DE3110351A1 - Verfahren zur herstellung von elektrischen schichtkondensatoren mit glimmpolymerisatschichten als dielektrika - Google Patents
Verfahren zur herstellung von elektrischen schichtkondensatoren mit glimmpolymerisatschichten als dielektrikaInfo
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Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 3 Unser Zeichen Berlin und München VPA 81 P 10 41 DE
Verfahren zur Herstellung von elektrischen Schichtkondensatoren mit Glimmpolymerisatschichten als Dielektrika.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von elektrischen Schichtkondensatoren mit Glimmpolymerisatschichten
als Dielektrika, bei dem zunächst ein Trägerband mit annähernd rechteckförmigem Querschnitt
aus einem Kunststoff geformt wird, bei dem Metallschichten der Beläge und die Glimmpolymerisatschichten derart
gegeneinander versetzt aufgebracht werden, daß an zwei einander gegenüber liegenden Kanten des Trägerbandes
Kontaktstreifen entstehen, in deren Bereich zwei oder mehrere Metallschichten unmittelbar übereinander liegen,
und bei dem bei der Herstellung der Glimmpolymerisatschichten die nicht zu beschichtenden Teile durch Blenden
abgedeckt werden.
Ein derartiges Verfahren ist aus der DE-OS 28 43 581 bekannt.
Ss hat sich jedoch gezeigt, daß selbst in kleinsten Spalten im Bereich einer Glimmentladung eine Hinterglimmung
stattfindet, d.h.,' daß Glimmpolymerisatschichten auch in kleinsten Spalten entstehen, wenn auch
nur in sehr geringer Stärke. Diese Glimmpolymerisatschichten zeigen einen störenden Einfluß im Bereich von Kontaktstreifen,
sofern dort nach der Glimmpolymerisatschicht weitere elektrisch leitende Schichten aufgebracht werden,
die zur Kontaktierung dienen. Derartige Schichten sind insbesondere weitere Belagsflächen, welche die darunter
liegenden Belagsflächen kontaktieren sollen, oder auch Lotschichten für eine äußere Kontaktierung.
Um ein Hinterglimmen zu vermeiden, wurde an anderer Stelle bereits vorgeschlagen, nur eine Blende einzusetzen
% 81 P t 0 4 1 DE
und diese unmittelbar an den Träger anzulegen. Auch diese Maßnahme reicht jedoch für die Serienproduktion derartiger
Kondensatoren nicht aus.
Die Aufgabe, die der vorliegenden Erfindung zugrundeliegfci
besteht in der Herstellung von Kondensatoren der eingangs beschriebenen Art mit einwandfreier Kontaktierung,
ohne störendes Glimmpolymerisat im Bereich der Kontaktstreifen.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß das Trägerband in den an die Kontaktstreifen angrenzenden,
nicht mit Glimmpolymerisat zu beschichtenden Flächen mit Vertiefungen versehen wird, daß vor dem Aufbringen
der Glimmpolymerisatschichten in diesen Vertiefungen Halteeinrichtungen in Eingriff gebracht werden und
und daß durch diese Halteeinrichtungen das Trägerband gegen eine Stützfläche gedruckt wird und daß dann die Blende
zumindest für die Zeitspanne der Glimmpolymerisation, an die mit Glimmpolymerisat zu beschichtende Fläche angelegt
wird.
Durch die Erfindung wurde der Einsatz von Blenden mit der geringen Wandstärke ermöglicht, die für eine saubere Begrenzung
der Glimmpolymerisatschichten erforderlich ist. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist eine Halterung
des Trägerbandes über dessen gesamte Länge möglich, ohne Rücksicht auf die Lage der Blende oder der kapazitiv
wirksamen Schichten, da die Halteeinrichtungen so klein ausgebildet werden können, daß sie nicht bis zu der zu
beschichtenden Oberfläche des Trägers reichen. Beschichtungsblenden oder Masken können daher ohne Rücksicht
auf diese Halteeinrichtungen aufgesetzt werden.
Vorteilhaft werden Vertiefungen in Form von Längsnuten oder Längsrillen angebracht. Dadurch kann das Trägerband
an jeder beliebigen Stelle gegen die Stützfläche gedrückt
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werden. Vorteilhaft werden auf die mit Vertiefungen versehenen Seiten des Trägerbandes KontaktscMchten aufgebracht
und die ,Belagsflächen auf der freiliegenden Seite des Trägerbandes so angeordnet, daß sie die Kanten der
Kontaktschichten überlappen. So wird auf einfache Weise
©ine Kontaktierung der Belagsflächen erreicht.
Das Trägerband wird vorteilhaft mit den Vertiefungen in eine Snap-in-Einrichtung eingerastet und dadurch gegen
die Stützfläche gedrückt. Als Snap-in-Einrichtungen können Metallfedern oder auch Kunststoffnasen dienen, die
federnd mit der Stützplatte verbunden sind.
Das Trägerband wird vorteilhaft aus Polyphenylensulfid hergestellt. Dadurch ergibt sich eine hohe elektrische
und mechanische Stabilität des Bauelementes. Insbesondere ' bei Temperaturänderungen treten allenfalls sehr geringe
mechanische Spannungen im Bauelement, insbesondere in den kapazitiv wirksamen Schichten, auf.
Die auf der Stützplatte aufliegende Seite des Trägerbandes wird vorteilhaft mit einer Rillenstruktur versehen.
Dadurch wird auch beim Aufkleben der Kondensatoren auf eine mit Kleber beschichtete Schaltungsplatte ein Verbiegen
und damit eine mechanische Spannung in den Kondensatoren vermieden, da der überschüssige Kleber in die Rillen
gedrückt wird, nicht aber durch einen Druck über die gesamte Bauelementefläche eine Wölbung des Bauelementes
hervorrufen kann.
Nach der Beschichtung des Trägerbandes wird dieses in Kondensatoren der gewünschten Länge zertrennt, beispielsweise
mit einer Metallkreissäge. Dadurch wird gleichzeitig eine Randisolation der Belagsflächen entlang den
Schnittkanten erreicht, wie bei Schichtkondensatoren üb-■ lieh. Auch andere Trennverfahren, beispielsweise ein Zerschneiden
des Trägerbandes innerhalb von metallfreien
+ - VPA 8t P 1 0 4 1 '
Streifen, sind möglich.
Die Erfindung wird nun anhand von zwei Figuren näher erläutert. Sie ist nicht auf die in den Figuren gezeigten
Beispiele beschränkt.
Fig. 1 zeigt ein erfindungsgemäßes Kondensatorband, welches in einer Snap-in-Einrichtung gehalten wird,
in geschnittener Ansicht.
Fig. 2 zeigt eine zweite Ausführungsform eines erfindungsgemäßen beschichteten Trägerbandes.
Auf einer Stützplatte 1 sind zwei Klemmfedern 2 angebracht, welche eine Snap-in-Einrichtung bilden. Durch
diese Federn 2 wird ein Trägerband 3 gegen die Stützplatte 1 gedrückt. Hierzu greifen die Klemmfedern 2 in
Längsnuten 4 an zwei gegenüber liegenden Seiten, des Trägerbandes ein. Die Längsnuten 4 erstrecken sich über die
gesamte Länge des Trägerbandes. Sie wurden bei der Herstellung des Trägerbandes erzeugt, beispielsweise durch
Formpressen oder Strangpressen des Trägerbandes. Auf die mit den Nuten versehenen Flächen des Trägerbandes wurden
Metallschichten 5 aufgebracht, welche um die abgerundeten Kanten des Trägerbandes herumreichen. Belagsflächen
7 bzw· 8 überlappen mit ihren Kontaktstreifen 18, 19 jeweils eine Kante 9 bzw. 10 jeweils einer Metallschicht
5. Zwischen den Belagsflächen 7 und 8 befindet sich jeweils eine Glimmpolymerisatschicht 11. Zwei streifenförmige
Blenden 12 begrenzen die Breite der nächsten aufzubringenden Glimmpolymerisatschicht. Sie liegen an den
darunter liegenden Schichten an. Die Blenden 12 liegen über ihre gesamte Länge an den darunter liegenden
Schichten an, da das Trägerband durch das erfindungsgemäße Andrücken an die Stützplatte eine ebene Oberfläche
ohne Wölbungen oder sonstige Verbiegungen besitzt.
VPA 8t P 1 0 4 1 DE
Als weiteres Beispiel ist ein Trägerband 14 in Fig. 2 aargestellt. Es enthält an zwei einander ^agenüber liegenden
Seiten muldenförmige Vertiefungen 15. Die Seiten mit den muldenförmigen Vertiefungen 15 sind ebenfalls durch
Kontaktschichten 5 bedeckt. Eine Schichtenfolge 16 von Belägen und Glimmpolymerisatschichten bildet die eigentliche
Kapazität. Rillen 17 sind auf der der Schichtenfolge 16 gegenüberliegenden Seite des Trägerbandes angebracht.
Sie ermöglichen, daß beim Aufkleben des fertigen Kondensators auf eine mit Kleber beschichtete Schaltungsplatte der Kleber in diese Rillenv17 fließt und eine Wölbung
des Trägers 14 vermieden wird. Dadurch werden auch beim Einbau des Kondensators mechanische Spannungen vermieden.
Dies ist insbesondere für· relativ großflächige
"15 Kondensatoren vorteilhaft.
7" Patentansprüche
2 Figuren
2 Figuren
Leerseite
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Claims (7)
- 81P 1Ö4Patentansprücheft J Verfahren zur Herstellung von elektrischen Schichtkondensatoren mi-ε Glimmpolymerisatschichten als Dielektrika, "bei dem zunächst ein Trägerband mit annähernd rechteckförmigem Querschnitt aus einem Kunststoff geformt wird, bei dem die Metallschichten der Beläge und die Glimmpolymerisatschichten derart gegeneinander versetzt aufgebracht werden, daß an zwei einander gegenüber liegenden Kanten des Trägerbandes Kontaktstreifen entstehen, in deren Bereich zwei oder mehrere Metallschiehten unmittelbar aufeinander liegen und bei dem bei der Herstellung der Glimmpolymerisatschichten die nicht zu beschichtenden Teile durch zumindest eine Blende abgedeckt werden, d adurch gekennzeichnet, daß das Trägerband (3) in den an die Kontaktstreifen (18, 19) angrenzenden, nicht mit Glimmpolymerisat zu beschichtenden Flächen mit Vertiefungen (4, 15) versehen wird, daß vor dem Aufbringen der Glimmpolymerisatschichten (11) in diesen Vertiefungen (4, 15) Halteeinrichtungen (2) in Eingriff gebracht werden und daß durch diese Halteeinrichtungen (2) das Trägerband (3) gegen eine Stützfläche (1) gedrückt wird und daß dann die Blende (12) zumindest für die Zeitspanne der Glimmpolymerisation an die mit Glimmpolymerisat zu beschichtende Fläche angelegt wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen in Form vom Längsnuten oder Längsrillen (4) angebracht werden.
- 3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, riaß auf die mit Vertiefungen (4, 15) versehenen Seiten des Trägerbandes (3) Kontaktschichten (5) aufgebracht werden und daß die Belagsflächen (7, 8) auf die freiliegende Seite des Trägerbandes (3) so aufgebracht werden, daß sie die Kanten (9) der Kontaktschichten (5) überlappen.- ·* - VPA 8t P t 0 4 t DE
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägerband (3) mit den Vertiefungen (4, 1-5) in eine Snap-in-Einrichtung eingerastet und dadurch gegen die Stützfläche (1) gedrückt wird.
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägerband formgepreßt wird.
- 6. Verfahren nach eiiemder Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägerband aus Polyphenylensulfid hergestellt wird.
- 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1bis6, dadurch gekennzeichnet, daß die auf die Stützfläche (1) aufliegende Seite des Trägerbandes (3) mit einer Rillenstruktur (17) versehen wird.
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