DE2644593A1 - Verfahren und anordnung zur nachbildung eines ladungspakets - Google Patents
Verfahren und anordnung zur nachbildung eines ladungspaketsInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 3
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 2
- 238000010248 power generation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76825—Structures for regeneration, refreshing, leakage compensation or the like
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
- G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
- G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
- G11C19/285—Peripheral circuits, e.g. for writing into the first stage; for reading-out of the last stage
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76808—Input structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76866—Surface Channel CCD
- H01L29/76875—Two-Phase CCD
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- Semiconductor Memories (AREA)
Description
bu/bm
Anmelderin: International Business Machines
Corporation, Armonk, lsi.Y. 10504
Amtliches Aktenzeichens Neuanmeldung Aktenzeichen der Anmelderin: YO 975 015
Verfahren und Anordnung zur Nachbildung eines Ladungspakets
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung, wie sie dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 zu entnehmen
ist.
Für Zwecke der Signalverarbeitung wird häufig das Prinzip
der Ladungsträgerkopplung (CCD) verwendet. Die Verschiebung der Ladung von einem Ladungsspeichertopf zu einem anderen
und die Incrementaddition der Ladung, zu vorher existierenden Ladungspaketen, um eine entsprechende Verstärkung zu erhalten,
ist an sich bekannt, wie aus der USA-Patentschrift 3 806 772 hervorgeht. Die Aufgabe vorliegender Erfindung besteht darin,
Ladungspakete für die Zwecke der Signalverarbeitung zu duplizieren f wobei das jeweils ursprüngliche Ladungspaket unverändert
bleibt.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst, wie es im Kennzeichen des Patentanspruchs 1 angegeben ist. In vorteilhafter Weise
bedient sich die Erfindung einer Ladungsträger gekoppelten
Anordnung, unter Anwenden eines Gate-Verschiebungsladungsflusses, im Zusammenwirken mit einer "Eimerketten"'-Schaltung.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind den Unteransprüchen
zu entnehmen,
im folgenden wird die Erfindung anhand einer Ausführungsbeispielsbeschreibung
mit Hilfe der unten aufgeführten Zeichnungen
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näher erläutert.
Es zeigen;
Es zeigen;
Fig. 1 in schematischer Weise einen Querschnitts-
ausschnitt eines Äusführungsbeispiels einer Laaungstragergekoppelten monolithisch
integrierten Schaltung, gemäß der Erfindung,
Fig. 2 ein Ersatzschaltbild, für einen entsprechen
den Abschnitt äer Fig. 1,
Fig. 3 einen schematischen Querschnittsausschnitt eines Ausführungsbeispiels
gemäß Fig. 1, einschließlich der hierzu erforderlichen Hilfsschaltung,
Fig. 4 ein Zeitdiagramm, zur Erläuterung der
Wirkungsweise der Schaltungsanordnungen nach Fig. 1.
Der schematische Querschnittsaussclmitt, für eine CCD-Anordnung, gemäß Fig. 1, zeigt ein P-Substrat iOf daß aus Silicium
bestehen kann. Die Elektroden 12, 14, 1C, 18 und 20 sind in einer Isolationsschicht 22 eingebettet, die ebenfalls aus
Siliciumdioxid bestehen kann. Die Elektroden 12, 14, 16, und 20 selbst, können aus Aluminium oder aus irgend einem
anderen geeigneten elektrisch leitenden Material bestehen. Eine N -Sorurce-Zone befindet sich im Halbleitersubstrat
und steht mit der Elektrode 14 in elektrischer Verbindung.
Ein Kondensator CL stellt als Ersatzkapazität die unvermeidliche
Streukapazität dar. Die Elektrode 18 liegt auf Gate-Potential V , während Elektrode 20 ein Potential V-,D
g ίο?
besitzt. Das Phase-1-Signal und die anderen Steuersignale,
die den bezeichneten Elektroden zugeführt werden, stammen von einem Systemtaktgeber; da hierbei in üblicher Weise vor-
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gegangen wird, sind die Taktgebungsmaßnalimen Ιϊλ einzelnen
nicht gezeigt oder beschrieben. Das in Fig. 4 gezeigte 2eitgebungsdiagramm spricht hier für sich. Anfänglich wird
die Schaltungsanordnung nach Fig. 1 auf einen solchen Wert aufgeladen, daß sich Elektrode 14 auf einem Source-Potential
Vs = Vg ~ Vth befindet; wobei Vy1 die Schwellenwertspannung
für die Source-Diffusionszone 24 bildet.
Gleichzeitig wird die Vorladung unterhalb der VRp-Elektrode
entfernt. Die Elektrode 12 stellt eine Steuerelektrode dar,
die es gestattet, eine vorgegebene Ladungsmenge oder ein Ladungspaket,, das hinfort mit Q0R als ursprüngliches Ladungspaket
bezeichnet wird, in einen ersten CCD-Eingangs-Potentialtopf
zu überführen, wie er unter Bezugszeichen 26 in Fig. 1 dargestellt ist.
