DE2802417A1

DE2802417A1 - Abtastvorrichtung

Info

Publication number: DE2802417A1
Application number: DE19782802417
Authority: DE
Inventors: Akiyoshi Suzki
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1977-01-21
Filing date: 1978-01-20
Publication date: 1978-07-27
Also published as: JPS6011325B2; US4367009A; DE2802417C2; JPS5390949A

Description

TlEDTKE - BüHLING - KlNNE - GrUPE

Patentanwälte:

Dipl.-Ing. H. Tiedtke Dipl.-Chem. G. Bühling Dipl.-Ing. R. Kinne Dipl.-Ing. P. Grupe

Bavarlaring 4, Postfach 20 24 8000 München 2

Tel.: (0 89) 53 96 53 Telex: 5-24845 tipat cable: Germaniapatent München

20. Januar 1978

B 8695/Canon case

CANON KABUSHIKI KAISHA Tokyo, Japan

Abtastvorrichtung

Die Erfindung bezieht sich auf eine Abtastvorrichtung 25 zur Abgabe einer Mehrzahl von Abtaststrahlen.

' Zur Erzielung einer Mehrzahl von Abtaststrahlen unter Verwendung einer einzigen Ablenkvorrichtung besteht die Möglichkeit, einen einzelnen Abtaststrahl von der Ablenkvor-30 richtung in eine Mehrzahl von Abtaststrahlen aufzuspalten oder eine Mehrzahl stationärer Strahlen auf eine Ablenkvorrichtung aus unterschiedlichen Richtungen zu richten. Die Erfindung bezieht sich auf das letztgenannte Verfahren.

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Wenn in einem solchen Fall eine Mehrzahl von Strahlen auf die Ablenkfläche der Ablenkvorrichtung aus verschiedenen Richtungen.auftrifft, ohne daß zwischen ihnen eine Überlagerung oder überdeckung besteht, sind die Ablenkzentren der Abtaststrahlen voneinander verschieden. Daher ist es schwierig, mit Hilfe einer einzigen Abtastlinse bzw. eines einzigen Abtastlinsensystems derartige Abtaststrahlen optisch zu verarbeiten, wie beispielsweise diese Abtaststrahlen auf einer abzutastenden Fläche abzubilden. Allgemein stimmt bei einem optischen System zur Verarbeitung eines Abtaststrahls das Ablenkzentrum mit der Eintrittspupille des optischen Systems überein. Wenn Ablenkstrahlen mit unterschiedlichen Ablenkzentren mittels des optischen Systems verarbeitet werden, bedeutet das, daß die Eintrittspupille größer wird, d.h. die F-Zahl kleiner wird, so daß daher das Entwickeln des optischen Systems schwieriger wird.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Abtastvorrichtung zu schaffen, die eine Mehrzahl von Abtaststrahlen _mit dem gleichen Ablenkzentrum ergibt.

Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß stationäre Strahlen mit unterschiedlichen Einfallsrichtungen auf eine Ablenkfläche einer Ablenkvorrichtung in der Weise gerichtet werden, das sie einander überlagert sind bzw. in Deckung sind. Auf diese Weise wird eine Mehrzahl von Abtaststrahlen mit dem gleichen Ablenkzentrum geschaffen, so daß das Ablenkzentrum eines jeden der Strahlen mit dem Zentrum der Eintrittspupille übereinstimmen kann, was die praktische Entwicklung des optischen Systems erleichtert.

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Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.

Fig. 1(a) und 1(b) sind schematische Darstellungen optischer Systeme für die Überlagerung von Strahlen

aus einer Mehrzahl von Lichtquellen an einer Reflexionsfläche einer Ablenkvorrichtung.

Fig. 2(a) und 2(b) zeigen optische Systeme für die Überlagerung aufgeteilter Strahlen auf einer Reflexions

fläche einer Ablenkvorrichtung.

Fig. 3(a), 3(b)_f 4(a), 4(b), 4(c) und 4(d) zeigen Beispiele von Strahlenteilern, die bei den optischen Systemen nach den Fig. 2(a) und 2(b) verwendbar

sind.

