DE2457253C2 - Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings - Google Patents
Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines PrüflingsInfo
- Publication number
- DE2457253C2 DE2457253C2 DE2457253A DE2457253A DE2457253C2 DE 2457253 C2 DE2457253 C2 DE 2457253C2 DE 2457253 A DE2457253 A DE 2457253A DE 2457253 A DE2457253 A DE 2457253A DE 2457253 C2 DE2457253 C2 DE 2457253C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photo
- cell
- frequency
- deflection
- measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 7
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 3
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 2
- 241000321453 Paranthias colonus Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01H—MEASUREMENT OF MECHANICAL VIBRATIONS OR ULTRASONIC, SONIC OR INFRASONIC WAVES
- G01H9/00—Measuring mechanical vibrations or ultrasonic, sonic or infrasonic waves by using radiation-sensitive means, e.g. optical means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/22—Details, e.g. general constructional or apparatus details
- G01N29/24—Probes
- G01N29/2418—Probes using optoacoustic interaction with the material, e.g. laser radiation, photoacoustics
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/25—Fabry-Perot in interferometer, e.g. etalon, cavity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/02—Indexing codes associated with the analysed material
- G01N2291/028—Material parameters
- G01N2291/02854—Length, thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
a) die Bestrahlung der Prüflingsoberfläche erfolgt vor der Strahlteilung,
b) der Referenzstrahl durchläuft eine Verzögerungsstrecke der Länge s mit einer Verzögerungszeit
gegenüber dem Meßstrafcl, die der
halben Periode—der Ultraschallwelle mit der
Ultraschallfrequenz /entspricht und
c) der Referenzstrahl wird danach im Lichtempfänger zur Erzeugung eines der Auslenkung
entsprechenden resultierenden Signals hinreichend deckungsgleich zum Meßstrahl abgebildet
und die Winkelbedingung
. λ/2
a< —
mit
α = Divergenzwinkel des empfangenen Streulichts,
d = Durchmesser der Fotozelle,
λ = Wellenlänge des Lichts
λ = Wellenlänge des Lichts
erfüllt ist
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verzögerungszeit gegenüber dem
Meßstrahl gleich der halben Periode—der Ultraschallwelle
mit der Ultraschallfrequenz /ist
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Konstanthaltung der Verzögerungsstrecke
die Länge s der Verzögerungsstrecke mit einem zweiten Interferometer gemessen und
durch ein Stell- oder Regelelement nachgestellt wird, derart, daß Schwankungen eines den Referenzstrahl
reflektierenden Spiegels kompensiert werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Eliminierung des Einflusses von
Längenänderungen der Verzögerungsstrecke diese mit einer Frequenz /i>/ periodisch verändert wird,
so daß die Ultraschallfrequenz /am Ausgang des den Referenz- sowie den Meßstrahl empfangenden
Lichtempfängers in einem von der Frequenz /1 modulierten, elektrischen Signal vorliegt
5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bti gleichmäßiger Beleuchtung des
Lichtempfängers, dadurch gekennzeichnet, daß bei divergentem Licht die Länge L zwischen der
Prüflingsoberfläche und dem Strahlteiler größer oder gleich dem Fünffachen der Länge der
Verzögerungsstrecke Sist
6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bei gleichmäßiger Beleuchtung des
Lichtempfängers, dadurch gekennzeichnet, daß zur
hinreichend deckungsgleichen Abbildung von Meß- und Referenzstrahl ein teleskopisches Linsensystem
mit einer Blende im gemeinsamen Brennpunkt zwischen der Prüflingsoberfläche und dem optischen
Strahlteiler als RichtungEfilter vorhanden ist, so daß
durch diesen der zulässige Winkelbereich aus dem diffus reflektierten Licht ausgewählt ist
7. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurcn gekennzeichnet,
daß ein Richtungsfilter zwischen dem optischen Strahlteiler (2) und einem Hilfsspiegel (10)
angeordnet ist
8. Verwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 4 zur Ultraschallprüfung von hocherhitztem
und/oder schnelldurchlaufendem Gut
Die Erfindung betrifft ein optisches interferometrisches Verfahren zur berührungslosen Messung der
durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings, bei dem die Prüflingsoberfläche
durch einen Laserstrahl bestrahlt und der Laserstrahl an einem optischen Strahlteiler in einen Meß- und einen
Referenzstrahl, die relativ zueinander zeitverzögert sind, aufgespalten wird.
