DE2804491A1 - Bildwiedergabegeraet in flachbauweise - Google Patents
Bildwiedergabegeraet in flachbauweiseInfo
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- Cleaning In General (AREA)
Description
RCA 71166 Ks/Ri . ,
U.S. Serial No: 765,109 _^
Filed: February 2, 1977 Dr. STT^zold^ -2SÜ449 1
Dip!. - ing Ptter S-Iütz
Q) Dlpl.-in.rj. Wolfgang Heuslor
8 München 86, Postfach 860668
RCA Corporation
New York, N.Y., V.St.v.A.
New York, N.Y., V.St.v.A.
Bildwiedergabegerät in Flachbauweise
Die Erfindung betrifft ein Bildwiedergabe- oder Sichtgerät in Flachbauweise, worin fokussierende Führungsanordnungen
vorgesehen sind, um eingeschossene Elektronen in begrenzten Strahlen zusammenzuhalten. Die Erfindung bezieht sich insbesondere
auf Führungsanordnungen, an denen Mittel vorgesehen sind, um weit divergierende Elektronen aus den Strahlen am
Eingangsende der jeweiligen Führung herauszuziehen.
Es ist ein Bildwiedergabegerät in Flachbauweise bekannt, das einen evakuierten Kolben mit einem im wesentlichen rechteckigen
Bilderzeugungsteil und einem Strahlerzeugungsteil aufweist, der sich längs mindestens eines Randes des Bilderzeugungsteils
erstreckt. Der Bilderzeugungsteil hat eine Vorderwand und eine gegenüberliegende Rückwand sowie beabstandete, parallele Stützwände,die
sich zwischen Vorderwand und Rückwand erstrecken.
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Die Stützwände verlaufen so, daß zwischen ihnen einzäne Kanäle
gebildet werden, die an ihrem einen Ende zum Strahlerzeugungsteil hin offen sind. Über die innere Oberfläche der
Vorderwand erstreckt sich ein Leuchtstoffschirm. Der Strahlerzeugungsteil enthält ein Strahlsystem, das Elektronen erzeugen
und die Elektronen als Strahlen längs jedes der Kanäle richten kann. Für jeden Kanal ist mindestens ein Strahl vorgesehen.
Entlang den Kanälen befinden sich fokussierende Führungen, durch welche die Elektronenstrahlen hindurchfließen.
Für jeden Elektronenstrahl ist eine fokussierende Führung vorgesehen. Die Führungen dienen dazu, die Elektronen im Strahl
auf der gesamten Länge des Kanals zusammenzuhalten. Die fokussierenden Führungen enthalten außerdem Mittel, um die Strahlen
an beabstandeten Punkten der Länge der Kanäle aus der Führung zum Leuchtstoffschirm hin abzulenken, so daß der Leuchtstoffschirm
Zeile für Zeile abgetastet werden kann. Ein derartiges Bildwiedergabegerät ist in der US-Patentschrift 4- O31 427 beschrieben.
Es gibt verschiedene Typen fokussierender Führungen, die in
dem vorstehend beschriebenen flachen BiIdwiedergabegerät verwendet
werden können. Jedoch unabhängig vom jeweils verwendeten Typ der Führung ist es erwünscht, daß alle die in die Führung
eingeschossenen Elektronen längs der Führung wandern, ohne dabei an irgendwelche Teile der Führung zu stoßea. Hierdurch wird
das höchste Gleichmaß der Helligkeit an jedem Extraktionspunkt längs der Führung erreicht. Es ist zwar möglich, ein Strahlsystem
derart präzise zu konstruieren, diß es alle Elektronen derart in die Führung einschießt, daß alle Elektronen in der
erwünschten Weise längs der Führung wandern. Ein solches Strahlsystem ist jedoch schwierig herzustellen und teuer. Die Aufgabe
der Erfindung besteht darin, das gewünschte Ergebnis auf einfachere und weniger kostspielige Weise zu erreichen.
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Ein Bildwiedergabegerät, bei dem diese Aufgabe erfindungsgemäß gelöst ist, ist im Patentanspruch 1 gekennzeichnet· Das erfindungsgemäße
Gerät enthält eine oder mehrere fokussierende Führungen mit Wänden, die dazu dienen, ein von einem Strahlerzeugungssystem
eingeführtes Bündel von Elektronen auf den zwischen den Wänden liegenden Raum zu begrenzen. Zwischen dem Strahlerzeugungssystem
und jeder fokussierenden Führung befindet sich eine "Säuberungseinrichtung", um aus dem erzeugten Strahl diejenigen
Elektronen zu entfernen, die eine solche Lage und einen solchen Geschwindigkeits vektor haben, daß sie während der Wanderung
der Elektronen längs der fokussierenden Führung auf eine Wand der Führung treffen würden.
Die Erfindung wird nachstehend an Ausführungsbeispielen anhand von Zeichnungen näher erläutert.
Fig. 1 zeigt in perspektivischer Darstellung und teilweise aufgebrochen
eine Ausführungsform eines Bildwiedergabegeräts in Flachbauweise, in dem die Erfindung realisiert
sein kann·
Fig. 2 zeigt die Ansicht eines Schnitts durch einen Teil einer erfindungsgemäß ausgebildeten fokussierenden Führung;
Fig. 3 zeigt einen Schnitt durch einen Teil einer anderen Ausführungsform
einer erfindungsgemäßen fokussierenden Führung;
Fig. 4 zeigt einen Schnitt durch eine fokussierende Führung des
in Fig. 3 dargestellten Typs, die jedoch eine andere
Ausführungsform der StraÜsäuberungseinrichtung enthält
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Fig. 5 zeigt die in der fokussierenden Führung nach Fig. 4· enthaltenen
Führungsplatten in Draufsicht;
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Pig. 6 zeigt in einer Schnittansicht einen Teil der Fokussierung
des in I1Xg. 3 dargestellten Typs, die eine wiederum andere Ausführungsform der StrahlSäuberungseinrichtung
enthält.
