DE2635798C3 - Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad - Google Patents

Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad

Info

Publication number
DE2635798C3
DE2635798C3 DE2635798A DE2635798A DE2635798C3 DE 2635798 C3 DE2635798 C3 DE 2635798C3 DE 2635798 A DE2635798 A DE 2635798A DE 2635798 A DE2635798 A DE 2635798A DE 2635798 C3 DE2635798 C3 DE 2635798C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
aluminum
catalyst
bath
substrate
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2635798A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2635798B2 (de
DE2635798A1 (de
Inventor
Siegfried Dr.Rer.Nat. 8552 Hoechstadt Birkle
Richard Dr.Phil. Nat. 8500 Nuernberg Doetzer
Eva 8551 Buckenhofen Rissel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE2635798A priority Critical patent/DE2635798C3/de
Priority to CH782977A priority patent/CH634602A5/de
Priority to SE7708516A priority patent/SE444325B/xx
Priority to AT543377A priority patent/AT361268B/de
Priority to US05/820,700 priority patent/US4144360A/en
Priority to NL7708608A priority patent/NL7708608A/xx
Priority to GB32642/77A priority patent/GB1558692A/en
Priority to JP52094070A priority patent/JPS6011105B2/ja
Priority to IT26503/77A priority patent/IT1085404B/it
Priority to BE179986A priority patent/BE857577A/xx
Priority to CA284,271A priority patent/CA1111721A/en
Priority to FR7724372A priority patent/FR2361473A1/fr
Publication of DE2635798A1 publication Critical patent/DE2635798A1/de
Publication of DE2635798B2 publication Critical patent/DE2635798B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2635798C3 publication Critical patent/DE2635798C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1851Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
    • C23C18/1872Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
    • C23C18/1886Multistep pretreatment
    • C23C18/1889Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1803Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
    • C23C18/1824Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
    • C23C18/1837Multistep pretreatment
    • C23C18/1841Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2073Multistep pretreatment
    • C23C18/208Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/52Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating using reducing agents for coating with metallic material not provided for in a single one of groups C23C18/32 - C23C18/50

