DE2637836C2 - Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen - Google Patents

Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen

Info

Publication number
DE2637836C2
DE2637836C2 DE2637836A DE2637836A DE2637836C2 DE 2637836 C2 DE2637836 C2 DE 2637836C2 DE 2637836 A DE2637836 A DE 2637836A DE 2637836 A DE2637836 A DE 2637836A DE 2637836 C2 DE2637836 C2 DE 2637836C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gas
centrifugal drum
nickel
reaction chamber
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2637836A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2637836A1 (de
Inventor
Edwin Dipl.-Ing. Erben
Ladislav Dipl.-Ing. 8000 Muenchen Koydl
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MT Aerospace AG
Original Assignee
MAN Maschinenfabrik Augsburg Nuernberg AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MAN Maschinenfabrik Augsburg Nuernberg AG filed Critical MAN Maschinenfabrik Augsburg Nuernberg AG
Priority to DE2637836A priority Critical patent/DE2637836C2/de
Priority to GB33904/77A priority patent/GB1540339A/en
Priority to US05/825,472 priority patent/US4183320A/en
Priority to JP52099397A priority patent/JPS5953350B2/ja
Priority to NL7709141A priority patent/NL7709141A/xx
Priority to FR7725592A priority patent/FR2362215A1/fr
Publication of DE2637836A1 publication Critical patent/DE2637836A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2637836C2 publication Critical patent/DE2637836C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal carbonyl compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B04CENTRIFUGAL APPARATUS OR MACHINES FOR CARRYING-OUT PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES
    • B04BCENTRIFUGES
    • B04B5/00Other centrifuges
    • B04B5/08Centrifuges for separating predominantly gaseous mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563Gas nozzles
    • C23C16/45578Elongated nozzles, tubes with holes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Vernickeln eines fertigen Bauteils, das mit einem elektrischen Stromfluß erwärmt und zugleich mit einem kontinuierlich fließenden, Nickeltetracarbonyl enthaltenden Gasstrom beaufschlagt wird, wobei die Vorrichtung eine ortsfeste Reaktionskammer mit einem Gaseinlaßrohr und einem Gasauslaßrohr enthält
Im Rahmen der Herstellung von Uran für Energiegewinnungsanlagen ist es notwendig, eine Isotopentrennung durchzuführen, im Verlauf deren das erwünschte U 235 vom hauptsächlich in Uranmetall -»enthaltenden U 238 getrennt werden muß. Um diese Isotopentrennung durchzuführen, wird als Zwischenprodukt Uranhexafluorid (UF6) hergestellt, das Gegenstand des eigentlichen Trennverfahrens ist Dieses Gas ist nicht nur radioaktiv, sondern darüber hinaus in außerordentlichem Maße gegenüber anderen Materialien aggressiv und korrosiv, was seine Handhabung außerordentlich erschwert Die Wirtschaftlichkeit von Trennanlagen ist grundsätzlich äußerst gering, d. h, zum Erzielen einer bestimmten Menge des gewünschten Endprodukts ist ein außerordentlich hoher Aufwand an Anlageinvestition notwendig. Hieraus resultiert zwangsläufig, daß Anlagen über Jahrzehnte hinaus in Benutzung bleiben müssen, um rentabel zu werden. Im Zusammenhang mit dem oben Gesagten bedeutet dies aber, daß alle mit dem Prozeßgas in Berührung kommenden Anlagenteile nicht nur vorübergehend, sondern dauernd korrosionsfest sein müssen. Als. Schutzschicht wird eine Nickelschicht bevorzugt. Es war aber bislang schwierig, eine homogene, durchgehende Schicht zu erzeugen.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung zum besonders vorteilhaften Vernickeln von Schleudertrommeln für Gaszentrifugen zu finden.