Fig. 5(a), 5(b), 6(a), 6(b), 7(a) und 7(b) sind schematische Darstellungen bestimmter Beispiele für die Überlagerung aufgeteilter Strahlen.

Fig. 8(a) und 8(b) zeigen ein telezentrisches optisches System, das unterschiedlich einfallende Strahlen aufnimmt.
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Fig. 9 ist eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der Abtastvorrichtung/ bei der diese zum Aufbringen von Bildlichtmustern bei einem Halbleiter-Herstellungsverfahren verwendet wird.

Fig. 10 zeigt ein Ausführungsbeispiel bei dem die Abtastvorrichtung bei einem Laserstrahldrucker verwendet wird.
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Die Fig. 1(a) und 1(b) betreffen den Fall, bei dem zwei stationäre Strahlen aus zwei jeweiligen Lichtquellen an einer Fläche eines Polygonaldrehspiegels überlagert werden. Die Fig. 2(a) und 2(b) betreffen den Fall, bei dem zwei stationäre Strahlen, die durch Aufteilung eines Strahls aus einer einzigen Lichtquelle erzielt worden sind, auf einer Fläche eines Polygonaldrehspiegels überlagert werden. In diesen Figuren bezeichnet 1' eine Laserstrahlenquelle, 2 eine Linse bzw. ein Linsensystem und 3 einen Polygonaldrehspiegel.

Bei der in Fig. 1(a) gezeigten Anordnung sind die aus den Laserstrahlquellen kommenden beiden Strahlen zueinander im wesentlichen parallel ausgerichtet und werden miteinander auf der Oberfläche des Polygonaldrehspiegels überlagert bzw. in Deckung gebracht. Die zweite Brennebene der Linse 2 fällt mit der Ablenkfläche des Polygonaldrehspiegels zusammen. Bei der in Fig. 1(b) gezeigten Anordnung werden die beiden Strahlen mittels der Linse 2 auf dem Polygonaldrehspiegel überlagert, nachdem sie einander gekreuzt haben. Der Kreuzungspunkt ist in bezug auf die Linse 2 zu der Ablenkfläche des Polygonaldrehspiegels konjugiert.

In den Fig. 2(a) und 2(b) bezeichnet 4 einen Strahlenteiler, der durch Aufteilung eines Einzelstrahls zwei stationäre Strahlen bzw. Feststrahlen abgibt. Die auf diese Weise abgegebenen beiden Strahlen werden miteinander auf gleiche Weise wie im Fall der Fig. 1(a) auf dem Polygonaldrehspiegel überlagert. Bei dem in Fig. 2(b) gezeigten System ist der Punkt der Aufteilung mittels des Strahlenteilers in bezug auf die Linse 2 mit der Ablenkfläche des Polygonaldrehspiegels konjugiert, so daß die beiden stationären oder Feststrahlen miteinander übereinstimmen.

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Die Fig. 3 und 4 zeigen für diese Zwecke verwendbare Strahlenteiler. Die Fig. 3(a) und 3(b) zeigen Strahlenteiler, bei denen ein Halbspiegel verwendet ist. Der Strahlenteiler nach Fig. 3(a) weist einen unter einem Winkel von 45° geneigten Halbspiegel BS und einen Reflexionsspiegel M auf. Der Strahlenteiler nach Fig. 3(b) weist Prismen und einen zwischengesetzten Halbspiegel auf. Die Fig. 4(a) bis 4(c) zeigen Polarisations-Strahlenteiler, bei denen ein Wollerston-Prisma, eine Savartsche Doppelplatte bzw. ein Rochon-Prisma verwendet sind. Die Fig. 4(d) zeigt ein Beispiel der Anwendung einer Kristall-Platte, die so geschnitten ist, daß ihre optische Achse in bezug auf ihre Oberfläche geneigt. Wenn ein Strahlenteiler mit Polarisationsaufteilung verwendet wird, muß der Strahl aus der Laserstrahlquelle ein zirkulär polarisierter Strahl sein.