Die in I"ig. 1 dargestellte Ausführungsform des insgesamt mit
10 bezeichneten flachen Bildwiedergabegerats, an dem die Erfindung
realisiert werden kann, besteht aus einem typischerweise gläsernen evakuierten Kolben 12, der einen Bilderzeugungsteil 14·
und einen Strahlerzeugungsteil 16 umfaßt. Der Bilderzeugungsteil 16 hat eine rechteckige Vorderwand 18, die den Bildschirm trägt,
und eine rechteckige Rückwand 20, die im Abstand parallel zur Vorderwand liegt. Vorderwand 18 und Rückwand 20 sind durch
Seitenwände 22 verbunden. Die Vorderwand 18 und die Rückwand 20 sind so dimensioniert, daß sich die gewünschte Bildschirmgröße
ergibt (z.B. 75 x 100 cm), und der Abstand zwischen diesen beiden Wänden beträgt etwa 2,5 bis 7»5 cm.
Zwischen der Vorderwand 18 und der Rückwand 20 ist eine Vielzahl beabstandeter paralleler Stützwände 24- befestigt, die sich
vom Strahlerzeugungsteil 16 zur gegenüberliegenden Seitenwand 22 erstrecken. Die Stützwände 24- geben dem evakuierten Kolben
12 den gewünschten inneren Halt gegen den äußeren Atmosphärendruck und unterteilen der Bilderzeugungsteil 14- in eine Vielzahl
von Kanälen 26. Auf der inneren Oberfläche der Vorderwand 18 befindet sich ein Leuchtstoffschirm 28. Der Leuchtstoffschirm
28 kann von irgend einem bekannten Typ sein, wie er derzeit in Kathodenstrahlröhren, z.B. in Schwarzweiß- oder FarbfernsehbildrÖhren,
verwendet wird. Auf dem Leuchtstoffschirm
28 liegt eine Metallfilmelektrode 30.
Der Strahlerzeugungsteil 16 bildet eine Verlängerung des Bilderzeugungsteils
14- und erstreckt sich über die auf der einen Seite liegenden benachbarten Enden der Kanäle 26. Der Strahlerzeugungsteil
kann irgend eine geeignete Gestalt haben, um das darin enthaltene speziell verwendete Strahlsystem zu um-
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schließen. Das im Strahlerzeugungsteil 16 enthaltene Strahlsystem
(Elektronenkanonenstruktur) kann in irgend einer bekannten Weise geeignet konstruiert sein, um Bündel oder Strahlen
von Elektronen selektiv längs in jedem der Kanäle 26 zu richten. Das Strahlsystem kann z.B. aus einer Vielzahl einzelner
Elektronenkanonen bestehen, die an den Enden der Kanäle 26 angeordnet sind, um getrennte Strahlen in die Kanäle zu
richten. Das Strahlsystem kann aber auch eine Linienkathode enthalten, die sich entlang des Strahlerzeugungsteils 16 über
die Enden der Kanäle 26 erstreckt und elektrisch dazu gebracht werden kann, einzelne Elektronenstrahlen längs in die Kanäle
zu richten. Ein Strahlsystem dieses Linientyps ist in der US-Patentschrift 2 858 4-64- beschrieben.
In jedem der Kanäle 26 befinden sich fokussierende Führungsanordnungen, um die in den Kanal gerichteten Elektronen auf
einen Strahl zu begrenzen, der einen Weg längs des Kanals verfolgt. Jede führung enthält außerdem Einrichtungen, um den
zugeordneten Strahl an verschiedenen Punkten längs der Länge des Kanals 26 aus der Führung heraus und zum Leuchtstoffschirm
28 hin abzulenken. Die fokussierenden Führungen enthalten im allgemeinen zwei Wände, die sich quer und längs über die Kanäle
26 erstrecken, wobei die eine Wand an oder nahe der Rückwand 20 liegt, während die andere Wand der fokussierenden Führung
im Abstand zur erstgenannten Wand auf der dem Leuchtstoffschirm
28 zugewandten Seite liegt. Die Elektronen für die Strahlen werden im allgemeinen zwischen den Führungswänden in die
Führung eingeschossen. Wie oben erwähnt ist es wünschenswert, daß alle in die Führung eingeschossenen Elektronen die volle
Lgnge der Führung bis zu dem Punkt durchwandern, wo der Strahl aus der Führung herausgelenkt wird. Im allgemeinen haben jedoch
einige der in die Führung eingeschossenen Elektronen eine solche Lage bezüglich der Führungswände und einen solchen Geschwindigkeit
svektor , daß sie im Verlauf ihrer Bewegung durch die
Führung gegen eine der Wände schlagen. Dies kann entweder durch die anfängliche Position oder den anfänglichen Geschwindigkeits-
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vektor der eingeschossenen Elektronen oder durch Störungen im Weg der Elektronen bedingt sein, die durch Konstruktionsfehler
in der Führung verursacht werden können. Um solche unerwünschten
Elektronen zu eliminieren, ist zwischen dem Strahlsystem und dem benachbarten Ende der fokussier enden Führung erfindungsgemäß
ein Abschnitt zur Säuberung öder Bereinigung des Strahls bei seiner Einspeisung vorgesehen. Der Zweck des Säuberungsabschnittes
besteht darin, solche unerwünschten Elektronen zu entfernen und praktisch nur diejenigen Elektronen vom
Strahlsystem zur fokussierenden Führung gelangen zu lassen, die eine solche Lage und einen solchen GeschwindigkeitsvektoB
haben, daß sie unter demfokussierenden Einfluß der Führung
und bei Vorhandensein von durch Konstruktionsfehler verursachten Störungen längs der fokussierenden Führung strömen, ohne
gegen die Wände der Führung zu stoßen.
In Fig. 2 ist eine in den Kanälen 26 verwendbare Ausführungsform einer fokussierenden Führung (insgesamt mit 32 bezeichnet) dargestellt,
sowie ein Strahlsauberurigsabschnitt (insgesamt mit 34 bezeichnet), der sich zwischen dem Ende der fokussierenden
Führung 32 und dem Strahlsystem (nicht gezeigt) befindet.
Die fokussierende Führung 32 enthält eine Vielzahl beabstandeter
paralleler Drähte 36, die quer durch die Kanäle 26 laufen. Die Drähte 36 erstrecken sich in einer gemeinsamen Ebene, die
im Abstand und parallel zur Rückwand 20 des Kolbens liegt. Zwischen den Drähten 36 und der Vorderwand 18 des Kolbens 12 erstreckt
sich quer durch die Kanäle 26 und im Abstand und parallel su den Drähten 36 eine Elektrode 38 aus Metall, die eine Masseebene
(Grundpotentialebene) bildet. Diese "Masseplatte" 38 ist von einer Vielzahl von Öffnungen 40 durchbrochen, die in Reihen
längs und quer zu den Kanälen 26 angeordnet sind. Die Querreihen der Öffnungen 40 liegen jeweils zwischen benachbarten Drähten
36* Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 20 des Kolbens 12 befindet sich eine Vielzahl beabstandeter paralleler Leiter 42,
die quer zur Richtung der Kanäle 26 laufen. Jeder der Leiter
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ist mit einer der Öffnungen 40 in der Masseplatte 38 ausgerichtet und liegt ihr gegenüber. Wie noch erläutert werden
wird, haben die Leiter 42 u.a. den Zweck, eine zweite Masseebene zu bilden.
Der Säuberungsabschnitt 34 enthält eine Vielzahl beabstandeter
paralleler Drähte 44, die quer durch die Kanäle 26 laufen. Die Zentren dieser Drähte 44 liegen in derselben gemeinsamen Ebene
wie die Zentren der Drähte 36 der fokussierenden Führung 32. Im Abstand und parallel zu den Drähten 44 erstreckt sich eine
Masseplatte 46 quer über die Kanäle 26. Die Masseplatte 46 liegt in gleicher Ebene mit der Masseplatte 38 der fokussierenden
Führung 32 und bildet wie gezeigt eine Verlängerung derselben. Ferner ist ein metallener Leiter 48 auf der inneren Oberfläche
der Rückwand 20 des Kolbens 12 vorgesehen, der sich auf der Länge des Säuberungsabschnitts 34 quer durch die Kanäle erstreckt.
Der metallene Leiter 48 dient ebenfalls als Elektrode zur Bildung einer Masseebene. Die Drähte 44 haben von Mitte zu
Mitte einen Abstand, der gleich dem Abstand zwischen den Drähten 36 der fokussierenden Führung 32 ist. Die Drähte 44 des Säuberungsabschnitts
haben jedoch größeren Durchmesser als die Drähte 36 der fokussierenden Führung.
Beim Betrieb des Bildwiedergabegeräts 10 wird an jeden der zur fokussierenden Führung gehörenden Drähte 36 und an jeden der
zum Säuberungsabschnitt gehörenden Drähte 44 ein Potential gelegt, das positiv gegenüber dem Potential ist, das an die Masseplatte
38 und die Leiter 42 der fokussierenden Führung und an die Masseplatte 46 und den Leiter 48 des Säuberungsabschnitts
gelegt wird. In den Säuberungsabschnitt 3^ zwischen der Masseplatte
46 und dem metallenen Leiter 48 werden Elektronenstrahlen gerichtet, und zwar so, daß jeder Strahl auf einen Weg gelenkt
wird, der einer gesonderten Längsreihe der öffnungen 40 in der Masseplatte 38 der fokussierenden Führung entspricht.
Die Potentialdifferenz zwischen den Drähten 36 des die fokussie-
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rende Führung bildenden Abschnitts und der Masseplatte 38 und
den Leitern 42 in diesem Abschnitt erzeugt elektrostatische Felder, die jeden der Elektronenstrahlen dazu bringen, einer
schlangenlinienartigen Bahn 50 längs der Anordnung der Drähte
36 des Fokussierungsabschnitts zu folgen, wie es in Fig. 2 gezeigt ist. Eine ähnliche Potentialbeaufschlagung der Drähte
44, der Masseplatte 46 und des metallenen Leiters 48 im Säuberungsabschnitt 34 bewirkt eine ähnliche schlangenlinienartige
Bahn des Elektronenstrahls durch die Anordnung der Drähte 44, wie es bei 50 in Fig. 2 gezeigt ist·
Die an die Drähte 36 der fokussierenden Führung und an die Drähte 44 des Säuberungsabschnitts gelegten Potentiale führen
dazu, daß jeder der Drähte von annähernd kreisförmigen Äquipotentiallinien umschlossen ist, wobei das Potential von der
Mitte der Drähte aus radial nach außen von Linie zu Linie abnimmt. Das an jeden der Drähte 44 des Säuberungsabschnitts gelegte
Potential wird so eingestellt, daß es gleich demjenigen Potential ist, welches rund um jeden der DrShte 36 bei einem
Radius herrscht, der gleich dem Radius der Drähte 44 ist. Hiermit sind die elektrostatischen Kräfte im Säuberungsabschnitt
34 und in der fokussierenden Führung 32, die im Umkreis jedes Drahts außerhalb eines dem Radius der Drähte 44 des Säuberungsabschnitts entsprechenden Radiusses herrschen, nahezu identisch,
so daß auch die Bewegung von Elektronen in beiden Bereichen und 32 im wesentlichen identisch ist. Da jedoch die Drähte 44
des Säuberungsabschnitts größeren Durchmesser als die Drähte der fokussierenden Führung haben, ist das Volumen des Phasenraums,
das von Elektronen in stabilen Bahnen belegt werden kann, im Säuberungsabschnitt 34 kleiner als im fokussierenden Führungsabschnitt
32.
Elektronen, die in stabilen Bahnen in einer periodischen Fokussierungsanordnung
wie der fokussierenden Führung 32 laufen, haben eine Langwellenperiodxzitat, in der es mindestens einen Punkt
gibt, wo die Elektronen dicht bei einem Minimalabstand an einer
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der Elektronen vorbeilaufen. Unter "Langwellenperiodizität"
versteht man die Entfernung, die ein Elektron durchlauft, um
von einer bestimmten Lage und einem bestimmten Winkel relativ zur Längsachse der Elektronenbahn an eine Stelle zu gelangen,
wo es im wesentlichen wieder die gleiche Relativlage und den gleichen Winkel bezüglich der Achse erreicht. Jedes Elektron,
das an einer solchen Position und mit einem solchen Geschwindigkeitsvektor in den Säuberungsabschnitt 34 eingeschossen wird,
daß seine Laufbahn das Elektron zu nahe an eine der Elektroden (d.h. an einen der Drähte 44 oder an die Masseplatte 46 oder
an den Leiter 48) bringt, wird durch die Elektrode weggenommen. Wenn man den Säuberungsabschnitt 34 lang genug macht, so daß
alle in diesen Abschnitt eingeschossenen Elektronen ihren Mindestabstand zu den Elektroden erreichen (diese Länge ist mindestens
gleich einer Langwellenperiode und macht bei dem dargestellten Typ des Säuberungsabschnitts 34 etwa 6 bis 10 Drähte
aus), dann werden praktisch alle Elektronen, die den Elektroden zu nahe kommen wurden, entfernt, bevor der Strahl die fokussierende
Führung 32 erreicht. Somit werden alle Elektronen, die durch den Säuberungsabschnitt 34 hindurch in die fokussierende
Führung 32 gelangt sind, durch die gesamte Länge der fokussierenden
Führung 32 laufen, ohne dort zu nahe an die Masseplatte
oder an die Leiter 42 zu geraten, welche die Seitenwände der fokussierenden Führung 32 bilden, so daß die Elektronen auch
dann nicht auf die Seitenwände treffen, wenn Störungen infolge von Strukturfehlern in der Führung vorkommen. Der Säuberungsabschnitt 34 bereinigt oder säubert also den Strahl durch Fortnahme
derjenigen Elektronen, die vom Strahlsystem an solcher Position und mit solchem Geschwindigkeitsvektor eingebracht werden,
daß sie gegen die Seitenwände der fokussierenden Führung schlagen würden.