Die Aufgabe wird mit den im Anspruch 1 gekennzeichneten Merkmalen gelöst.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist eine rasche, reproduzierbare Beschichtung von Trommeln möglich, wobei außerdem auf einfache Weise eine genaue Temperaturregelung und durch entsprechende Ausbildung der Gaseinlaßrohre eine homogene Beaufschlagung des Beschichtungsmittel über die gesamte Fläche der Trommel möglich ist Das Beschichtungsgas dringt selbst in haarfeine Spalten ein.
Die Ausbildung der Schicht und die örtliche Schichtdicke kann durch Führung bzw. örtliche Konzentration des Beschichtungsgasstromes weitgehend beeinflußt werden; insbesondere kann der beim ίο Galvanisieren besonders unerwünschte »Kanteneffekt« unterbunden werden, der auf das. Phänomen zurückzuführen ist, daß die elektrische Stromdichte an Kanten besonders hoch ist wodurch an scharfen Kanten beim Galvanisieren eine höhere Schichtdicke herausgebildet wird als an.ebenen Flächen. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist es allerdings auch möglich, beispielsweise ein fertiges Bauteil über die verschiedenen Gaseinlaßrohre mit unterschiedlichen Gasstromen zu beaufschlagen und somit für örtlich größere oder geringere Schichtdicke zu sorgen.
Darüber hinaus weist unter besonderen Umständen die Erwärmung durch elektrischen Strom noch weitere Vorzüge auf: bei wenig beanspruchten Bauteilen beispielsweise, deren Herstellung wegen der geringen Beanspruchung auch nicht mit der Sorgfalt vorgenommen wird, wie dies bei hochbeanspruchten Teilen der Fall ist, können insbesondere bei Schweiß-, Lot- oder sonstigen Fügestellen Haarrisse verbleiben, die an sich harmlos sind, die aber wegen der sich in diesen Rissen absetzenden Feuchtigkeit besonderen Anlaß zur Bildung von HF bieten können; da an derartigen Zonen die von elektrischem Strom durchflossene Materialstärke abnimmt, steigt demnach die Temperatur und somit auch die Nickelablagerung, so daß sich selbsttätig an besonders gefährdeten Stellen ein Nickelüberzug größerer Dicke ausbildet
Um die bei der extrem beanspruchten Schleudertrommel einer Gaszentrifuge besonders hohe Genauigkeit zu erzielen, wird mittels der erfindungsgemäßen Vorrichtung die Gaszentrifuge während des Beschichtungsvorganges in Drehung versetzt, so daß aus einer etwa örtlich vorhandenen Beschichtungskonzentration nicht eine örtlich dickere Schicht resultieren kann, sondern allenfalls eine über den Umfang verteilte größere Schichtdicke, die aber ihrerseits keine Unwucht bildet; daher kann auch die Reaktionskammer zur Aufnahme der Schleudertrommel verhältnismäßig klein gehalten werden, da nunmehr der gleichmäßigen Verteilung des Beschichtungsgases keine größere so Bedeutung mehr zukommt; es ist lediglich notwendig, daß die Reaktionskammer ständig über Einlaß und Auslaß durchströmt wird.