Wie aus der vorstehenden Erläuterung ersichtlich ist, können die stationären Strahlen entweder zueinander parallel sein oder nichtparallel sein. Andererseits kann ein stationärer Strahl afokal, divergierend oder konvergierend sein. Daher sind 2x3=6 Kombinationen möglich. In der Beschreibung sind als typische Beispiele der Fall erläutert, bei dem ein Strahlenteiler zur Abgabe paralleler Strahlen verwendet wird, sowie der Fall bei dem ein Wollaston-Prisma zur Abgabe nichtparalleler Strahlen verwendet wird.

Die Fig. 5(a), 6(a) und 7(a) zeigen Fälle, bei denen die Ausgangsstrahlen der Strahlenteilervorrichtungen parallel sind, wogegen die Fig. 5(b), 6(b) und 7(b) Fälle betreffen, bei denen die Strahlen nichtparallel sind. Der allgemeine Aufbau besteht darin, daß der Strahlenteiler bzw. die Strahlenteilervorrichtung zwischen eine Linse 1 mit einer Brennweite f.. und eine Linse 2 mit einer Brennweite f~ gesetzt ist. In

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Fig. 5(a) bildet die Kombination aus der Linse 1 und der Linse 2 ein afokales optisches System, so daß der auf die Linse 1 auftreffende afokale Strahl nach dem Durchlaufen der Linse 2 afokal bleibt. Obgleich die Linse 1 als Konkavlinse dargestellt ist, kann anstelle der Konkavlinse eine Konvexlinse verwendet werden, wenn das System auf das dem Aufbau nach Fig. 5(b) entsprechende umgeändert wird. In letzterem Fall fällt der zweite Brennpunkt der Linse 1 mit dem ersten Brennpunkt der Linse 2 zusammen. 10

Die Oberfläche des Polygonalspiegeis bzw. Polygonaldrehspiegels ist mit P bezeichnet. Da die auf die Linse 2 • einfallenden Strahlen parallel sind, fällt die Oberfläche P mit der zweiten Brennebene der Linse 2 zusammen. Dieser Zusammenhang gilt auch für die Ausführungsbeispiele gemäß den Fig. 6(a) und 7(a).

Andererseits ist nach Fig. 5(b) der Ort des Wollaston-Prismas, der den Aufteilungspunkt bildet, mit der Oberfläche ρ des Polygonalspiegels konjugiert. D.h., daß folgende Gleichung erfüllt ist:

1 + 1 = 1

^a k ^2
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Die Strahlen, in die mittels des Strahlenteilers ein einzelner Strahl aufgeteilt worden ist, treffen sich an der Oberfläche P des Polygonalspiegels. Bei der Ausführungsform nach Fig. 5(b) sind die Linse 1 und die Linse 2 so angeordnet, daß die zweite Brennebene der Linse 1 mit der ersten Brennebene der Linse 2 zusammenfällt, wodurch der auf den Polygonalspiegel auffallende Strahl afokal ist.

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Die Anordnungen nach Fig. 6(a), 6(b) und 7 (a), 7 (b) entsprechen im wesentlichen denjenigen gemäß den Fig. 5(a), 5(b) mit der Ausnahme, daß die Brechkraft der vorne angeordneten Linse 1 so verändert ist, daß der auf den Polygonal- ·* spiegel auftreffende Strahl konvergierend oder divergierend ist. Da die Fokussierung auf dem Polygonalspiegel allein durch die Linse 2 bewerkstelligt wird, kann die Linse 1 frei verändert werden, um den Zustand des auf dem Polygonalspiegel einfallenden Strahls zu verändern. Als Extrembeispiel

^O kann die Linse 1 ohne Brechkraft sein oder gemäß der Darstellung in Fig. 6(b) weggelassen werden. Wenn natürlich eine Linse 1 vor dem Wollaston-Prisma angeordnet ist, kann der Abbildungspunkt gegenüber dem Brennpunkt A der Linse 2 frei verschoben werden, so daß es aus diesem Grund nicht notwendig ist, die Linse 1 wegzulassen.