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von AIu-
H) minium aus apmtischen Alankomplexbadern auf Substratoberflächen.
Es ist bekannt, daß Titantetrachlorid die Zersetzungstemperaiur von Alumini'umwasserstoffverbinden erheblich herabsetzt. Gemäß dem in der DE-AS 1621227 beschriebenen Verfahren kann auf einem Substrat-Aluminium in Gegenwart eines Zersetzungskatalysators beispielsweise einer oder mehrerer Verbindungen von Metallen der Gruppe IVB und VB des Periodensystems der Elemente aus ei/icr Alumini-
->o umhydridverbindung, beispielsweise komplexen Alkali-, Erdalkali- oder Magnesiumaluminiumhydriden abgeschieden werden.
Nach einer bevorzugten Ausfuhrungsform wird zuerst der Katalysator in Form von Lösungen oder Sus-
J5 Pensionen auf das Substrat aufgetragen und das Lösungsmittel abgedampft.
In der gleichen Weise trägt man die Aluminiumwasserstoffverbindung auf und zersetzt die zuvor getrocknete Schicht durch thermische oder Strahlungs-
i!) energie.
Eine weitere Beschichtungsvaritnte besteht darin, das zu aluminierende Material mit einer gemeinsamen Lösung von Katalysator und Aluminiumwasserstoffverbindung zu kontaktieren, zu trocknen und iher-
ii misch zu zersetzen.
Betrachtet man die geschilderten Platlierverfahren näher, so zeigen sich doch erhebliche Nachteile in der Ausführung der Aluminiumbeschichtung und dadurch bedingte mangelhafte Qualität der Überzüge.
4Ii Eine gleichzeitige Auftragung' des Katalysators und der Aluminiumwasserstoffverbindung setzt voraus, daß die Bcschichtungslösung wegen der großen Gefahr der autokatulytischen Zersetzung nur kleinste Mengen der Besehichtuiigskomponenteii enthalten
4-Ί darf. Es könneii demgemäß naoh dem Trocknen des aufgebrachten Überzuges und anschließender thermischer Zersetzung nur äußerst dünne, anwendungstechnisch uninteressante Aluminiumfilme entstehen. Es ist schlechthin nicht zulässig! von einem Alumini-
-,Ii umfilm zu sprechen, da bei der erwähnten Plattiermethode ein homogen in der Auftrag »schicht vorhandenes Gemisch von Katalysator- und Aluminiersubstan/. , u einem Metallgemenge von Aluminium und Titan zersetzt wiri!. :
ν, In analoger Weise führt ein Dickenwachstum des Melallbelages durch wiederholtes gemeinsames Auftragen der Platticrkomponenten auf das Substrat und nach folgender Zersetzung zu' heterogenen zusammengesetzten Aluminiumüberzügen.
mi Stillt gemeinsam können Katalysator und Aluminiersubstanz auch nacheinander durch Aufsprühen, Aufslreichen, Aufwalzen oder im Tauchvorgang auf die zu aluminierende Unterlage aufgebracht und dann der jeweilige Überzug getrocknet werden. Ls isl je-
IV-, doch gerade beim Tauchverfahren besonders nachteilig, daß sich die praktisch gren/.flächcninaktivcu, leicht an dein Substrat nicht adsorhicibaren Katalysatoren heim lintauchcn in die Alurniiiiumwasserstnfflösuiig
teilweise ablösen und allmählich das Bad zersetzen.
An den zu wenig oder gar nicht katalysierten Substratflächen kann eine katalytisch induzierte Zersetzung der aufgetrockneten Aluminiumsubstanz nicht mehr erfolgen. Auf diese Weise sind nur äußerst dünne, uneinheitlich aussehende und zum Teil nicht kohärente Aluminiumfilme erhältlich, die keinerlei anwendungstechnische Bedeutung haben. Im übrigen sind beide Verfahrensvarianten unvorteilhaft für die Erzeugung reiner homogener Aluminiumüberzüge, weil die Zersetzung der auf dem Substrat aufgebrachten Aluminiersubstanz in der Gasphase abläuft. Hierbei ist nicht zu vermeiden, daß die in reiner Substanz und heim'Erwärmen extrem feuchtigkeits- und sauerstoffempfindlichen Verbindungen teilweise zersetzt werden, bevor sie thermisch und katalytisch induziert in metallisches Aluminium zerfallen. Ein völliger Ausschluß von Sauerstoff und Feuchtigkeit ist jedoch nur unter extremen und kostspieligen Bedingungen zu erreichen, die i'jr ein technisch nutzbares Metallabscheidungsverfahren nicht vertretbar sind.
Eine Aluminiumabscheidung aus Aluminiumwasserstoffverbindungen in flüssiger Phase vorzunehmen ist ebenfalls bekannt. Hier üben Spuren von Feuchtigkeit und Sauerstoff in der Inertgasatmosphärc über dem Aluminierbad-keinen entscheidenden Einfluß auf die Aluminiumabscheidung aus. Äußerst nachteilig wirkt sich jedoch bei dieser Plattiermethode die bereits erwähnte Löslichkeit der nicht adsorptiv an Substrat gebundenden Katalysatoren aus, die in den ca. 80° C warmen Aluminierbädern relativ rasch zur Badzersetzung führen.
Aufgabe der Erfindung <st dah«r die Herstellung von haftfesten dichten und homogenen Aluminiumüberzügen auf isolierenden und leil.ahigen Materialien durch stromloses Abscheiden von Aluminium in flüssiger Phase in Gegenwart von adsorbierbaren grenzflächenaktiven Katalysatoren, bei dem die eingangs geschilderten Nachteile vermieden sind und bei dem sich das verwendete Aluminierbad selbst bei Temperaturen von ca. 100" C hnicht thermisch zersetzt.
Die Aufgabe wurde erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Oberfläche von zu aluminierenden Substraten (1) zunächst in flüssiger Phase mittels einer verdünnten Lösung eines am Substrat in Lösung adsorbierbaren, grenzflächenaktiven Katalysators oder Katalysatorsystems-in einem Katalysatorbad - aktiviert, (2) das aktivierte Substrat in aprotischen SoI-ventien, vorzugsweise solchen mit einem Siedepunkt > M)O" C intensiv gewaschen und (3) nachfolgend Aluminium durch Tauchen in eine 1- bis 4%igc Lösung von Trialkylaminalan in einem Lösungsmittclgcmisch aus Aromalen und hochviskosen Aliphaten in einem Aluminiurhbad- aufgebracht wird. Vorzugsweise werden Katalysator- und Spülbäder mit hochsiedenden Lösungsmitteln verwendet.
Die erfindungsgemäß verwendeten grenzflächenaktiven Zersetzungskatalysatoren, die in Lösung gleichmäßig auf das Substrat aufziehen, sind wenig feuehligkeitsempfindlieh und sie haben eine hohe katalytische Wirksamkeit hinsichtlich der Zersetzung von Alanen bei niedrigen Temperaturen. Sie gewähren eine gleichmäßige Aktivierung der Substrulobcrflächc. Die Abscheidung des Aluminiums erfolgt gleichzeitig auf der gesamten Substratoberfläche. Sie ziehen festhaftend aus flüssiger Phase auf das Substrat auf, wobei es für viele Fälle von Vorteil ist, daß sie
ίο
filmartig auf das Substrat aufziehen. Bei Verwendung von Zersetzungskatalysatoren bzw. -lösungen gemäß der Erfindung eihält man eine homogene Aluminiumbeschichtung.
Geeignete isolierende Materialien sind beispielsweise Glas, Aluminiumoxidkeramik, hydrophiliertes Teflon, Silicium, Siliciumdioxid, Berylliumoxidkeramik.
Geeignete leitfähige Materialien sind heispielsweise Kupfer, Nickel, Stahl.
Die aus der Lösung am Substrat festhaftend aufziehenden, meist grenzflächenaktiven Katalysatoren können erfindungsgemäß als (a) verdünnte Lösungen von modifizierten Estern oder Aeylaten von Titan, Zirkon und Vanadin, die an einem Metallatom kurz- und langkettige organische Reste tragen, vorliegen. Als besonders geeignet haben sich Ester und Acylate der genannten Übergangsmetalle mit kurzkcttigen Alkylgruppen wie Isopropyl und Butyl erwiesen. Diese Alkoxigruppen sind durch ihre Reaktionsfähigkeit für die Chemisorption an der Substratoberfläche verantwortlich. Langkettige Alkylreste mit mindestens 8, vorzugsweise 16 bis 18 Kohlenstoffatomen, stellen die Schutzkomponente gegen Feuchtigkeitsempfindlichkeit dar. Die Schutzwirkung basiert hierbei auf einer Zunahme der hydrophoben Eigenschaften des Übergangsmctallesters bzw. Acylats.
Die gemischten Ester der Ubergangsmetalle von Titan, Zirkon und Vanadin können durch Zugabe der gewünschten Menge des höheren Alkohols um niedrigkcttigen Ester hergestellt sein. Hierbei erfolgt eine teilweise Substitution des niederen Alkohols durch den höheren. Es ist ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, daß die langkcttigen Alkylrcste der modifizierten Ester die Filmbildung fördern, so daß sie haftfest und einheitlich als transparenter Film auf das Substrat aufziehen.
Das entsprechende gilt auch für die Acylate bzw. für die teilweise acylierten Ester. Fs ist ein großer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, daß der Kondensationsgrad der Ester und Acylate keinen dominanten Einfluß auf deren katalytische Wirksanikeil hat.
Wenn auch die Verwendung der reinen Ester zur Aktivierung im Prinzip möglich ist, so hat sich dennoch die Verwendung der genannten Katalysatoren in hoher Verdünnung, nämlich in Konzentrationen im Bereich von vorzugsweise K)'4 bis 2 Gew.'f. als besonders günstig erwifsen.
Auch die Polarität des Lösungsmittels übt einen signifikanten Einfluß auf die (jrenzfläehenaklivität der Zersetzungskatalysatoren und damit auf eine einheitliche Platticrung mit Aluminium aus. Unpolare Lösungsmittel, vorzugsweise aliphiitische Kohlcnwasserstoffe mit S bis 15 C-Atomen haben sich besonders bewährt.
Als besonders geeignet haben sich beispielsweise bei der Aluminierung von Glas Alkylmclallate der obengenannten Ubergangsmetalle erwiesen. In andcren Fällen zeichneten sich die Acylate oder acylierten Alkylmctalle der oben erwähnten Ohergangsnietalle als besonders vorteilhaft aus.
Ein ganz besonderer Vorteil dieser crfiiulimgsgemäß eingesetzten Katalysatoren ist schließlich auch darin zu sehen, daß keine Halogenionen b/.w. Alkaliinetallionen vorhanden sind, welche die elektrischen Eigenschaften von p-n-Übergängcn negativ beeinflussen können. Sie eignen sich daher ganz besonders
iur Aluminierung von elektronischen Bauteilen.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausbildung der Erfindung kann auf der Oberfläche des zu aluminierenden Materials aueh eine festhaftende filmbildende und relativ feuchtigkeitsunempfindliche aktivierend wirkende Schicht erzeugt werden durch (h) Tauchen des Substrats in eine Losung von Chloriden der Ühergangsmetalle der IV. und V. Nebengruppe des. Periodensystems der Elemente, vorzugsweise Tilanlctrachlvrid und wasserhaltigen Metallseifen mehrwertiger Metalle, vorzugsweise Aluminiumseifen.
Gemäß einer bevorzugten Ausfiihrungsiorm wird eine ätherische Lösung von wasserhaltigem Aluminiumtripalmiiui und Titanletrachlorid zur Aktivierung des Substrats verwendet. Geeignet sind ferner auch beispielsweise wasserhaltiges Aluminiumirisiearai, Mono- oder Distearinsäurederivate und andere wasserhaltige Seifen.
Hierbei dieni beispielsweise das Aluminiumstearat nicht wie aus der DE-AS 1 621 227 bekannt als Neumittel zur besseren Verteilung der Katalysatoriösung auf schlecht benetzbaren Substraten, sor.Jern als wasserhaltige Verbindung, an die bekannte Zersetzungskatalysatoren chemisch angekoppelt werden. So entsteht durch eine gezielte Reaktion an sich im einzelnen in den Eigenschaften bekannter Substanzen ein neues System mit nicht vorhersehbaren für d. Aktivierung zu aluminierende Substrate äußerst vorteilhaften Eigenschaften. Durch das Vorhandensein von kleinen Wassermengen im Katalysatorsystem wird die Adsorption des Zersetzungskatalysators an das Substrat entscheidend verbessert, so daß man auf derart aktivierte Unterlagen festhaftende und einheitliche AI-Überzüge abscheiden kann. Darüber hinaus bewirkt die Gegenwart des Wassers, daß sich auf dem Substrat völlig transparente Filme ausbilden, die auf glatten Unterlagen eine ausgezeichnete Spiegelqualität des Al-Überzuges garantieren.
Obwohl primär kleine Mengen von Wasser die Zersetzung! katalysatoren teilweise hydratisieren, sind die Katalysatorfilme, die sich nach dem erfindungsgemäßen Verfahren auf der Oberfläche des Substrates ausbilden, weniger empfindlich gegen Spuren von Feuchtigkeit im Inertgas als der Zcrsetzungskataiysalor selbst bzw. seine Additionsprodukte mit O-, N- und P-Donaloren. Es ist anzunehtrk n, daß die hydrophoben langkettigcn Fettsäurereste der Trägersubstanz das eigentliche Zersetzungskatalysator-Molekül ebenfalls hydrophobieren und somit besser gegen Feuchtigkeit schützen.