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß ein Gaseinlaßrohr die beiden Widerlager in der Drehachse verbindet und das andere ortsfeste längs der Kontur der Schleudertrommel mit zu dieser hingewandten Auslaßöffnungen angeordnet ist. Durch diese beiden Rohre tritt Beschichtungsgas in die Reaktionskammer, die einen Auslaß zum Aufrechterhalten des erforderlichen Durchgangsstroms aufweist. Das eine der beiden erfindungsgemäßen Rohre beaufschlagt hierbei das Innere der Schleudertrommel, während das andere der beiden Rohre Beschichtungsgas zur Oberfläche der Trommel hin über Düsen ausströmen läßt, wobei sich die Trommel während des Beschichtungsvorgangs, wie oben erläutert, ständig in Umlauf befindet Es wird somit gewährleistet, daß jede Oberflächenstelle der Trommel mit Beschichtungsgas
beaufschlagt wird, ohne daß unnötig viel Beschichtungs- ?as der Reaktionskammer zugeführt werden muß. Es ist sogar möglich, eine größere Reaktionskammer zur Aufnahme mehrerer Schleudertrommeln vorzusehen, wobei durch die erfindungsgemäße Ausbildung gewährleistet ist, daß jeweils bei jeder Trommel die gleiche, genau dosierbare Menge von Gas über die Oberfläche hinweggeleitet ist Es kann somit aus dem in die Reaktionskammer eingeleiteten Reaktionsgas und der an jeder Schleudertrommel anliegenden Stromstärke ein direkter Rückschluß auf die Schichtdicke an der Schleudertrommel gezogen werden.
Die Erfindung ist anhand der Zeichnung beispielsweise noch näher erläutert, in der eine Vorrichtung zum Vernickeln einer Gaszentrifugen-Schleudertrommel schematisch dargestellt ist
Eine Reaktionskammer 1 ist «n ihrem unteren Ende mit zwei Einlaßrohren 2 und 3 sowie an ihrem oberen Ende mit einem Auslaßrohr 4 versehen. Koi-zentrisch innerhalb der zylindrischen Reaktionskammer 1 ist eine Gaszentrifugen-Schleudertrommel 5 angeordnet, die an ihrem Boden und Deckel von einem unteren bzw. oberen Kontaktring 6, 7 abgestützt ist Die beiden Kontaktringe 6, 7 sind jeweils mit einem Teil eines (in der Zeichnung nicht dargestellten) Stromkreises verbunden, der durch die Schleudertrommel geschlossen wird. Beide Kontaktringe sind drehbar angeordnet und der obere Kontaktring 7 steht mit einem Antriebsmotor
8 in Verbindung, über den der Kontaktring 7 und damit auch die Schleudertrommel 5 in Drehung versetzbar sind, da aufgrund des einwandfreien elektrischen Übergangs zwischen Kontaktring 6, 7 und Schleudertrommel 5 für einen sauberen Paßsitz gesorgt werden muß, über den auch das Antriebsdrehmoment des Antriebsmotors 8 übertragbar ist.
Der untere Kontaktring ist durchbohrt und ist drehbar, aber im wesentlichen gasdicht auf dem Einlaßrohr 2 angeordnet; er wird von einem Brauserohr
9 durchdrungen, das seinerseits koaxial zur Schleudertrommel 5 verläuft und dementsprechend im Kontaktring 7 mündet In den Umfang des Brauserohres 9 ist eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten Düsen 10 gebohrt durch die das Beschichtungsgas in das Innere der Gaszentrifuge austreten kann. Dieses Gas beaufschlagt die Innenwände der Schleudertrommel 5, bevor es durch Auslaßöffnungen (nicht dargestellt) in den Reaktionsraum 1 hinaus entweicht Derartige Auslaßöffnungen können beispielsweise durch Bohrungen im oberen Kontaktring 7 gebildet werden.
Beim Beschichten einer extrem dünnen, vielgliedrigen Schleudertrommel kann das Brauserohr 9 derart ausgebildet werden, daß es die Schleudertrommel 5 abstützt und die aus deren Gewicht resultierenden Kräfte über das Beschichtungsgas-Einlaßrohr 2 in die Bettung der Reaktionskammer einleitet
Exzentrisch ist neben dem Beschichtungsgas-Einlaßrohr ein zweites Beschichtungsgas-Einlaßrohr im Boden der Reaktionskammer 1 angeordnet das in ein Konturrohr 11 mündet; dieses Konturrohr 51 umgibt schablonenartig die Schleudertrommel 5 und weist somit einen oberen und unteren im wesentlichen zur Schleudertrommel radial verlaufenden Abschnitt, sowie einen langen,, im wesentlichen zur Schleudertrommel achsparallel verlaufenden Abschnitt auf; die Abschnitte sind benachbart zur Stirn-, Seiten- und Bodenfläche der Schleudertrommel angeordnet und weisen zur Schleudertrommel hingerichtete Sprühdüsen 12 auf, aus denen das zum Rohr 3 eingeleitete Gas unmittelbar zur Wand der Schleudertrommel 5 hin ausströmt. Nachdem dieses Beschichtungsgas mit der Oberfläche der Schleudertrommel 5 in Kontakt gekommen ist, verläßt es den Reaktionsraum 1 durch das Auslaßrohr 4.
Der in der Zeichnung dargestellte Reaktionsraum 1, der nur zur Aufnahme einer Schleudertrommel 5 vorgesehen ist, kann auch für die Beschichtung mehrerer Schleudertrommeln ausgelegt werden, wenn jeweils jeder Trommel zwei Kontaktringe, ein Antrieb und ein aus Konturrohr und Brauserohr gebildetes Beschichtungssystem zugeordnet sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Vorrichtung zum Vernickeln eines fertigen Bauteils, das mit einem elektrischen Stromfluß erwärmt und zugleich mit einem kontinuierlich fließenden, Nickeltetracarbonyl enthaltenden Gasstrom beaufschlagt wird, wobei die Vorrichtung eine ortsfeste Reaktionskammer mit einem Gaseinlaßrohr und einem Gasauslaßrohr enthält, dadurch gekennzeichnet, daß zum Vernickeln der Schleudertrommel einer Gaszentrifuge an den beiden Enden der Reaktionskammer (1) je ein elektrisch leitfähiges, mit einem Stromkreis verbundenes und drehbares Widerlager (6,7) zur Aufnahme der Schleudertrommel (5) angeordnet ist, von denen das eine zum anderen koaxial ist und mindestens eines durch eine Antriebseinrichtung (8) in Drehung versetzbar ist, und daß zwei Gaseinlaßrohre (9, 11) vorgesehen sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das eine Einlaßrohr (9) die beiden Widerlager (6,7) in der Drehachse verbindet und das andere (11) ortsfest längs der Kontur der Schleudertrommel (5) mit zu dieser hingewandten Auslaßöffnungen (12) angeordnet ist
DE2637836A 1976-08-21 1976-08-21 Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen Expired DE2637836C2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2637836A DE2637836C2 (de) 1976-08-21 1976-08-21 Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen
GB33904/77A GB1540339A (en) 1976-08-21 1977-08-12 Method for nickel-plating and apparatus for performing the method
US05/825,472 US4183320A (en) 1976-08-21 1977-08-17 Apparatus for nickel plating
JP52099397A JPS5953350B2 (ja) 1976-08-21 1977-08-18 ニッケルメッキ装置
NL7709141A NL7709141A (nl) 1976-08-21 1977-08-18 Werkwijze voor het vernikkelen van een gereed werkstuk, alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
FR7725592A FR2362215A1 (fr) 1976-08-21 1977-08-22 Procede et dispositif de nickelage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2637836A DE2637836C2 (de) 1976-08-21 1976-08-21 Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2637836A1 DE2637836A1 (de) 1978-02-23
DE2637836C2 true DE2637836C2 (de) 1983-12-08