Ein solches Verfahren ist aus der GB-PS 13 58 753 bekannt
Ein wirklich berührungsloser Empfang von Schallwellen ist möglich, wenn man optisch die Auslenkung der
Prüflingsoberfläche durch den Schall mißt. Diese Auslenkung ist klien und beträgt bei dem in der
Werkstoffprüfung üblichen Frequenz- und Amplitudenbereich ca. 10 Nanometer und weniger. Daher sind
interferometrische Methoden nötig, um so geringe Verschiebungen in der Prüflingsoberfläche nachweisen
zu können.
Bei der Ultraschallprüfung von Werkstücken werden als Schallempfänger weitgehend piezoelektrische
Wandler verwendet Sie müssen aber durch ein Medium, welches den Schalldruck überträgt, an das Werkstück
angekoppelt werden, erfordern also eine Berührung des Materials. Diese bereitet bei der Prüfung heißer Teile
oder in automatisch arbeitenden Anlagen bei hoher Durchlaufgeschwindigkeit des Prüfgutes Schwierigkeiten.
Deshalb sind zwar magnetisch« oder elektrostatische Empfangsverfahren vorgeschlagen worden, bei
so welchen eine direkte Berührung des Prüflings entfällt Diese Empfänger erfordern wegen des starken Abfalls
ihres Signals mit der Entfernung aber eine Annäherung an die Oberfläche des Prüfgutes bis auf Bruchteile eines
Millimeters, sind aber selbst dann noch unempfindlicher als ein piezoelektrischer Wandler. Die erwähnten
Schwierigkeiten werden durch diese sogenannten trockenen Verfahren deshalb nicht beseitigt
Bei dem aus der britischen Patentschrift GB 13 58 753 bekannten Verfahren wird die Oberfläche eines
Prüflings, der durch Ultraschall beschallt wird, durch einen Laserstrahl bestrahlt Hierbei fällt das Laserlicht
zunächst auf einen halbdurchlässigen Spiegel und wird in ein Meß- und ein Referenzstrahlenbündel aufgespalten.
Das Meßstrahlenbündel fällt auf die schwingende Oberfläche auf, wird hier reflektiert, danach in einem
Linsensystem aufgeweitet, tritt dann nach nochmaliger Reflexion an einem Spiegel durch den halbdurchlässigen
Spiegel, wird von einer Linse gebündelt und dann in
einer Abbildungsebene durch einen optoelektrischer! Wandler erfaßt Das Referenzstrahlenbündel hat nach
unmittelbarer Reflexion am halbdurchlässigen Spiegel den gleichen Strahlengang, so daß beide Bündel in der
Afabildungsebene des Wandlers zur Interferenz gebracht
werden können.
An den für die Werkstoffprüfung wichtigen rauhen Rächen ist die aus der GB-PS 13 58 753 bekannte
interferometrische Messung nicht durchführbar, da die Phase des an rauhen Flächen reflektierten Strahls
innerhalb des Gesichtsfeldes unregelmäßig schwankt und sich deshalb auf der Empfängerfläche des Wandlers,
einer Fernsehkamera, eine ungleichmäßige Helligkeit einstellt In diesem Fall kann man zwar die Oberfläche
des Prüflings in den Brennpunkt einer Linse stellen. Dann wird zwar nur ein Punkt der schwingenden
Oberfläche beleuchtet, und das diffus reflektierte Licht wird parallel ausgerichtet Der Meßstrahl trifft wieder
als ebene Welle auf den Wandler auf und erfüllt bei einem Planspiegel als Vergleichsfläche die geforderte
Bedingung
a =
λ/2
d
Für die Anwendung in der Werkstoffprüfung hat das bekannte Verfahren aber folgende Nachteile:
Es ist eine genaue Führung der abzutastenden Prüfgutoberfläche notwendig, um diese immer im
Brennpunkt der Linse zu halten. Abweichungen aus dieser Lage verursachen eine zusätzliche, unerwünschte
Helligkeitsmodulation. Eine derart genaue Führung des durchlaufenden Prüfgutes ist aber schwierig. Ferner
wird auch die Rauhigkeit der Werkstückoberfläche mit abgetastet und diese erzeugt eine zusätzliche Hellig
