläche gegen das
Substrat gedrückt, wonach der Druck allmählich über ein sich zu den Rändern der Folie erstreckendes Gebiet ausgebreitet
wird. Dies kann z.B. mit einer Membran erzielt werden, die gegen die Folie drückt und von der durch Erhöhung
des Druckes auf die Membran eine immer grössere Oberfläche mit der Folie in Kontakt gebracht wird.
Nachdem ein gleichmässiger Kontakt zwischen der Folie und dem Substrat hergestellt ist, wird die Folie
durch "anodisches Verbinden" (anodic bonding) and das Substrat geheftet. Diese Technik umfasst das Anlegen
eines elektrischen Potentialunterschiedes über den miteinander zu verbindenden Teilern bei einer Temperatur T0,
bei der die miteinander zu verbindenden Oberflächen der Teile miteinander in engem Kontakt gehalten werden. Die
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Temperatur T2 wird derart hoch gewählt·, dass der zu
verbindende Teil aus Isoliermaterial etwas elektrisch leitend wird. Beim Miteinanderverbinden der Oberflächen
werden diese infolge des elektrischen Potentialunterschiedes
durch elektrostatische Kräfte, gegebenenfalls durch mechanischen Druck ergänzt, miteinander in engem
Kontakt gehalten.
Eine' derartige Verbindungstechnik ist u.a. in
der US-PS 3 397 278 und der US-PS 3 589 965 beschrieben.
Für weitere Details in bezug auf diese Verbindungstechnik sei auf diese Patentschriften verwiesen.
Nach einer Ausführungsform der Erfindung wird
als Metallfolie vorzugsweise eine Aluminiumfolie verwendet. Dieses Metall ist sehr duktil, was beim Gegeneinanderdrücken
von Folie und Substrat die Herstellung eines gleichmässigen Oberflächenkontakts begünstigt.
Folien mit einer Dicke bis zu sogar 300 /um können auf die erfindungsgemässe Weise gut haftend und blasenfrei
auf der Oberfläche eines Glassubstrats angebrachte werden.
Nach einer Weiterbildung der Erfindung wird eine Aluminiumfoiie in Verbindung mit einem Weichglassubstrat,
insbesondere einem Natriumkalkglassubstrat, verwendet. Bei einer Temperatur T1 von etwa 550 bis
600°C wird die Aluminiumfolie mit einem Druvk von etwa 5 · 10 N/m2 während etwa.30 Minuten gegen das Weichglassubstrat
gedrückt, was einen gleichmässigen Kontakt zwischen Aluminiumfolie und Substrat ergibt. Dann wird
bei einer Temperatur T2 von etwa 230 bis 280°C über dem
Glassubstrat und der Aluminiumfolie während mindestens 3 Minuten eine elektrische Spannung angelegt, die einen
die Folie und das Glassubstrat durchfliessenden Strom
von etwa 0,2 bis 0,7 A/m2 ergibt, wona.ch eine feste Verbindung zwischen Aluminiumfolie, und Substrat hergestellt
ist.
Die Erfindung ist besonders wichtig für die Herstellung flacher Bildwiedergabepaneele, wie Gasent-
PHN 9784 6- 11 .4.1981
ladungswiedergabepaneele, deren Umhüllung mindestens eine Glasplatte umfasst, auf der ein Elektrodenmuster
angebracht ist. Derartige Elektrodenmuster sollen aus in bezug auf gegenseitige Lage und Abmessungen sehr genau
definierten Elektroden aufgebaut sein. Die Anwendung von Aluminiumfolie erweist sich hier als besonders günstig,
weil Aluminium ein leicht bearbeitbares Metall ist. Ein nach der Erfindung auf der Glasplatte angebrachtes Elektrodenmuster
aus Aluminium kann durch Eloxierung örtlich oder völlig mit einer Oxidhaut versehen werden. Dadurch,
dass auf photοgraphischem Wege örtlich eine Oxidhaut auf
den Elektroden angebracht wird, können genau definierte nicht mit Isoliermaterial (Oxidhaut) versehene Elektrodengebiete
erhalten werden, was für mit Gleichspannung betriebene Wiedergabepaneele mit einem grossen Auflösungsvermögen
von Bedeutung ist. Dadurch, dass das ganze Elektrodenmuster .mit einer Oxidhaut versehen wird, kann
ein Wiedergabepaneel erhalten werden, das mit Wechselspannung betrieben werden kann. Ein derartiges mit
Wechselspannung zu betreibendes Paneel enthalt eine
erste Glasplatte, die mit einem aus Aluminiumfolie bestehenden
Elektrodenmuster versehen ist, und weiter eine zweite Glasplatte, die ebenfalls mit einem aus Aluminiumfolie
bestehenden Elektrodenmuster versehen ist. Die beiden Elektrodenmuster sind mit einer Oxidhaut versehen
und sind in bezug aufeinander derart orientiert, dass einander zugeordnete Oberflächenteile der Elektrodenmuster
erhalten werden, zwischen denen eine Gasentladung erzeugt werden kann.