Wenn das Ladungspaket ς>ορ in diesen ersten Potentialtopf überführt
wird, dann geht damit einher, daß die Elektrode 14 in
ihrem Potential herabgedrückt oder V herabgesetzt v/ird. Dies hinwiederum hat zur Folge, daß ein Wiederaufladestrom Id
fließt der V„ wieder auf den Wert V - V1, anhebt. Fließt
s g th
der Strom 1^, dann wird die Ladung von der Source-Diffusionszone
24 in einen zweiten CCD-Potentialtopf 28, unterhalb der Elektrode 20 überführt. Der Betrag oder die Menge der Ladung,
entsprechend Q^, die so in den zweiten CCD-Potentialtopf
überführt wird, entspricht im wesentlichen dem Betrag der Ladung, im Eingangs ladungspaket Qn-,. Das Ladungspaket Qnt)
daß sich im CCD-Potentialtopf 28 ausbildet, läßt sich auf der
Grundlage der Qxidkapazität der monolithisch integrierten Schaltung ausrechnen.
Das Ersatzschaltbild nach Fig. 2, gilt für den ersten CCD-Potentialtopf
26 und enthält die Oberflächen-^ u-Gate-Oxid-Kapazität
C „ und die Verarmungskapazität C1 zwischen Silicium-
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oberfläche und Masse, wobei die Verarmungskapazität eine nicht lineare Abhängigkeit von der Spannung zeigt. Stellt A die
wirksame Fläche für das Ladungspaket QQR dar, dann ist die
Kapazität des CCD-Potentialtopf 26 gleich dem Ausdruck C A parallel zu C^A, wobei sich für die Oberflächenpotentialänderung
Δ V aufgrund des Eingangsladungspacketes die folgende Beziehung ergibts
DV = Q0R/A (Cox + Cd).
Da die überführte Ladung Qn- = AC AV ist, ergibt sichs
Kir Oa
da sich C, unter der Einwirkung von QQR schnell ändert und
C r wesentlich größer ist als C,, muß die duplizierte Ladung
^RP iia wesentlicnen rait der ursprünglichen Ladung üQR übereinstimmen.
Daraus ergibt sich, daß die Schaltungsanordnung nach Fig. 1 im Stande ist, ein Ladungspaket so zu reproduzieren, das es
einem ursprünglichen Eingangsladungspaket entspricht, Indern •:Eimerketten:!-Schaltungsmaßnahmen in einem CCD-Ausführungsbeispiel
Anwendung finden. Das Ladungspaket, daß sich nunmehr im CCD-Potentialtopf 28 befindet, läßt sich für Signalverarbeitung
und dergleichen weiterverwenden, wohingegen das ursprüngliche Eingangsladungspaket im CCD-Potentialtopf 26
unverändert zurückbleibt.
Die in Fig. 3 gezeigte Anordnung eines Ausführungsbeispiels gemäß der Erfindung enthält zusätzlich die Hilfsschaltung,
wie sie beispielhaft zum Betrieb der erfindungsgemäßen Anordnung
herangezogen werden kann. Das Zeitdiagramm hierzu ergibt sich aus Fig. 4, In der in Fig. 3 gezeigten Schaltungsanordnung
liegt die Elektrode 30 an einer Phase-1-Signalquelle
und Elektrode 12, an einer Phase-2-Signalquelle. Der Elektrode
Ifl WJTcä P>j,n Phase—g1—Rqtesignal und der Elektrode 32 ein
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"~ β —
Phase-g2-Gate-Signal zugeführt. Eine Diffusionszone 34 liegt
am Signaldrain Vd und ein aktives Bauelement 36, ist an die
eindiffundierte Source-Zone 24 angeschlossen; wobei die
Steuerung durch Anlegen eines Rückstellsignals an das Gate erfolgt,
Wenn bei Betrieb ein Phase-1-Signal an der Elektrode 30 auftritt,
wird das Eingangsladungspaket Q entsprechend verschoben und unterhalb der Elektrode 30 gespeichert. Zur gleichen
Zeit tritt ein Phase-g., -Gatesignal auf und wird der
Elektrode 18 zugeführt, Indem es so eine Vorab-Ladebedingung
V3 an der Elektrode 14 herbeiführt, wobei wie oben abgehandelt,
gilts Vs = Vg - Vth. Gleichzeitig tritt aber auch das
Phase-g2-Gate-Signal auf und wird der Elektrode 32 zugeführt,
so daß die Vorabladung von Drain Vd abfließt, v, dient dazu,
die der Vorabladung entsprechende Ladung abzuleiten, so daß keine Vermischung mit der Ladung QnT>
eintreten kann.
