DE2605873C2 - Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen - Google Patents
Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von SchreibröhrchenInfo
- Publication number
- DE2605873C2 DE2605873C2 DE2605873A DE2605873A DE2605873C2 DE 2605873 C2 DE2605873 C2 DE 2605873C2 DE 2605873 A DE2605873 A DE 2605873A DE 2605873 A DE2605873 A DE 2605873A DE 2605873 C2 DE2605873 C2 DE 2605873C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- workpieces
- writing
- titanium
- gas mixture
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 3
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- -1 chlorine hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010165 TiCu Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000007124 Brassica oleracea Species 0.000 description 1
- 235000003899 Brassica oleracea var acephala Nutrition 0.000 description 1
- 235000011301 Brassica oleracea var capitata Nutrition 0.000 description 1
- 235000001169 Brassica oleracea var oleracea Nutrition 0.000 description 1
- 101100129500 Caenorhabditis elegans max-2 gene Proteins 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004028 SiCU Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical class B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical group Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45593—Recirculation of reactive gases
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
- B43K—IMPLEMENTS FOR WRITING OR DRAWING
- B43K1/00—Nibs; Writing-points
- B43K1/06—Tubular writing-points
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
- B43K—IMPLEMENTS FOR WRITING OR DRAWING
- B43K1/00—Nibs; Writing-points
- B43K1/10—Wire nibs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/32—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/32—Carbides
- C23C16/325—Silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
- C23C16/345—Silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/36—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/38—Borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/42—Silicides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/20—Carburising
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/20—Carburising
- C23C8/22—Carburising of ferrous surfaces
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur
Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen aus Edelstahl'oder Nickelmetall Legierungen.
. Derartige Schreibröhrchen, wie sie beispielsweise in der DE-OS 25 50 139 und dsr DE-AS 21 35 780 und der DE-PS 12 74 929 beschrieben sind, haben sich zum Zeichnen und der Beschriftung von Zeichnungen in steigendem Maße durchgesetzt. Sie haben den Vorteil eines kontinuierlichen Tuscheflusses und einer gleichmäßigen Linienbreite. Derartige Schreibröhrchen werden sogar in Verbindung mit Maschinen zum automatischen Zeichnen odei Beschriften durch Plotter benutzt. Ein schwerwiegendes Proolem, welches sich bei der Herstellung derartiger Schreibröhrchen stellt, besteht in dem Abrieb durch Reibüngsberührung mit der Zeichenfläche. Diese Abnutzung ist besonders dann gegeben. wenn Transparente hoher Rauhigkeit oder die neuerdings zum Zeichnen üblichen Folien benutzt werden, die als Füllstoffe Siliciumdioxid oder dgl. enthalten, und demgemäß eine hohe Schleifv/irkung auf die Schreibspitze ausüben: Die Schleifwirkung ist naturgemäß umso größer und die Schreibspitzen werden umso schneller unbrauchbar, umso weicher der zur Herstellung der Schreibspitze benutzte Werkstoff ist. Die im großen Umfange verwendeten verchromten Schreibspitzen, die den Vorteil haben, daß sie relativ billig herstellbar sind. werden einer solchen Abnutzung in besonders starkem Maße unterworfen, so daß die Chromschicht sehr bald abgenutzt wird und der Verschleiß dann schnell bis /ur Unbrauchbarkeit des Sehreibröhrchens fortschreitet.