' Die Erfindung schafft weiter eine Lösung in bezug auf Probleme, die sich ergeben, wenn die Glasplatten
bei Wiedergabepaneelen vakuumdicht miteinander verbunden werden sollen. Meistens mussten besondere
Mittel, z.B. in Form silberner Durchfuhrstreifen, vorgesehen
werden, um das Paneel an den Stellen, an denen die Elektroden herausgeführt sind, vakuumdicht zu verschliessen..
Bei nach der Erfindung hergestellen Wiedergabepaneel-
PHN 978^ T 11 Λ.1981
en erweisen sich derartige Mittel als nicht notwendig. Die Verbindung der Elektroden auf dem Glassubstrat ist',
vakuumdicht und das Verbindungsglas, meistens in Form einer "Glasfritte" bewirkt auch eine vakuumdichte Verbindung
zwischen den Glasplatten des Paneels an den
. Stellen, an denen die Elektroden aus dem Paneel herausgeführt sind.
Einige AusfUhrungsformen der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher
beschrieben.
Es zeigen
Fig. 1.2 und 3 drei Stufen einer Ausführungsform eines Verfahrens nach der Erfindung,
Fig. K schematisch eine Vorrichtung zur Herstellung eines gleichmässigen Oberflächenkontakts
zwischen einer Metallfolie und einem Flachglassubstrat,
Fig. 5 ein Gasentladungswiedergabepaneel in einer elementaren Form mit einem nach der Erfindung
erhaltenen Elektrodenmuster,
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine andere Ausführungsfarm eines nach der Erfindung hergestellten
Gasentladungswiedergabepaneels, und
Fig.. 7 einen Schnitt längs der Linie VII-VII durch das in Fig. 6 dargestellte Gasentladungswiedergabepaneel.
Fig. 1 veranschaulicht das Anbringen einer Metallfolie 1 mit einer Dicke von etwa 100 /um auf-einer
Glasplatte 2. Die Metallfolie 1 besteht aus Aluminium und die Glasplatte 2 besteht aus einem Natriumkalkglas
mit etwa 69,5 Gew.^ SiO2, 1O Gew.^ Na2O, 7,5 Gew.% K2O,
10 Gew.io CaO und 3 Gew.fo BaO. Die Glasplatte mit der
Metallfolie wird, wie in Fig. 2 dargestellt ist, auf eine aus rostfreiem Stahl bestehende Grundplatte 3 gelegt
und in einem Ofen auf eine Temperatur T1 von etwa
550 bis 600°C erhitzt. Das Natriumkalkglas weist bei dieser Temperatur eine Viskosität von etwa 10 Pa . see
auf. Nachdem die Temperatur T1 erreicht ist, wird, wie
mit den Pfeilenh angegeben ist, die Metallfolie
PHN 9784 " . ßr Π Λ. 1981
während etwa 30 Minuten mit einem Druck von etwa
5 . 10 N/m2, gleichmässig gegen die Glasplatte 2 gedrückt,
um einen gleichmässigen Oberflächenkontakt zwischen der Metallfolie 1 und der Glasplatte 2 zu erhalten.
Bei diesem gleichmässigen Andrücken muss die
Bildung lokaler Gaseanschlüsse zwischen der Metallfolie
1 und der Glasplatte 2 vermieden werden. Die Metallfolie ■ 1 wird dazu zunächst über eine begrenzte Oberfläche'gegen
· die Glasplatte 2 gedrückt, wonach der Druck über ein sich zu den Rändern der Folie erstreckendes Gebiet ausgebreitet
wird. Wie in Pig. 2 schematisch durch ein Spannungselement V dargestellt ist, werden durch "anodisches
Verbinden" die Glasplatte und die Aluminiumfolie miteinander verbunden. Dieser Verbindungsvorgang findet
bei einer Temperatur T„ von etwa 250°C statt und besteht darin, dass über der Glasplatte und der Folie ein elektrischer
Potentialunterschied angelegt wird, der einen • elektrischen Strom von etwa 0,5 A/m2 ergibt. Falls sich
zu beiden Seiten- der Glasplatte eine Metallfolie befindet,
wird, ja nach der Polarität der. elektrischen Spannung,■eine dieser Folien an der Glasplatte haften.
Nicht anhaftende Aluminiumfolie kann leicht von der Glasplatte
abgezogen werden. Mit Hilfe an sich bekannter photοgraphischer Techniken kann nun aus der anhaftenden
Aluminiumfoli.e jedes gewünschte Elektrodenmuster mit der
mit diesen Techniken verbundenen grossen Genauigkeit ausgeätzt werden. Auf diese Weise wird eine Glasplatte
mit .einem gut haftenden Elektrodenmuster mit der gewünschten Dicke erhalten. Fig. 3 zeigt eine derartige
Glasplatte 2, die mit einem durch ein photographisches Aetzyerfahren erhaltenen Elektrodenmuster 25 versehen
ist. Die in Fig. k dargestellte .Vorrichtung bietet, wie
dargestellt, die Möglichkeit,.gleichzeitig eine Anzahl
von Glasplatten 2 mit einer Metallfolie 1 zu versehen. Die Glasplatten 2 und 2a werden dabei zweiseitig mit
Metallfolien 1 und 1a bzw. Ib und 1c bedeckt. Die Platten
PHN 9784 9^ · 11 Λ. 1981
2 und 2a werden aufeinander gestapelt. Zwischen den einander zugewandten Metallfolien 1a und 1b befindet sieh
eine zweiseitig mit einer Graphitschicht oder einer
Bornitridschicht überzogene Chrom-Nickel-Eisen-Platte 13 1 durch die verhindert wird, dass die Metallfolien ·
1a und 1b aneinander haften. Mittels einer Anzahl durchdie Löcher 5 der Grundplatte 3 geführter Bolzen 7 wird
eine stählernde Oberplatte 6 in einem vorher bestimmten .Abstand von der Grundplatte 3 gehalten. Die Oberplatte
6 ist mit einer mittleren Oeffnung 8 versehen, durch die ein Rohr 9 geführt ist. Das Rohr 9 ist einerseits mit
einem kissenfSrmigen stählernen Ausgleichsbehälter 10
verbunden, der aus zwei an den Rändern vakuumdicht miteinander verbundenen metallenen Membranen 11 und 12 besteht.
Das Gebilde, das aus den Glasplatten 2 und 2a· und den Metallfolien 1, 1a,1b und 1c besteht, befindet sich
zwischen der Membran 12 des Ausgleichsbehälters 10 und der Grundplatte 3· Das Gebilde wird dann auf eine Temperatur
im Bereich von 550 bis 600°C erhitzt. Ueber das Rohr
ο. wird dann der Ausgleichsbehälter 10 auf einen Druck von
etwa 5 . 10 N/m2 gebracht und während etwa 30 Minuten'
auf diesem Druck gehalten. Während deß Vorgangs, durch den der Ausgleichsbehälter 10 auf Druck gebracht wird,
wird die Kontaktoberfläche zwischen der Membran 12 und ^er Poiie 1c auf der Glasplatte 2a gleichmässig zu den ■
Rändern der Folie 1c erweitert werden. Auf diese Weise wird die Bildung von Gaseinschlüssen (Gasblasen) zwischen
der Glasplatte 2 und den Folien 1 und 1a einerseits und zwischen der Glasplatte 2a und den Folien'1b und 1c
andererseits vermieden. Mit Hilfe eines anodischen Verbindungsverfahrens,
wie es an Hand der Fig. 2 beschrieben ist, wobei nun über der Stapelkonstruktion ein
elektrischer Potentialunterschied angelegt wird, werden, je nach der Polarität dieses Potentialunterschiedes,
entweder die Folien 1a und 1c oder die Folien 1 und 1b mit den Glasplatten 2 bzw. 2a verbunden.
Das Verfahren nach der Erfindung eignet aicJi bu-
PHN 9784 1/5 11.4.1981
sonders gut zur Anwendung bei der Herstellung von Gasentladungswiedergabevorrichtungen.
Fig. 5 zeigt die elementarste Form einer derartigen Wiedergabevorrichtung.
Darin besteht diese Vorrichtung aus einer gläsernen Bodenplatte 20 und einer gläsernen Öberplatte 21. Auf
der Bodenplatte 20 ist auf die anhand der Figuren 1 bis k beschriebenen Weise ein Elektrodenmuster in Form aus
Aluminium bestehender streifenförmiger Elektroden 22 angebracht.
Die Elektroden 22 bilden die Kathoden der Wiedergabevorrichtung. Die Oberplatte 21 ist auf analoge Weise
mit einem Elektrodenmuster versehen, das aus streifenförmigen.Elektroden
23 besteht, die die Elektroden 22 kreuzen, und die Anoden der Wiedergabevorrichtung bilden. ■
Die Glasplatten 20 und 21 werden durch nicht dargestellte Abstandmittel in einem definierten gegenseitigen Abstand
gehalten und an den Rändern mi.t Hilfe eines Verbindungsglases vakuumdicht miteinander verbunden. Der Raum
zwischen den Platten 20 und- 21 wird mit einem geeigneten ionisierbaren Gas, wie z.B. Neon oder einem Gemisch von
Neon und· Argon, ausgefüllt. Dadurch, dass ein geeigneter Spannungsunterschied zwischen einer Kathode 22 und einer
• Anode 23 angelegt wird, wird an der Stelle, an der sich diese Anode und diese Kathode kreuzen, eine Glimmentladung
erzeugt, die durch die Öberplatte 21 sichtbar ist. Dadurch, dass die Anoden 23 und die Kathoden 22 mit
einer genügend hohen Frequenz in einer vorher bestimmten Reihenfolge mit Spannungsimpulsen, die der Bildinformation
entsprechen, abgetastet werden, kann ein aus Entladungspunkt on aufgebautes Bild wiedergegeben werden,
das als ein scheinbar kontinuierliches Lichtbild wahrgenommen
wird. Das hier kurz beschriebene Wiedergabepaneel wir.d mit Gleichspannung betrieben. Wenn die
.Elektroden 22 und 23 aus Aluminium bestehen, kann das
Paneel auf einfache Weise für Wechselspannungsbetrieb geeignet gemacht werden, dadurch, dass die Aluminiumelektroden
22 und 23 durch Eloxierung mit einer dünnen Oxidhaut versehen werden.
PHN 9784 y( 11 .'
Es ist auch möglich, die Kathoden 22 mit einer Oxidhaut zu versehen, mit Ausnahme kleiner Gebiete an
den Stellen, an denen die Kathoden eine Anode kreuzen. . Auf diese Weise .werden genau definierte Entladungsgebiete
erhalten und es kann ein Entladungspaneel mit
einem grossen Auflösungsvermögen hergestellt werden.
Eine besondere Ausführungsform eines Gasentladungswiedergabepaneels
mit einem nach der Erfindung erhaltenen Elektrodenmuster ist'in den Figuren 6 und 7
1Q dargestellt. Auf einer gläsernen Bodenplatte 30 ist auf
die erfindungsgemässe Weise ein Aluminiumelektroden- ■
muster mit einer Dicke von etwa 50 /um angebracht, das'
aus parallelen Kathodenstreifen 31 besteht, die mit
Queransätzen 32 versehen sind. Die Kathoden sind durch Eloxiorung mit einer etwa 20 /um dicken Oxidhaut ver
seilen (in Fig. 6 durch gestrichelte Oberflächen dargestellt) mit Ausnahme kleiner, in den Queransätzen 32
liegender Oberflächenelemente 33· Die nicht mit einer
Oxidhaut versehenen Oberflächenelemente 33 bilden die für eine Entladung aktiven Oberflächenteile der Kathoden
31· Diese Oberflächenelemente 33 können durch selektives
Photoätzen erhalten werden. Dazu wird auf dem erhaltenen Aluminiumelektrodenmuster eine Photoresistschicht angebracht,
die über eine Photomaske derart belichtet wird, · dass nach Entwicklung nur die zu bildenden Oberflächenelemente
33 mit einer Photorosistschicht überzogen
sind. Das Elektrodenmuster wird dann einem Eloxierungsvorgang
unterworfen, bei dem mit Ausnahme der mit Photoresist überzogenen Oberflächen, eine Oxidhaut mit einer
Dicke von etwa 20- /um erhalten wird. Dadurch, dass anschliessend
die Resistschicht entfernt wird, werden die Oberflächenelemente 33 erhalten. Diese Oberflächenelemente
33 wirken zum Erhalten einer Entladung mit auf einer Oberplatte 3k angebrachten streifenförmigen Anoden
35 (in Fig. 6 durch gestrichelte Linien angegeben) zusammen. Auf diese Weise ist ein Gasentladungspaneel mit
sehr genau definierten einander naheliegenden aktiven Oberflächenelementen gebildet. Jede Entladung ist ausser-
:·: :Γ:·:": : 312Α259
PHN 9784 - yi 11.4.1981
dem auf eine sehr kleine Kathodenoberfläche beschränkt, wodurch ein Bild mit einem sehr grossen Auflösungsvermögen
erhalten wird.
Fig. 7 zeigt einen Schnitt längs der Linie VII-VII in Pig. 6. Die Boden- und die Oberplatte 30 bzw.
34 werden durch Abstandsglieder 36 in einem definierten
gegenseitigen Abstand gehalten und sind an den Rändern mit Hilfe eines Verbindungsglases 37 vakuumdicht miteinander
verbunden. An ausserhalb des Paneels liegenden von Oxid befreiten Oberflächenteilen 38 (vgl. Fig. 6)
können an die Kathoden 31 die gewünschten elektrischen
Spannungen angelegt werden.
Wie in Fig. 6 und 7 dargestellt ist, sind die Elektroden 35 und 31 mit mit ihnen ein Ganzes bildenden
Ausläufern 39 bzw. 40 versehen, um an diese Elektroden
extern die gewünschten elektrischen Spannungen anlegen zu können.
Die Erfindung schafft eine vakuumdichte Haftung dieser Ausläufer 39 und 4θ·auf den Glasplatten 34 bzw.
30. Dank dieser vakuumdichten Haftung wird mit Hilfe
. des Verbindungsglases 37 auch an den Stellen dieser Ausläufer ein vakuumdichter Verschluss des Entladungspaneels erhalten. Weiter sei bemerkt, dass in der in
Fig. 6 und 7 dargestellten AusfUhrungsform die Entladungen
zwischen einer Anode 35 und einem Kathoden-Oberflächenelement
33 im wesentlichen parallel zu dem ' Paneel verlaufen. Die Anoden 35 können wegen der isolierenden
Oxidhaut auf den Kathoden ruhen, wobei dann die Abstandsglieder 36 nicht mehr erforderlich sind.
-AS,
Leerseite
Claims (1)
- »β ·PHN 9784 · 11.4.1981PATENTANSPRUECHE: kVy. Verfahren zur Herstellung einer elektrischen
Entladungsvorrichtung mit einem auf einem Glassubstrat angebrachten Elektrodenmuster, dessen Elektroden durch ein anodisches Verbindungsverfahren an eine Oberfläche des Glassubstrats geheftet sind, dadurch gekennzeichnet.dass auf der mit dem Elektrodenmuster zu versehenden
f*K Oberfläche des Substrats eine Metallfolie angebrachtwird; dass das Gebilde von Metallfolie und Substrat
auf eine Temperatur T1 erhitzt wird, die niedriger als 10. der Schmelzpunkt des Metalls der Folie ist und bei der die Viskosität des Glases des Substrats einen Wert von7 13
etwa 10 bis 10 Pa . see aufweist;· dass die Metall- ■ folie bei der Temperatur T1 während einer Zeit, die ausreichend· ist, um einen gleichmässigen Kontakt zwischen >der Metallfolie und dem Substrat zu erhalten, gleich- |'massig gegen die Substratoberfläche gedrückt wird; dass %. bei einer Temperatur T? die Metallfolie durch ein
anodisches Verbindungsverfahren an das Substrat geheftet wird, und dass dann das gewünschte Elektrodenmusterdurch örtliche Entfernung der Metallfolie gebildet wird. 2·. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet . dass die Metallfolie mit einem Druck von etwa ■ -3 . 10J bis 8 . 10 N/m2 während einer Zeit von etwa60 Minuten bis 5 Minuten gegen die Substratoberfläche ge~ drückt wird.3« Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , dass die Metallfolie zunächst über eine be- ' ' grenzte Oberfläche gegen das Substrat gedrückt und der Druck über ein sich zu den Rändern der Metallfolie erstreckendes Gebiet ausgedehnt wird.h-.' Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch kennzelehnet, dass eine Metallfolie aus Aluminium ver-PHN 9784' " "" 1 Ä· ' 11.4.1981wendet wird.5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , dass das Glassubstrat aus Weichglas, insbesondere einem Natriiimkalkglas, besteht.g 6. Elektrische Entladungsvorrichtung, die durch das Verfahren nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche hergestellt ist, dadurch ..gekennzeichnet, dass sie aus einem Gasentladungswiedergabepaneel· besteht, dessen Umhüllung mindestens eine erste Glasplatte (20, 30) umfasst, die mit einem aus Aluminiumfolie bestehenden Muster aus Elektroden (22, 31) versehen ist. 7. Gasentladungswiedergabepaneel nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Umhüllung weiter eine zweite Glasplatte (21, 34) umfasst, die ebenfalls mit einem aus Aluminiumfolie bestehenden Muster aus Elektroden (23> 35) versehen ist, und dass die Elektroden der ersten und der zweiten Glasplatte mit einer Oxidhaut versehen sind.• .8. Gasentladungswiedergabepaneel nach Anspruch'6, dadurch gekennzeichnet, dass das Muster der Elektroden (31), mit Ausnahme kleiner Oberflächenelemente (33)t mit■ einer Oxidhaut versehen ist, wobei diese Oberflächenelemente die für eine Entladung aktiven Ober-f lächenteile des Musters der Elektroden bilden.
9· Gasentladungswiedergabepaneel nach Anspruch 6, 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet,- dass die mit dem Muster der Elektroden (3I) versehene" erste Glasplatte (30) entlang eines geschlossenen Kreises mit Hilfe eines Verbindungsglases (37) mit der zweiten, mit dem Muster der Elektroden (35) versehenen Glasplatte (34) verbunden ist, und dass das; Muster der Elektroden mit mit dessen Elektroden ein Ganzes bildenden Ausläufern {39, 4o) versehen ist, die den Kreis aus Verbindungsglas kreuzen und an der Stelle eines derartigen Kreuzungspunktes einerseits unmittelbai^ an der Glasplatte und andererseits unmittelbar an dem Verbindungsglas haften, um eine vakuumdichte elektrische Durchfuhr für eine Elektrode des Musters zu bilden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8003697A NL8003697A (nl) | 1980-06-26 | 1980-06-26 | Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrische ontladingsinrichting voorzien van een op een glazen substraat aangebracht elektrodenpatroon en aldus verkregen elektrische ontladingsinrichting. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3124259A1 true DE3124259A1 (de) | 1982-06-16 |
Family
ID=19835518
Family Applications (1)
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