Family

ID=5986093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2637836A Expired DE2637836C2 (de) 1976-08-21 1976-08-21 Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4183320A (de)
JP (1) JPS5953350B2 (de)
DE (1) DE2637836C2 (de)
FR (1) FR2362215A1 (de)
GB (1) GB1540339A (de)
NL (1) NL7709141A (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5925335U (ja) * 1982-07-31 1984-02-16 ジエコ−株式会社 インテリア時計、アクセサリ−等に於ける線材の結合構造
DE3804805A1 (de) * 1988-02-16 1989-08-24 Max Planck Gesellschaft Cvd-verfahren zum niederschlagen einer schicht auf einer duennschicht-metallstruktur
US9512519B2 (en) * 2012-12-03 2016-12-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Atomic layer deposition apparatus and method

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE57637C (de) * L. MOND in Northwich, England Verfahren zum Vernickeln und zur Herstellung von Gegenständen und Abdrücken aus Nickel
US2792806A (en) * 1951-10-08 1957-05-21 Ohio Commw Eng Co Apparatus for plating the interior of hollow objects
US2700365A (en) * 1951-10-08 1955-01-25 Ohio Commw Eng Co Apparatus for plating surfaces with carbonyls and other volatile metal bearing compounds
US2781280A (en) * 1953-03-11 1957-02-12 Ransburg Electro Coating Corp Method and apparatus for spray coating of articles
US3050417A (en) * 1954-03-18 1962-08-21 Union Carbide Corp Chromium nickel alloy gas plating
US3196826A (en) * 1958-07-23 1965-07-27 Edward O Norris Apparatus for spraying the interiors of drum shells
NL6509968A (de) * 1965-07-31 1967-02-01
US3865647A (en) * 1970-09-30 1975-02-11 Siemens Ag Method for precipitation of semiconductor material
JPS4712925U (de) * 1971-03-12 1972-10-16
DE2117933A1 (de) * 1971-04-14 1972-10-19 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von Hohlkörpern aus Halbleitermaterial von beliebiger Länge
JPS5229630Y2 (de) * 1971-05-24 1977-07-06
US4030964A (en) * 1976-04-29 1977-06-21 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Temperature cycling vapor deposition HgI2 crystal growth

Also Published As

Publication number Publication date
FR2362215A1 (fr) 1978-03-17
JPS5953350B2 (ja) 1984-12-24
FR2362215B3 (de) 1980-05-16
JPS5326238A (en) 1978-03-10
NL7709141A (nl) 1978-02-23
US4183320A (en) 1980-01-15
GB1540339A (en) 1979-02-07
DE2637836A1 (de) 1978-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2741710C2 (de) Vorrichtung zum Trennen von Feststoffen und Flüssigkeiten aus einer Suspension
DE2214571C3 (de) Vorrichtung zum Tränken und Überziehen von fadenförmigem Material mit einem fließfähigen polymeren Harz
DE2055995C3 (de) Verfahren zum kontinuierlichen galvanischen Verchromen der Außenoberfläche von Stangen oder Rohren
DE2634160A1 (de) Einrichtung zum entgasen plastischer stoffe
DE2301640B2 (de) Verfahren zum herstellen von mit zink ueberzogenem stahlrohr
DE2442627A1 (de) Verfahren zum behandeln eines fasermaterials
DE2747443A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung eines an protein reichen produktes und eines an staerke reichen produktes aus der muehlenstaerkenfraktion aus einem mais-nassmahlverfahren
DE1619682A1 (de) Duennschichtverdampfer
DE2254232A1 (de) Stromdurchflossener heizleiter mit axial unterschiedlicher leistungsverteilung, verfahren zu dessen herstellung und vorrichtung zur ausfuehrung des verfahrens
DE2637836C2 (de) Vorrichtung zum Vernickeln von Bauteilen
DE1621703A1 (de) Metallisches Bauelement,insbesondere Metallplatte zur Entfaserung eines Pulpebreies
DE3015282C2 (de) Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von leitenden oder leitend gemachten Oberflächen
DE2822843A1 (de) Verfahren zum biegen einer glasplatte
DE2721006C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Zellulosefasermaterial
DE3226344C2 (de)
DE3126849C2 (de)
DE1454778B1 (de) Plastifizierwalzwerk für Kunststoffe
DE60026668T2 (de) Vorrichtung zum elektrostatischen Beflocken
DE2440295A1 (de) Verfahren zur behandlung von leder, haeuten oder aehnlichen materialien und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens
DE837406C (de) Einrichtung zum Aufbringen von Lack od. dgl. auf gelaengte Koerper, insbesondere Rund-, Profil- oder Flachdraehte sowie Folien
DE1432762C3 (de) Misch und Trennverfahren mit Gegenstromzentrifugen
DE3110121C2 (de)
DE2265041C3 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen Galvanisieren von Linien oder Einzelflächen auf Metallstreifen
DE950467C (de) Anordnung zum Trennen des Dampfwassergemisches in der Obertrommel eines Dampferzeugers
DE2322356A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen ueberziehen eines streifens aus aluminium oder aluminiumlegierung mit einem weichlot

Legal Events

Date Code Title Description
OAM Search report available
OC Search report available
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: M.A.N. MASCHINENFABRIK AUGSBURG-NUERNBERG AG, 8000

8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: M A N TECHNOLOGIE GMBH, 8000 MUENCHEN, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee