DE2749439B2 - Verfahren und Vorrichtung zum Verhindern von Dampfniederschlägen auf dem Reflektor einer UV-Strahlungsquelle - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Verhindern von Dampfniederschlägen auf dem Reflektor einer UV-StrahlungsquelleInfo
- Publication number
- DE2749439B2 DE2749439B2 DE2749439A DE2749439A DE2749439B2 DE 2749439 B2 DE2749439 B2 DE 2749439B2 DE 2749439 A DE2749439 A DE 2749439A DE 2749439 A DE2749439 A DE 2749439A DE 2749439 B2 DE2749439 B2 DE 2749439B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- reflector
- substrate
- coating
- radiation source
- cooled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 241000270295 Serpentes Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/14—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects using gases or vapours other than air or steam, e.g. inert gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Verhindern von Dampfniederschlägen
auf der Oberfläche eines gekühlten Reflektors einer UV-Strahlungsquelle beim Ausharten von Überzügen
auf an der UV-Strahlungsquclle vorbeigeführten Substraten.
Es ist bekannt (US-PS 39 36 950 und US-PS 38 07 052), zum Aushärten von Überzügen auf an einer
UV-Strahlungsquelle vorbeigeführten Substraten innengekühlte oder nichtgekühlte Strahlungsquelle^ z. B.
Niederdruck-UV-Quecksilberda.mpflampen vorzusehen. Die bekannte Vorrichtung ist mit einem Einlaß- und
einem Auslaßtunnel und einer dazwischen angeordneten Behandlungskammer versehen, in der mindestens
eine Quecksilberdampflampe untergebracht ist, die einen gekühlten Reflektor aufweist, der UV-Licht von
der Lampe auf das Substrat richtet, wobei der Einlaßtunne! mit einem Gasinjektor ausgestattet ist,
über den ein den Zutritt von Sauerstoff zum Substrat verhinderndes inertes Gas auf das Substrat leitbar ist. In
der Praxis hat man bisher den Reflektor durch Wärmeleitung unmittelbar gekühlt
Aufgrund der beim Aushärten auftretenden hohen Überzugs- und Substrattemperaturen gehen, wie gefunden
wurde, in vielen Fällen von dem Überzug Dämpfe aus, die auf der Reflektoroberfläche und/oder der
Lampe selbst abgeschieden werden. Die UV-Sirahlen werden dann nur noch in vermindertem Maße in
Richtung auf die Substratoberfläche gelenkt. Es kommt zu einer verringerten UV-Ausbeute. Die einwandfreie
-''· Aushärtung wird beeinträchtigt. Es wurde erkannt, daß
die Ursache für ein Beschlagen der Reflektoroberfläche starke thermische Konvektionsströme sind, d>e von dem
heißen Substrat zu der hinter der Lampe sitzenden, kühleren Refiektoroberfläche hochsteigen. Dies führt zu
>" einer thermischen Pumpwirkung, aufgrund deren die
Dämpfe zu der Reflektoroberfläche gepumpt und dort kondensiert werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zu schaffen, die
*r> Dampfniederschläge der genannten Art auf einfache
und wirkungsvolle Weise verhindern.
Von der Verfahrensseile her wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, d.-ß die Kühlung des
Reflektors nur durch Strahlcngsübergang zu einer
1(1 flüssigkeitsgekühlten Wärmesenke erfolgt und der
Slrahlungswärmciibcrgiing derart eingestellt wird, daß
die Temperatur der Reflektoroberfläche ständig einen Wert behält, der mindestens ebenso hoch wie die
Temperatur des Substratüberzugs ist. Durch diese
■<■"> Maßnahmen werden die unerwünschten thermischen
Konvektionsströme weitgehend beseitigt. Die Kühlung des Reflektors wird auf einen Wert begrenzt, bei dem es
nicht zur Ausbildung eines Dampfniederschlags auf der Reflektoroberfläche kommt.
w In weiterer Ausgestaltung der Erfindung wird ein
Schutzgasstrom in der gleichen Richtung wird der Laufrichtung des Substrats über den auszuhärtenden
Überzug geleitet und das Schutzgas zusammen mit einem Teil der von dem Überzug ausgehenden Dämpfe
v> in Substratlaufrichtung hinter der UV-Strahlungsquellc
abgezogen. Dieser Schulzgasstrom trägt zu der Vermeidung starker Dampfniederschläge wesentlich,
bei, indem er die Dämpfe mindestens teilweise am Hochsteigen in Richtung zur UV-Strahlungsquclle und
wi deren Reflektor hindert.