. Derartige Schreibröhrchen, wie sie beispielsweise in der DE-OS 25 50 139 und dsr DE-AS 21 35 780 und der DE-PS 12 74 929 beschrieben sind, haben sich zum Zeichnen und der Beschriftung von Zeichnungen in steigendem Maße durchgesetzt. Sie haben den Vorteil eines kontinuierlichen Tuscheflusses und einer gleichmäßigen Linienbreite. Derartige Schreibröhrchen werden sogar in Verbindung mit Maschinen zum automatischen Zeichnen odei Beschriften durch Plotter benutzt. Ein schwerwiegendes Proolem, welches sich bei der Herstellung derartiger Schreibröhrchen stellt, besteht in dem Abrieb durch Reibüngsberührung mit der Zeichenfläche. Diese Abnutzung ist besonders dann gegeben. wenn Transparente hoher Rauhigkeit oder die neuerdings zum Zeichnen üblichen Folien benutzt werden, die als Füllstoffe Siliciumdioxid oder dgl. enthalten, und demgemäß eine hohe Schleifv/irkung auf die Schreibspitze ausüben: Die Schleifwirkung ist naturgemäß umso größer und die Schreibspitzen werden umso schneller unbrauchbar, umso weicher der zur Herstellung der Schreibspitze benutzte Werkstoff ist. Die im großen Umfange verwendeten verchromten Schreibspitzen, die den Vorteil haben, daß sie relativ billig herstellbar sind. werden einer solchen Abnutzung in besonders starkem Maße unterworfen, so daß die Chromschicht sehr bald abgenutzt wird und der Verschleiß dann schnell bis /ur Unbrauchbarkeit des Sehreibröhrchens fortschreitet.
Eine lungere Standzeit besitzen zwar die aus Hartmetall gesinterten Schreibspitzen, jedoch haben
'> diese den Nachteil eines hohen Herstellungsaufwandes
und hoher Kosten.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, die Herstellung hochabriebfester Schreibröhrchen mit
einer etwa den Ik imetallröhrchen entsprechenden
to Güte auf wirtschaftlichere und billigere Art und Weise
in Massenfertigung zu gewährleisten, und hierzu ein
Verfahren zu schaffen, durch welches die Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen aus preisgünstig zur. Verfügung
stehenden Werkstoffen, wie Edelstahl oder
ι* Nickclmetall-Legicrungen erhöht wird.
Gelöst wird die gestellte Aufgabe durch die im Kennzeichnungsteil des Anspruchs I angegebenen
Verfahrensschritte.
Durch dieses Verfahren wird erreicht, daß unter
Durch dieses Verfahren wird erreicht, daß unter
jo Verwendung billiger Ausgangswerkstücke das Schreibröhrchen
bis zu der gt. wünschten Eindringtiefe eine Abriebfestigkeit erhält, wie sie nur bei den teuersten
bisher bekannten Schreibröhrchen aus Hartmetall zu verzeichnen war. Das erfindungsgemäße Verfahren
-i ermöglicht eine kontinuierliche Massenfertigung und
läßt sich daher billig durchführen.
Gemäß der Literaturs»cl!e »Arch. Eisenhüttenwesen 46 (1975) Nr. 6. Seite 397 bis 400« sind bereits
Aufkohlungsversuche an hitzebeständigen Chrom-Nik-
"V kclstählen und Legierungen bei Temperaturen von 900
bis 1150" C durchgeführt worden. Dabei wurde insbesondere
untersucht, warum sich die Auf kohl jrtg von
Edelstahlen negativ auswirkt. Die besten Ergebnisse im
Sinne dieser Untersuchungen würden dort erreicht, wo
die Aufkohlung am geringsten, d.h. am wenigstens
schädlich ist. Die Erfindung weist demgegenüber einen neuen ; Weg zur Schaffung eines Werkstücks mit
technisch wertvollen Eigenschaften. Bei den in der genannten Literaturstelle durchgeführten Versuchen
wurde mit Kohlt^rahulaten mit CQ/COj gearbeitet.
Diese Stoffe werden bei dem erfintiungsgemäßen
Verfahren jedoch nicht benutzt. Das chemische Potential von Kohlenstoff im System C/CO/COi. wie es
bei den Versuchen benutzt wurde, ist völlig anders als
■*? beim Kohlenstoffträger gemäß der Erfindung. Folglich
ergeben sich auch andere Schliffbilder und Eindringtiefen. .;';
Weitere zweckmäßige Ausgestaltungen des"crfindungsgemäßert
Verfahrens ergeben sich aus den
ii> Unteransprüchen 2 bis 5.
Die im Anspruch 5 gekennzeichnete Abscheidung
von Hartstoffschichten auf metallischen Oberflächen ist zwar durch die US-PS 36 37 320, 37 71 976. 37 72058.
37 83007, 38 74 900 bekannt, jedoch nicht in Verbin-
>"' dung mit einem erfindungsgemäßen durchgeführten
" Verfahren gemäß Hauptanspruch.
Nachstehend werden Axisführungsbeispiele des erfindungsgemäßen
Verfahrens beschrieben. Die Schreibröhrchen mit einem Durchmesser von 0.25 bis 3 mm
W) werden in einem strömenden Gemisch aus ca. 5 Vol.-%
Methan Und Wasserstoff bei einem Gesamtdruck von 0.5 bis 1.5 bar bei 1000°C 30 bis 60 Minuten lang
behandelt und dann innerhalb von ca. 20 Minuten in Argongas abgekühlt. Derartige Schreibröhrchen b'sit-
f>5 zen ein hohes Gleitvermögen auf Kunststoff-Folien und
zeigen selbst nach einer Schreiblänge von 2000 m noch
keinen störenden Verschleiß. Diese Griindvergütung
kann gesteigert werden bzw. erhöhten Verschleißanfor-
40
derungen durch Aufbringen einer harten und gleitfähi-
; gen Beschichtung angepaßt werden, wenn ein Gemisch
aus Kohlenwasserstoffen wie Methan oder Kohlenwasserstoffen wie Trichloräthylen oder Tetrachlorkohlen-
: stoff und Titantctrachlorid bei Temperaturen von
■I vorzugsweise 910 bis 1030° G auf die zu vergütenden
' Körper einwirken. Dabei ist wesentlich, daß eine mit
•y dem Grundmaterial fest verankerte Hartstoffschicht
; gebildet wird, die an das Grundmaterial angepaßt ist
. und minimalen Verschleiß zeigt. Diese angepaßten
' Schichten können beispielsweise mit einem Gemisch
aus ca. 50VoL-% Wasserstoff. 10 bis 30VoL-%
; Stickstoff wie folgt erzeugt werden:
; Beispie! 1
Zuerst wird mit Methan und/oder Tetrachlorkohlen-■■; stoff eireGnindvergütung vorgenommen, und dann mit
r-i
Titantetrachlorid und Tetrachlorkohlenstoff eine 0.5 bis
■'4.
10μπ>
starke Tiiancarbonitridschicht abgeschieden, auf
:: die eine gleichstarke Schicht aus Titancarbid und
:' Siliciumcarbid anwächst Dabei wird zeitlich der Anteil
i\
an Titancarbid laufend erniedrigt, bis schließlich nur
j noch reines Siliciumcarbid abgeschieden wird.
: : Eine ähnliche Anpassung ist mit Titansiliciden.
eignen sich als Aüsgangsverbindungen Siliciumtetraha^
■■·■"! logenide, Siliciumchlorpform. Meihylsiiane. Bcrtrihalo-
genide. Borwasserstoffe und Alkyiborhydride. y
ί Däi Abkühlen der vergüteter. Werkstücke erfolgt Ju
zweckmäßigerweise in einem Gemisch aus Wasserstoff
und Stickstoff und/oder Edelgasen. Wenn nur die
Grundvergütung angewandt wird, genügt es. im
: Vakuum erkalten zu lassen. Die reproduzierbare
■ .·· . Vergütung der Schreibröhrchen erfolgt zweckmäßiger- j?
U-
weise im Kreislauf, -wobei die zu vergütenden
■:■;. Schreibröhrchen nur insoweit dem Gasstrom zugesetzt
; werden, wie sie verbraucht werden. Wenn ein
■;,? strömendes GasgemiMrh stört, z. B. bei der Herstellung
extrem dicker Schichten, kann auch ein stationäres
Gasgemisch benutzt werden. Dazu können in dem
Reaktionsgefäß Titan. Silicium oder Bor in Form von
Blechen, Stäben oder Körpern eingelegt und auf gleiche
oder 5G bis 8O0G hijhere Temperatur erhitzt werden als
.'■·■· der zu beschichtende Körper aufweist. Schließlich wird
das Reaktionsgefäß mit einem Gemisch aus Wasserstoff
und Tetrachlorkohlenstoff oder Wasserstoff und einem
Halogenid von Titan. Silicium bzw. Bor gefüllt findbei
Temperaturen von 700" C an werden die Elemente Titan. Silicium bzw. Bor in die zu vergütenden Körper w
transportiert und bilden darauf verschleißfeste Schichten. Öieser Behandlung kann auch eir.e Grundvergütung
: vorausgehen.
Für die gleichmäßige Beschichtung im strömenden
Gasgemisch ist es vorteilhaft. Zylindrische Reaktionsge- i>
fäße aus Quarzglas oder temperaturbeständigem"Stahl
zu benutzen und die einzelnen Körper, z. B. Federn oder
Ringe auf axial symmetrischen Horden oder Paletten aufzustecken oder aufzuhängen. Diese Trägervorrich-
tüng wird dann[im Reaktionsgefäß abwechselnd 5 bis 10
Miouten in die eine und dann in die andere Richtung
gedreht, wobei die mittlere Geschwindigkeit bei 1 bis 5 cm/sec liegen sollte.
. . . Die Erhitzung der zu beschich'.enden Körper erfolgt
bei der Massen\ergütung zweckmäßiger* eise durch
Strahlungsbeheizung über die Winde des Reakiionsgefäßes.
Es ist jedoch auch möglich, eine Erhitzung mittels
Hochfrequenz vorzunehmen.
Nachstehend weiden noch zwei weitere Ausführungsbeispiele 2 und J im einzelnen beschrieben:
Als Reaktionsgefäß dient ein 700 mm langes Quarzrohr, das im mittleren Teil auf eine Strecke von ca.
150 mm im 0 auf 50 mm erweitert ist; die Enden des
Rohres besitzen feinen 0 von ca. 25 mm. Der mittlere Teil des Rohres dient als eigentlicher Reaktionsraum; er
befindet sich in einem elektrisch beheizten Rohrofen und nimmt die1 zu vergütenden Röhrchen auf; im
vorliegenden Fall wird er mit 5000 rohrförmigen Schreibfedern mit einem 0 von 0,6 mm beschickt Die
Legierung aus der die Röhrchen gefertigt sind, besitzt
die typische Zusammensetzung: C max 0,Ö8°/o, Mn max
2%.Si max 1 %iCr 18-20%, Ni 8-10.5%. Rest FL
Die Vergütung erfolgt in folgenden Stufen: Zuerst wird das Reaktionsgefäß evakuiert, mit Argon gespüh
und gleichzeitig die Temperatur im Reaktionsraum auf
1090 ± 1O0C innerhalb einer Stunde gesteigen. Dann
wird das Argon durch einen Gasstrom aus Wasserstoff mit 10 ± 1 VoL-% Methan verdrängt und damit die
Grundvergütung innerhalb einer Stunde erreicht. Während der Grundvergütung wird das Reaktionsgefäß
axial mit ca. 5 U/Min, gedreht Die Vergütung wird
beendet durch Spülen und Abkühlen innerhalb 20
Minunten auf Räumtemperatur. .
Bei dieser Behandlung bzw. Vergütung behalten Röhrchen ihre glatte und glänzende Oberfläche und die
Sollmaße. Die Kohlenstoffaüfnahme beträgt 4i>—5.1%.
Das Gefüge ist zweiphäsig und besteht Lw. aus
Chrorr.karbid und Fe/Nl-Matrix. Die Schreiblänge liegt
bei >9000m. d.h. bei 9000m ist noch keine merkbare
Abnützung festzjstellen. Im Vergleich dazu zeigen
Federn, die härtverchrom! sind, eine Schreiblange von
max. 70OiTi. Die Mikrohärte liegt im Bereich von
Das Verfahren reagiert empfindlich auf das Parameterpaar Temperatur und Zeit. Wird die Temperatur auf
iOÖÖ'C abgesenkt so ist eine feinfühlige Einstellung des
C-Gehaltes und Gefüges möglich, z. B. in der Weise, daß
im Kern des Werkstückes der Anteil der karbi<iischen
Phase kleiner ist als im äußeren Bereich- Diese
Erzeugung nach Art und Menge der harten Phasen im Werkstück und nicht auf dem Werkstück durch einfache
Einstellung der yerfahrensvariablen
— Temperatur
-■ Zeit ■ ' ·' . ■/■ ', ■■
— GH4-. GCI4-. allgemein. C-Lieferanten-KOnzentratiön . . · - ■■..."■ .'■■■' .".'■■■.'..
ist es möglich das »in situ hergestellte« Hartmetall den
AhförderUngen gemäß optimal herzustellen. Das gilt vor allem in bezug auf Härte. Gleitvermögen und
Korrosionsverha'ten. .
Beispiel ί
Es wird wie im Beispiel^ gearbeitet; eingesetzt
werden ca. 10 000 Werkstücke. Die Temperjiur der
Grundvergütung beträgt 9»0—990- C. die' Ver^Jtungs- ;
dauer liegt bei 35 Minuter;. Nachdem das Reaktiönsgas
durch Argon verdrängt ist wird die Temperatur auf 1090 + 10 C gesteigert u^d mit einem Gemisch aus
Wasserstof!. i Vol."'yi. CCL/ 0.5 Vol.-% CH, und
1 Vol.-'·'.'.) T.Cu sowie 30 VyL-'% H1■ 8 Minuten beschichtet,
wobei·kontinuierlich Jer'\':-Anteil reduziert wird.
Gleichzeitig -Aird nach 5-Slin. SiCU und SiCi; CHj
eingespeist. Nach 8 Mir.üien wird der TiCU-Anteil
kontinuierlich err.iedriijr -jrdder SiCIj '-.CHi-Ar.teil bis
auf ca. 1.2Vel.-% gesteigert und weitere 5 Minuten
ohne TiCU-Anteil beschichtet. Diese Maßnahmen
führen zu folgendem kontinuierlich verlaufenden Schichtaufbau:
Titankarbonitrid mit fallendem N-Anteil und steigendem
Si-Anteil der schließlich zur Abscheidung von extrem semikristallinem TiC + SiC führt, wobei der
SiC-Anteil bis auf 100% ansteigt.
Die in Beispiel 3 gezeigte Arbeitsweise ist in bezug auf a; aßte Schutzschichten äußerst variabel und hat
den nicht zu übersehenden Vorteil, daß nur Phasen
abgeschieden werden, die miteinander im thermodyna* mischen Gleichgewicht stehen. Das ist vor allem bei der
Beschichtung von Ni-Basislegierungen wesentlich, die
bei hohen Temperaturen eingesetzt werden. Hier
besteht das Problem der »Phasenauf/chrung«, el h. die
Schutzschichten wandeln sich in neue Phasen um, die keinen Schütz bieten oder werden vom Grundmaterial
durch Lösung oder Reaktion aufgebraucht. Ein typisches Beispiet ist das Stoffpaar C-Faser-Bor-Schicht.