Bei der Anordnung nach Fig. 7(b) besteht eine gegenseitige Konjugation zwischen dem Wollaston-Prisma bzw. dem Punkt A und der Oberfläche des Polygonalspiegeis bzw. dem Punkt B, d.h. es gilt:

1 4.1 -1
a.⁺b.-f₂

Selbstverständlich besteht hinsichtlich der Strahlenteilervorrichtungen, die bei den Ausführungsbeispielen gemäß den Fig. 5(a), 5(b), 6 (a), 6(b), 7(a) und 7(b) verwendbar sind, keine Einschränkung auf Strahlenteiler oder Wollaston-Prismen, sondern es sind auch andere Strahlenteilersysteme oder Polarisations-Elemente wie solche gemäß der Darstellung in Fig. 3 und 4 zufriedenstellend. Wenn für die nachgeschalteten optischen Systeme die Polarisationseigenschaften von Bedeutung sind, kann nach den Kristall-Elementen eine 9^/A-Platte angeordnet werden.

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Für Systeme, die im Falle der Verwendung mehrerer Lichtquellen anwendbar sind, können aus der vorstehenden Erläuterung analoge Systeme gebildet werden. Wenn die Strahlen parallel sind, ist die Linse 1 jeweils in die jeweilige Lichtquelle eingebaut, wogegen bei nichtparallelen Strahlen, der gegenseitige Kreuzungspunkt als der (Aufteilungs-)Punkt der Wollaston-Prismen bei den Ausführungsformen gemäß den Fig. 5 bis 7 zu betrachten ist.

Gemäß den vorstehenden Bestimmungen bzw. Auswertungen ist es verhältnismäßig einfach, die Polygonalspiegeloberfläche, die der Pupillenpunkt des Gesamtsystems ist, mit dem Ablenkungszentrum in Übereinstimmung zu bringen. Das Verfahren zur Verarbeitung einer Mehrzahl von Strahlen ist bei unterschiedlichen Anwendungsgebieten sehr wirkungsvoll, wie beispielsweise bei Messungen, bei der gleichzeitigen Beobachtung zweier Gegenstände und bei Aufzeichnungsverfahren. Das optische System ist bei der Ausführung dieser Vorgänge insofern von Vorteil, als bei jedem Strahl das Pupillenzentrum verwendet wird. Allgemein ausgedrückt sind mehrere Strahlen in ihrer Dichte im wesentlichen gleich.

Als besonderes Beispiel wird nun die Anwendung der Abtastvorrichtung bei einer automatischen Ausrichtung oder Einstellung für die Erzeugung von integrierten Schaltungen erläutert. Die automatische Ausrichtung wird zu dem Zweck ausgeführt, eine zwei-dimensionale Deckung zwischen einer Maske mit einem Vorlagemuster und einem Schaltungs- oder Mikroplättchen zu erzielen, auf das das Vorlagemuster aufzubringen ist. Die Maske und das Mikroplättchen sind jeweils mit besonderen Markierungen versehen, die Paß- oder Richtmarkierungen genannt werden. Die Einstellung wird durch Ausrichtung dieser Marken in einer vorbestimmten Beziehung bewerkstelligt. Für die Einstellung, bei der eine Genauig-

2^ keit in der Größenordnung μπι und darunter notwendig ist,

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ist natürlich die Beobachtung mehrerer Punkte notwendig. Im allgemeinen wird eine Zwei-Punktüberwachung verwendet, weil die Beobachtung bzw. Überwachung eines Punkts nicht ausreicht, einen Freiheitsgrad hinsichtlich der Drehung zu erfassen. Daher haben die Maske und das Mikroplättchen jeweils zwei Markierungen an unterschiedlichen Orten. Zur Aufnahme der Information über die beiden Positionen werden zur Bildung eines optischen Beobachtungs-bzw. Überwachungssystems zwei Mikroskope als sogenannte Ausrichtungs-Mikroskope verwendet.