Als Kühlflüssigkeit für die Wärmesenke eignet sich insbesondere Wasser oder ein Gemisch von Wasser und
Äthylenglykol. Zweckmäßig wird die Temperatur der Reflektoroberfläche auf einem Wert gehalten, bei dem
(ν. der Partialdruck der von dem Überzug ausgehenden
Dämpfe größer als 101 j Millibar ist.
Eine Vorrichtung zur Durchführung des genannten Verfahrens ist erfindiingsgemäß dadurch gekennzcich-
net, daß die Wärmesenke flüssigkeitsgekuhlt ist und den
Reflektor teilweise umgibt, jedoch von diesem getrennt ist. Dabei ist vorzugsweise eine Einrichtung zur Zufuhr
des Schutzgasstromes zwischen dem Einlaßtunnel und der Behandlungskaniiner angeordnet. Um die Dämpfe
besonders wirkungsvoll abzuführen, hat zweckmäßig der Auslaßtunnel eine größere Höhe als der Einlaßtunnel.
Der Strahlungswärmeübergang wird optimiert, wenn die einander gegenüberstehenden Oberflächen
des Reflektors und der Wärmesenke schwarz sind.
Die Erfindung ist im folgenden anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen näher erläutert. In
den Zeichnungen zeigt
F i g. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung
zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und
F i g. 2 einen Schnitt entlang der Linie 2-2 der F i g. 1.
Die schematisch dargestellte Anordnung weist eine Beh?.ndlungskammer 1 auf, in der eine UV-Strahlungsquelle
3 montiert ist, bei der es sich in der Ref el um eine
Gruppe von Mitteldruck-Quecksilberdampflampen handelt. Der UV-Strahlungsquelle 3 ist ein Reflektor 5
zugeordnet, der die Strahlungsquelle teilweise umgibt, um UV-Strahlung auf die Oberfläche des Substrats zu
richten, das sich von einem Einlaßtunnel 7 kommend durch die Behandlungskammer t hindurchbewegt, wo
ein auf dem Substrat befindlicher Überzug mittels UV-Strahlung ausgehärtet wird. Das Substrat \ -rläßt
die Behandlungskamnier dann über einen Auslaßt.mnel
9.
Inertgas wird von einer Verteilerkammer 11 aus
zugeführt und in bekannter Weise (US-PS 39 36 950; durch einen Injektor 13 hindurchgeleitet. Dieses das hat
die Aufgabe, die Oberfläche des sich bewegenden Substrats abzudecken, um den Zutritt von Sauerstoff
auszuschließen, der die Aushärtung behindert. Zusätzlich ist eine zweite Inertgasquelle in Form einer
Schutzgaskammer 15 vorgesehen. Ein Schutzgasstrom wird von dieser Kammer aus durch einen Durchlaß 17
hindurch parallel zu dem sich bewegenden, beschichteten Substrat und in der gleichen Richtung wie der
Laufrichtung des Substrats geleitet. Statt parallel zu verlaufen, kann der Schutzgasstrom auch in einem
Winkel zwischen ungefähr 5° und 15° mit Bezug auf die Waagrechte gegen das sich bewegende Substrat
gerichtet sein. Dieser Schutzgasstrom hält im wesentlichen alle Dämpfe nieder, die von dem Überzug
ausgehen, während dieser gehärtet wird; er trägt die Dämpfe durch den \uslaßtunnel 9 hindurch nach außen.
Vorzugsweise ist die Höhe h des Auslaßtunnels 9 größer als die Höhe Edes Einlaßtunnels 7. Dies erlaubt es den
Dämpfen, die Behandlungskammer zusammen mit dem Schutzgas und unterhalb desselben leichter zu verlassen.
