DE2430950C3 - Verfahren zur Herstellung von Kohlenwasserstoffsilanen aus Polysilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Kohlenwasserstoffsilanen aus PolysilanenInfo
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- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 title claims description 13
- -1 hydrocarbon silanes Chemical class 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 title claims 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N Silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 claims description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N Trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N Chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N Chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229940050176 Methyl Chloride Drugs 0.000 claims 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims 2
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K Antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N Benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N Chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M chloromercury Chemical compound [Hg]Cl RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(methyl)silyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 claims 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims 1
- 229920005619 polysilyne Polymers 0.000 claims 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N methylene dichloride Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N Disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001030 gas--liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N Propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- NMNBQPXVDUKZMX-UHFFFAOYSA-N chlorosilylidynesilicon Chemical compound Cl[Si]#[Si] NMNBQPXVDUKZMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000015108 pies Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Description
chlordisilan, polymere Silane mit mehr als 2 Siliciumatomen,
wie
Cl2
Cl3SiSiSiCln
Cl3SiSiSiCln
oder verzweigte komplizierte Strukturen der empirischen Formel Cl11J1Si, CI2Si oder Meo,2Cl,,eSi. Die
Komponente (2; kann daher von dimerem Material bis zu hochpolymere!! Materialien schwanken.
Die Grundreaktion besteht in einer Spaltung der Silicium-Silicium-Bindung unter Bildung einer SiIicium-KohlenstofT-Bindung
und einer neuen SiIicium-Chlor-Bindung. Der genaue Mechanismus dieser
Reaktion läßt sich nicht klar verstehen und ist zweifellos ziemlich kompliziert, der Gesamteffekt ibt
, jedoch die obenerwähnte Reaktion. Die Produkte des -i erfindungsgemäßen Verfahrens sind daher Monomere
' der Formel RMezSiCl3-z sowie Siliciumtetrachlorid.
Die Menge an erfindungsgemäß verwendetem Katalysator ist nicht kritisch. Der bevorzugte Bereich
liegt zwischen 0,01 und 10 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht aus den Reaktionsteilnehmern
(1) und (2).
r Die Erfindung wird an Hand der folgenden Beispiele
näher erläutert. Die Analyse der Reaktionsprodukte erfolgt durch Gasflüssigchromatographie
(GFG),
10,67 g Si2Cl6 werden mit 3,37 g Methylenchlorid
vermischt, worauf man unter Rühren 0,29 g Tri-
' n-propylamin-Katalysator zugibt. Das Gemisch läßt
man 90 Stunden bei Raumtemperatur disproportionieren.
Sodann entfernt man das Methylendichlorid
,-sowie das Siliciumtetrachlorid unter vermindertem
' Druck.
Der dabei erhaltene Rückstand besteht aus einem Gemisch des Amins und der Polysilane mit 3 oder
mehr Siliciumatomen pro Molekül und im Mittel weniger als 3 Chloratomen pro Siliciumatom. Dieses
Gemisch versetzt man mit 3 ml des Dimethyläthers von Äthylenglycol sowie 3 ml Allylchlorid. Das Gemisch
wird 42 Stunden bei 850C umgesetzt. Am Ende
Tabu!!-*
dieser Zeit ist der GroMcil des Allylchlorid» verbraucht,
und im Gasflüssigchrormitogramm läßt sich
als einziges Produkt nur Allyltrichlorsiliin feststellen.
B β i s pie I 2
Bei jedem der im folgenden gezeigten Fülle handelt es sich bei den Silanen um destillierte Materialien. Die
jeweils angegebene Menge an Disilan wird mit dem angegebenen Halogenwasserstoff und dem genannten
ίο Lösungsmittel in einer Menge von 1 MoI Lösungsmittel
pro Mol Disilan vermischt. Das Gemisch erhitzt man dann in der angegebenen Weise in einem geschlossenen
Behälter, und der Verlauf der Umsetzung wird durch Gasflüssigchromatographie verfolgt. Bei
den Versuchen 1 bis 6 sowie 9 bis 11 v/ird als Lösungsmittel
Benzol verwendet, und bei den Versuchen 7, 8 sowie 12 bis 15 setzt man als Lösungsmittel
o-Dichlorbenzol ein. Die Versuche 6, 8, 10, 13
sowie 15 der folgenden Tabelle sind Vergleichsver-
Zo suche ohne Katalysator. In dieser Tabelle werden
folgende Abkürzungen verwendet: Pr für Propyl, Bu für Butyl, Ph für Phenyl und Me für Methyl.
Bei dem für dieses Beispiel verwendeten Silan handelt
es sich um den Rückstand, den man bei der Umsetzung von Chlorwasserstoff mit Silicium erhält, wobei
man anschließend das Trichlorsilan sowie die niedersiedenden Materialien entfernt. Der Rückstand
ist eine Flüssigkeit, die aus Hejcachlordisilan und
höheren Silanen besteht.
125,5 g dieses Rückstands und 52,3 g Allylchlorid werden mit 100 g Orthodichlorbenzol und 2,3 g Benzol
vermischt, worauf man unter Rühren langsam 2,37 g Triäthylamin zugibt. Das Reaktionsgemisch
wird 24 Stunden auf 60 bis 801C erhitzt. Danach wird
das Gemisch destilliert, und man erhält AHyltrichlorid in einer Ausbeute von 46 Gewichtsprozent, bezogen
auf das Gewicht des Silanrückstands.
Zu Vergleichszwecken wird die Umsetzung auch ohne Katalysator durchgeführt. Ein Gemisch aus
35,2 g Rückstand, 27,0 g o-Dichlorbenzol und 9,9 g Allylchlorid wird 24 Stunden auf 750C erhitzt. Hierbei
erhält man das gewünschte AHyltnehlorsilan nur in
einer Ausbeute von 7 Gewichtsprozent.
Ver | Silane | Gewicht | organisches | Gewicht | Katalysator | Gewicht | Reaktions | Zeit | Ausbeute1) | Produkt |
such | Halogenid | bedingungen | (Std.) | |||||||
Temp. | 96 | |||||||||
(g) | (g) | ig) | (0Q | 118 | ||||||
1 | Si51CIe | 10,8 | C3H5Cl | 3,27 | NPr3 | 0,284 | 75 | 115 | 70% | C3H5SiCl3 |
2 | Si2Cl6 | 5,9 | C3H5Cl | 1,7 | NBu3 | 0,224 | 75 | 12 | 80% | C3H5SiCl3 |
3 | Si2Cl8 | 10,8 | C3H6Cl | 3,06 | HNBu3Cl | 0,439 | 75 | 24 | 81% | C3H5SiCl3 |
4 | Si2Cl6 | 4,60 | C3H8Cl | 1,31 | Bu4NCl | 0,238 | 75 | 115 | 80% | C3H5SiCl3 |
5 | Si2CU | 5,39 | C3H5Cl | 1,53 | Bu4PCl | 0,30 | 75 | 140 | 77% | C3H5SiCl3 |
6 | Si2Ci6 | 5,9 | C3H5Cl | 1,7 | nichts | — | 75 | 26 | Spur | C3H5SiCl3 |
7 | Si2Cl8 | 10,8 | C4H9Cl | 3,70 | Bu4NCl | 0,566 | 100 | 22 | 46% | C4H11SiCl3 |
8 | Si2Cl, | 10,8 | C4H9Cl | 3,7 | nichts | — | 125 | 24 | nichts | — |
9 | Si2Cl6 | 23,8 | PhCH2Cl | 11,3 | Bu4PCl | 1,31 | 75 | 46 | 87% | PhCH2SiCl3 |
10 | Si2Cl6 | 23,8 | PhCH2Cl | 11,3 | nichts | — | 75 | 30 | nichts | — |
11 | Si2Cl6 | 4,48 | MeCl | 55psi | Bu4PCl | 0,83 | 100 | 77 | 86% | MeSiCl3 |
12 | Me2Si2CU | 4,42 | C3H5C! | 1,48 | Bu4NCl | 0,280 | 125 | 114 | 70% | C1H5MeSiCl2 |
13 | Me-Si-CU | 4,42 | C3H5Cl | 1,48 | nichts | — | 125 | 200 | nichts | — |
14 | Me3Si2Cl3 | 3,16 | C3H5Cl | 1,17 | Bu4PCl | 0,226 | 125 | 27% | CjH5MeSiCi2 | |
15 | Me3Si2Cl3 | 3,16 | C3H5CI | 1,17 | nichts | — | 125 | Spur | C3H5MeSiCl2 | |
'JMoIprozent, bezogen auf Mole an Ausgangssilan. |
Claims (1)
- i*1 2von Methylchlorid mit Silicium und die UmsetzungPatentanspruch' von Chlorwasserstoff mit Silicium gebildet werden,zur Herstellung wirtschaftlich interessanter ProdukteVerfahren zur Herstellung von RMe*Si'Ci3-* verwenden lassen. Diese Umsetzung soll ferner so durch Umsetzung von (1) RCI mit (2) Me^ClySi, 5 durchgeführt werden, daß keine Siiciumhydride gedadurch gekennzeichnet, daß man bildet werden, die sich zwar verwenden lassen, jedoch die Umsetzung zwischen 30 und 250"C in Gegen- oft nicht erwünscht sind. Die obenerwähnte Umwart eines Katalysators der Gruppe Setzung sollte dabei schließlich so durchgeführt werden, daß vorwiegend kolilenwasserstoffsubstituierte R'3N, R'3N · HCl, R',,NCI und R',PCI, xo Monosilane und Siliciumtetrachlorid entstehen, diebeide technisch interessante Produkte darstellen.worin Mc für Methyl steht, R Alkyl mit ΐ bis 7 Die Erfindung betrifft denmifolge ein Vcrfa'orcnKohlenstoffatomen, Alkenyl mit 2 bis 7 Kohlen- zur Herstellung von RMe,SiCl;, -x durch Umsetzung stoffatomen oder Aralkyl mit 7 Kohlenstoff- von (1) RCl mit (2) Mej-ClvSi, das dadurch gckennatomen bedeutet, χ für 0, 1 oder 2 steht, y die 15 zeichnet ist, daß man die Umsetzung zwischen 30 und Zahl 1, 2 oder 3 bedeutet, die Summe aus χ f y 250rC in Gegenwart eines Katalysators der Gruppe einen Mittelwert von 1,5 bis 3 hat, die ungc- R'3N, R'aN ■ HCI, R'4NC1 und R',PCI, worin Me für sättigten Valenzen des Siliciumatoms in (2) durch Methyl steht, R Alkyl mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen, ■'-" andere Siliciumatome gesättigt sind und R' für Alkenyl mit 2 bis 7 Kohlenstoffatomen oder Aralkyl Alkyl mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen steht, 20 mit 7 Kohlenstoffatomen bedeutet, .v für 0, 1 oder 2 durchführt. steht, y die Zahl 1, 2 oder 3 bedeutet, die Summe ausχ + y einen Mittelwert von 1,5 bis 3 hat, die unge-sättigten Valenzen des Siliciumatoms in (2) durchandere Siliciumatome gesättigt sind und R' für Alkyl 35 mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen steht, durchführt.Das erfindungsgemäße Verfahren wird durchge-., Es ist bekannt, daß man Kohlenwasserstoffhalo- führt, indem man die Komponenten (1) und (2) in ßenide mit Hexachlordisilan ohne Katalysator zu Gegenwart eines Katalysators bei einer Temperatur , Kohlenwasserstoffhalogensilanen umsetzen kann. Es von 30 bis 25O0C miteinander umsetzt. Die optimale ',· ist ferner bekannt, daß man hierzu auch Kupfer(I)- 30 Temperatur schwankt in Abhängigkeit von dem „chlorid, Antimontrichlorid oder Quecksilberchlorid jeweils verwendeten Katalysator und der Reaktionsais Katalysatoren verwenden kann. Die dazu erforder- fähigktit des KoMenwasserstoffhalogenids (1) und ,liehen Umsetzungstemperaturen liegen jedoch bei 200 des Polysilane (2). Die Umsetzung kann bei atmo-' bis 35O°C. sphärischem oder überatmosphärischem Druck sowieEbenfalls bekannt ist, daß man Polysilane mit 35 in Gegenwart oder Abwesenheit eines Lösungsmittels Chlorwasserstoff in Gegenwart tertiärer Amine oder vorgenommen werden. Die Menge an zu verwenden-/deren Halogensalzen zu Silanen umsetzen kann, die dem Lösungsmittel ist, falls man ein solches überhaupt 'über einen höheren SiH-Gehalt verfugen als das Aus- verwendet, daher nicht kritisch, und der vorwiegende - gangsmaterial. Bei diesem Verfahren werden jedoch Zweck der Verwendung eines Lösungsmittels liegt keine neuen Silicium-Kohlenstoff-Bindungen gebil- 40 lediglich in einer Vereinfachung der Handhabung des det, sondern lediglich Silicium-Wasserstoff- und Reaktionsgemisches. Falls Lösungsmittel verwendet 1 Silicium-Chlor-Bindungen. werden, dann handelt es sich dabei um solche, die mitSchließlich ist auch bekannt, daß man methyl- und Chlorsilanen nicht reagieren. Geeignete Lösungschlorsubstituierte Polysilane unter Bildung mono- mittel sind beispielsweise Kohlenwasserstoffe, wie jinerer Silane und Polysilane umlagern kann, die eine 45 Benzol, Toluol und Pentan, oder Halogenkohlen-Sjgrößere Anzahl an Siliciumatomen enthalten als das Wasserstoffe, wie Chlorbenzol oder Chlortoluol, |als Ausgangsmaterial verwendete Polysilan. Diese Äther, wie Dibutyläther oder Dimethyläther oder Umlagerung kann in Abwesenheit eines Katalysators Äthylenglycol, oder Nitrile, wie Acetonitril.
.4durchgeführt werden, oder man kann auch in Gegen- Die erfindungsgemäß verwendeten Polysilane lassenwart quaternärer Ammoniumhalogenide oder quater- 50 sich nach bekannten Verfahren herstellen. Sie entnär;r Phosphoniumhalogenide arbeiten. Bei der Um- stehen unter anderem als Nebenprodukte bei der setzung kommt es jedoch zur Bildung eines Rück- Herstellung von MethylchlorsiJanen durch Umsetzung '■stands aus Polysilanen, der sich nicht wirtschaftlich von Methylchlorid mit Silicium. Bei den meisten der verwenden läßt. Ferner werden bei dieser Reaktion für dieses Verfahren verwendeten Polysilane sind ·; (anders als bei der Umlagerung) ebenfalls keine neuen 55 einige Methylgruppen an den Siliciumatomen substi-Kohlenstoff-Silicium-Bindungen gebildet, und es tuiert.gibt auch keinen Hinweis darauf, daß man die quater- Hexachlordisilan und Polysilyne, die nur Chlornären Ammoniumhalogenide oder Phosphoniumhalo- enthalten, entstehen als Nebenprodukte bei der großgenide als Katalysatoren für die Umsetzung von technischen Herstellung von Trichlorsilan durch Um-Kohlenwasserstoffhalogeniden mit Polysilanen ver- 6° setzen von Chlorwasserstoff mit Silicium. Für die erwenden kann. findungsgemäßen Zwecke kann man die einzelnenZiel der Erfindung ist daher die Durchführung der Silane zuerst isolieren und dann nach dem erfindungs-Umsetzung von Kohlenwasserstoffhalogeniden mit gemäßen Verfahren umsetzen, oder man kann den Polysilanen in einer Weise, die wirtschaftlicher ist, als Rückstand aus den obenerwähnten technischen Verdie bekannten Verfahren. Diese Umsetzung wird bei 65 fahren auch direkt verwenden,
niedrigeren Temperaturen durchgeführt und ergibt Geeignete Beispiele von Silanen sind Disilane,bessere Ausbeuten. Erfindungsgemäß sollten sich wie Hexachlordisilan, 1,2-Dimethyltetrachlordisiian, ferner Polysilanrückstände, die durch die Reaktion !,l-Dimethyltetrachlordisilan, 1,1,2,2-Tetramethyldi-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US383758A US3878234A (en) | 1973-07-30 | 1973-07-30 | Preparation of hydrocarbon silanes from polysilanes |
US38375873 | 1973-07-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2430950A1 DE2430950A1 (de) | 1975-02-27 |
DE2430950B2 DE2430950B2 (de) | 1976-06-16 |
DE2430950C3 true DE2430950C3 (de) | 1977-02-03 |
Family
ID=
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010062984A1 (de) * | 2010-12-14 | 2012-06-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Halogen- und Hydridosilane |
DE102010063823A1 (de) * | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hydridosilanen |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102010062984A1 (de) * | 2010-12-14 | 2012-06-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Halogen- und Hydridosilane |
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