Im Falle des Drückens mit Verfahrensschritt und Wiederholung sind an dem Mikroplättchen doppelt soviele Markierungen angebracht, wie Verfahrensschritte vorgesehen sind. Bei einem automatischen Ausrichtsystem ist üblicherweise ein Teil des optischen Systems desselben zugleich für das Ausricht-Mikroskop verwendet, so daß die mittels des Mikroskops betrachteten Richtmarkierungen abgetastet werden bzw. die Lichtstärke so ausgeglichen wird, daß ein elektrisches Signal erzielt wird, das zu einer vorbestimmten Beziehung für die Ausrichtung führt.

In der letzteren Zeit wurden unterschiedliche Arten von automatischen Ausrichtsystemen vorgeschlagen. Eines von diesen ist in der US-Patentanmeldung 790 072 beschrieben. Gemäß dieser früheren Anmeldung werden die Maske und das Mikroplättchen mittels eines Laserpunktstrahls abgetastet. Die Abtastvorrichtung ist bei einem derartigen System vorteilhaft anwendbar. Da der Abtastvorgang unvermeidbar ist, ist die Ablenkvorrichtung, die notwendigerweise einen bewegten Teil enthält, gleichfalls unvermeidbar. Im Hinblick auf die Umstände, daß der Abtastvorgang an zwei Orten mit jeweiligen Richtmarkierungen durchzuführen ist und daß für einen möglichst kompakten Aufbau des Geräts die Verwendung einer einzigen Ablenkvorrichtung erwünscht ist, ist die Abtastvor-

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richtung sehr vorteilhaft insofern, als sie die Abtastung mit einer Mehrzahl von Strahlen unter Verwendung einer einzigen Ablenkvorrichtung ermöglicht.

Zusätzlich zu diesem Vorteil hinsichtlich des Aufbaus und dem vorstehend beschriebenen Vorteil in bezug auf den Entwurf der Linsen ergibt die Abtastvorrichtung einen großen Vorteil in dem Fall, daß exnBerührungsverfahren oder ein Annäherungs- bzw. Nahabstandsverfahren verwendet wird, da dabei der Strahl in das Zentrum der Pupille des Mikroskops geleitet werden kann. Bei dem Berührungs- oder Kontaktverfahren oder dem Nahabstandsverfahren werden während des Ausrichtvorgangs die Maske und das Mikroplättchen unter einem gegenseitigen Abstand von einigen 10 μπι angeordnet. Wenn daher der Einfall-

^5 strahl in bezug auf die Oberfläche der Maske oder des Mikroplättchens schräg liegt, werden die beiden Objekte schräg beobachtet, was in den Fig. 8(a) und 8(b) gezeigt ist. In der Fig. 8(a), bei der der Abtaststrahl von dem Zentrum der Pupille O ausgeht, ist der durch eine Objektivlinse 10 gelangende Strahl parallel zur optischen Achse ausgerichtet, so daß er auch so auf die Maskenfläche oder die Mikroplättchenflache auftrifft. In einem derartigen Fall entsteht kein Beobachtungsfehler. Andererseits zeigt die Fig. 8(b) den Fall, bei dem der Abtaststrahl von einem Punkt außerhalb des Zentrums der Pupille O ausgeht. Dabei fällt der über die Objektivlinse gelangende Strahl auf die Oberfläche mit einer Neigung auf, die der Abweichung des Ausgangspunkts von dem Zentrum der Pupille entspricht. Wenn ein Punkt a der Maske in genauer Deckung mit einem Punkt A' des Mikroplättchens ist, wird mit der Anordnung nach Fig. 8(a) ihre Übereinstimmung ermittelt, aber diese mit der Anordnung nach Fig. 8(b) als Fehlüberdeckung erfaßt. Aus diesen Gründen muß der Ausgangspunkt des Strahls innerhalb einer geeigneten Toleranz mit der Pupille bzw. dem Zentrum der Pupille übereinstimmen.