Es wurde gefunden, daß die von der Überzugsoberfläche ausgehenden Dämpfe sich unter dem laminaren Schutzgasstrom
ansammeln und diesen laminaren Strom von der Überzugsoberfläche abheben, wodurch
die Dicke der laminaren Strömungsschicht vergrößert wird. Ein Auslaßtunnel von größerer Höhe als der Höhe
des Einlaßtunnels erleichtert daher den Abzug der t Dämpfe aus der Anlage. Dieser Schutzgasstrom wird
vorzugsweise vorgesehen; es ist jedoch auch möglich, ohne einem solchen Schutzgasstrom zu arbeiten.
Die flüssigkeitsgekühlte Wärmesenke 19 muß von dem Reflektor 5 in Abstand liegen, so daß nur ein t
.Strahlungswärmeübergang zwischen dem Reflektor 5 und der Wärmesenke 19 stattfindet. Die Ursache des
Dampfniederschlags auf den Lampen und den Reflektoren sind starke thermische Konvektionsströme, die von
dem relativ heißen Substrat zu der kühleren Reflektoroberflache hochsteigen. Das Problem läßt sich minimieren,
indem die Temperatur der Reflekioroberflächen
■ derart eingestellt wird, daß die Konvektionsströme
minimal bleiben. Die Art der Reflektoroberflächenkühlung ist jedoch kritisch. Eine Luft- oder Gaskühlung ist
nicht praktisch, weil dies zu turbulenten Luft- oder Gasströmen in der Behandlungskammer beiträgt und
' das Problem der thermischen Konvektionspumpwirkung
noch vergrößert. Die Temperaturbeeinflussung erfolgt, indem nur ein Strahlungswärmeübergang
vorgesehen wird. Für diesen Zweck ist dafür gesorgt, daß zwischen den Oberflächen von Reflektor und
Wärmesenke kein Kontakt besteht. Des weiteren ist es günstig, die einander zugekehrten Oberflächen der
Wärmesenke 19 und des Reflektors schwarz anzustreichen oder zu beschichten, um die Größe des
Strahlungswärmeübergangs zwischen diesen Flächen vorzugeben.
Bei einer typischen Anwendung, bei der Fußbodenniesen mittels der erläuterten Anlage ausgehärtet
werden sollen, kann die Fliesentemperatur bis zu ungefähr 95°C betragen; für gewöhnlich liegt sie
/wischen ungefähr 600C und 800C. Ein typischer
Reflektor einer herkömmlichen Quecksilberdampflampe erreicht ungefähr 2050C; seine Temperatur liegt
damit über der Fliesentemperatur; es besteht nur eine geringe oder überhaupt keine Tendenz für eine
Warmekonvektion von Beschichtungsdämpfen von der beschichteten Fliesenoberfläche zu der Reflektoroberfläche.
Durch die Verwendung von temperaturgeregelten Reflektoren kann auch für eine ausreichend hohe
Temperatur an den Reflektoroberflächen gesorgt werden, so daß der Dampfdruck des Dampfes bei dieser
Temperatur bewirkt, daß der die Reflcktoroberfläche
erreichende Dampf erneut verdampft wird, wodurch eine Kondensation verhindert wird.
Die Verwendung von strahlungsgekühlten, temperaturgeregelten Reflektoren ermöglicht also zwei Arbeitsweisen,
um die Reflektoren sauberzuhalten:
1. Über der beschichteten Substratoberfläche wird ein Temperaturprofil ausgebildet, das die laminare
Strömung an der Substratoberfläche dabei unterstützt.die Dämpfe niederzuhalten und so rasch zu beseitigen,
wie sie von dem Überzug freigesetzt werden, und
2. die Reflektortemperatur wird auf einem Wert gehalten, bei dem der Partialdruck des Dampfes über
1013 Millibar liegt, sodaßDämpfe.diedie Reflektoroberfläche
erreichen, rasch in die Kammeratmosphäre zurückverdampft werden.und zwar entsprechend
dem Dampfpartialdruck, der der Temperatur der Kammeratmosphäre zugeordnet ist.
In jedem Fall ist das relative Verhältnis von Substrattemperatur zu Reflektortcmperatur von Wichtigkeit.
Es ist stets besonders günstig, das Substrat während der Aushärtung so kühl wie möglich zu halten,
um einen möglichst kleinen Dampfdruck der flüchtigen Komponenten zu erreichen. Für diesen Zweck kann das
Substrat vor und während der Aushärtung gekühlt werdei.; außerdem kann der auffallende Strahlungsfluß
möglichst klein gehalten werden, um den Temperaturanstieg während der Aushärtung auf die exotherme
Reaktionswärme zu minimieren.