Wenn die besondere Rolle des Wassers bei der Aktivierung von Substraten mit Lösungen, die Al-Seifen und sog. Zersetzungskatalysatoren für Aluminiumhydride enthalten, theoretisch noch nicht geklärt ist, kann man vermuten, daß die noch aktive und adsorplionslähige Katalysatorspezies durch eine langsame, gezielt ablaufende Hydrolyse, beispielsweise von Titanteirachlorid im Kontakt mit dem in der Seife sehr festgebundenen Wasser erfolgt und so an das Trägermolekül angekoppelt wird. Diese Hypothese wird durch folgende?) i xpcriment gestützt,
Gibt man beispielsweise zu einer ätherischen Lösung von Titantetrachlorid Aluminiumstearat, das Spuren Wasser enthält und aktiviert sofort ein Substrat, so kann man im Metallicrpiozeß nicht s<> gute Al-Überziigc erzeugen, wie wenn man die Metallierung nach einer gewissen Standzeit des Katalysator λ-stems vornimmt.
Die Zersetzungskaialysatoren und die Seifen sind in Lösung in variierenden Verhältnissen vorhanden. Stets ist aber der Gehalt des Zersetzungskatalysators größer als der des Seifenmoleküls. Die Lösungen enthalten K)"5 bis 1 Mol, vorzugsweise 0,001 bis O1(Hi(I Mol Aluminiums?>fe pro Liter Lösung. Die Menge an Zersetzungskatalysator ist entsprechen^. Das Verhältnis der Seife zum Zersetzungskatalysator
ι» liegt vorzugsweise im Bereich zwischen 0,0005 und 0,005. Der Wassergehalt des Katalysatorsystems liegt zwischen 10 '' und 3 Gew.%.
Im allgemeinen werden die Katalysatorkomponenten in einem schwach polaren organischen Lösungsmittel gelöst, das gleichzeitig triit dem eigentlichen Zersetzungskatalysator eine Additionsverbindung zu bilden vermag. Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, die niederen Glieder der Ätherreftie wie Diäthyläther, Propyläther und Butylälher zu verwenden. Wenn nö-
>o lig, laßt sieh das Adsorptionsvermögen des Katalysatorsystems an Substratoberflächn dadurch steigern, daß man die Polarität des Ix>sungi>mittcls durch Zugabe eines unpolaren Lösungsmittels herabsetzt. Der Vorteil einer solchen Verfahrensweise liegt darin, daß man eine optimale Aktivierung eines Substrates auf seine chemische Oberflächenbeschaffenheit abstimmen kann. Diese Aktiviermethode ist besonders vorteilhaft bei Substraten, die in kohlenwasserstoffen löslich oder quellbar sind und daher mit dem erstgs-
Ki nannten Aktivierverfahicn nicht sensibilisiert werden können.
Wie aus der DE-AS 1621227 und der US-PS 2836385 hervorgeht, ist die gleichmäßige Substrataktivierung der wichtigste Schritt der stromlosen AIu-
J5 miniumabscheidung. Sie nimmt daher in der Beschreibung auch einen sehr brejten Raum ein Wie aus den eingangs beschriebenen; Beispielen zur Substratbcschichtung mit dem Katalysator hervorgeht, bestehen die Verfahren der Beschichtung im wesentli-
4Ii chen in einem Tauchprozeß und einem nachkilgcnden Trockungsprozeß.
Zum Beispiel wird nach einer bevorzugten Ausführungsform der DE-AS 1621227 der Katalysator in Form von Lösungen oder Suspensionen auf das Sub-
•r> strat aufgetragen und das Lösungsmittel verdampft. Danach wird das so beschichtete'Substrat mit Aluminiumwasserstoffverbindungen in Kontakt gebracht. Diese Beschichtungsverfahrensweise ist dann besonders nachteilig, wenn Substrate mit Vertiefungen
Ι« aluminiert werden sollen. Beim Verdunsten des Lösungsmittels bleibt der Katalysator in viel zu großer Menge lose in <ien Vertiefungen des Substrates hängen. Beim Kontakt mit dem Aluminiumwasserstoffbad lösen sich die nicht fest am Substrat haftenden
'·> KaUlysatorteilchen ab und zersetzen das Alumirüerbad. Das Verdampfen des Lösungsmittels ist auch deshalb nachteilig, weil die angetrocknete Katalysatorschicht nicht mehr durch einen hydrophoben Lösungsmittelfilm gegen Feuchtigkjeitsspuren der Inert
hO gasatmosphäre geschützt wird. Demzufolge müssen zusätzlich apparativ aufwendigere Vorkehrungen getroffen werden, die Feuchtigkeit vom aktivierten Substrat fernzuhalten. Ein Weg, diese Probleme zu lösen, zeigt die US-PS 3 836 385 auf, bei de.' die Aktivierung
h5 des Substrates letztlich in der Erzeugung eines in den beim Aluminierprozeß verwendeten Lösungsmitteln unlöslichen polymeren !siitalysatorsystcms besteht. Jedoch besteht auch hier die Aktivierung in einem
mehrstufigen aufwendigen !Prozeß des Tauchens, dem anschließenden Trocknen und der Polymerisation des Gemisches von Monomeren und bekannten Zersetzungskatalysatoren.
Gemäß der vorliegenden Erfindung werden die geschilderten Probleme dadu(ch auf einfache Weise umgangen, indem die Aktivierung von Substraten aus flüssiger Phase, analog desensibilisierung und Aktivierung in wäßriger Lösung) vorgenommen wird, ohne das Lösungsmittel vor dem Kontakt mit dem Aluminierbad zu verdampfen. Dies ermöglichen besonders beschriebene, crfindungsgdmiißc Katalysatoren bzw. Katalysatorsystemc. Sie ziehen dabei haftfest auf die SubstratuntcrltigL- auf und werden dabei durch den mitanhaftenden hydrophoben Flüssigkeitsfilm beim Herausziehen des aktivierten Substrates aus der Katalysatorlösung gegen Feuchtigkeitsspuren des Inertgases geschützt.
Die gleichmäßige Substrataktivierung mit dem Ziel einer nachfolgenden ebenfalls homogenen und damit die Schichteigenschaften bestimmenden Aluminiumabscheidung schließt, wie bei wäßrigen Metallisierverfahren längst bekannt, einen intensiven Spülvorgang des katalysatorbeschichteten Substrates ein.
Durchdiesen Verfahrensschritt, der nur bei den erfindungsgemäßen Katalysatoren bzw. Katalysatorsystemen durchgeführt werden kann, verbleibt nur eine hauchdünne Kataiysatorschicht von einigen Moleküllaprn nirWp o.jf Jcni SuDstrat wahrscheinlich chcrnä· sorbiert, während lose auf dem Substrat vorhandener Katalysator, auch als Lösungsmittelfilm, entfernt wird. Neben einer gleichmäßigen Aluminiumabscheidung erreicht man, daß das Aluminierbad beim Eintauchen des aktivierten Substrats nicht zersetzt wird. Durch diesen intensiven Waschvorgang wird es ;mch möglich, insbesondere Substrate mit Vertiefungen nachfolgend homogen und Jiaftfest durch Tauchen zu aluminieren. Andererseits wird durch den intensiven Waschvorgang in organischen Solventien die Aktivität der Katalysatoren hinsichtlich der Zersetzung von Aluminiumwasserstoffverbindungen nicht
Zur Durchführung des erfinduiv ^gemäUen Verfahrens werden die aktivierten Substrate in hochsiedenden Lösungsmitteln, vorzugsweise solchen mit einem Siedepunkt über 100° intensiv gespült. Nach dem Spülen bleibt ein hydrophober Flüssigkeitsfilm auf der aktivierten Substratoberfläche zurück, der den Katalysator zusätzlich gegen Feuchtigkeit schützt. Im Gegensatz hierzu können mit den bislang bekannten Katalysatoren beschichtete Substrate nicht in einem Spülbad behandelt werden, da sich die grenzflächeninaktiven Zersetzungskatalysatoren praktisch vollständig vom Substrat ablösen und somit die Unterlage nicht mehr aluminiert werden kann.
Anschließend wird erfindungsgemäß das aktivierte und intensiv gespülte Substrat in das Aluminierbad mit einer Temperatur von 40 bis 100° C, vorzugsweise 60 bis 80° C getaucht. Dabei scheidet sich während 1 bis 2 Minuten eine dichte Aluminiumschicht homogen und haftfest auf dem Substrat ab.
Das Aluminierbad enthält erfindungsgemäß Trialkylaminalan in einem Lösungsmittelgemisch von Aromaten und hochviskosen Aliphaten. Das Bad ist leicht handhabbar und nicht selbstentzündlich. Es wird eine 0,2- bis 10%ige, vorzugsweise eine 1- bis 4%ige Alanbadlösung verwendet mit einem Volumenverhältnis von Aromat zu Aliphat im Bereich von 4:1 bis 3:7.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können nach spezieller materialgerechtcr Vorbehandlung isolierende und leitfähige Materialien und Hauteile ho-"> mögen und haftfest aluminiert werden, so z. B. Elcktronikbauteilc und Reflektoren.
Die firfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
in Beispiel 1
Verschiedene Unterlagen werden bei Raumtemperatur I Minute in ein Kutalysatorbad, das pro Liter Diethylether. 0.045 Mol TiCI4 und 0.0022 Mol wasserhaltiges Aluminiumtristearat enthält, eingetaucht.
ι'' Das verwendete Aluminiiimstearat enthält (1.5'f-Wasser. Das aktivierte Substrat wird aus der tiefrotbraungefärbten Katalysatorlösung herausgezogen und bei Raumtemperatur V, Minute lang intensiv in Diäthyläthcr gespült. Die so behandelte Unterlage wird
-'o ' N'inute in ein Tauchbed von 80 C gesenkt, das 2 g Trimcthylaminalan, gelöst in 88 ml eines Lösungsmiitclgemisches von Toluol und Paraffinöl, DAB 7 im Volumverhältnis 30:70 enthält. Nach F.ntnahme aus dem Aluminierbad ist das SuhMrat gleichmäßig mit
2'> einem festhaftenden Überzug beschichtet.
In der folgenden Tabelle sind einige verwendete Unterlagen und das Aussehen des erhaltenen Überzuges zusammengoßt:
in Unterlage
Aussehen des Aluminiumüberzuges
Glas
Kupfer (poliert)
Nickel
Stahlblech (sandgestrahlt)
Al,O,-Keramik
BeO-Sinterkeramik PTFE (hydrophiliert)
spiegelnd spiegelnd spiegelnd silberhell, matt spiegelnd silberhell, matt silberhell, matt
Beispiel 2
In olricher Weise wie in Beispiel 1 wird ein Glassubstrat in eine 0.0045 m Katalysatorlösung von TiCI4 in Diäthylather. der 0,0022 Mol Aluminiumhydroxy-
4i distearat zugesetzt worden sind, eingetaucht. Nach intensiver Spülung des aktivierten Substrats in Äther bei Raumtemperatur scheidet sich im oben beschriebenen, HO C warmen Tauchaluminierbad spiegelndes, festhaftendes Aluminium gleichmäßig auf der
w Substratoberfläche ab.
Beispiel 3
Ein gleich gutes Ergebnis wird auch erhalten beim Eintauchen eines Kupferbleches in eine 0,045 m Ka talysatorlösung von TiCl4 in Butyläther, in der zusätz lich 0.001 MoI Aluminiumoleat gelöst worden sind. Zum Vergleich zu den vorgenannten Beispielen wird ein Glassubstrat in einer 0,045 m Lösung von TiCI4 in Diäthylather ohne Zusatz einer der vorge nannten Aluminiumseifen katalysiert. Nach intensi vem Spülen der aktivierten Unterlage scheidet sich im Trimethylaminalanbad kaum noch Aluminium auf der Substratoberfläche ab. Nur an einigen Stellen kann man hauchdünnes, nicht kohärentes Aluminium feststellen.
Diesen fleckenhaften Aluminiumbelag erhält man auch bei Verwendung frisch zubereiteter hellgelb aussehender Katalysatorlösungen, die vorgenannte AIu-
miniumseifen enthalten, Erst nach einer Standzeit von etwa 24 Stunden ist das Katalysatorsystem so wirksam, ilaLl einheitliehe Aluminiumbeläge erhalten werden. Hierbei verändert sieh die Farbe der Losung von Hellgelb bis Tiefrotbraun.
Standzeit Farbe Qualität des Alurr inium-
d. KaIaIy- belags
si:;->rlösimgen
0 h hellgelb
1 Ii hellgelb
4 Ii gelbrötlich
K h ge Ibrot
24 h tiefrotbraun
~ 0,5 "ο der aktiv erteil
I Liehe mit Al
— 1 "o uneinheitlich
— 20% größer zLsain-
~ 30% menhängende
Flecken
-100% einheitlich
Führt man die geschilderten Aluniinicrvcrsuehe ohne Spülen lies katalysierten Substrats durch, löst sich der auch lose auf der Oberfläche der Unterlage anhaftende Katalysator rasch im Aluminierbad ah. Statt eines Aluminiumüberzuges auf dem Substrat iritt eine rasche Zersetzung des Alanbades unter Abscheidung von grauem, pulverigem Aluminium ein. Das gleiche Phänomen tritt auch in anderen beschriebenen Hadern auf. Daher werden, wie in den nuchlolgenden Heispielen die aktivierten Substrate immer intensiv gespült.
B e i s ρ i e I 4
Fine hydrophilierte Siliciumscheibe wird in eine 0.045 in Katalysatorlösung von TiCM4 in einem Losungsinittelgemisch von M) Vol.% Diäthyläther und 40 Vol.% Hexan, dem 0,002 Mol Aluminiumtristearat zugegeben werden, eingetaucht. Nach intensiver Spülung der aktivierten Scheibe in einem Losungsinittelgeiniseh von 50 Vol.% Äther und 50 Vol.% Hexan überzieht sieh das so behandelte Silicium im obengenannten Aluminierbad einheitlich mit spiegelndem Aluminium. Es ist anwendungstechnisch von besonderem Interesse, daß das chemisch abgeschiedene Aluminium wesentlich besser auf dem Si-
Suhstrattemperatur aufgedampft wurde.
Beispiel 5
Analog der in Beispiel 4 geschilderten Verfahrensweisewird eine Aluminiumplatte mit Eisentripalmitat als Katalysatorkomponente durchgeführt.
Der glänzende Aluminiumüberzug haftet gut auf der Unterlage.
Beispiel 6
Ein anodisch oxidiertes Aluminiumblech wird in eine 0,045 m Lösung von TiCI4 in Diäthyläther, die zusätzlich 0,001 Mol Stearinsäure enthält, getaucht. Das aktivierte Substrat wird intensiv in Äther gespült. Nach dem Tauchen in ein Aluminierbad der oben beschriebenen Zusammensetzung ist es einheitlich mit Aluminium überzogen.
Beispiel 7
Analog der in Beispiel 6 geschilderten Verfahrensweise wird eine Aluminiumplattierung mit Palmitinsäure als Katalysatorzusatz durchgeführt.
Beispiel 8
Analog der in Beispiel 6 geschilderten Verfahrensweise wird eine Aluminiumplattierung mit Ölsäure als Katalysatorzusatz durchgeführt.'
Beispiel 9
Ein Glassubstrat wird nach vorheriger Entfettung in Chromschwefelsäure, Spülen in Wasser und Trocknen in eine Katalysatorlösung eingetaucht, welche 0,0045 Mol TiCl4 und 0,001 Mol des Mono-Aluminiumsalzes der Tetradecandicarbonsäure in 1 I ei-
I" nes Lösungsmittelgemisehcs von 60 Vol.% Äther und 40 Vol.% Hexan enthält. Nach intensivem Spülen des aktivierten Substrates in Äther wird das Substrat I Minute in das oben beschriebene Aluminierbad bei KO" C eingetaucht. Nach Entnahme aus dem Alumi-
Ii nierbad ist das Substrat einheitlich mit einem festhafteiiden Aluminiumüberzug beschichtet.
Beispiel 10
Ein Streifen aus I1TFE, der zuvor behandelt wurde, in wird nach intensivem Spulen in THF und wasser uiiii »UM hlicUendcm Trocknen in ein Katalysatorbad μ«
taucht, das 0,0005 Mol TiCI4 und 0,0005 Mol 12-Älhoxy-aluminiumtristearat gelöst in 1 I Hexan enthält. Das aktivierte Material wird in Hexan intensiv r> gespült und anschließend in das oben beschriebene Aluminierbad getaucht. Das Aluminium scheidet gleichmäßig auf der S; bstratob'erfläche ab.
Beispiel 11
in Ein oxidfreier Kupferstreifen wird 30 Sekunden in eine 2,10 '' m Katalysatorlösung von Äthyltitanut in Hexan von 20 bis 25" C getaucht und hernach etwa die gleiche Zeit im gleichen Lösungsmittel gespült. Beim Kontakt mit dem in Beispiel 1 beschriebenen Tauchaluminierbad überzieht sich das Substrat einheitlich mit einem äußerst festhaftcncn Aluminiumüberzug.
Die gleichen Ergebnisse erzielt man auch, wenn anstelle des Älhyltitanats die entsprechenden Verbindungen des Zirkons oder Vanadins eingesetzt werden.
Beispiel 12
In der gleichen Weise wie in 'Beispiel 11 wird eine
*'< Siliciumdioxidscheibe aktiviert'und aluminiert, nur mit dem Unterschied, daß das Lösungsmittel des Katalysators und des Spülbades n-Octan ist. Es bleibt hierbei nach den einzelnen Behandlungsschritten das schwerflüchtige Lösungsmittel als flüssiger Film auf
">» dem Substrat zurück und schützt die darunterliegende Katalysalorschieht vor Feuchtigkeit.
Der gleiche Schutzeffekt wird auch erzielt, wenn dem Katalysatorbad und dem Spülbad, die ein niedriger siedendes Lösungsmittel enthalten, 1-2 Tropfen
">-> dickflüssiges Paraffinöl DAB 7 zugesetzt werden.
Zum Vergleich zu den Beispielen 11 und 12 werden als Katalysatorsubstanzen Stearyltitanat oder Octyltitanat verwendet. Obwohl diese. Verbindungen Alanverbindungen katalytisch zersetzen, eignen sie sich
w) wegen ihrer Grenzflächeninaktivität nicht als Katalysatoren. Spült man ein Substrat nach dem Eintauchen in das Katalysatorbad in einem 'organischen Lösungsmittel, so löst sich der Katalysator vollständig im Spülbad. Unterläßt man das Spülen und taucht das mit
hi Katalysator beschichtete Substrat direkt ins Tauchaluminierbad, so löst sich ebenfalls der Katalysator vom Substrat und initiiert augenblicklich die vollständige Selbstzersetzung der Aluminiersubstanz.
Beispiel 13
In gleicher Weise wie in Beispiel I 1 wird ein profiliertes Glastci! mit Vertiefungen in einer IO ' ni Katalysatorlösung vor· Stcaryläthyltitanat in Octan aktiviert. Nach intensivem Spülen des Substrates in Octan scheidet sich im A Uiminicrbad haftfest Aluminium auf der Substratobei(lache ab.
Die Einführung des hydrophoben Stcarylrestcs anstelle einer Äthylgruppc macht den Katalysator unempfindlicher gegen Feuchtigkeit.
Wird das aktivierte Probestück mit seinen Vertiefungen dagegen ohne intensives Spülen direkt ins Tauchalurniiiicrbad gebracht, so läuft die in den Vertiefungen im Überschuß vorhandene Katalysatorlösung ins Aluminierbad und initiiert die Selbsi/crsctzungdcsTrimcthylaminalans. Hierdurch wird das Bad rasch unbrauchbar.
Verwendet man zum Vergleich /u den Beispielen 11 bis 1.1 koordinativ wirkende Lösungsmittel für
den Katalysator bzw. das Spülbad, so geht die Cirenzfliichcnaktivitiit des Katalysators verloren und mau erzielt keine Aktivierung bzw. Aluminicrungdes Substrates.
Beispiel 14
In gleicher Weise wie in Beispiel 11 wird eine Berylliunioxidscheibe in eine K) 4 m Katalysatorlösung von Äthyltitanatstearat in Hexan getaucht und nach-
I» folgend in dem gleichen Lösungsmittel gespült. Im Aluniinierbiid scheidet sich dann gleichmäßig Aluminium auf der Substratoherflächc ab. Die silberhelle und malte Aluminiunischicht läßt sich ohne weitere Vorbehandlung galvanisch mit Aluminium vcrsliir-
r> ken.
Die gleichen Resultate erhall man auch, wenn man als Katalysatorsubstauz statt der in ilen Beispielen \~S und 14 beschriebenen Titanverbindungen die entsprechenden Verbindungen des ZJrkons und Vana-
-'" (.lins einsetzt.

Claims (10)

Patentansprüche;
1. Verfahren zum stromlosen katalytischer) Abscheiden von Aluminium aus aprotischen Alankomplexbädern auf mit grenzflächenaktiven Mitteln vorbehandeiten Oberflächen von isolierenden und leitfähigen Materialien, insbesondere Bauteilen der Elektrotechnik, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der zu aluminierende! t Substrate (1) zunächst in flüssiger Phase mittels einer verdünnten Lösungeines am Substrat in Lösung adsorbierbaren grenzflächenaktiven Katalysators (Katalysatorbad) aktiviert, (2) das aktivierte Substrat in aprotischen Solventien intensiv gewaschen und (3) nachfolgend in eine 1-bis 4fcige Lösung von Trialkylaminalan in einem Lösungsmittelgemisch aus Aromaten und hochviskosen Aliphaten (Aluniinierbad) getaucht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als grenzflächenaktiver Katalysator eine verdünnte Lösung von modifizierten Estern oder Acylaten von Titan, Zirkon und Vanadin, die an einem Metallatom durch kurz- und langkettige organische Reste substituiert sind, eingesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als grenzflächenaktiver Katalysator eine Lösung von Chloriden der Übergangsmelalle der IV. und V. Nebengruppe des Periodensystems der Elemente und wasserhaltigen Metallseife!! mehrwertiger Metalle eingesetzt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Katalysator in hoher Verdünnung eingesetzt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Katalysator in einem unpolaren Lösungsmittel gelöst eingesetzt wird.
(i. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel aliphatische Kohlenwasserstoffe mit S bis 15 Kohlenstoffatomen eingesetzt werden.
7. Verfahren zum katulytischen Abscheiden von Aluminium nach einem der Ansprüche 1 bis h, dadurch gekennzeichnet, daß das aktivierte Substrat in einem aprotischen Lösungsmittel mit einem Siedepunkt >!()()" C." gespült wird.
S. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das aktivierte Substrat in einem hochsiedenden Aliphaten gespült wird.
(>. Katalysierbad zur Durchführung des Verfahiciis nach Anspruch I und 2, gekennzeichnet durch eine 2 bis IO ".feige aliphatisch«: Lösung eines gemischten lislers, Acylats oiler teilweise aeylicilen listers von Titan, Zirkon oiler Vanadin.
10. Katalysierbad zur Durchführung des Verlahn-üs nach Anspruch 1 und 3, gekennzeichnet durch eine nlhcrischc Liming des ZcrsL-lzuiigskiit.iKsalois und der Seife im Verhältnis 2 10' bis
2 10·' und einen Wassergehalt Non IO '' Ins
3 (icw.'.r.
I 1 Alumiiiicrbail zur Durchführung des Verl.ihien nach einem der Ansprüche I Ins N. gekennzeichnet durch eine l-4'i.ine Trialkylaminalanlösung von Paraifinöl und Toluol
Volumverhältnis von 4:1 bis 3:7.
im
DE2635798A 1976-08-09 1976-08-09 Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad Expired DE2635798C3 (de)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2635798A DE2635798C3 (de) 1976-08-09 1976-08-09 Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad
CH782977A CH634602A5 (de) 1976-08-09 1977-06-27 Verfahren zum stromlosen katalytischen abscheiden von aluminium.
SE7708516A SE444325B (sv) 1976-08-09 1977-07-25 Forfarande for stromlos katalytisk utfellning av aluminium ur aprotiska alankomplexbad
AT543377A AT361268B (de) 1976-08-09 1977-07-26 Verfahren zum stromlosen katalytischen abscheiden von aluminium
US05/820,700 US4144360A (en) 1976-08-09 1977-08-01 Method for the currentless catalytic precipitation of aluminum
GB32642/77A GB1558692A (en) 1976-08-09 1977-08-03 Method of forming aluminium coatings
NL7708608A NL7708608A (nl) 1976-08-09 1977-08-03 Werkwijze voor het stroomloos katalytisch neerslaan van aluminium.
JP52094070A JPS6011105B2 (ja) 1976-08-09 1977-08-05 アルミニウムの無電流触媒析出方法
IT26503/77A IT1085404B (it) 1976-08-09 1977-08-05 Procedimento per la deposizione catalitica di alluminio,senza passaggio di corrente elettrica
BE179986A BE857577A (fr) 1976-08-09 1977-08-08 Procede de depot catalytique de l'aluminium sans courant
CA284,271A CA1111721A (en) 1976-08-09 1977-08-08 Method for the currentless catalytic precipitation of aluminum
FR7724372A FR2361473A1 (fr) 1976-08-09 1977-08-08 Procede de depot catalytique de l'aluminium sans courant

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2635798A DE2635798C3 (de) 1976-08-09 1976-08-09 Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2635798A1 DE2635798A1 (de) 1978-02-16
DE2635798B2 DE2635798B2 (de) 1980-02-28
DE2635798C3 true DE2635798C3 (de) 1980-10-16

Family

ID=5985064

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2635798A Expired DE2635798C3 (de) 1976-08-09 1976-08-09 Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4144360A (de)
JP (1) JPS6011105B2 (de)
AT (1) AT361268B (de)
BE (1) BE857577A (de)
CA (1) CA1111721A (de)
CH (1) CH634602A5 (de)
DE (1) DE2635798C3 (de)
FR (1) FR2361473A1 (de)
GB (1) GB1558692A (de)
IT (1) IT1085404B (de)
NL (1) NL7708608A (de)
SE (1) SE444325B (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3104107C2 (de) * 1981-02-06 1984-08-02 SEMIKRON Gesellschaft für Gleichrichterbau u. Elektronik mbH, 8500 Nürnberg Verfahren zum Herstellen von lötfähigen Überzügen
JPS62127746A (ja) * 1985-11-28 1987-06-10 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体用電極
GB9021042D0 (en) * 1990-09-27 1990-11-07 Copeland Jones Anthony Coating of substrates
GB2337765A (en) * 1998-05-27 1999-12-01 Solicitor For The Affairs Of H Aluminium diffusion of copper coatings
JP6111385B2 (ja) * 2012-12-21 2017-04-12 マフレン株式会社 ガラスメッキ方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3462288A (en) * 1966-06-20 1969-08-19 Dow Chemical Co Aluminum plating process
US3639139A (en) * 1968-10-07 1972-02-01 Dow Chemical Co Aluminum plating process
US3563787A (en) * 1968-10-07 1971-02-16 Dow Chemical Co Aluminum plating process
US3537878A (en) * 1969-04-14 1970-11-03 Allied Res Prod Inc Electroless plating process
US3705051A (en) * 1970-12-10 1972-12-05 Ethyl Corp Metal plating process
US3963841A (en) * 1975-01-06 1976-06-15 International Business Machines Corporation Catalytic surface preparation for electroless plating

Also Published As

Publication number Publication date
DE2635798B2 (de) 1980-02-28
CA1111721A (en) 1981-11-03
SE444325B (sv) 1986-04-07
AT361268B (de) 1981-02-25
ATA543377A (de) 1980-07-15
FR2361473A1 (fr) 1978-03-10
US4144360A (en) 1979-03-13
FR2361473B1 (de) 1983-04-08
JPS5321045A (en) 1978-02-27
CH634602A5 (de) 1983-02-15
JPS6011105B2 (ja) 1985-03-23
IT1085404B (it) 1985-05-28
NL7708608A (nl) 1978-02-13
GB1558692A (en) 1980-01-09
DE2635798A1 (de) 1978-02-16
SE7708516L (sv) 1978-02-10
BE857577A (fr) 1977-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2947821C2 (de)
DE2160821C3 (de) Verfahren zur Abscheidung von Kupferschichten auf Formkörpern aus Polyimiden
DE2712992A1 (de) Verfahren zum aufbringen von metall auf einer dielektrischen oberflaeche
DE2826630A1 (de) Verfahren zur verbesserung der korrosionseigenschaften von mit chrom plattierten gegenstaenden aus aluminium und aluminiumlegierungen
DE102005038208B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Silberschichten und seine Verwendung
DE1621227B2 (de) Verfahren zur abscheidung einer metallischen aluminiumschicht
DE2017327A1 (de) Verfahren zur Beschichtung von Metall
DE2635798C3 (de) Verfahren zum stromlosen katalytischen Abscheiden von Aluminium, Katalysierbad und Aluminierbad
US1827204A (en) Method of protecting metal surfaces
DE2555257A1 (de) Katalysatorloesung
DE2409251B2 (de) Verfahren zum katalytischen bekeimen nichtmetallischer oberflaechen fuer eine nachfolgende, stromlose metallisierung und badloesungen zur durchfuehrung des verfahrens
US4483887A (en) Metal plating iron-containing substrates
EP0109529B1 (de) Schwarz-metallisierte Substratoberflächen
DE2254857B2 (de) Verfahren zur Herstellung von abnutzungsfesten Nickeldispersionsüberzügen
DE4240903C2 (de) Verfahren zum elektrolytischen Färben eines mit Zink beschichteten Stahlgegenstandes
DE2016397A1 (de) Verfahren und Lösung für die Beschleunigung der Aktivierung von Kunststoffoberflächen beim stromlosen Metallbeschichten derselben
US3342710A (en) Method of rust proofing treatment of metals
US3410703A (en) Silver and copper tarnish preventatives
DE2750805A1 (de) Verfahren zur herstellung metallhaltiger schichten auf oberflaechen von halbleiterbauelementen
DE2548832C3 (de) Verfahren zum katalytischen Bekeimen von Oberflächen, insbesondere Isolierstoffoberflächen und Lösung zur Durchführung des Verfahrens
DE19540122C2 (de) Verfahren zur stromlosen Metallisierung und seine Anwendung
DE1812040C3 (de) Verfahren zur chemischen Vernickelung der Oberflächen von Aluminium und Aluminiumlegierungen
AT404364B (de) Verfahren zur herstellung eines überzuges auf porösen sintermetallteilen
DE3833441A1 (de) Verfahren zum metallisieren von aluminiumoxid-substraten
DE1521546C (de) Bad zur chemischen Abscheidung von borhaltigen Metallüberzügen

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
EI Miscellaneous see part 3
XX Miscellaneous:

Free format text: IN SP.3,ZEILE 53, IST DAS WORT TRIALKYLAMINALEN IN TRIALKYLAMINALAN ZU AENDERN

8339 Ceased/non-payment of the annual fee