keitsmodulation mit störenden Frequenzen. Die mögliche Prüfgeschwindigkeit ist daher auf den Bereich von
einigen mm/s beschränkt. Dann ist nachteilig, daß ein unterschiedliches Reflexionsvermögen der Werkstückoberfläche
ungleiche Amplituden im Meß- und Vergleichsstrahl verursacht Auch ist ein scharfer Brennpunkt
erforderlich. Dieser bedingt durch die Gesetzmäßigkeiten der optischen Abbildung, Meßentfernungen
von der Größe von 10 cm. Diese geringen Meßentfernungen grenzen die Anwendungsmöglichkeiten des
bekannten Verfahrens in der Praxis jedoch stark ein. Zuletzt erfolgt die Schallabnahme nur von einem Punkt
der Oberfläche. Es ist jedoch die Intergration über eine größere Fläche, etwa von der Größenordnung wie bei
einem normalen Prüfkopf, wünschenswert
Aus der DE-OS 19 46 495 ist ein Verfahren zum Messen der Rauhigkeit einer Oberfläche bekannt, bei
dem mit Hilfe eines optischen Systems zwei Abbildungen der Oberfläche einander überlagert und in einer
Abbildungsebene zur Interferenz gebracht werden. Allerdings schwingt hier die Prüflingsoberfläche nicht,
der Prüfling ist eine auf angemessene Weise polierte Siliziumscheibe, und es wird als kohärente Strahlungsquelle kein Laser verwendet. Wie beim erfindungsgemäßen Verfahren wird erst der an der Prüflingsoberfläche
reflektierte Strahl von einem Strahlteiler, hier einem Doppelprisma, in einen Meß- und Referenzstrahl
aufgespalten.
Ferner ist aus der DE-AS 15 48 394 ein Verfahren zur
Messung mechanischer Schwingungen mit Hilfe eines Interferometers bekannt, bei dem ein Laserstrahl
zunächst auf einen als Strahlteiler wirkenden halbdurchlässigen Spiegel fällt, in Meß- und Referenzstrahlbündel
aufgespalten wird, cas Referenzstrahlenbündel an einem Spiegel zurückgespiegelt und über den Strahlteiler
einer fotoelektrischen Einrichtung zugeführt wird, während Meßstrahlenbündel an der Oberfläche des
Prüflings reflektiert und über den halbdurchlässigen
Spiegel ebenfalls auf die fotoelektrische Einrichtung fällt welcher eine Signalverarbeitungseinrichtung nachgeschaltet
ist Wenn auch Meß- und Referenzstrahlenbündel eine Phasenverschiebung haben müssen, um
so überhaupt in der fotoelektrischen Einrichtung zur
Interferenz gebracht zu werden, so betrifft das Verfahren doch nur hochglatte Oberflächen. Wie beim
Verfahren nach dem Anspruch 4 wird die Verzögerungsstrecke mit einer bestimmten Frequenz verändert
Es ist bereits ein Laserinterferometer bekannt um hohe Geschwindigkeiten reflektierender Oberflächen
ZiJ messen, und zwar vornehmlich durch Geschosse
bewirkte. Die Vibration des schlagartig auf eine Platte auftreffenden Geschosses wird auf eine andere, als
Prüfling dienende Platte übertragen, die über ein optisches System durch einen Laser bestrahlt wird. Erst
der am Prüfung reflektierte Laserstrahl wird durch einen Strahlteiler in einen Meß- und einen Referenzstrahl
geteilt, die in einen Photomultiplier überlagert werden. Die Apparatur ist allerdings aufwendig, und die
Prüflingsoberfläche muß bei einer Ausführung, dem sogenannten Sandia Laserinterferometer, verspiegelt
sein. Bei einer anderen Ausführung auf der Basis des Michelson-Interferometers wird das Licht einer diffusen
Lichtquelle ausgenutzt, man benötigt jedoch für eines der beiden Strahlenbündel ein Endmaß. Auch bei diesem
Interferometer erfolgt die Reflexion an dem Prüfling vor der Strahlteilung. Diese Vorrichtung ist nicht
spezifisch für den Ultraschallempfang von hocherhitzten oder schnell durchlaufenden Prüflingen und
berücksichtigt nicht die zugehörige Ultraschallfrequenz (J. Appl. Phys., 43, Nr. 11, November 1972, S.
4669-4675).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei dem Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 die
Messung bei erhöht rauhen Oberflächen genauer durchzuführen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den Gegenstand des Patentanspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen des Verfahrens, eine vorteilhafte Verwendung und eine zugehörige Vorrichtung sind in
den Unteransprüchen angegeben.
Es erfolgt also die Messung der Auslenkung der Oberfläche eines Körpers unter Ultraschalleinfluß
derart, daß der Referenzstrahl nicht sofort durch einen Strahlteiler vom Meßstrahl abgespalten, sondern wie
bei dem Verfahren nach der GB-PS 13 58 753 - wie der Meßstrahl, zunächst an der Prüflingsoberfläche selbst,
reflektiert wird. Dadurch haben beide Strahlen innerhalb des Gesichtsfeldes stets die gleiche Phase. Der
Referenzstrahl wird also von dem gleichen Oberflächenelement wie der Meßstrahl reflektiert, jedoch dann
gegenüber dem Meßstrahl um eine gemäß dem Anspruch 1 der Ultraschallfrequenz angepaßte vorbestimmte
Zeit verzögert, so daß auch bei rauhen Oberflächen die Oberfläche in der Bildebene eines
Interferometers sowohl vom Meßstrahl als auch vom Referenzstrahl unter Einhaltung der Winkelbedingung
a <
λ/2
d
deckungsgleich abgebildet wird.
Eine Ausführungsform der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher
erläutert. Es zeigt
F i g. 1 ein Interferometer mit einer Verzögerungsstrecke,
F i g. 2 ein Interferometer mit Verzögerungsstrecke und Linsensystem,
Fig.3 eine Abwandlung der Verzögerungsstrecke
des Interferometers.
Das Prinzip des Strahlenganges dieses interferometrischen Verfahrens ist in F i g. 1 skizziert, wobei für den
praktischen Aufbau u. U. Abänderungen der Anordnung nötig werden, um Störungen durch Streulicht und
dergleichen zu vermeiden. Die schwingende Oberfläche eines Prüfgutes 5 wird durch monochromatisches Licht
aus dem Laser 1 beleuchtet. Die Verwendung von Lasern ist nicht nur wegen ihrer Monochrornasie,
sondern auch wegen der guten Bündelung der Strahlung hier vorteilhaft. Der reflektierte Lichtstrahl 9 gelangt
zum Strahlteiler 2, von dort als Anteil 9a zum Spiegel 10 und über den Strahlteiler 2 zur Fotozelle 7. Wegen der
Laufzeit des anderen Lichtanteils 9b über den zweiten Interferometerarm 11, wobei das Licht gegenüber 9a
zusätzlich den Weg 2s zurücklegt, wird der Vergleichstrahl 9b gegenüber dem Hauptstrahl 9a zeitverzögert.
Bei Beschallung der Oberfläche 5 erfährt der Meßstrahl 9a eine zusätzliche Phasenverschiebung entsprechend
der Auslenkung innerhalb der Verzögerungszeit. Dadurch ändert sich die resultierende Helligkeit an der
Fotozelle 7. Die Signalamplitude ist für eine bestimmte Ultraschallfrequenz / dann am größten, wenn die
Verzögerungszeit gleich der halben Schwingungsperiode ist Auf diese Weise wird das Verfahren für
jeweils einen vorbestimmten Frequenzbereich selektiv (auf tiefe Frequenzen, deren halbe Schvvingungspsriode
groß gegen die Verzögerungszeit ist, spricht das Verfahren nicht an).
Die optimale Länge 5 der Verzögerungsstrecke ergibt sich aus zwei Bedingungen:
1. Makroskopische muß die Länge s so bemessen sein,
daß sich die vorher angegebene, geeignete Verzögerungszeit ergibt.
2. Mikroskopisch muß die Länge s so eingestellt werden, daß durch die Interferenz mit dem
Meßstrahl 9a sich eine Helligkeit an der Fotozelle ergibt, bei der kleine Phasenänderungen am
Meßstrahl gut nachweisbare Helligkeitsänderungen ergeben.
Von der rauhen Werkstückoberfläche 5 wird
Licht diffus reflektiert Um die Winkelbedingungen
Licht diffus reflektiert Um die Winkelbedingungen
. λ/2
cc ^
auf der Fotozelle 7 einzuhalten, muß ein kleiner Winkelbereich aus dem reflektierten Licht ausgeblendet
werden. Innerhalb des optischen Empfangssystems (vgl. Fig. 1), gestrichelter Teil 12, auf dem Weg zwischen
Strahlteiler 2 und Fotozelle 7 darf das Licht keine Divergenz aufweisen. Man erreicht dies durch die in
ίο F i g. 2 veranschaulichten Maßnahmen.
Eine Möglichkeit, das Licht hinreichend parallel zu machen, ist die Einstellung der Entfernung L auf den
Wert mindestens 5s, eine sinnvolle Größe der Empfängerfläche vorausgesetzt. Das gleiche erreicht
man durch ein teleskopisches Linsensystem, in dessen gemeinsamen Brennpunkt eine Blende passender
Größe steht. Dieses System wirkt wie in Richtungsfilter 13, es kann zwischen Meßfläche 5 und Strahlenteiler 2 in
den Bereich 14 oder zwischen Strahlenteiler 2 und Spiegel 10 in der Stellung 13 angebracht werden.
Bei der praktischen Ausführung kann der zur Verzögerung notwendige Laufweg des Lichtes durch
mehrfache Reflexion zwischen hochpräzisen Planspiegeln 16 und 17 auf kleinem mechanischem Raum
untergebracht werden, wie in F i g. 3 angedeutet
Um kleine Auslenkungen der Oberfläche in der Größenordnung einiger Nanometer messen zu können,
muß die Länge s der Verzögerungsstrecke sehr genau auf einem optimalen Wert gehalten werden, damit nicht
durch Längenänderungen Phasenverschiebungen entstehen, welche Helligkeitsschwankungen verursachen.
Dazu wird die Länge s der Verzögerungsstrecke durch ein zweites Interferometer, das in F i g. 1 nicht
eingezeichnet ist, gemessen. Für dieses Interferometer kann ein Teil der Strahlung des Lasers 1 oder ein
separater Laser verwendet werden. Hierfür sind nur geringe Strahlungsleistungen notwendig, da überall
ebene und gut reflektierende Spiegel eingesetzt werden können.
Bei einer Abweichung der Länge s vom Sollwert wird der Spiegel 18 durch ein piezoelektrisches oder anderes
Stellelement entsprechend verschoben bzw. verstellt
Eine andere Ausführungsfonn ist die Modulation der
Länge 5 über das genannte Stellelement mit einer Frequenz /1, die größer als die nachzuweisende
Schallfrequenz / ist Der optimale Gangunterschied zwischen Meß- und Referenzstrahl tritt dann mehrmals
innerhalb einer Schwingungsperiode der Schallwelle auf. Das elektrische Signal an der Fotozelle besteht
dann aus einer hochfrequenten Schwingung der das Frequenz /1, die mit der Schallfrequenz /moduliert ist
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Optisches interferometrisches Verfahren zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen
verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings, bei dem die Prüflingsoberfläche durch einen
Laserstrahl bestrahlt und der Laserstrahl an einen optischen Strahlteiler in einen Meß- und einen
Referenzstrahl, die relativ zueinander zeitverzögert sind, aufgespalten wird, gekennzeichnet
d u r c Ii die Vereinigung folgender Merkmale:
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2457253A DE2457253C2 (de) | 1974-12-04 | 1974-12-04 | Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings |
| US05/629,062 US4046477A (en) | 1974-12-04 | 1975-11-05 | Interferometric method and apparatus for sensing surface deformation of a workpiece subjected to acoustic energy |
| GB48172/75A GB1488536A (en) | 1974-12-04 | 1975-11-24 | Measurement of the deflection of a workpiece surface by optical interference methods |
| JP14455775A JPS5619561B2 (de) | 1974-12-04 | 1975-12-03 | |
| FR7537171A FR2293713A1 (fr) | 1974-12-04 | 1975-12-04 | Procede interferometrique optique de mesure de la deviation de la surface d'une eprouvette sous l'influence des ultrasons |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2457253A DE2457253C2 (de) | 1974-12-04 | 1974-12-04 | Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2457253A1 DE2457253A1 (de) | 1976-06-10 |
| DE2457253C2 true DE2457253C2 (de) | 1982-09-02 |
Family
ID=5932447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2457253A Expired DE2457253C2 (de) | 1974-12-04 | 1974-12-04 | Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4046477A (de) |
| JP (1) | JPS5619561B2 (de) |
| DE (1) | DE2457253C2 (de) |
| FR (1) | FR2293713A1 (de) |
| GB (1) | GB1488536A (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3816755A1 (de) * | 1988-05-17 | 1989-11-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zum beruehrungslosen erfassen der durch ultraschallwellen verursachten oberflaechenauslenkung eines prueflings |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2707968C2 (de) * | 1977-02-24 | 1984-12-13 | Krautkrämer GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum Empfang von Ultraschallwellen unter einem vorbestimmten Auftreffwinkel |
| DE2709686C2 (de) * | 1977-03-05 | 1982-09-09 | Krautkrämer, GmbH, 5000 Köln | Optisches interferometrisches Verfahren zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings |
| DE2710638C2 (de) * | 1977-03-11 | 1984-10-11 | Krautkrämer GmbH, 5000 Köln | Vorrichtung zum berührungslosen optischen Empfang von Ultraschallwellen in der zerstörungsfreien Werkstoffprüfung |
| DE2952885C2 (de) * | 1978-06-20 | 1986-01-30 | Sumitomo Metal Industries, Ltd., Osaka | Vorrichtung zur berührungslosen Ultraschallfehlerprüfung |
| US4267732A (en) * | 1978-11-29 | 1981-05-19 | Stanford University Board Of Trustees | Acoustic microscope and method |
| DE2918384C2 (de) * | 1979-05-08 | 1984-03-22 | Krautkrämer GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum optischen Empfang von Ultraschallwellen |
| US4280764A (en) * | 1980-02-21 | 1981-07-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Phase-conjugate interferometer |
| DE3016879C2 (de) * | 1980-05-02 | 1982-12-30 | Krautkrämer, GmbH, 5000 Köln | Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Ultraschall-Werkstoffprüfung |
| US4339199A (en) * | 1980-07-07 | 1982-07-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Pulsed laser beam intensity monitor |
| DE3029716C2 (de) * | 1980-08-06 | 1985-05-15 | Krautkrämer GmbH, 5000 Köln | Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Aufrechterhaltung einer Justage der Deckung und der relativen Phasenlage von Lichtstrahlen in einem für den Ultraschallempfang benutzten optischen Interferometer |
| DE3029776C2 (de) * | 1980-08-06 | 1983-04-07 | Krautkrämer, GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum berührungslosen Empfang von Ultraschallwellen |
| US4474467A (en) * | 1981-12-28 | 1984-10-02 | Itek Corporation | Wavefront sensor using a surface acoustic wave diffraction grating |
| JPS58131557A (ja) * | 1982-01-12 | 1983-08-05 | Nippon Steel Corp | 超音波の非接触測定法 |
| US4652744A (en) * | 1982-04-14 | 1987-03-24 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Fiber optic sensor for detecting very small displacements of a surface |
| AU569251B2 (en) * | 1982-04-14 | 1988-01-28 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Improved fiber optic sensor for detecting very small displacements of a surface |
| US4512661A (en) * | 1982-09-02 | 1985-04-23 | The United States Of America As Represented By The Aministration Of The National Aeronautics And Space Administration | Dual differential interferometer |
| JPS606860A (ja) * | 1983-06-15 | 1985-01-14 | Hitachi Ltd | 非接触式超音波探傷方法およびその装置 |
| US4567769A (en) * | 1984-03-08 | 1986-02-04 | Rockwell International Corporation | Contact-free ultrasonic transduction for flaw and acoustic discontinuity detection |
| JPS60253945A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 形状測定装置 |
| US4641527A (en) * | 1984-06-04 | 1987-02-10 | Hitachi, Ltd. | Inspection method and apparatus for joint junction states |
| JPS6184505A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Canon Inc | 位置検出装置 |
| US4666308A (en) * | 1984-10-30 | 1987-05-19 | Stanford University | Method and apparatus for non-destructive testing using acoustic-optic laser probe |
| US4938597A (en) * | 1988-04-21 | 1990-07-03 | Conoco Inc. | Light responsive motion sensing device |
| CA1287388C (en) * | 1988-04-29 | 1991-08-06 | Jean-Pierre Monchalin | Broadband optical detection of transient motion from a scattering surface |
| JP2718705B2 (ja) * | 1988-07-27 | 1998-02-25 | 株式会社日立製作所 | 光音響信号検出方法及びその装置 |
| CA2013406C (en) * | 1990-03-29 | 1998-06-16 | Rene Heon | Optical detection of a surface motion of an object |
| JPH0746045B2 (ja) * | 1992-09-09 | 1995-05-17 | 工業技術院長 | スペックル干渉法変形測定方法 |
| US5684592A (en) * | 1995-06-07 | 1997-11-04 | Hughes Aircraft Company | System and method for detecting ultrasound using time-delay interferometry |
| JP3695188B2 (ja) * | 1998-12-21 | 2005-09-14 | 富士ゼロックス株式会社 | 形状計測装置および形状計測方法 |
| US6628408B1 (en) | 1999-04-15 | 2003-09-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Amplitude measurement for an ultrasonic horn |
| US6186004B1 (en) * | 1999-05-27 | 2001-02-13 | The Regents Of The University Of California | Apparatus and method for remote, noninvasive characterization of structures and fluids inside containers |
| US7286241B2 (en) * | 1999-06-24 | 2007-10-23 | Lockheed Martin Corporation | System and method for high-speed laser detection of ultrasound |
| DE19949760A1 (de) * | 1999-10-15 | 2001-04-19 | Zeiss Carl Fa | Interferometer |
| US7667851B2 (en) | 2001-07-24 | 2010-02-23 | Lockheed Martin Corporation | Method and apparatus for using a two-wave mixing ultrasonic detection in rapid scanning applications |
| US7230719B2 (en) * | 2003-12-02 | 2007-06-12 | National University Of Singapore | High sensitivity scanning probe system |
| US7649632B2 (en) * | 2004-03-23 | 2010-01-19 | The Trustees Of Boston University | Characterization of micro- and nano scale materials by acoustic wave generation with a CW modulated laser |
| US7357029B2 (en) * | 2004-03-31 | 2008-04-15 | Optometrix, Inc. | Thermal-acoustic scanning systems and methods |
| EP1836510B1 (de) * | 2005-01-03 | 2018-06-13 | Soreq Nuclear Research Center | Verfahren und vorrichtung zur detektion von objekten unter einer lichtverdeckenden barriere |
| US8392138B2 (en) * | 2008-08-08 | 2013-03-05 | The Regents Of The University Of Colorado | System and method for correcting sampling errors associated with radiation source tuning rate fluctuations in swept-wavelength interferometry |
| CN106323191A (zh) * | 2015-06-23 | 2017-01-11 | 南京理工大学 | 一种共轭差分法检测柱面镜绝对面形的装置 |
| US9889564B2 (en) | 2015-07-08 | 2018-02-13 | Empire Technology Development Llc | Stable grasp point selection for robotic grippers with machine vision and ultrasound beam forming |
| CN105737965B (zh) * | 2016-02-29 | 2018-11-13 | 莆田学院 | 一种风力发电机振动检测装置及分析方法 |
| CN106052565A (zh) * | 2016-06-12 | 2016-10-26 | 天津大学 | 一种基于分光镜的双光路三维散斑干涉系统 |
| WO2020129209A1 (ja) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | 株式会社島津製作所 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3286582A (en) * | 1961-06-29 | 1966-11-22 | Block Engineering | Interference technique and apparatus for spectrum analysis |
| US3319515A (en) * | 1963-08-27 | 1967-05-16 | Du Pont | Interferometric optical phase discrimination apparatus |
| DE1548394B2 (de) * | 1966-11-23 | 1970-12-03 | Messerschmi^t-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München | Verfahren und Anordnung zur Messung mechanischer Schwingungen |
| US3503012A (en) * | 1967-11-13 | 1970-03-24 | Lockheed Aircraft Corp | Optical differential interferometer discriminator for fm to am conversion |
| US3535024A (en) * | 1968-04-04 | 1970-10-20 | Webb James E | Interferometer servo system |
| NL6813608A (de) * | 1968-09-24 | 1970-03-26 | ||
| DE1962359A1 (de) * | 1969-02-05 | 1970-09-03 | Texas Instruments Inc | Verfahren und Einrichtung zur Schichtdickenmessung |
| US3633987A (en) * | 1970-06-01 | 1972-01-11 | Trw Inc | Method of and apparatus for holographically contour mapping of distant objects |
| US3711823A (en) * | 1970-07-27 | 1973-01-16 | American Express Invest | Acoustic to optical image converter using an acoustic grating |
| DE2127483A1 (de) * | 1971-06-03 | 1972-12-14 | Leitz Ernst Gmbh | Verfahren zur interferentiellen Messung von Langen, Winkeln, Gangunter schieden oder Geschwindigkeiten |
-
1974
- 1974-12-04 DE DE2457253A patent/DE2457253C2/de not_active Expired
-
1975
- 1975-11-05 US US05/629,062 patent/US4046477A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-11-24 GB GB48172/75A patent/GB1488536A/en not_active Expired
- 1975-12-03 JP JP14455775A patent/JPS5619561B2/ja not_active Expired
- 1975-12-04 FR FR7537171A patent/FR2293713A1/fr active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3816755A1 (de) * | 1988-05-17 | 1989-11-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zum beruehrungslosen erfassen der durch ultraschallwellen verursachten oberflaechenauslenkung eines prueflings |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5183549A (de) | 1976-07-22 |
| JPS5619561B2 (de) | 1981-05-08 |
| FR2293713B1 (de) | 1981-10-23 |
| FR2293713A1 (fr) | 1976-07-02 |
| DE2457253A1 (de) | 1976-06-10 |
| GB1488536A (en) | 1977-10-12 |
| US4046477A (en) | 1977-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2457253C2 (de) | Optisches interferometrisches Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung der durch Ultraschallwellen verursachten Oberflächenauslenkung eines Prüflings | |
| DE3881173T2 (de) | Apparat und Verfahren zur elektronischen Analyse von Proben. | |
| DE4324983C2 (de) | Akustisches Mikroskop | |
| DE19721843C1 (de) | Interferometrische Meßvorrichtung | |
| DE69013757T2 (de) | Messung der Festigkeit einer bewegenden Stoffbahn. | |
| DE2128533A1 (de) | Verfahren Und Einrichtung zur Ermittlung der Topographie von reflektierenden Flächen | |
| WO1984004810A1 (fr) | Procede et dispositif pour la mesure sans contact de la position reelle et/ou du profil de surfaces rugueuses | |
| EP0561015A1 (de) | Interferometrische Phasenmessung | |
| DE2814006A1 (de) | Abtastinterferometer | |
| DE2908757A1 (de) | Abstandsaenderungs-messanordnung | |
| EP0075032B1 (de) | Verfahren zur interferometrischen Oberflächentopographie | |
| US5011280A (en) | Method of measuring displacement between points on a test object | |
| DE69617335T2 (de) | System zum Messen der Dicke und des Brechungsindexes eines Films | |
| US4381676A (en) | Apparatus for sensing ultrasonic waves by optical means | |
| DE3611402C2 (de) | ||
| EP0491749B1 (de) | Vorrichtung zur absoluten zweidimensionalen positionsmessung | |
| EP0780682B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum zerstörungsfreien Prüfen von Werkstücken | |
| DE2709571A1 (de) | Auf die intensitaet von ultraschallstrahlung ansprechende einrichtung | |
| EP0610374B1 (de) | Verfahren zur messung der neigungen von grenzflächen in einem optischen system | |
| DE3916276A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur interferometrischen detektion von oberflaechenverschiebungen bei festkoerpern | |
| EP0791818A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum photothermischen Prüfen von Werkstüken | |
| EP0218151B1 (de) | Messverfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Durchmesserbestimmung dünner Drähte | |
| DE2528209A1 (de) | Optischer profilabtaster | |
| DE2710795C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Verschiebungen oder Schwingungen einer Oberfläche | |
| EP0264734A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum berührungslosen optischen Messen von Wegen, insbesondere im Triangulationsverfahren |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OD | Request for examination | ||
| AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2709686 Format of ref document f/p: P |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2709686 Format of ref document f/p: P |
|
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KRAUTKRAEMER GMBH, 5030 HUERTH, DE |
|
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KRAUTKRAEMER GMBH & CO, 5030 HUERTH, DE |