Nachstehend sind typische Werte für die Dimensionierung des Führungsabschnitts
32 und des Säuberungsabschnitts 34 angegeben:
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Durchmesser der Drähte/im Führungsabschnitt = 0,1 mm Durchmesser der Drähte 44 im Säuberungsabschnitt = 0,75
Durchmesser der Drähte/im Führungsabschnitt = 0,1 mm Durchmesser der Drähte 44 im Säuberungsabschnitt = 0,75
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Mitte-Mitte-Abstand zwischen den Drähten = 3^2 mm
Abstand zwischen den Masseebenen = 1,5 mm.
Die Fig. 3 zeigt eine andere Ausführungsform einer in den Kanälen
26 verwendbaren fokussierenden Führung (insgesamt mit 52
bezeichnet) und eines StrahlSäuberungsabschnitt 54· zwischen der
fokussierenden Führung 52 und dem (hier nicht dargestellten)
Strahlsystem.
Die fokussierende Führung 52 enthält eine erste Gitterplatte
56 aus Metall, die sich in der Nähe der Rückwand 20, jedoch im Abstand zu dieser, quer über den Kanal 26 erstreckt. Die
erste Gitterplatte 56 ist von einer Vielzahl beabstandeter rechteckiger Öffnungen 5& durchbrochen. Die öffnungen 58 bilden
Reihen sowohl in Längsrichtung des Kanals 26 als auch quer
zum Kanal. Auf der zur Vorderwand 18 weisenden Seite der ersten Gitterplatte 56 befindet sich eine zweite metallene Gitterplatte
60, die sich nahe der ersten Gitterplatte 56, jedoch im Abstand zu dieser, quer durch den Kanal erstreckt. Die zweite
Gitterplatte 60 ist ebenfalls von einer Vielzahl beabstandeter rechteckiger Öffnungen 62 durchbrochen. Auch die öffnungen
bilden Reihen sowohl in Längsrichtung des Kanals 26 als auch quer zum Kanal, wobei jede der Öffnungen 62 einer anderen der
in der ersten Gitterplatte 56 befindlichen Öffnungen 58 gegenüberliegt.
Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 20 befindet sich eine Vielzahl beabstandeter paralleler Leiter 64·, die
quer zum Kanal 26 verlaufen. Die Leiter 64- sind Streifen eines elektrisch leitenden Materials (z.B. eines Metalls), mit dem
die Rückwand 20 beschichtet ist. Jeder der Leiter 64- liegt einer Querreihe der in der ersten Gitterplatte 56 befindlichen
Öffnungen 58 direkt gegenüber.
Der Säuberungsabschnitt 54- besteht aus einer ersten Gitterplatte
66, die eine Verlängerung der ersten Gitterplatte 56 der fokussierenden
Führung 52 ist, und einer zweiten Gitterplatte 70, die
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eine Verlängerung der zweiten Gitterplatte 60 der fokussierenden Führung 52 ist. Die erste und die zweite Gitterplatte 66
und 70 des Säuberungsabschnitts 54· sind jeweils von öffnungen
bzw. 72 durchbrochen, die den Öffnungen 58 bzw. 62 in den Gitterplatten der fokussierenden Führung 52 entsprechen. Auf den
einander zugewandten Oberflächen der ersten und der zweiten Gitterplatte 66 und 70 befindet sich eine erste bzw. eine zweite
zusätzliche Gitterplatte 74- bzw. 76. Die zusätzlichen Gitterplatten 74- und 76 sind jeweils von öffnungen 78 bzw. 80 durchbrochen,
die mit den öffnungen 68 und 72 in den Gitterplatten
66 und 70 fluchten, jedoch etwas größer als diese Öffnungen sind. Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 20 befindet sich ein Leiter
82, der sich über die volle Länge des Säuberungsabschnitts 54- erstreckt.
Beim Betrieb eines mit der fokussierenden Führung 52 und dem
S äuberungs ab schnitt 54- ausgestatteten Bildwiedergabegeräts 10
wird ein relativ hohes positives Potential, typischerweise etwa 325 Volt, an jeden der Leiter 64 des Führungsabschnitts 52 und
an den Leiter 82 des Säuberungsabschnitts 54 gelegt. Ein niedriges
positives Potential, typischerweise etwa 40 Volt, wird an die erste und die zweite Gitterplatte 56 und 60 des Führungsabschnitts 52 und an die erste und zweite Gitterplatte 66 und
70 des Säuberungsabschnitts 54- gelegt.
Das Strahlsystem richtet Elektronenstrahlen in den Säuberungsabschnitt 54, und zwar in den Raum zwischen der ersten und der
zweiten Gitterplatte 66 und 70. Dabei wird längs jeder Längsreihe der Gitterplattenöffnungen ein gesonderter Strahl gerichtet.
Die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Gitterplatte
56 und 60 einerseits und den Leitern 64 und dem Leuchtstoff schirm oder irgend einem zwischen dem Leuchtstoffschirm und
der fokussierenden Führung liegenden anderen Gittertyp andererseits erzeugt elektrische Kraftfelder, welche die Elektronen über
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die gesamte Länge des Weges der durch den Führungsabschnitt 52 laufenden Strahlen in den jeweiligen Strahlen zusammenhält.
Da der Säuberungsabschnitt 54- im wesentlichen die gleiche Konstruktion
wie der Führungsabschnitt 52 hat, werden ähnliche elektrostatische Kräfte auch im Führungsabschnitt erzeugt, um
die Elektronen im Strahl zusammenzuhalten, wenn der Strahl durch diesen Abschnitt läuft. Die im Säuberungsabschnitt 54- befindlichen
zusätzlichen Gitterplatten 74- und 76 machen jedoch das übertragene
Volumen des Phasenraums im Säuberungsabschnitt 54- kleiner
als im Führungsabschnitt 52. Somit wird der eingebrachte
Strahl im Säuberungsabschnitt 54· von seinen äußeren Elektronen
befreit, so daß ein Strahl geringerer Größe produziert wird. Außerdem werden jedwede Elektronen, die an solcher Position
und mit solchem Geschwindigkeitsvektor in den Säuberungsabschnitt eingebracht werden, daß sie gegen die Gitterplatten stoßen würden,
im Säuberungsabschnitt 54- aus dem Strahl entfernt· Zum Entfernen
solcher Elektronen ist eine Langwellenlänge zu bevorzugen, was in der Praxis 6 bis 8 Perioden des Säuberungsabschnitts
bedeutet. Wenn also der Strahl den Säuberungsabschnitt 54- verläßt,
ist genügend Freiraum zwischen dem Strahl und der Führungsanordnung für die durch Ungenauigkeiten in der Führung verursachte
Strahlbewegung vorhanden, so daß der Elektronenstrahl frei
entlang der gesamten Länge der fokussierenden Führung fließt
und wenig oder keine Verluste auftreten.
Nachstehend seien typische Werte für die Dimensionierung des Führungsabschnitts 52 und des Säuberungsabschnitts 54- angeführt:
Dicke jeder der Gitterplatten = 0,15 mm Abstand zwischen den Gitterplatten im Führungsabschnitt = 0,75mm
Abstand zwischen der ersten Gitterplatte und den Leitern
= 0,50 mm
In Längsrichtung gemessene Länge jeder der Öffnungen in der
ersten und zweiten Gitterplatte =0,9 mm
Abstand zwischen den Öffnungen in der ersten und der
zweiten Gitterplatte - 0,6 mm
Abstand zwischen den Öffnungen in den zusätzlichen Gitterplatten = ungefähr 0,2 mm.
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In den Figuren 4· und 5 ist die fokussierende Führung 52 in
Verbindung mit einem Säuberungsabschnitt anderen Typs dargestellt,
der insgesamt mit 84- bezeichnet ist. Zwischen dem Säuberungsabschnitt 84- und dem Führungsabschnitt 52 befindet
sich außerdem ein Übergangsbereich 86. Der Säuberungsabschnitt 84- und der Übergangsbereich 86 enthalten eine erste Gitterplatte
88 und eine zweite Gitterplatte 90, die Verlängerungen der ersten bzw. der zweiten Gitterplatte 56 bzw. 60 des Führungsabschnitts
52 bilden. Im Säuberungsabschnitt 84- sind die erste und die zweite Gitterplatte 88 und 90 jeweils von einer
Vielzahl von Öffnungen 92 bzw. 94 durchbrochen. Die Öffnungen
92 und 94- im Säubernngsabschnitt liegen in Längsrichtung jeweils
in gleicher Linie mit den öffnungen 58 und 62 im Führungsabschnitt.
Größe und Abstand der Öffnungen 92 und 94· im Säuberungsabschnitt
sind so bemessen, daß sie im Betrieb Kräfte erzeugen, welche nur diejenigen Elektronen zusammenhalten, deren
Geschwindigkeitsvektoren eine Querkomponente innerhalb eines begrenzten Bereichs haben, etwa halb so groß wie die Querkomponente
der Elektronen, die noch frei durch den Führungsabschnitt fliegen. Wie gezeigt besteht ein Weg zur Erzielung
dieses Ergebnisses darin, die in Längsrichtung des Kanals gemessene Ausdehnung der öffnungen 92 und 94- im Säuberungsabschnitt
kleiner zu machen als die entsprechende Ausdehnung der öffnungen 58 und 62 im Führungsabschnitt, wobei der in Längsrichtung
gemessene Abstand zwischen den öffnungen in jeder Gitterplatte des Säuberungsabschnitts kleiner ist als der in
Längsrichtung gemessene Abstand zwischen den öffnungen im Führungsabschnitt·
Im Ubergangsbereich 86 hat jede der Gitterplatten 88 und 90 eine öffnung 96 bzw. 98 derartiger Größe und
an einer derartigen Stelle, daß Kräfte erzeugt werden, die den Strahldurchmesser auf ein Maß vermindern, das kleiner ist als
der Abstand zwischen den Gitterplatten des Führungsabschnitts·
Wie gezeigt,kann dies dadurch erreicht werden, daß man jede
der öffnungen 96 und 98 mit einer Längsausdehnung bemißt, die
großer ist als die Längsausdehnung der öffnungen 92 und 94- im
Säuberungsabschnitt 84-, aber kleiner als die Längsausdehnung
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der Öffnungen 58 und 62 im Führungsabschnitt 52. Auch ist
der Abstand zwischen jeder der öffnungen 92 und 94- des Übergangsbereichs
einerseits und der benachbarten Öffnung 58 bzw. 62 des Führungsabschnitts andererseits größer als der
Abstand zwischen den Öffnungen 96 und 98 des Übergangsbereichs
und den jeweils benachbarten Öffnungen 92 bzw. 94· des
Säuberungsabschnitts. Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 20 befindet sich ein Leiter 100, der sich längs des Säuberungsabschnitts 84· und des Übergangsbereichs 86 erstreckt.
Beim Betrieb des gemäß Fig. 4- modifizierten Bildwiedergabegeräts
10 wird die fokussierende Führung 52 in der gleichen Weise
beaufschlagt, wie es weiter oben für die in Fig. 3 dargestellte fokussierende Führung beschrieben wurde. Da die Gitterplatten
88 und 90 des Säuberungsabschnitts 84- und des Übergangsbereichs
86 Verlängerungen der Gitterplatten 56 und 60 des Führungsabschnitts 52 sind, liegen die Gitterplatten 88 und 90 auf demselben
Potential wie die Gitterplatten 56 und 60. Dem Leiter 100 wird dasselbe Potential angelegt wie den Leitern 64·
des Führungsabschnitts 52. Die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Gitterplatte 56 und 60 des Führungsabschnitts
52 und dem Leiter 64- und entweder dem Leuchtstoffschirm oder eines zwischen dem Leuchtstoffschirm und der fokussierenden
Führung liegenden anderen Gittertyps führt zur Bildung elektrostatischer Kräfte, welche die Elektronen über die gesamte Länge
des Strahlweges durch den Führungsabschnitt 52 im Strahl zusammenhalten.
Da die Gitterplatten 88 und 90 des Säuberungsabschnitts 84 und des Übergangsbereichs 86 auf demselben»Potential
wie die Gitterplatten 56 und 60 des Führungsabschnitts liegen, werden ähnliche elektrostatische Kräfte im Säuberungsabschnitt 84· und im Übergangsbereich 86 erzeugt. Im Säuberungsabschnitt 84- sind jedoch Größe und Abstand der Öffnungen 92 in
der ersten Gitterplatte 88 und der öffnungen 94· in der zweiten
Gitterplatte 90 derart bemessen, daß die auf die Elektronen ausgeübten Kräfte erlauben, daß diejenigen Elektronen, deren
Geschwindigkeitsvektoren eine außerhalb des begrenzten Bereichs
809831/1026 - 15 -
liegende Querkomponente haben, gegen die Wände des Säuberungsabschnitts (d.h. gegen die Gitterplatten 88 und 90) schlagen,
und durch die Gitterplatten weggenommen werden. Um dies zu erreichen, sollte der Säuberungsabschnitt 84 eine Langwellenlänge
lang sein, die in der Praxis 12 bis 16 Öffnungen umfaßt. Im Führungsabschnitt 52 üben die erzeugten elektrostatischen Felder
Kräfte aus, welche die vom Säuberungsabschnitt übertragenen Elektronen in einem Strahl begrenzen, der kleiner als der
Abstand zwischen den Gitterplatten 56 und 60 ist. Im Übergangsbereich 86 haben die Öffnungen 96 und 98 derartige Größe und
Position, daß die elektrostatische Kraft die vom Säuberungsabschnitt kommenden Elektronen auf einen kleineren Strahl im
Fokussierungsabschnitt 52 zusammendrückt. Elektronen, die zwischen die Gitterplatten an einer solchen Position und mit einem
solchen Geschwindigkeitsvektor eingeschossen werden, daß sie gegen die Seitenwände des Führungsabschnitts schlagen wurden,
werden also im Säuberungsabschnitt 84 entfernt, so daß
die Elektronen, wenn die Strahlgröße im Fokussierungsabschnitt 52 vermindert ist, längs der gesamten L&nge dieses Abschnitts
fliegen, ohne an die Seiten der fokussierenden Führung zu stossen.
Typische Werte für eine zu den vorstehenden Ergebnissen führende Dimensionierung des Führungsabschnitts 52 und des Säuberungsabschnitts
84 sind:
Abstand zwischen der ersten und zweiten Gitterplatte = 0,75 mm
Abstand zwischen der ersten Gitterplatte und der Rückwand = 0,50 mm
Längsausdehnung der Öffnungen in den Gitterplatten im Führungsabschnitt
= 0,90 mm
Abstand zwischen den öffnungen in jeder Gitterplatte des
Führungsabschnitts = 0,60 mm
Längsausdehnung der öffnungen in den Gitterplatten im Säuberungsabschnitt
= 0,40 mm
Abstand zwischen den öffnungen in jeder Gitterplatte im Säuberungsabschnitt
= 0,65 mm
- 16 809831/1026
Längsausdehnung der öffnungen in den Gitterplatten im
Übergangsbereich = 0,70 mm
Abstand zwischen den öffnungen im Übergangsbereich und den
jeweils benachbarten öffnungen im Säuberungsabschnitt = 0,65 mm
Abstand zwischen den Öffnungen im Übergangsbereich und den
jeweils benachbarten öffnungen im Führungsabschnitt = 1,275 mm
Potential an jeder Gitterplatte = 40 Volt
Potential an jedem der an der Rückwand befindlichen Leiter = 325 Volt.
In Pig. 6 ist die fokussierende Führung 52 in Verbindung mit
einer wiederum anderen Ausführungsform des Säuberungsabschnitts dargestellt, der insgesamt mit 1o2 bezeichnet ist. Auch hier
ist zwischen dem Säuberungsabschnitt 102 und dem Führungsabschnitt 52 ein Übergangsbereich 104 vorgesehen. Der Säuberungsabschnitt 102 und der Übergangsbereich 104 enthalten eine erste
und eine zweite Gitterplatte 106 und 108, die jeweils eine Verlängerung der ersten bzw. zweiten Gitterplatte 56 bzw. 60 des
Führungsabschnitts 52 darstellen. Der Abstand zwischen den
Gitterplatten 106 und 108 des Säuberungsabschnitts 102 ist jedoch kleiner als der Abstand zwischen den Gitterplatten 56
und 60 des Führungsabschnitts 52. Im Übergangsbereich 104 ändert sich der Abstand zwischen den Gitterplatten 106 und
von dem zwischen den Gitterplatten des SäuberungsabSchnitts
herrschenden Abstandsmaß bis zu dem zwischen den Gitterplatten des Führungsabschnitts 52 herrschenden Maß. Die beiden Gitterplatten 106 und 108 im Säuberungsabschnitt 102 sind jeweils
von einer Vielzahl von öffnungen 110 bzw. 112 durchbrochen. Die öffnungen 110 und 112 im Säuberungsabschnitt sind in Längsrichtung
mit den öffnungen 58 und 62 ia Führungsabschnitt ausgerichtet·
Ia Übergangsbereich 104 haben die Gitterplatten und 108 öffnungen 114 und 116, die in Längsrichtung mit den
öffnungen 58 und 62 des Führungsabschnitts und mit den öffnungen
110 und 112 dee Säuberungsabschnitts fluchten. Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 20 befindet sich ein Leiter
- 17 -809831/T02€
118, der sich längs des Säuberungsabschnitts 102 und des
Übergangsbereichs 104- erstreckt.
Im Betrieb des gemäß Pig. 6 modifizierten Bildwiedergabegeräts 10 wird die fokussierende Führung 52 in der gleichen
Weise wie oben betrieben, um elektrostatische Kraftfelder zu bilden, welche die zwischen der ersten und zweiten Gitterplatte
58 und 60 laufenden Elektronen auf einen Strahl begrenzen,
der von den Gitterplatten beabstandet ist. Da die Gitterplatten 106 und 108 des Säuberungsabschnitts 102 und
des Übergangsbereichs 104- Verlängerungen der Gitterplatten 58 und 60 des Führungsabschnitts 52 darstellen, liegen die
Gitterplatten 106 und 108 auf dem gleichen Potential wie die Gitterplatten 56 und 60, so daß im Säuberungsabschnitt
102 und im Übergangsbereich 104- ähnliche elektrostatische
Kraftfelder erzeugt werden. Im Säuberungsabschnitt 102 ist oedoch der Abstand zwischen den Gitterplatten 106 und
108 so bemessen, daß die dazwischen hindurchlaufenden Elektronenstrahlen den Raum zwischen den Gitterplatten im wesentlichen
ausfüllen. Alle Elektronen, die an solcher Position und mit einem solchen Geschwindigkeitsvektor in den Säuberungsabschnitt 102 eingeführt werden, daß sie an die Wände des
Fokussierungsabschnitts stoßen wurden, schlagen also gegen
die Gitterplatte 106 oder 108 und werden weggenommen. Im Übergangsbereich 104 ist die Größe und der Abstand der Öffnungen
114 und 116 so bemessen, daß ein weicher Übergang der auf die Elektronen ausgeübten Kräfte stattfindet, wo
die Elektronen aus dem Kraftfeld des Säuberungsabschnitts 102 in das Kraftfeld des Führungsabschnitts 52 gelangen.
Im Führungsabschnitt 52 ist das elektrostatische Kraftfeld
so beschaffen, daß es den Elektronenstrahl auf der gleichen Größe hält, die er im Säuberungsabschnitt 102 hatte. Da die
Gitterplatten 56 und 60 im Führungsabschnitt 3 edpch weiter
voneinander entfernt sind als die Gitterplatten 106 und 108 im Säuberungsabschnitt 102, bleibt der Strahl von den Wänden
- 18 -
809831/1026
28ÜU91
der fokussierenden Führung 52 beabstandet. Da alle Elektronen,
die gegen die Wände der fokussierenden Führung 52 schlagen
wurden, im Säuberungsabschnitt 102 entfernt worden sind, läuft der Elektronenstrahl mit einem minimalen Verlust an Elektronen
über die gesamte Länge der fokussierenden Führung 52.
Mit der Erfindung wird also eine fokussierende Führung für ein Bildwiedergabegerät geschaffen, das einen Säuberungsabschnitt
zwischen dem eigentlichen Führungsabschnitt und dem Strahlsystem aufweist, welches die Elektronen erzeugt und in
die fokussierende Führung richtet. Der Säuberungsabschnitt dient zum Entfernen derjenigen Elektronen, die an einer solchen
Position und mit einem solchen Geschwindigkeitsvektor in die fokussierende Führung eingeschossen werden, daß sie
gegen die Wände der Führung stoßen würden. Somit wandern die vom Säuberungsabschnitt in den Führungsabschnitt eintretenden
Elektronen über die gesamte Länge des Führungsabschnitts, ohne gegen die Wände der fokussierenden Führung zu stoßen,
so daß der Elektronenverlust längs der fokussierenden Führung minimal bleibt. Die Menge der auf den Leuchtstoffschirm des
Bildwiedergabegeräts treffenden Elektronen ist daher über die gesamte Länge der fokussierenden Führung im wesentlichen
gleichmäßig, so daß eine Bildwiedergabe mit praktisch gleichmäßiger Helligkeit erreicht wird.
- 19 -
309831/102S
Claims (1)
- PatentansprücheBildwiedergabegerät mit einem evakuierten Kolben, der eine Vorderwand und im Abstand dazu eine Rückwand aufweist, ferner mit mindestens einer elektronenstrahlfokussierenden Führungsanordnung, die sich im wesentlichen parallel zur Vorder- und Rückwand erstreckt und Wände aufweist, die dazu dienen, einen in die Führungsanordnung gerichteten Elektronenstrahl zwischen sich zu begrenzen, sowie mit einer Einrichtung zum Erzeugen mindestens eines Elektronenstrahls und zum Lenken jedes Strahls in eine gesonderte Führungsanordnung, gekennzeichnet durch eine zwischen der strahlerzeugenden Einrichtung (16) und der fokussierenden !Führungsanordnung (32; 52) befindliche Säuberungseinrichtung (34; 54-; 84; 102), um aus dem erzeugten Strahl (50) diejenigen Elektronen zu entfernen, die eine solche Position und einen solchen Geschwindigkeit svektor haben, daß sie, wenn sie im Strahl verbleiben wurden, während der Wanderung längs der Führungsanordnung auf eine Wand (24) der Führungsanordnung träfen.Bildwiedergabegerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Säuberungseinrichtung (34; 54-j 84; 102) ein kleineres Volumen an Phasenraum überträgt als die fokussierende Führungsanordnung (32; 52).Bildwiedergabegerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die fokussierende Führungsanordnung (32) eine Vielzahl beabstandeter paralleler Drähte (36) enthält, die sich quer durch die Führungsanordnung in einer gemeinsamen, der Vorderwand (18) des Kolbens (12) parallelen Ebene erstrecken, sowie je eine gesonderte, jeweils eine Grundpo-- 20 -809831/1026INSPECTED- 20 -<λ 18 Ü 4 4 9 1tentialebene bildende Elektrode (38 und 4-2) auf gegenüberliegenden Seiten der Drähte und im wesentlichen parallel zur Ebene der Drahte, und daß die Säuberungseinrichtung (34-) eine Vielzahl beabstandeter paralleler Drähte (4-4-) enthält, die sich parallel und in gleicher Ebene mit den Drähten der Führungsanordnung erstrecken, sowie je eine gesonderte, jeweils eine Grundpotentialebene bildende Elektrode (4-6 und 4-8) auf jeder Seite der und im wesentlichen parallel zur Ebene der Drähte der Säuberungseinrichtung, und daß die Drähte der Säuberungseinrichtung größeren Durchmesser als die Drähte der Führungsanordnung haben.4·. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Mitte-Mitte-Abstand der Drähte (44) der Säuberungseinrichtung (3^) gleich ist dem Mitte-Mitte-Abstand der Drähte (36) der Führungsanordnung (32).5- Bildwiedergabegerät nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Grundebene-Elektroden (4-6, 4-8) der Säuberungseinrichtung (34·) in der gleichen Ebene wie eine gesonderte der Grundebene-Elektroden (38, 4-2) der fokussierenden Führungsanordnung (32) liegt.6. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die eine Grundebene-Elektrode (4-2) der Führungsanordnung (32) und die eine Grundebene-Elektrode (4-8) der Säuberungseinrichtung (34-) längs der Rückwand (20) des Kolbens verlaufen und daß die andere Grundebene-Elektrode (38) der Führungsanordnung und die andere Grundebene-Elektrode (4-6) der Säuberungseinrichtung zwischen den Drähten (36, 4-4·) und der Vorderwand (18) des Kolbens liegen und daß die besagte andere Grundebene-Elektrode der Führungsanordnung von einer Vielzahl von Öffnungen (4-0) durchbrochen ist.7- Bildwiedergabegerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die fokussierende Führungsanordnung (52) zwei beab-- 21 -809831/1Ö28£7.: J·:--:-'-.L SUSPECTED3 2804431standete parallele Gitterplatten (56, 60) enthält, die nahe der Rückwand (20) des Kolbens (12), jedoch im Abstand zu dieser liegen und sich parallel zur Vorderwand (18) des Kolbens erstrecken und die von einer Vielzahl miteinander fluchtender Öffnungen (58» 62) durchbrochen sind, welche jeweils mindestens eine Längsreihe entlang der Führungsanordnung bilden, und daß die Führungsanordnung ferner eine Vielzahl von Leitern (64-) enthält, die sich auf der inneren Oberfläche der Rückwand des Kolbens befinden und deren jeder sich in Querrichtung über ein gesondertes Paar der fluchtenden Öffnungen in den Gitterplatten erstreckt, und daß die Säuberungseinrichtung (54-; 84-· 102) ein Paar beabstandeter paralleler Gitterplatten (66, 70; 88, 90; 106, 108) enthält, deren Zwischenraum mit dem Raum zwischen den Gitterplatten der Führungsanordnung ausgerichtet ist, und daß die Gitterplatten der Säuberungseinrichtung von miteinander fluchtenden Öffnungen (68, 72; 92; 94·; 110, 112) durchbrochen sind, und daß sich längs den Gitterplatten der Säuberungseinrichtung ein Leiter (82; 100; 118) auf der inneren Oberfläche der Rückwand des Kolbens erstreckt.8. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 7* dadurch gekennzeichnet, daß die Säuberungseinrichtung (54-) auf derjenigen Oberfläche jeder ihrer Gitterplatten (66, 70), die zur jeweils anderen Gitterplatte weist, eine zusätzliche Gitterplatte (74·, 76) tragt, und daß jede der zusätzlichen Gitterplatten von Öffnungen (78, 80) durchbrochen ist, die den Öffnungen (68, 72) der Gitterplatten der Säuberungseinrichtung entsprechen.9· Bildwiedergabegerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Gitterplatten (66, 70) der Säuberungseinrichtung (74·) jeweils eine Verlängerung einer gesonderten der Gitterplatten (56, 60) der fokussierenden Führungsanordnung (52) bilden.- 22 -809831/1056^ 28Ü4491ΊΟ. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen den Gitterplatten (106, 108) der Sauberungsexnrxchtung (102) kleiner ist als der Abstand zwischen den Gitterplatten (56, 60) der fokussierenden Führungsanordnung (52).11. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Gitterplatten (106, 108) der Säuberungseinrichtung (102) und den Gitterplatten (56, 60) der fokussierenden Führungsanordnung (52) ein Übergangsbereich (104) vorgesehen ist, der einen weichen Übergang der auf die Elektronen des Strahls wirkenden Bündelungskraft von der Säuberungseinrichtung zur Führungsanordnung bewirkt und einen dünnen Strahl mit Ausdehnungsspiel in der Führungsanordnung schafft.12. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Übergangsbereich ein Paar beabstandeter Gitterplatten aufweist, die von einander gegenüberliegenden Öffnungen (114, 116) durchbrochen sind, und deren gegenseitiger Abstand sich von dem zwischen den Gitterplatten der Säuberungseinrichtung herrschenden Abstand auf den zwischen den Gitterplatten der Führungsanordnung herrschenden Abstand ändert.13- Bildwiedergabegerät nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß jede/Gitterplatten des Übergangsbereichs (104) und der Gitterplatten der Säuberungseinrichtung (102) eine Verlängerung einer gesonderten der Gitterplatten der fokussierenden Führungsanordnung (52) bilden.14. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 7i dadurch gekennzeichnet, daß jede der Gitterplatten (88, 90) der Säuberungseinrichtung (84) in gleicher Ebene mit einer gesonderten der Gitterplatten (56, 60) der fokussierenden Führungsanordnung- 23 609831/1026- ag -5 28ÜU91(52) liegt lind daß Größe und Abstand der Öffnungen (92, 94-) in den Gitterplatten der Säuberungseinrichtung derart bemessen sind, daß fokussierende Kräfte entstehen, welche nur diejenigen Elektronen zusammenhalten, deren Geschwindigkeit svektoren dne Querkomponente innerhalb eines begrenzten Bereichs haben, der geringer ist als der Bereich der Querkomponenten der Elektronen in der !Führungsanordnung.15. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 14-, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Säuberungseinrichtung (84·) und der fokussierenden Führungsanordnung (52) ein Übergangsbereich (86) vorgesehen ist, um auf die Elektronen des Strahls bei ihrem Übertritt von der Säuberungseinrichtung in die Führungsanordnung Kräfte auszuüben, die den Strahl auf eine kleinere Größe zusammendrücken.16. Bildwiedergabegerät nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Gitterplatten (88, 90) der Säuberungseinrichtung (84·) Verlängerungen der Gitterplatten (56, 60) der fokussierenden Führungsanordnung (52) sind.809831/1026
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