Die beschriebene Anordnung kann auf verschiedene Weise modifiziert und/oder ergänzt werden. Um
beispielsweise die Menge des innerhalb der Anlage verwendeten Inertgases zu minimieren, kann ein
Dampfabschirm-Luftstrom stromabwärts von der ersten Behandlungskammer und vor einer zweiten
Behandlungskammer vorgesehen werden. In ähnlicher Weise ist es möglich, Abzugstunnels vor dem Einlaßtunnel
und nach dem Auslaßtunnel zu verwenden, wobei das Druckverhältnis zwischen diesen Tunnels derart
eingestellt wird, daß eine gegenseitige Abstimmung der jeden Abzugstunnel verlassenden Ströme erfolgt, um
den Inertgasstrom aufrechtzuerhalten und soviel Dämpfe wie möglich zu beseitigen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Verfahren zum Verhindern von Dampf niederschlagen
auf der Oberfläche eines gekühlten Reflektors einer UV-Strahlungsquelle beim Aushärten
von Überzügen auf an der UV-Strahlungsquelle vorbeigeführten Substraten, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kühlung des Reflektors nur durch Strahlungsübergang zu einer flüssigkeitsgekühlten
Wärmesenke erfolgt und der Strahlungswärmeübergang derart eingestellt wird, daß die
Temperatur der Reflektoroberfläche ständig einen Wert behält, der mindestens ebenso hoch wie die
Temperatur des Substratüberzugs ist
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Schutzgasstrom in der gleichen
Richtung wie der Laufrichtung des Substrats über den auszuhärtenden Überzug geleitet und das
Schutzgas zusammen mit einem Teil der von dem Überzug ausgehenden Dämpfe in Substratlaufrichtung
hinter der UV-Strahlungsquelle abgezogen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Kühlflüssigkeit für die
Wärmesenke Wasser oder ein Gemisch von Wasser und Äthylenglykol verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur
der Reflektoroberfläche auf einem Wert gehalten wird, bei dem der Partialdruck der von dem
Überzug ausgehenden Dämpfe größer als 1013 Millibar ist.
5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit
einem Einlaß- und einem Auslaßtunnel und einer dazwischen angeordneten Behandlungskammer, in
der mindestens eine Quecksilberdampflampe untergebracht ist, die einen gekühlten Reflektor aufweist,
der UV-Licht von der Lampe auf dus Substrat richtet, wobei der Einlaßtunncl mit einem Gasinjektor
ausgestattet ist, über den ein den Zutritt von Sauerstqff zum Substrat verhinderndes inertes Gas
auf das Substrat leitbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmesenke (19) flüssigkeitsgekühlt ist und
den Reflektor (5) teilweise umgibt, jedoch von diesem getrennt ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5 zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Einrichtung(15,17) zur Zufuhr des Schutzgasstromes zwischen dem Einlaßtunnel (7)
und der Behandlungskammer(l) angeordnet ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Auslaßtunnel (9) cine
größere Höhe als der Einlaßtunnel (7) hat.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüberstehenden
Oberflächen des Reflektors (5) und der Wärmesenke (19) schwarz sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/739,120 US4135098A (en) | 1976-11-05 | 1976-11-05 | Method and apparatus for curing coating materials |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2749439A1 DE2749439A1 (de) | 1978-05-11 |
DE2749439B2 true DE2749439B2 (de) | 1980-02-28 |
DE2749439C3 DE2749439C3 (de) | 1980-10-16 |
Family
ID=24970908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2749439A Expired DE2749439C3 (de) | 1976-11-05 | 1977-11-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Verhindern von Dampfniederschlägen auf dem Reflektor einer UV-Strahlungsquelle |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4135098A (de) |
JP (1) | JPS5363786A (de) |
AU (1) | AU511287B2 (de) |
BE (1) | BE860509A (de) |
CA (1) | CA1100904A (de) |
DE (1) | DE2749439C3 (de) |
DK (1) | DK492377A (de) |
ES (2) | ES463846A1 (de) |
FR (1) | FR2370071A1 (de) |
GB (1) | GB1591442A (de) |
IT (1) | IT1090430B (de) |
NL (1) | NL7712191A (de) |
NO (1) | NO154684C (de) |
SE (1) | SE438107B (de) |
SU (1) | SU803851A3 (de) |
ZA (1) | ZA776207B (de) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1980001558A1 (en) * | 1979-01-29 | 1980-08-07 | K Taniuchi | Easy-to-open lid for container |
US4331705A (en) * | 1979-05-11 | 1982-05-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Curing of polyamic acids or salts thereof by ultraviolet exposure |
DE3010821A1 (de) * | 1980-03-21 | 1981-10-01 | Polymer-Physik GmbH & Co KG, 2844 Lemförde | Verfahren und vorrichtung zur vernetzung von auf traegermaterialien aufgebrachten lacken auf kunststoffbasis |
DE3402505A1 (de) * | 1983-01-25 | 1984-08-09 | Citizen Watch Co. Ltd., Tanashi, Tokyo | Vorrichtung und verfahren zum aushaerten von unter lichteinwirkung aushaertenden kunstharzklebern |
FR2544324B1 (fr) * | 1983-04-13 | 1987-07-10 | Toyo Boseki | Procede pour accroitre l'adherence de la surface d'un produit faconne en polyester et produit obtenu par ce procede |
DE3416502A1 (de) * | 1984-05-04 | 1985-11-07 | Goldschmidt Ag Th | Vorrichtung zum aushaerten von flaechigen werkstoffen aus durch uv-strahlung haertbaren verbindungen oder zubereitungen |
US4660297A (en) * | 1985-11-01 | 1987-04-28 | Philip Danielson | Desorption of water molecules in a vacuum system using ultraviolet radiation |
JPS63158166A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 帯状物の乾燥方法 |
US4798007A (en) * | 1987-05-28 | 1989-01-17 | Eichenlaub John E | Explosion-proof, pollution-free infrared dryer |
US4811493A (en) * | 1987-08-05 | 1989-03-14 | Burgio Joseph T Jr | Dryer-cooler apparatus |
US4823680A (en) * | 1987-12-07 | 1989-04-25 | Union Carbide Corporation | Wide laminar fluid doors |
US5225170A (en) * | 1989-02-07 | 1993-07-06 | Steelcase Inc. | Monolithic finishing process and machine for furniture parts and the like |
US5116639A (en) * | 1989-02-07 | 1992-05-26 | Steelcase Inc. | Monolithic finishing process and machine for furniture parts and the like |
JPH0390319A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-16 | Sogo Shika Iryo Kenkyusho:Kk | 可視光重合型レジンの連続硬化方法及び装置 |
DE4431502A1 (de) * | 1994-09-03 | 1996-03-07 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur mehrschichtigen Oberflächenbehandlung von Werkstücken aus Kunststoff in Tauchbadanlagen |
DE19516053C2 (de) * | 1995-05-04 | 2000-08-24 | Ist Metz Gmbh | UV-Strahler |
US6185840B1 (en) | 1995-05-04 | 2001-02-13 | Noelle Gmbh | Method and apparatus for hardening a layer on a substrate |
US6126095A (en) * | 1998-09-09 | 2000-10-03 | Fusion Uv Systems, Inc. | Ultraviolet curing apparatus using an inert atmosphere chamber |
US6755518B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-06-29 | L&P Property Management Company | Method and apparatus for ink jet printing on rigid panels |
DE10238253B4 (de) * | 2002-08-21 | 2007-12-13 | Advanced Photonics Technologies Ag | UV-Bestrahlungsanlage zur Erzeugung eines ausgedehnten UV-Strahlungsfeldes |
FR2865418B1 (fr) * | 2004-01-28 | 2006-03-03 | Air Liquide | Equipement de reticulation ultraviolette sous atmosphere controlee |
US20050250346A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-10 | Applied Materials, Inc. | Process and apparatus for post deposition treatment of low k dielectric materials |
DE102005000837B4 (de) | 2005-01-05 | 2022-03-31 | Advanced Photonics Technologies Ag | Thermische Bestrahlungsanordnung zur Erwärmung eines Bestrahlungsgutes |
US7777198B2 (en) | 2005-05-09 | 2010-08-17 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for exposing a substrate to a rotating irradiance pattern of UV radiation |
US20060251827A1 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-09 | Applied Materials, Inc. | Tandem uv chamber for curing dielectric materials |
US7566891B2 (en) * | 2006-03-17 | 2009-07-28 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for treating a substrate with UV radiation using primary and secondary reflectors |
US7589336B2 (en) * | 2006-03-17 | 2009-09-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for exposing a substrate to UV radiation while monitoring deterioration of the UV source and reflectors |
US7692171B2 (en) * | 2006-03-17 | 2010-04-06 | Andrzei Kaszuba | Apparatus and method for exposing a substrate to UV radiation using asymmetric reflectors |
KR101928348B1 (ko) | 2011-04-08 | 2018-12-12 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 자외선 처리, 화학적 처리, 및 증착을 위한 장치 및 방법 |
DE102015219239A1 (de) * | 2015-10-06 | 2017-04-06 | Reicolor Chemie-Gmbh Chemische- Und Lackfabrik | Verfahren zum Lackieren von Stiften sowie Lackiervorrichtung |
ES2938036T3 (es) * | 2018-07-27 | 2023-04-04 | Kyocera Corp | Dispositivo de impresión y dispositivo de irradiación de luz |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR761815A (fr) * | 1932-12-20 | 1934-03-28 | Vitamina | Perfectionnements aux appareils à stériliser par rayons ultra-violets |
GB715700A (en) * | 1951-10-12 | 1954-09-22 | English Electric Co Ltd | Improvements relating to control apparatus for electric motors |
NL261714A (de) * | 1960-06-14 | |||
GB991561A (en) * | 1961-03-20 | 1965-05-12 | Ford Motor Co | Improvements in coatings of compositions comprising a polyester |
DE2018984A1 (de) * | 1969-04-23 | 1971-06-24 | British Insulated Callenders | Verfahren und Einrichtung zum Aus harten von Isolationsuberzugen auf elek tnschen Leitern |
US3807052A (en) * | 1972-06-26 | 1974-04-30 | Union Carbide Corp | Apparatus for irradiation of a moving product in an inert atmosphere |
US3790801A (en) * | 1972-09-08 | 1974-02-05 | Ppg Industries Inc | Apparatus for ultraviolet light treatment in a controlled atmosphere |
US3826014A (en) * | 1973-03-19 | 1974-07-30 | Sun Chemical Corp | Shutter mechanism for radiation-curing lamp |
DE2425217A1 (de) * | 1973-05-25 | 1975-01-23 | Union Carbide Corp | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von bodenbelagsmaterial |
US3819929A (en) * | 1973-06-08 | 1974-06-25 | Canrad Precision Ind Inc | Ultraviolet lamp housing |
JPS5241370B2 (de) * | 1973-09-14 | 1977-10-18 | ||
CA1045580A (en) * | 1974-04-16 | 1979-01-02 | Harden H. Troue | Method of inerting the atmosphere above a moving product |
US3936950A (en) * | 1974-04-16 | 1976-02-10 | Union Carbide Corporation | Method of inerting the atmosphere above a moving product |
US4005135A (en) * | 1975-04-07 | 1977-01-25 | Sun Chemical Corporation | Rotatable ultraviolet lamp reflector and heat sink |
US3994073A (en) * | 1975-04-08 | 1976-11-30 | Ppg Industries, Inc. | Air cooling means for UV processor |
-
1976
- 1976-11-05 US US05/739,120 patent/US4135098A/en not_active Expired - Lifetime
-
1977
- 1977-10-18 ZA ZA00776207A patent/ZA776207B/xx unknown
- 1977-10-26 CA CA289,543A patent/CA1100904A/en not_active Expired
- 1977-11-04 SE SE7712490A patent/SE438107B/sv not_active IP Right Cessation
- 1977-11-04 GB GB45903/77A patent/GB1591442A/en not_active Expired
- 1977-11-04 BE BE182369A patent/BE860509A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-11-04 SU SU772542048A patent/SU803851A3/ru active
- 1977-11-04 DK DK492377A patent/DK492377A/da not_active Application Discontinuation
- 1977-11-04 IT IT51697/77A patent/IT1090430B/it active
