DE2654242C3 - Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkali- und Alumosilikat-Zusammensetzung - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkali- und Alumosilikat-Zusammensetzung

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DE2654242C3
DE2654242C3 DE19762654242 DE2654242A DE2654242C3 DE 2654242 C3 DE2654242 C3 DE 2654242C3 DE 19762654242 DE19762654242 DE 19762654242 DE 2654242 A DE2654242 A DE 2654242A DE 2654242 C3 DE2654242 C3 DE 2654242C3
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Albert V. Avrus
Jevgenij B. Fainberg
Mark L. Saratow Glikman
Vladilen A. Gorochovskij
Gennadij N. Gorschkov
Sachar I. Sapunar
Aleksej G. Schabanov
Jurij M. Moskau Tjurin
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VSESOJUZNYJ NAUTSCHNO-ISSLEDOVATELSKIJ INSTITUT TECHNITSCHESKOGO I SPECIALNOGO STROITELNOGO STEKLA VNIITECHSTROJSTEKLO SARATOW (SOWJETUNION)
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VSESOJUZNYJ NAUTSCHNO-ISSLEDOVATELSKIJ INSTITUT TECHNITSCHESKOGO I SPECIALNOGO STROITELNOGO STEKLA VNIITECHSTROJSTEKLO SARATOW (SOWJETUNION)
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02Forming sheets

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Glass Compositions (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Description

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Die Erfmuung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkali- und AkimosiukatZusamnicnsetzung, bei dem eine Glasmasse zum Formen eines Glasbandes auf die Oberfläche von geschmolzenem Metall geleitet, das Glasband auf dieser Metallschmelze gekühlt und danach horizontal auf ein Gaskissen zur weiteren Kühlung überführt wird.
Ein derartiges Verfahren ist aus der GB-PS 11 97 258 bekannt Hierbei wird das Glas auf die Metallschmelze auf eine Temperatur von 700 bis 850° C gekühlt bevor es zur weiteren Kühlung auf ein Gaskissen übergeben wird. Das ÜtTgeben erfolgt horizontal durch Umpumpen der Metallschmelze über eine Schwelle, wodurch das Metallbad relativ stark durchbewegt wird, was bezüglich der Qualität des herzustellenden Glasbandes unerwünscht ist Außerdem nimmt das Bad dabei Sauerstoff aus der Luft auf, wodurch Zinnoxide gebildet werden, die die Glasunterfläche verunreinigen.
Aus der US-PS 35 06 422 ist es bekannt, ein Glasband soweit abzukühlen, daß es am Ausgangsende des Metallbades eine Viskosität von 10' Poise aufweist damit eine ausreichende Festigkeit besteht um das Band notwendigerweise gekrümmt herausziehen zu können. Hierdurch wird das schon verfestigte Glas relativ großen Belastungen ausgesetzt. Auch ist ein Schleifen des Glasbandes beim Herausführen am Beckenrand des Schmelzbades nicht auszuschließen. Dies alles wirkt sich nachteilig auf die Qualität des herzustellenden Bandes aus.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Glasherstellung der eingangs genannten Art anzugeben, das es ermöglicht, die Härte bzw. Steifigkeit des jeweils in der Übergangszone vom geschmolzenen Metall auf das Gaskissen befindlichen Abschnitts zu sichern und ein beschädigungsloses optimales Übergeben zu gewährleisten.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkali- und Alumosilikat-Zusammensetzung, bei dem eine Glasmasie zum Formen eines Glasbandes auf die Oberfläche von geschmolzenem Metall geleitet, das Glasband auf dieser Metallschmelze gekühlt Und danach horizontal auf ein Gaskissen zur weiteren Kühlung überführt wird, dadurch gelöst, daß die Überführung des Gläsbandes von der Metallschmelze auf das Gaskissen mittels der im Abgabeabschnitt durch Induktoren über dem Wannenrand gehaltenen Metallschmelze bei einer Temperatur des Glasbandes von 650 bis 700°C erfolgt
In dem beanspruchten Temperaturbereich erfolgt
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65 praktisch keine Bildung von Oxiden an der Oberfläche des geschmolzenen Metalls. Außerdem weist das Glasband in diesem Temperaturbereich eine genügende Härte bzw. Steifigkeit auf, wodurch die Berührung seiner unteren Oberfläche mit der das Gaskissen bildenden Vorrichtung ausgeschlossen ist Durch das Anheben der Metallschmelze im Übergabebereich durch Induktoren wird einerseits die Schmelze ruhig gehalten, so daß auch die Gefahr der Oxidation gering ist, und andererseits wird die Gefahr des Schleifens auf dem Badbehälterrand ausgeschlossen. Hierdurch wird der Anteil an Ausschuß wesentlich verringert Da die Notwendigkeit einer präzisen Koinzidenz des Standes der Metallschmelze mit dem des Gaskissens wegfällt, wird die Bedienung der Anlage zur Glasherstellung vereinfacht Außerdem ermöglicht es das vorgeschlagene Verfahren, die Herstellungsgeschwindigkeit des Glasbandes und somit den Durchsatz der Anlage zur Herstellung des Glasbandes wesentlich zu erhöhen.
Andere Ziele und Vorteile der vorliegenden ErFm-
WClUCIl ilUS UCl
Beschreibung ihrer Ausführung unter Bezug auf die Zeichnung verständlich, die eine Einrichtung zur Durchführung der vorliegenden Erfindung im Längsschnitt zeigt
Die Einrichtung, mit deren Hilfe das vorgeschlagene Verfahren durchgeführt werden kann, enthält einen Glasschmelzofen 1, der durch einen Kanal 2 mit einer Wanne 3 für ein metallisches Schmelzbad verbunden ist Die Wanne 3 ist mit einem Schieber 4 für die Regelung der in die Wanne 3 einzuführenden Glasmasse 5 und mit Thermoreglern 6 zur Aufrechterhaltung des erforderlichen Temperaturregimes in der Wanne 3 versehen. Die Wanne 3 ist mit geschmolzenem Metall 7 gefüllt, auf dem sich das erzeugte Glasband 8 bewegt In der Wanne 3 sind Induktoren 9 zur Aufrechterhaltung des erforderlichen Standes des geschmolzenen Meialls 7 im Ausgangsabschnitt der Wanne 3 über der Oberkante der Wannenwand angeordnet H,,?ter dem Schmelzbad 3 befindet sich eine Vorrichtung 10 zur Bildung eines Gaskissens mit Düsen 11 für die Gaszufuhr unter das Band 8, die mit einer Druckkammer 12 verbunden sind, in der Brenner 13 zur Erzeugung des erforderlichen Gasdrucks aufgestellt sind. Hinter der Vorrichtung 10 befindet sich ein Kühlofen 14 mit angetriebenen Walzen 15 zur Weiterbeförderung des Glasbandes 8.
Das vorgeschlagene Verfahren zur Herstellung von Tafelglas 8 besteht in der kontinuierlichen Zufuhr einer dosierten Menge der geschmolzenen Glasmasse 5 bei einer Temperatur von vorzugsweise 1050 bis 11500C auf die Oberfläche des geschmolzenen Metalls 7. Unter der Wirkung der Schwerkraft, der Oberflächenspannung und von in Längsrichtung wirkenden Zugkräften wird die Glasmasse 5 zu einem kontinuierlichen Band 8 geformt. Die Ziehgeschwindigkeit des Elandes 8 und das Temperaturregime werden in Abhängigkeit von der erforderlichen Stärke und Breite des Glasbandes 8 geregelt.
In der Wanne 3 wird ein solches Temperaturregime geschaffen, bei dem das zu formende Glasband 8, das sich zur Ausgangsöffnung der Wanne 3 bewegt, langsam auf eine Temperatur von 650 bis 7000C abgekühlt, wird. Die genügend hohe Glasviskosität bei solchen Terripe^ raturen gibt die Möglichkeit, die Anforderungen hinsichtlich einer gleichmäßigen Gaszufuhr für das Gaskissen zu vermindern und den technologischen Ablauf zu Vereinfachen. Aus der Wanne 3 wird das Glasband 8 auf däS Gaskissen Unter AiifrechtefhäitUng
seiner horizontalen Lage herausgezogen, mit Hilfe der Reduktoren 9 wird der Stand der Metallschmelze 7 im Ausgangsabschnitt der Wanne 3 über der Wannenwand gehalten» Die Gastemperatur im Gaskissen und die Wärmeabgabe von der oberen Oberfläche des Glasbandes 8 werden geregell, indem der Übergang des Glasbandes 8 auf die Walzen 15 des Kühlofens 14 bei einer Temperatur gesichert wird, die dem oberen Wert der Temperatur des Kühlbeginns (560 bis 580"C) gleich ist oder diesen etwas übersteigt
Zum Kühlen des Glasbandes 8 ist auch die Anwendung von Wasserkühlern (nicht gezeigt) möglich, die über dem sich auf dem Gaskissen bewegenden Glasband 8 angeordnet werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkaii- und Alumosilikat-Zusammensetzung, bei dem eine Glasmasse zum Formen eines Glasbandes auf die Oberfläche von geschmolzenem Metall geleitet, das Glasband auf dieser Metallschmelze gekühlt und danach horizontal auf ein Gaskissen zur weiteren Kühlung überführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Überführung, des Glasbandes (8) von der Metallschmelze (7) auf das Gaskissen (10) mittels der im Abgabeabschnitt durch Induktoren (9) über dem Wannenrand gehaltenen Metallschmelze (7) bei einer Temperatur des Glasbandes (8) von 650 bis 700° C erfolgt
    10
DE19762654242 1976-11-30 1976-11-30 Verfahren zur Herstellung von Tafelglas mit Alkali- und Alumosilikat-Zusammensetzung Expired DE2654242C3 (de)

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DE2654242A1 DE2654242A1 (de) 1978-06-01
DE2654242B2 DE2654242B2 (de) 1980-05-22
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DE102004053286B4 (de) * 2004-11-04 2007-09-20 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Flachglas nach dem Floatverfahren

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DE2654242B2 (de) 1980-05-22
DE2654242A1 (de) 1978-06-01

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