Die vorgeschlagene Kombination Grundvergütung kontinuierlicher Schichtaufbau hat noch folgenden
wesentlichen Vorteil: Die im Grundmaterial erzeugten Karbide treten an der Oberfläche des Werkstückes aus.
und bilden hier Anwachsflächen für die aufzuwachsenden Karbide bzw. Karbonitride. Das führt zu extrem
festhaftenden aufgewachsenen Schutz- und Gleitschichten, da die Karbide aus dem Inneren des Werkstücks
nach außen weiterwachsen.
Claims (5)
- Patentansprüche:t. Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen aus Edelstahl oder Nickelmetall-Legierungen, dadurch gekennzeichnet, daß die Werkstücke einer Aufkohlung mittels gasförmiger Kohlenstoffverbindungen bei einer Temperatur zwischen 700"C und I IOO°C bei einem Druck zwischen 0,5 und 1,5 bar so lange unterworfen werden, bis die gewünschte Eindringticfe des Kohlenstoffes im wesentlichen erreicht ist, und daß anschließend die Werkstücke in einem Gemisch aus Wasserstoff und Stickstoff und/oder Edelgasen abgekühlt werden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Aufkohlung ein strömendes Gasgemisch im Kreislauf geführt wird.
- 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2. dadurch gekennzeichnet, daß die Werkstücke in einem zylindrischen Reaktionsgefäß auf axial symmetrischen Horden oder Pcllettcn angeordnet werden und mit diesen Haltevorrichtungen mit einer mittleren Geschwindigkeit von !bis 5 cin/sec im Abstand von 5 bis 20 mir. abwechselnd in entgegengesetzter Richtung bewegt werden.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekcnn: zeichnet, daß die Wasserstoffkonzentration in dem vergütenden Gasgemisch zu 80 bis 95 Vol.-"/o eingestellt wird.
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche I bis 4. dadurch gekennzeichnet, daß die karbonisierten Werkstücke zusätzlich in einem Reaktionsgefäß einem Gasgemisch aus Chlor-Kohlenwasserstoffen oder einem Halogenid von Titan.'Silicium öder Bor. und Titan. Silicium oder Bor zur Abscheidung von Hartnietalischichten ausgesetzt werden.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2605873A DE2605873C2 (de) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen |
| FR7720117A FR2396092A1 (fr) | 1976-02-13 | 1977-06-30 | Procede de traitement de produits en aciers speciaux et alliages au nickel |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2605873A DE2605873C2 (de) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen |
| FR7720117A FR2396092A1 (fr) | 1976-02-13 | 1977-06-30 | Procede de traitement de produits en aciers speciaux et alliages au nickel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2605873A1 DE2605873A1 (de) | 1977-08-18 |
| DE2605873C2 true DE2605873C2 (de) | 1982-02-25 |
Family
ID=25770046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2605873A Expired DE2605873C2 (de) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2605873C2 (de) |
| FR (1) | FR2396092A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3231976A1 (de) * | 1982-05-13 | 1983-11-17 | Standardgraph Zeichengeräte GmbH, 8192 Geretsried | Schreibspitze fuer tuscheschreiber und verfahren zur herstellung |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE8213929U1 (de) * | 1982-05-13 | 1983-11-03 | Standardgraph Zeichengeräte GmbH, 8192 Geretsried | Schreibspitze |
| EP0104319A3 (de) * | 1982-08-27 | 1986-07-16 | Standardgraph Zeichengeräte GmbH | Schreibspitze für Tuscheschreiber und Verfahren zur Herstellung |
| DE8513683U1 (de) * | 1985-05-09 | 1986-09-04 | Schmidt Feintechnik GmbH, 7742 St Georgen | Schreibgerät |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3637320A (en) * | 1968-12-31 | 1972-01-25 | Texas Instruments Inc | Coating for assembly of parts |
| US3772058A (en) * | 1969-10-01 | 1973-11-13 | Texas Instruments Inc | Formation of refractory coatings on steel without loss of temper of steel |
| US3771976A (en) * | 1971-01-08 | 1973-11-13 | Texas Instruments Inc | Metal carbonitride-coated article and method of producing same |
| US3783007A (en) * | 1971-10-01 | 1974-01-01 | Texas Instruments Inc | Metal carbonitrile coatings |
| US3874900A (en) * | 1973-08-13 | 1975-04-01 | Materials Technology Corp | Article coated with titanium carbide and titanium nitride |
-
1976
- 1976-02-13 DE DE2605873A patent/DE2605873C2/de not_active Expired
-
1977
- 1977-06-30 FR FR7720117A patent/FR2396092A1/fr active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3231976A1 (de) * | 1982-05-13 | 1983-11-17 | Standardgraph Zeichengeräte GmbH, 8192 Geretsried | Schreibspitze fuer tuscheschreiber und verfahren zur herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2396092A1 (fr) | 1979-01-26 |
| DE2605873A1 (de) | 1977-08-18 |
| FR2396092B3 (de) | 1980-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2435989C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines verschleißfesten, beschichteten Hartmetallkörpers für Zerspanungszwecke | |
| EP2253398B1 (de) | Verschleißbeständiger Werkstoff | |
| DE69005331T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Beschichtung auf einem metallischen Substrat sowie mittels des Verfahrens beschichteter Gegenstand. | |
| DE3419638A1 (de) | Verfahren zur erzeugung von oxidischen schutzschichten auf der oberflaeche von metallen bzw. metallegierungen | |
| AT505699B1 (de) | Verfahren zur herstellung eines sintergehärteten bauteils | |
| DE2433737C3 (de) | Hartmetallkörper, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
| DE202014101693U1 (de) | Ringförmiges Werkzeug | |
| EP1011884A1 (de) | Strangpresswerkzeug, verfahren zu dessen herstellung sowie seine verwendung | |
| DE2306504C3 (de) | Beschichteter Sinterhartmetallkörper | |
| DE4335606A1 (de) | Oxidations-resistente, partikelförmige Metall-Materialien und Medien und Verfahren zur Bildung derselben | |
| DE69203228T2 (de) | Metalldraht aus einem stahlsubstrat mit kaltgehärteter geglühter martensitischer struktur und beschichtung. | |
| DE2605873C2 (de) | Verfahren zur Erhöhung der Abriebfestigkeit von Schreibröhrchen | |
| DE1521193C3 (de) | Verfahren zur Verhinderung des Herausfallens feuerfester Körner aus der Oberfläche eines gesinterten Verbundmetallgegenstandes | |
| CH641840A5 (en) | Process for increasing the abrasion resistance of workpieces of stainless steel or nickel metal alloys | |
| EP1511870A1 (de) | Hartmetall-substratkörper und verfahren zu dessen herstellung | |
| DE69306302T2 (de) | Anwendung einer gegen Zinkschmelze beständige Legierung | |
| EP0203908A1 (de) | Nocken zum Aufschrumpfen auf einer Nockenwelle und Verfahren zur Herstellung eines solchen Nockens durch Sintern | |
| DE2605873C3 (de) | ||
| DE10322871A1 (de) | Sinterkörper und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE1942292B2 (de) | Verfahren zur abscheidung eines ueberzuges | |
| DE2303756C3 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer Mischkarbidschicht aus Vanadium und Chrom auf kohlenstoffhaltigen Eisenwerkstoffen | |
| EP2055801A1 (de) | Verfahren zum Härten von Oberflächen von Werkstücken aus Edelstahl und Salzschmelze zur Durchführung des Verfahrens | |
| EP0485686A1 (de) | Verfahren zum Nitrieren von Werkstücken aus Stahl unter Druck | |
| DE3107217C2 (de) | Hochtemperaturbeständige verschleißfeste Werkstücke und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| CH677498A5 (de) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8331 | Complete revocation |