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Die Fig. 9 zeigt ein Beispiel, bei dem die Abtastvorrichtung in einem automatischen Richtgerät oder Ausfluchtgerät eingebaut ist. Das optische System vor einem Polygonalspiegel 20 konvergiert zunächst mal den Strahl vor dem Polygonalspiegel, wie es in Fig. 6 gezeigt ist, so daß dann der Strahl in der Form eines divergierenden Strahls auf den Polygonalspiegel fällt. Das optische Eingangssystem liegt in einer zur Zeichnungsebene senkrechten Ebene. Eine Abbildungslinse 21 reproduziert in der Nähe einer Feldlinse 22 ein Bild aus dem Bild, das zuerst aus dem Laserstrahl vor Erreichen des Polygonalspiegels gebildet war. Ein Prismenspiegel 23 richtet die beiden Strahlen zu einem rechten und einem linken Sucher bzw. einer rechten und einer linken Visiereinrichtung. Daher wird der Prismenspiegel 23 mögliehst in der Nähe einer Position angeordnet, an der das Bild des Strahls reproduziert wird. Die beiden mittels des Prismenspiegels 23getrennten Strahlen gelangen über jeweilige Spiegel 24, Relaislinsen 25 und Objektivlinsen 26 und tasten jeweils eine Maske 27 und ein Mikroplättchen 28 ab.

Damit gemäß der vorstehenden Beschreibung der Abtaststrahl senkrecht auf die Oberfläche der Maske und des Mikroplättchens gerichtet wird / welche in einem Abstand zueinander gelagert sind, wirkt das Zentrum der Pupillenebene der Objektivlinse 26 als Strahlausgangspunkt. Diese Bedingung wird dadurch erfüllt, daß das Pupillenzentrum Y in konjugierte Stellung zu dem Reflexionspunkt X des Strahls an dem Polygonalspiegel angeordnet wird, wobei der Reflexionspunkt X der tatsächliche Ursprungspunkt oder Ausgangspunkt ist. Während die optische Einrichtung aus der Abbildungslinse 21, der Feldlinse 22

^O und dem Prismenspiegel 23 für die beiden Strahlen gemeinsam ist, ist die optische Einrichtung nach dem Prismenspiegel 23 jeweils für den jeweiligen Strahl vorgesehen. Da jedoch die Strahlen an dem Reflexionspunkt X des Polygonalspiegeis

zusammenfallen und darüber hinaus auf der optischen Achse 35

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liegen, ist es möglich, die Strahlen gleichzeitig den Pupillenzentren an einer rechten und einer linken Pupillenebene 30 zuzuführen. Die von der Maske und dem Mikroplättchen reflektierten Strahlen werden mittels nicht gezeigter fotoelektrischer Detektoren empfangen. Dabei läuft nach dem Prinzip eines telezentrischen optischen Systems der Einfallstrahl bei einer flachen Oberfläche entlang der Einfallinie zurück und gelangt wieder über das Pupillenzentrum Y. Aus dem Beibehalten der Konjugation zwischen dem Reflexionspunkt X an dem Polygonalspiegel und dem Pupillenzentrum Y ergibt sich, daß sich der durch die Pupille laufende direkte Strahl nicht bewegt. Dies ist dann vorteilhaft, wenn ein optisches System in der Weise aufgebaut ist, daß der direkte Strahl gesperrt bzw. ausgeblendet wird und nur das Streulicht empfangen wird. Das automatische Ausfluchtgerät mit einer Mehrzahl von Strahlen kann als typisches Beispiel einer Mehrkanal-Informations- oder Datenverarbeitung bezeichnet werden. Wenn ein Kristallelement gemäß der Darstellung in Fig. 6(b) bei dem optischen System vor dem Polygonalspiegel 20 verwendet wird, sind die beiden Strahlen in zueinander senkrecht stehenden Richtungen linear polarisiert, so daß dann, wenn das nachgeschaltete optische System einen Strahlenteiler aufweist, die Polarisationseigenschaften einen Einfluß haben. Wenn in der Anordnung nach Fig. 9 ein optisches Sucher- oder Visiersystem, eine zugehörige Lichtquelle oder ein (nicht gezeigter) Fotodetektor eingesetzt sind, ist es unvermeidbar, einige oder viele Strahlenteiler hinzuzufügen. Es ist beispielsweise vorgesehen, die Spiegel 24 durch Strahlenteiler zu ersetzen, die die Strahlen zu den fotoelektrischen Detektorvorrichtungen führen. Wenn in einem solchen Fall die Polarisation Schwierigkeiten bereitet, ist es günstiger, hinter dem Kristall bzw. Kristallelement eine Ά/4-Platte anzuordnen, wodurch an beide Sucher-bzw. Visiereinrichtungen die Strahlen mit gleicher Intensität abgegeben werden. Wenn als Lichtquelle ein

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linear polarisierter Laserstrahl verwendet wird, muß die Lagebeziehung zwischen dem Kristall und der Polarisationsrichtung des Laserstrahls besonders beachtet werden oder es muß in den Ausgangslaserstrahl eine ^\/4-Platte eingebracht werden.

Die Anwendung des optischen Systems ist in Einzelheiten hinsichtlich eines automatischen Ausfluchtgeräts erläutert; es ist jedoch in einem weiten Ausmaß auch bei anderen Syste_men anwendbar. Beispielsweise können bei einem Laserstrahldrucker, bei dem modulierte Doppelstrahlen abgelenkt werden, jeweils zwei Zeilen gleichzeitig abgetastet werden, was bedeutet, daß die Druckgeschwindigkeit verdoppelt ist. Dies ist in der Fig. 10 dargestellt, in welcher die Anordnung derjenigen nach Fig. 5(b) entspricht. Die Anordnung ist hier jedoch mit Modulatoren M₁ und M„ versehen. Zusätzlich fällt bei dieser Anordnung unter Ausblendung des direkten Lichts das Beugungslicht auf den Polygonalspiegel. Mit S₁ und S₂ sind Blenden zum Abhalten bzw. Ausblenden des direkten Lichts bezeichnet. Der Strahl vom Polygonalspiegel wird in ein f-9-Linsensystem geleitet. Durch Anlegen von Informationsteilen für benachbarte zwei Zeilen an die Modulatoren M₁ und M_ ist das gleichzeitige Drucken der beiden Zeilen möglich.

Mit der Erfindung ist eine Abtastvorrichtung zur Erzielung einer Mehrzahl von Abtaststrahlen geschaffen, bei der eine Mehrzahl stationärer oder feststehender Lichtstrahlen auf eine Ablenkungsreflexionsflache in verschiedenen Richtungen einfallen, wobei sie aber einander an der Reflexionsfläche überlagert sind. Von der Ablenk-Reflexionsflache wird eine Mehrzahl von Ablenkstrahlen abgegeben. Da die Strahlen an der Reflexionsfläche einander überlagert sind, ist das Ablenkzentrum für alle diese Lichtstrahlen das gleiche, so daß die Ablenkstrahlen auf einfache Weise mittels eines einzigen optischen Systems verarbeitet werden können.

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Claims

T D,% hf /> Patentanwälte: TlEDTKE - DÜHLING - IVNNE - V3RUPE Dipl.-lng. H. Tiedtke Dipl.-Chem. G. Bühling Dipl.-lng. R. Kinne Dipl.-lng. P. Grupe Bavariaring 4, Postfach 20 24 8000 München 2 Tel.: (0 89) 53 96 53 Telex: 5-24845 tipat cable: Germaniapatent München 20. Januar 1978 B 8695/Canon case ■ Patentansprüche

1. Abtastvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Ablenkvorrichtung (3; 20) mit einer Ablenkfläche (P), eine Licht-0 quelle (1¹, 2; 1,2), die unter gegenseitiger Überlagerung eine Mehrzahl stationärer Lichtstrahlen aus unterschiedlichen Richtungen auf die Ablenkfläche der Ablenkvorrichtung richtet, und ein optisches System (21 bis 26) zur Verarbeitung einer Mehrzahl von Abtaststrahlen, die das gleiche Ablenk-Zentrum haben.

2. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (1', 2; 1,2) ein Linsensystem (2) aufweist, das die Überlagerung der stationären Lichtstrahlen auf- der Ablenkfläche (P) der Ablenkvorrichtung (3; 20) bewirkt.

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