DE2830134C2 - Verfahren zum Ablagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück - Google Patents
Verfahren zum Ablagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes WerkstückInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ablagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch
leitendes Werkstück mittels einer Glimmentladung, wozu das Werkstück als die eine Elektrode eines
elektrischen Feldes in einer mit Trägergas beschickten Unterdruckkammer geschaltet ist, wobei das Trägergas
und das Spendermedium vor Eintritt in die Unterdruckkammer ionisiert werden und im ionisierten Zustand in
das elektrische Feld der Unterdruckkammer überführt werden.
Bislang wurden zu diesem Zweck die zu beschichtenden Werkstücke in einem galvanischen Bad mit Hilfe
von Säuren oder Laugen unterschiedlichen Behandlungszeiten ausgesetzt
Diese Galvanisierverfahren haben den Nachteil, daß sie durch die benötigten Säuren oder Laugen zu einem
immer stärker werdenden Umweltproblem werden. Zumindest sind sehr hohe Investitionen erforderlich, um
die dabei entstehenden Abwässer zu neutralisieren,
sofern nicht hier oder dort die zuständigen Behörden die
Einrichtung solcher Anlagen im vorhinein untersagen. Wegen der hohen Salzfracht der neutralisierten
Abwasser entstehen hohe Abwasserabgaben. Allerdings
sind auch schon Verfahren bekannt geworden, bei denen das Auflagern einer Metallschicht auf ein
elektrisch leitendes Werkstück mittels einer Glimmentladung erfolgt, wozu das Werkstück als die eine
Elektrode eines elektrischen Feldes in einer mit Trägergas beschickten Unterdruckkammer geschaltet
ist, während die andere Elektrode aus dem Beschichtungsmetall besteht Diese Verfahren haben sich als
nicht sehr geeignet erwiesen, da sie wegen des raschen Verbrauchs der metallabgebenden Elektrode nur die die
Beschichtung von Drähten oder kleineren Werkstücken, und das wegen der geringen Energie der auftreffenden
Metallionen nur mit äußerst dünnen und nicht sehr festhaftenden Schichten gestatten.
Der Vollständigkeit halber sei auch das sogenannte Gasplattieren, wie es beispielsweise in der DE-AS
11 04 284 beschrieben ist, wobei ein Plattierungsgas
mittels radioaktiver Stoffe (Ra; U) ionisiert wird, erwähnt B.eim Gasplattieren wird im wesentlichen das
aufzulagernde Metall aus einem eine entsprechende Metallverbindung enthaltenden oder aus einer solchen
bestehenden Gas auf das Werkstück abgeschieden, das aber dazu hocherhitzt werden muß. Derart hohe
Temperaturen — es handelt sich dabei um solche von 12000C und darüber — beeinträchtigen die physikalischen Eigenschaften des Werkstückes, so daß man in
der Verwendung des Gasplattierverfahrens sehr beschränkt ist
Es sind weiter Aufdampfverfahren, wie z. B. aus der
US-PS 39 61 103 bekannt Mit diesem Verfahren werden jedoch nur Ionen im Kathodenfall beschleunigt
Es sind damit nur dünne Filme auf einem Werkstück erzielbar. Das Verfahren dient zum Aufdampfen solcher
dünner Filme, beispielsweise auf Halbleiter.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu schaffen, das die oben genannten
Nachteile vermeidet das umweltfreundlich und zur Erzeugung dicker Schichten auch auf größeren Werkstücken geeignet ist, wobei die Erhitzung des Werkstükkes auf schädliche Temperaturen nicht erforderlich ist
Die Lösung wurde in überraschender Weise durch eine Weiterentwicklung der an zweiter Stelle genannten
Verfahren gefunden. Mit der Erfindung wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem zum Abstäuben von
Spendermedium unter Zuhilfenahme eines in Turbulenz versetzten und der Ionisierung mittels Lichtbogen
unterworfenen Trägergases herangezogen und diesen Lichtbogen der Glimmentladung überlagert wird, so
daß unter Ausnutzung des Kathodenfalls den vor Eintritt in die Unterdruckkammer ionisierten Metallionen des als eine Elektrode geschalteten Spendermediums zusätzlich Energie zugeführt und diese Metallionen
mit hoher Geschwindigkeit auf das als die andere Elektrode geschaltete Werkstück ein- un<i/oder abgelagert wird.