- 1977-11-04 DE DE2749439A patent/DE2749439C3/de not_active Expired
- 1977-11-04 NL NL7712191A patent/NL7712191A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-11-04 JP JP13163877A patent/JPS5363786A/ja active Granted
- 1977-11-04 ES ES463846A patent/ES463846A1/es not_active Expired
- 1977-11-04 FR FR7733243A patent/FR2370071A1/fr active Granted
- 1977-11-04 AU AU30331/77A patent/AU511287B2/en not_active Expired
- 1977-11-04 NO NO773792A patent/NO154684C/no unknown
- 1977-12-14 ES ES465054A patent/ES465054A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7712191A (nl) | 1978-05-09 |
IT1090430B (it) | 1985-06-26 |
AU511287B2 (en) | 1980-08-07 |
NO154684B (no) | 1986-08-25 |
NO773792L (no) | 1978-05-08 |
NO154684C (no) | 1986-12-03 |
SU803851A3 (ru) | 1981-02-07 |
ES465054A1 (es) | 1978-09-01 |
DK492377A (da) | 1978-05-06 |
GB1591442A (en) | 1981-06-24 |
SE438107B (sv) | 1985-04-01 |
SE7712490L (sv) | 1978-05-06 |
DE2749439C3 (de) | 1980-10-16 |
JPS5537949B2 (de) | 1980-10-01 |
DE2749439A1 (de) | 1978-05-11 |
US4135098A (en) | 1979-01-16 |
JPS5363786A (en) | 1978-06-07 |
BE860509A (fr) | 1978-05-05 |
ES463846A1 (es) | 1978-06-16 |
ZA776207B (en) | 1978-06-28 |
FR2370071A1 (fr) | 1978-06-02 |
FR2370071B1 (de) | 1983-02-25 |
CA1100904A (en) | 1981-05-12 |
AU3033177A (en) | 1979-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2749439C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Verhindern von Dampfniederschlägen auf dem Reflektor einer UV-Strahlungsquelle | |
EP1169611B1 (de) | Bestrahlungsgerät | |
DE4235953C2 (de) | Sputterquelle mit einer linearen Hohlkathode zum reaktiven Beschichten von Substraten | |
DE7020965U (de) | In eine floatglasanlage zur glasoberflaeche einstellbar einbaubare vorrichtung zum bilden eines ueberzuges auf der oberen flaeche eines fortbewegten floatglasbandes. | |
AT405831B (de) | Verfahren und vorrichtung zum bilden einer beschichtung durch pyrolyse | |
DE1604901C3 (de) | Trocknungsofen für lackierte Drähte oder ähnlichem Gut | |
DE102009054677A1 (de) | Linearablagerungsquelle | |
DD301877A9 (de) | Verfahren zur Beschichtung von Glas | |
DE2626118A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum ueberziehen von flachglas | |
DE3638426C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung eines Metalloxidüberzuges auf einem heißen Glassubstrat | |
DE2929092A1 (de) | Verfahren zur bildung eines zinnoxidueberzugs auf glassubstraten | |
DE102006029593A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Lotverbindung | |
DE102015113766B4 (de) | Strahlermodul sowie Verwendung des Strahlermoduls | |
AT396927B (de) | Vorrichtung und verfahren zum ausbilden eines überzuges auf einem glassubstrat | |
EP0297420B1 (de) | Anlage zur Pyrolyse von Abfallmaterial | |
WO2005082548A2 (de) | Anordnung und verfahren zur mehrschichtigen lackbeschichtung von fadenmaterial | |
DE102007062266B4 (de) | Kühlsystem zum Kühlen von Gegenständen aus einer Lackierstraße, sowie Beschichtungsanlage | |
DE4234855B4 (de) | Aluminiumhartlötverfahren und Ofen dafür | |
EP0554538B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erwärmen eines Materials | |
DE1808231C3 (de) | Lacktrocknungsofen für Blechbänder | |
DE2361702A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines substrates | |
DE2361744A1 (de) | Aufbringen einer beschichtung auf ein substrat | |
DE3344089A1 (de) | Vorrichtung fuer heizungsanlagen | |
DE2428014A1 (de) | Verfahren zum beschichten von glasgegenstaenden und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE1915312A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Glas mit zusaetzlich zu den bei seiner Bildung erzielten Eigenschaften erteilten Eigenschaften |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |