DE2649419A1 - Transistor mit integrierter schutzeinrichtung - Google Patents
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Description
Dr.-lng. Reimar Kenig ■ Dip!.-lng. Klaus Bergen
CecilienaHee 76 A Düsseldorf 3O Telefon 45 2OD8 Patentanwälte
2ÖT94
28. Oktober 1976 31 157 B
RCA Corporation, 30 Rockefeller Plaza, New York, N.Y. 10020 (V.St.A.)
"Transistor mit integrierter Schutzeinrichtung"
Die Erfindung betrifft einen integrierten Transistor mit einem Basisbereich eines Leitfähigkeitstyps, einem Kollektorbereich
eines zweiten Leitfähigkeitstyps benachbart zum Basisbereich und einem dazwischenliegenden Basis-Kollektor-PN-Übergang,
sowie einem Emitterbereich des zweiten Leitfähigkeitstyps benachbart zum Basisbereich
mit einem dazwischenliegenden Basis-Emitter-PN-Übergang.
Transistoren können ernsthaft beschädigt wenn nicht sogar katastrophal zerstört werden, wenn eine übermäßige
Sperrvorspannung entweder am Basis-Kollektor-PN-Übergang oder Basis-Emitter-PN-Übergang angelegt wird. Der Basis-Emitter-PN-Übergang
ist besonders anfällig, wenn ein Transistor unter induktiver Last geschaltet wird. So
arbeitet z.B. ein Transistor normalerweise mit in Durchlaßrichtung vorgespanntem Basis-Emitter-PN-Übergang,
während der Basis-Kollektor-PN-Übergang in Sperrrichtung vorgespannt ist. Bei dieser Betriebsart fließt
Strom vom Emitterbereich durch den Basisbereich in den Kollektorbereich. Jeder kurzzeitige oder plötzliche
Spannungsstoß, der dazu führt, daß der Basis-Kollektor-PN-Übergang in Sperrichtung mehr vorgespannt wird, kann
zu einer Lawine an diesem Übergang und dadurch zur Beschädigung des Transistors führen. Wenn weiterhin ein
Transistor unter induktiver Last ausgeschaltet wird,
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d.h. wenn der Basis-Emitter-PN-Übergang in Sperrichtung vorgespannt wird, fließt der Strom der induktiven Ladung
- während der kurzen Zeit der Entladung - weiterhin in derselben Richtung, d.h. in den Emitterbereich hinein.
Unter diesen Umständen, nämlich bei in Sperrichtung vorgespanntem Basis-Emitter-PN-Übergang, wird erhebliche
Wärme im Emitterbereich erzeugt, die ebenfalls zur Zerstörung des Bauteils führen kann.
Ein bekannter Versuch zur Lösung der mit übermäßiger Sperrvorspannung am Basis-Kollektor-PN-Übergang verbundenen
Probleme wird nachfolgend beschrieben. Grundsätzlich kann ein Lawinendurchbruch mit Hilfe eines Hilfsemitters
verhindert werden, der elektrisch durch eine Metallelektrode mit dem Basisbereich kurzgeschlossen
wird. Unter SperrvorSpannungsbedingungen entleert sich
der Basis-Kollektor-PN-Übergang in den Hilfsemitterbereich, so daß eine Durchgreifbedingung entstehen kann,
bei der Strom vom Kollektor durch den Hilfsemitter und
durch den Basiskontakt bis in den Basisbereich fließen kann, so daß sich der Sperrstrom durch das Bauteil
entlädt. Der Hilfsemitter ist so ausgelegt, daß das
Durchgreifen eintritt, bevor die Basis-Kollektor-PN-Übergangslawine
entsteht, so daß eine Beschädigung dieses Übergangs verhindert wird.
Mit dieser Lösung ist jedoch eine Anzahl von Nachteilen verbunden, von denen einer darin besteht, daß mit diesem
Bauteil keinesfalls relativ große Energiebeträge verarbeitet werden können, da der Hilfsemitter relativ
klein bemessen werden muß. Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß der Basiskontakt, der über dem
Basisbereich und dem Hilfsemitter entgegengesetzter Leitfähigkeit sowie dem dazwischen befindlichen PN-Übergang
liegt, ein Betriebssicherheitsrisiko dar-
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stellt, das darin besteht, daß während der Herstellung des Basiskontakts die eindeutige Möglichkeit besteht,
daß sich Nadeln bilden, die vom Metallkontakt aus durch den Übergang in einen Teil des Basisbereichs
hineinragen. Wenn derartige Nadelbildung auftritt, wird dieser Teil des Basisbereichs unterbrochen und
arbeitet nicht mehr in vorhersehbarer Weise. Nadelbildung kann auch während des Betriebes eines fertiggestellten
Bauteils auftreten. Daher ist der Betrieb dieses Transistors unzuverlässig.
Die herkömmliche Lösung des Problems eines Basis-Emitter-PN-Übergangsdurchbruchs
besteht darin, daß außen zwischen Emitter und Kollektorleitungen eine Diode angeschlossen
wird. Diese Lösung besitzt vor allen Dingen den Nachteil, daß die Kosten jedes Systems, bei dem diese Schutzeinrichtung
verwendet wird, erheblich erhöht werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Transistor mit einer Schutzeinrichtung gegen übermäßige
Sperrvorspannungen vorzuschlagen, der die aufgezeigten Nachteile bekannter Transistoren nicht besitzt, sich
vielmehr durch kostengünstigen und zuverlässigen Aufbau auszeichnet. Diese Aufgabe wird, ausgehend von
einem Transistor der eingangs genannten Art, erfindungsgemäß gelöst durch einen ersten Schutzbereich
des zweiten Leitfähigkeitstyps, der den Basisbereich kontaktierend umgibt und mit diesem einen ersten PN-Übergang
bildet, und durch einen zweiten Schutzbereich des ersten Leitfähigkeitstyps benachbart zum Kollektorbereich
unter Bildung einer dazwischenliegenden PN-Diode.
Anhand der beigefügten Zeichnungen, in denen bevorzugte
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Ausführungsbeispiele dargestellt sind, wird die Erfindung nachfolgend näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 einen Teilquerschnitt eines Ausführungsbeispiels der Erfindung;
Fig. 2 einen Teilquerschnitt entlang der Linie 2-2 in Fig. 1 zur Darstellung verschiedener Bereiche;
und
Fig. 3 einen Teilquerschnitt eines anderen Ausführungsbeispiels der Erfindung.
Eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Bauteils
weist gemäß Fig. 1 und 2 einen Halbleiterkörper 12, z.B. aus Silizium auf, in dem ein Transistor und Schutzeinrichtungen
für zwei PN-Übergänge 11 und 13 gegen durch übermäßige Sperrvorspannungen hervorgerufene
Schaden vorgesehen sind.
Der Transistor 10 besteht aus einem Kollektorbereich 14, im vorliegenden Fall η-leitend, einem p-leitenden Basisbereich
16 und einem η-leitenden Emitterbereich 18. Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist der Basisbereich
16 ringförmig und umgibt einen zentralen Kern 20 des Kollektorbereichs 14, der sich bis zur oberen Oberfläche
22 des Körpers 12 erstreckt. Aus nachstehend erläutertem Grund besteht der Basisbereich 16 aus
einer ersten Schicht 24 mit vergleichsweise niedrigem durchschnittlichem spezifischem Widerstand, z.B. ungefähr
0,03 Ohm-cm, und einer zweiten Schicht 26 mit vergleichsweise hohem durchschnittlichem spezifischem
Widerstand, z.B. ungefähr 30 0hm-cm. Der Kollektorbereich 14 besteht auch aus einer ersten Schicht 28 mit
vergleichsweise hohem durchschnittlichem spezifischem
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Widerstand, z.B. ungefähr 30 Ohm-cm -und einer zweiten
Schicht 30 mit vergleichsweise niedrigem durchschnittlichem spezifischem Widerstand, z.B. ungefähr 0,03 Ohmcm.
Wegen der vergleichsweise hohen spezifischen Widerstände der beiden Schichten 26 und 28, die dem PN-Übergang
11 zwischen dem Kollektorbereich 14 und dem Basisbereich 16 anliegen, ist die Lawinendurchbruchsspannung
dieses Übergangs 11 vergleichsweise hoch, z.B. ungefähr 700 Volt.
Die Schutzeinrichtung für den Basis-Kollektor-PN-Übergang
weist einen ersten Schutzbereich 32 aus einem nleitenden Material mit vergleichsweise niedrigem durchschnittlichem
spezifischem Widerstand auf, z.B. ungefähr 0,03 Ohm-cm, der die ringförmige erste Schicht
des Basisbereichs 16 berührt und umgibt und damit einen ersten PN-Übergang 34 bildet. Zur Erleichterung
der Herstellung können Leitfähigkeitsprofil und -tiefe des ersten Schutzbereichs 32 genauso gewählt werden
wie die des Emitterbereichs 18, wodurch beide Bereiche 32 und 18 gleichzeitig, z.B. in einem einzigen Diffusionsschritt,
hergestellt werden können.
Die Schutzeinrichtung für den Basis-Emitter-PN-Übergang des Transistors 10 enthält im einen Ausführungsbeispiel
einen zweiten Schutzbereich 36 aus p-leitendem
Material, der im Kern 20 des Kollektorbereichs 14 angeordnet ist. Der Bereich 36 bildet eine PN-Diode
37 mit dem Kollektorbereich 14 in Parallelanordnung mit dem PN-Übergang 13 zwischen dem Emitterbereich 18
und dem Basisbereich 16 des Transistors. Zur Vereinfachung der Herstellung kann der zweite Schutzbereich
36 mit demselben Leitfähigkeitsprofil und -tiefe wie
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der Basisbereich 16 ausgestattet werden, d.h. er kann zwei Schichten 24' und 26' ähnlich den Schichten 24
und 26 des Basisbereichs 14 enthalten. Dadurch können beide Bereiche 36 und 16 gleichzeitig hergestellt werden.
Das Bauteil 10 ist weiterhin mit Elektroden versehen, von denen eine Emitterelektrode 38 bei dem in Fig. 1
dargestellten Ausführungsbeispiel sowohl den Emitterbereich 18 als auch den Schutzbereich 36 dort kontaktiert,
wo diese Bereiche an die obere Oberfläche 22 des Körpers reichen. Mittels einer Basiselektrode 18 wird
die höher leitende Schicht 24 des P-Basisbereichs 16 und mittels einer Kollektorelektrode 42 der Kollektorbereich
14 kontaktiert. Wie den Darstellungen zu entnehmen ist, ist die Oberfläche 22 des Körpers 12 mit
einer Isolierschicht 44, z.B. aus Siliziumdioxid od.dgl. versehen, um diese zu schützen und Kurzschlüsse der
verschiedenen PN-Übergänge durch die Elektroden an den Stellen, wo die PN-Übergänge die Oberfläche 22 schneiden,
zu vermeiden.
Bei dem in Fig. 3 dargestellten weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem die mit den Teilen des
in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiels übereinstimmenden Teile mit denselben Bezugsziffern versehen
sind, besteht die Schutzeinrichtung für den Basis-Emitter-PN-Übergang
wiederum aus einer parallel zum PN-Übergang 13 ausgebildeten Diode. Hierbei weist die Diode allerdings
einen dritten Schutzbereich 46 aus p-leitendem Material im Kern 20 des Kollektorbereichs 14 und einen
vierten Schutzbereich 48 aus η-leitendem Material im dritten Schutzbereich 46 auf, wodurch zwischen
diesen Bereichen ein zweiter PN-Übergang 50 gebildet wird. Zur Erleichterung der Herstellung kann der
dritte Schutzbereich 46 gleiches Leitfähigkeitsprofil und -tiefe wie die zweite Schicht 26 des Basisbereichs
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16 aufweisen, ebenso wie der vierte Schutzbereich gleiches Leitfähigkeitsprofil und -tiefe wie der
Emitterbereich 18 besitzt. Beim Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 kontaktiert die Emitterelektrode 38
auch den vierten Schutzbereich 48 und einen Teil des dritten Schutzbereichs 46, dort wo dieser bis zur Oberfläche
22 des Körpers 12 reicht.
Eine Gefahr für einen Transistor ist grundsätzlich dann gegeben, wenn der Basis-Kollektor-PN-Übergang
unter Sperrvorspannungsbedingmig betrieben wird.
Unter Sperrvorspannungsbedingungen bildet der Basis-Kollektor-PN-Übergang
11 ein Verarmungsgebiet, das sich bis in die zweite Schicht 26 des Basisbereichs
16 und die erste Schicht 28 des Kollektorbereichs 14 erstreckt. Ein PN-Übergang mit bestimmter Sperrvorspannung
entleert sich eher in Halbleitermaterial mit höherem durchschnittlichem spezifischem Widerstand
als in solches mit niedrigerem durchschnittlichem spezifischem Widerstand. Da der Schutzbereich 32 in der
zweiten Schicht 26 mit vergleichsweise höherem Durchschnittswiderstand und der Emitterbereich 18 in der
ersten Schicht 24 mit vergleichsweise niedrigerem Durchschnittswiderstand angeordnet sind, reicht, d.h.
greift das Verarmungsgebiet, das mit dem in Sperrrichtung vorgespannten Übergang 11 verbunden ist,
zum Schutzbereich 32 bei einer vergleichsweise niedrigen Basis-Kollektor-PN-Übergangsspannung und vor
Eintritt einer Lawine am PN-Übergang durch. Wegen der relativ niedrigen Widerstände der ersten Schicht
24 des Basisbereichs 16 und dem Schutzbereich 32 tritt am dazwischenliegenden ersten PN-Übergang 34
unmittelbar Lawinenbedingung ein, wodurch Strom in
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den Emitterbereich 18 fließt. Wegen der gegenseitigen, umgebenden Zuordnung von Schutzbereich 32 und erster
Schicht 24 des Basisbereichs 16 bricht der erste PN-Übergang 34 im wesentlichen gleichzeitig entlang dem
gesamten Weg rund um die erste Schicht 24 zusammen und fließt der Strom gleichförmig verteilt in den Emitterbereich
18. Damit vermeidet der erfindungsgemäße Aufbau heiße Stellen, die durch Stromanhäufungen hervorgerufen
werden können, wenn sich der Strom durch eine Kombination von Durchgreif- und Lawinendurchbruch-Bedingungen
durch das Bauteil 10 entlädt. Mit diesen erfindungsgemäßen Merkmalen sind folgende Vorteile
verbunden:
a) die Basis-Kollektor-PN-Übergangsspannung kann sich
nicht bis zu dem Punkt aufbauen, an dem für diesen Übergang Lawinenbedingung eintritt, und
b) die Notwendigkeit für eine Kurzschlußelektrode zwischen dem Basisbereich 16 und dem Hilfsemitter
32 wird vermieden.
Leitfähigkeitsprofil und -tiefe des Schutzbereichs sowie der ersten Schicht 24 des Basisbereichs 16 können
unter Anwendung bekannter Verfahren so eingestellt werden, daß das Durchgreifen und die Lawinenbedingung des
Schutzbereichs 32 eintritt, bevor sich irgendein Lawinendurchbruch des Basis-Kollektor-PN-Übergangs 11
einstellt.
Eine weitere Betriebsart, bei der potentielle Gefahr der Beschädigung besteht, ist dann gegeben, wenn der
Basis-Emitter-PN-Übergang 13 in Sperrichtung vorgespannt
ist. Eine ganz besondere Gefahrensituation ist gegeben, wenn das Bauteil dann unter induktiver Last
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steht. Wenn unter dieser Bedingung der Basis-Emitter-PN-Übergang von Durchlaßvorspannung auf Sperrvorspannung
schaltet, wird der induktive Strom weiterhin in den Emitterbereich 18 hineinfließen, bis der gespeicherte
induktive Strom abgeführt ist. Da der induktive Strom nicht über den Basis-Emitter-PN-Übergang 13
fließen kann, wird während dieser Entladungszeit erhebliche Wärme im Emitterbereich 18 erzeugt, die
hier Schaden anrichten kann. Wegen der relativ niedrigen durchschnittlichen spezifischen Widerstände
des Emitterbereichs 18 und der ersten Schicht 24 des Basisbereichs 16 besitzt der Basis-Emitter-PN-Übergang
13 eine vergleichsweise niedrigere Durchbruchsspannung
als der Basis-Kollektor-PN-Übergang 11. Wenn Strom in
den Emitterbereich 18 hineinfließt, z.B0 beim Ausschalten
einer induktiven Last, wenn der Basis-Emitter-PN-Übergang 13 in. Sperrichtung vorgespannt ist, kann am
PN-Übergang 13 aufgrund übermäßiger Ausschaltspannung
Lawinendurchbruch eintreten. Die Schutzdiode 37, die bei in Sperrichtung vorgespanntem Basis-Emitter-PN-Übergang
13 in Durchlaßrichtung vorgespannt ist, verhindert Lawinendurchbruch am Basis-Emitter-PN-Übergang
13· Die Schutzdiode 37 hat eine relativ niedrigere Durchlaßspannung als die Durchbruchspannung in Sperrrichtung
des Basis-Emitter-PN-Übergangs 13. Bevor am Basis-Emitter-PN-Übergang 13 ein Lawinendurchbruch
eintritt, leitet daher die Schutzdiode 37 den Induktor strom ab - und stellt somit für diesen einen Strompfad
dar - , ohne irgendwelchen Schaden für den Basis-Emitter-PN-Übergang 13. Die Strommenge, die durch die
Schutzdiode 37 abgeleitet werden kann, hängt von der Diodenfläche ab.
Zusätzlich zu der zuvor beschriebenen, in Durchlaßrich tung vorgespannten Diode als Schutzeinrichtung für
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den Basis-Emitter-PN-Übergang 13 besitzt das in Fig. dargestellte Bauteil 10 zusätzlich auch einen Schutz
für einen in Sperrichtung vorgespannten Basis-Kollektor-PN-Übergang
11 über den Bereich 48. Wenn der Basis-Kollek tor-PN-Übergang 11 in Sperrichtung vorgespannt wird, arbeiten
der dritte Schutzbereich 46 und der vierte Schutzbereich 43 in derselben Weise wie die untere Schicht
des Basisbereichs 16 und der erste Schutzbereich 32.
Mit dem zuvor beschriebenen Bauteil 10 wird ein Kurzschließen zwischen der ersten Schicht 24 des Basisbereichs
16 und dem Schutzbereich 32 vermieden und demzufolge ist der dazwischenliegende PN-Übergang 34
sehr zuverlässig. Außerdem besitzt das Bauteil 10 zusätzlichen integrierten Schutz gegen Beschädigung
durch übermäßige Sperrvorspannungen über den Basis-Emitter-PN-Übergang 11.
Da die Schutzbereiche 36 und 46 vollständig vom Transistor
durch das umgebende Material des Kerns 20 isoliert sind, wird außerdem ein Nebenwiderstand über
den Basis-Emitter-PN-Übergang 13 vermieden. Somit ist der Leckstrom am Basis-Emitter-PN-Übergang 13 gering
und das Bauteil 10 daher zuverlässiger.
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Claims (8)
1. Integrierter Transistor mit einem Basisbereich eines
Leitfähigkeitstyps, einem Kollektorbereich eines zweiten Leitfähigkeitstyps benachbart zum Basisbereich
iind einem dazwischenliegenden Basis-Kollektor-PN-Übergang,
sowie einem Emitterbereich des zweiten Leitfähigkeitstyps benachbart zum Basisbereich mit
einem dazwischenliegenden Basis-Emitter-PN-Übergang, gekennzeichnet durch einen ersten Schutzbereich (32) des zweiten Leitfähigkeitstyps, der den Basisbereich (16) kontaktierend umgibt
und mit diesem einen ersten PN-Übergang (34) bildet, und durch einen zweiten Schutzbereich (36) des ersten
Leitfähigkeitstyps benachbart zum Kollektorbereich (14) unter Bildung einer dazwischenliegenden
PN-Diode (37).
2. Transistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet
, daß die PN-Diode (37) parallel zum Basis-Emitter-PN-Übergang (13) liegt bzw. geschaltet ist und in Durchlaßrichtung vorgespannt
ist, wenn der Emitter-PN-Übergang (13) in Sperrichtung vorgespannt ist.
3. Transistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß der erste Schutzbereich
(32) Dotierungsprofil und -tiefe besitzt,
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die gleich denen des Emitterbereichs (18) sind, und daß der zweite Schutzbereich (36) Dotierungsprofil
und -tiefe besitzt, die gleich denen des Basisbereichs (16) sind.
4. Transistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichn
e t , daß der Basisbereich (16) aus einer Schicht (24) mit vergleichsweise niedrigem spezifischem Widerstand
und einer Schicht (26) mit vergleichsweise hohem spezifischem Widerstand besteht, daß der Kollektorbereich
(14) aus einer Schicht (28J- mit vergleichsweise hohem spezifischem Widerstand und einer Schicht (30)
mit vergleichsweise niedrigem spezifischem Widerstand besteht, und daß der erste Schutzbereich (32) die
Schicht (24) mit relativ niedrigem spezifischem Widerstand des Basisbereichs (16) umgibt.
5. Transistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet
, daß der erste Schutzbereich (32) und die Schicht (24) mit relativ niedrigem spezifischem Widerstand
des Basisbereichs (16) solche relativen Leitfähigkeiten
besitzen, daß am ersten PN-Übergang (34) ein Lawinendurchbruch bei niedrigerer Spannung eintritt
als am Basis-Kollektor-PN-Übergang (11) des
Transistors (1O).
6. Transistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet
, daß der Basisbereich (16) und der Emitterbereich (18) ringförmig ausgebildet sind und einen
Kern (20) des Kollektor-Bereichs (14) umgeben.
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7. Transistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 Ms 6, dadurch gekennzeich
net , daß der zweite Schutzbereich (36) sich im Kern (20) befindet.
8. Transistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch
Schutzeinrichtungen für den Basis-Kollektor-PN-Übergang im Kern (20).
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