Vorteilhafterweise wird das Trägergas zuerst in Turbulenz versetzt und bei seinem Weg zur Unterdruckkammer über die Oberfläche des Spendermediums geführt
Vorteilhafterweise werden bei der Durchführung des Verfahrens die vom Trägergas abgestäubten Metallatome des Spendermediums durch das Trägergas vor
Eintritt in die Unterdruckkammer ionisiert
daß weitere, nicht vorionisierte Metallionen des Spendermediums zum Ablagern der Schicht verwendet
werden.
Auch können mit Vorteil nicht vorionisierte Metallionen des Spendermediums zum Ablagern eber Grundschicht
eingesetzt werden, auf die danach mindestens eine Schicht aus nicht vorionisierten Metallionen des
Spendermediums abgelagert werden.
Eine zur Durchführung erfindungsgemäßen Verfahrens geeignete Vorrichtung weist einen Ionenerzeuger
auf, der aus einem mit dem Trägergas beschickbaren Turbulenzraum, einer Einrichtung zur Bildung eines
Lichtbogens im Turbulenzraum und Mitteln für den Kontakt zwischen dem Trägergas und dem Beschichtungsmetall
besteht.
Die Zeichnungen zeigen beispielsweise in schematischer Darstellung in
F i g. 1 eine derartige Vorrichtung zur Durchführung
des Verfahrens im Schnitt,
F i g. 2 einen Schnitt durch eine Ausfühnin3sform des
Ionenerzeugers in größerem Maßstab.
Gemäß Fig. 1 ist auf eine elektrisch leitfähige, isolierte Platte 1 eine Haube 2 zur Bildung der
Unterdruckkammer 3 gasdicht aufgesetzt Eine Rohrleitung 4, die isoliert durch die Platte 1 geführt ist, ist an die
Unterdruckkammer 3 angeschlossen und dient in bekannter Weise zu deren Evakuierung. Auf der Platte 1
wird von Stützisolatoren 5 und 6 die Werkstückauflage 7 getragen. In ihrer Decke besitzt die Haube 2 eine
Öffnung, in welche ein Ionenerzeuger eingesetzt ist Die Platte 1 und mit ihr die Haube 2 sowie das Gehäuse 9
des Ionenerzeugers und dessen Deckel 10 sind durch die Leitung 11 an den positiven Pol einer nicht gezeichneten
Stromquelle anschließbar. Die Werkstückauflage 7 ist durch eine Leitung 12, die durch den Stützisolator 6
geführt ist, an den negativen Pol der Stromquelle angeschlossen. Die Platte 1 und die Haube 2, ebenso
auch die Werkstückauflage 7 sind aus einem gegenüber einer Ionenauslösung hochwiderstandsfähigen Legierung
hergestellt
Bei dem in F i g. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel eines Ionenerzeugers 8 ist im Gehäuse 9 eine zur
Unterdruckkammer 3 weisende öffnung 13 vorgesehen, in die eine gasdurchlässige Platte 14 aus dem
Beschichtungsmetall eingesetzt ist Im Deckel 10 ist eine Zündkerze 15 eingeschraubt, deren Mittelelektrode 16
durch die Leitung 17 an den negativen Pol der erwähnten Stromquelle angeschlossen ist.
Die Gegenelektrode 18 ist über den Deckel 10, das Gehäuse 9, die Haube 2 und die Platte 1 an den positiven
Pol der erwähnten Stromquelle anschließbar. In den vom Gehäuse 9 und Deckel 10 umschlossenen
Turbulenzraum 19 mündet ein gegenüber dem Gehäuse 9 isolierter Stutzen 20 für die Zuleitung des Trägergases.
Schließlich sind noch hier nicht eigens beschriebene und gezeichnete Mittel bekannter Art zur Regulierung
der Spannung und zur Einstellung und Konstanthaltung des Druckes in der Unterdruckkammer je nach den
günstigsten Arbeitsbedingungen vorgesehea Das mit der Metallbeschichtung zu versehende
ίο Werkstück 21 wird auf die Werkstückauflage 7
aufgelegt, die Haube 2 auf die Platte 1 aufgesetzt und die so geschlossene Unterdruckkammer 3 durch die
Rohrleitung 4 evakuiert Hernach wird durch den Stutzen 20 das Trägergas (z. B. Argon) eingelassen und
die Platte 1, die Haube 2 usw. an die Plusspannung gelegt Es baut sich zwischen Platte 1 und Haube 2 als
Anode einerseits und dem Werkstück 21 als Kathode andererseits ein elektrisches Feld auf. Ferner entsteht
zwischen der Gegenelektrode 18 und der Mittelelektrode 16 der Zündkerze 15 ein Lichtbogen.
Durch diesen Lichtbogen wird das in den Turbulenzraum 19 eingetretene Trägergas ionisiert und in eine
Wirbelströmung versetzt. Die Gasionen dringen durch die Platte 14 aus Beschichtungsmetall und stäuben
daraus Metallionen ab, weiche als eine Art »Ionenregen« in das elektrische Feld in der Unterdruckkammer 3
gelangen. In diesem werden sie in Richtung des Werkstücks 21 umgelenkt und treffen dort im Zuge der
Glimmentladung zwischen Anode 1, 2 und Kathode 21 mit sehr hoher Geschwindigkeit auf, derart, daß sie zum
Teil in die Oberfläche des Werkstückes 21 eindringen und in der Folge eine äußerst festhaftende Metallschicht
auf dem Werkstück 21 bilden. Dabei wird die Dicke der Schicht im wesentlichen durch die Dauer des Beschichtungsvorganges
bestimmt
Mittels zusätzlicher Elektroden kann der Beschichtungseffekt verstärkt werden, besonders wenn es sich
darum handelt, größere Schichtdicken zu erzielen. Es kann aber auch so vorgegangen werden, daß der
Ionenerzeuger 8 nur einleitend zur Erzeugung einer
ersten festhaftenden Grundschicht verwendet wird, worauf die weitere Beschichtung in herkömmlicher
Weise von den zusätzlichen Elektroden aus erfolgt.
Schließlich kann man auch durch mehrere Ionenerzeuger 8, die mit unterschiedlichen Beschichtungsmetallen
ausgestattet sind, eine legierungsartige Beschichtung des Werkstückes erzielen. Das Gleiche kann auch
erreicht werden, wenn die erwähnten zusätzlichen Elektroden aus verschiedenen Beschichtungsmetallen
so bestehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zum Ablagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes
Werkstück mittels einer Glimmentladung, wozu das Werkstück als die eine Elektrode eines elektrischen
Feldes in einer mit Trägergas beschickten Unterdruckkammer geschaltet ist, wobei das Trägergas
und das Spendermedium vor Eintritt in die Unterdruckkammer ionisiert werden und im ionisierten Zustand in das elektrische Feld der
Unterdruckkammer überführt werden, dadurch gekennzeichnet, daß zum Abstauben von
Spendermedium unter Zuhilfenahme eines in Turbulenz versetzten und unter Ionisierung mittels
Lichtbogen unterworfenen Trägergases herangezogen und dieser Lichtbogen der Glimmentladung
überlagert wird, so daß unter Ausnutzung des Kathodenfalls den vor Eintritt in die Unterdruckkammer ionisierten Metallionen des aJs eine
Elektrode geschalteten Spendermediums zusätzlich Energie zugeführt und diese Metallionen mit hoher
Geschwindigkeit auf das als die andere Elektrode geschaltete Werkstück ein- und/oder abgelagert
wird. ·
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägergas zuerst in Turbulenz
versetzt und bei seinem Weg zur Unterdruckkammer über die Oberfläche des Spendermediums
geführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Trägergas abgestäubten Metallatome des Spendermediums durch das
Trägergas vor Eintritt in die Unterdruckkammer ionisiert werden.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß weitere, nicht vorionisierte
Metallionen des Spendermediums zum Ablagern der Schicht verwendet werden
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß nicht vorionisierte Metallionen des
Spendermediums zum Ablagern einer Grundschicht eingesetzt werden, auf die danach mindestens eine
Schicht aus nicht vorionisierten Metallionen des Spendermediums abgelagert wird.
Priority Applications (6)
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DE19782830134 DE2830134C2 (de) | 1978-07-08 | 1978-07-08 | Verfahren zum Ablagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück |
EP79102348A EP0008634B1 (de) | 1978-07-08 | 1979-07-09 | Verfahren zum Auflagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
US06/056,121 US4288306A (en) | 1978-07-08 | 1979-07-09 | Process for forming a metal or alloy layer and device for executing same |
AT79102348T ATE2909T1 (de) | 1978-07-08 | 1979-07-09 | Verfahren zum auflagern einer metall- oder legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes werkstueck und vorrichtung zur durchfuehrung desselben. |
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-
1978
- 1978-07-08 DE DE19782830134 patent/DE2830134C2/de not_active Expired
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Publication number | Publication date |
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DE2830134A1 (de) | 1980-01-17 |
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