Wach Abschluß dieser Vorgänge wird ein Phase-2-Signal der
Elektrode 12 zugeführt, wodurch die Ladung Q_n in den CCD-
OR
Potentialtopf 26, unterhalb der Elektrode 14 verschoben wird, die ja, wie gesagt, entsprechend dem Wert V=V- V,,
aufgeladen ist. Zu diesem Zeitpunkt wird, wie ebenfalls bereits erwähnt, das Bestreben erkennbar, daß V in seiner Größe
abnimmt, in dem ein Strom I. = $ (V - Vth)2/2 fließt, so
daß der Wert für Vg weiterhin der oberen genannten Bedingung
genügt, nämlich gleich dem Ausdruck V - V4, bleibt. Der Aus-
g tn
druck für I^ hält die wohlbekannte Gleichung für die MOSFET-Sättigungscharakteristik
dary wie sie in "Eimerketten"-Schaltungsanordnungen
Anwendung findet. Als Ergebnis zeigt sich, daß das Qj^p-Ladungspaket sich in CCD-Potentialtopf 28, unterhalb der
Elektrode 20 anzusammeln beginnt, Ist die Ladung Q™ im CCD-
Rr
Potentialtopf 28 im wesentlichen gleich der Ladung Q__, im CCD-
OR
Potentialtopf 26, dann hat sich das gewünschte Resultat eingestellt,
so daß sich der Zyklus durch Anlegen eines Rückstellsignals an das eiktive Bauelement 36 wiederholen läßt.
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Bei Vorliegen der Rückstellbedingung wird Ladung (im vorliegenden
Fall Elektronen) bereits vor Eintreten der Vorabladungsbedingung zugeführt, so da3 sich die Bedingung für V durch den
Aufladungsvorgang gemäß der Bedingung V - V-, einstellt.
g i_n
Obenstehende Abhandlung richtet sich auf ein Äusführungsbeispiel,
bei dera die Ladungsträger in den Ladungspaketen durch
Elektronen dargestellt v/erden. Es versteht sich jedoch, daß diese Ladungsträger in diesen Laciungspaketen ebensogut auch
durch Löcher dargestellt sein können, wobei es allerdings dann erforderlich ist, daß die in Fig. 1 und 3 gezeigten Schaltungsanordnungen bzw. Schaltungsiaaßnahnaen derart modifiziert werden,
daß sie mit der hierdurch bedingten Polarität verträglich sind,-d.h. aie Source-3one 24 z.B. müsste dann durch eine P -Zone
dargestellt sein.
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Leerseite
Claims (4)
- P Δ T E N T ANSPRÜCHE26A4593Ladungsgekoppelte Halbleiterschaltung dadurch gekennzeichnet, daß in eine die Halbleiteroberfläche bedeckende. Isolationsschicht zumindest Löcher für die Anschlüsse an Source-Elektroden angebracht sind und weitere Elektroden isoliert vom Halbleiter angebracht sind, wovon eine erste Elektrode auf ein vorgegebenes elektrisches Potential zum Empfangen und Speichern einer bestimmten Anzahl von Eingangsladungsträgern vorgespannt ist, indem die Ladungsträger danach streben, dieses vorgegebene elektrische Potential herabzudrücken,daß eine zweite Elektrode zur Ladungsträgerspeicherung vorgesehen ist, daß zwischen der ersten und der zweiten Elektrode sich eine mit der ersten Elektrode elektrisch verbundene Source-Elektrode befindet, so daß ein dynamisches Ansprechen der Source auf die oben genannte Potentialherabsetzung zu einer Stromerzeugung führt, die dieses elektrische Potential wieder auf den vorgegebenen Wert anhebt, indem eine entsprechende Anzahl von Ladungsträgern unterhalb der zweiten Elektrode angesammelt wird, bis die Ladungsträgermenge im wesentlichen der Anzahl der Eingangs ladungsträger entspricht.
- 2. Anordnung nach Anspruch lf dadurch gekennzeichnet, daß zur Duplizierung einer vorgegebenen Anzahl von Eingangsladungsträgern diese von einem Potentialtopf unterhalb der ersten Elektrode, in einen Potentialtopf unterhalb der zweiten Elektrode verschiebbar sind.YO 975 015709817/0693
- 3. Anordnung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Elektroden jeweils aus einem Elektrodensatz mit mindestens zwei Elektrodenteilen, die durch ein Taktgebungssystera nach Art einer "Eimerketten"-Verschiebeschaltung aufeinanderfolgend steuerbar sind, bestehen.
- 4. Anordnung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Source-xJlektrode jeweils durch ein aktives Element ansteuerbar ist.YO 975 015709817/0693
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Family
ID=24506017
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CA (1) | CA1092708A (de) |
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8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |