DE2415323A1 - Photoaktive polymerisate mit induziertem exocyclischem quartett-konzept - Google Patents
Photoaktive polymerisate mit induziertem exocyclischem quartett-konzeptInfo
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Description
80Q0 Mt1 W-H EN 22
DIPL.-ING. A. GRÜNECKER Maximlianstraße 43
DR-ING H. KINKELDEY Telefon (0311) 22 23 62 (4 lim
DR.-.Ng'. W. STOCKMAIR. Ae. E. _ ~. — . ^^^ ^
PATENTANWÄLTE
DB. K. SCHÜMANN · DIPL.-ING. P. JAKOS
ρ 8019 2415323 29
Xerox Corporation
Xerox Square
Rochester, New York 14-603
Photoaktive Polymerisate mit induziertem exocyclischem
Quartett-Konzept
Die Erfindung liegt auf dem Gebiet der Xerographie und be- . trifft ein neues, lichtempfindliches Abbildungsmittel » seine
Herstellung und seine Verwendung in einem Abbildungsverfahren.
In der Xerographie v/ird eire xerographische Platte, die
eine lichtleitfähige Isolierschicht enthält, in eine
Abbildung überführt, indem zuerst ihre Oberfläche gleichmassig
elektrostatisch aufgeladen wird. Dann wird die Platte'einem Muster von aktivierender, elektromagnetischer
Strahlung, wie z.B. licht, ausgesetzt, die die ladung in den belichteten Bereichen des lichtleitendsn
Isolators selektiv abbaut, v/ährend ein latentes elektro-3
ta-Ji s ehe ο Bild in den nichrbelioh^eten Bereichen zurückbleibt.
Dieses latente elektrostatische Bild kann
dann entwickelt v/erden, um ein sichtbares Bild durch Abscheidung feinzerteilter elektroskopisch markierender
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Teilchen auf der Oberfläche der phouoleitfähigen Isolierschicht
zu "bilden.
Sine photoleitfähige Schicht zur Verwendung in der Xerographie
kann eine homogene Schicht eines .einzigen Ma-: terials, wie z.B. glasigen Selens, sein, oder sie kann
eine zusammengesetzte Schicht sein, die einen Photoleiter und ein weiteres Material enthält. 3ine Art zusammengesetzter
photoleitfähiger Schicht, wie sie in der
Xerographie verwendet wird, ist in der US-PS 3 121 006 wiedergegeben, die eine Anzahl von 3inderschichten "beschreibt,
welche fein zerteilte Partikel einer photoleitf ähigen anorganischen Verbindung enthalten, die in
einem elektrisch isolierenden organischen Earzbinder dispergiert sind. In ihrer derzeitigen Kandelsform enthält
die Binderschicht ZinkoxidTeilchen, die gleichförmig
in einem Earzbinder dispergiert sind, und ist auf eine Papierlage aufgezogen.
In einzelnen, in der genannten Patentschrift beschriebenen
Beispielen für Bindersysteme enthält der Binder ein Material, das nicht in der Lage ist;, eingebrachte, durch
die Photoleiterteilchen erzeugte Ladungsträger über eine wesentliche Entfernung zu transportieren. Folglich
müssen "bei den speziellen, in der genannten US-PS offenbarten iiaterialien die Photoleiterteilchen sich in praktisch
kontinuierlicher Teilchen-an-jeilchen-Berührung
durch die ganze Schicht befinden, um den für wiederholten
Betrieb erforderlichen Ladungsabbau zu ermöglichen. Bei der gleichförmigen Verteilung von Phouoleiterteil-,.
chen, v/ie sie in der US-PS beschrieben ist, ist daher gewöhnlich eine verhältnismässig hohe Voluaenkonzentration
an Phocoleiter, bis zu etwa 50 Volumenprozent ede?*
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mehr, notwendig, um für· rasche Entladung ausreichende
Teilchen-an-Teilchen-Berührung des Photoleiters zu erhalten.
"3s wurde jedoch gefunden, dass hohe Photoleiteranteile in den"Binderschichten des Harztyps dazu führen,
die physikalische Kontinuität des Harzes zu zerstören, was die mechanischen Eigenschaften der Binderschicht
"beträchtlich herabsetzt. Schichten mit hohen Photoleitergehalt zeichnen sich oft durch eine brüchige
Binderschicht von geringer oder fehlender Flexibilitat
aus. Wird andererseits die Photoleiterkonzentration beträchtlich
unter etwa 50 Volumenprozent gesenkt, sinkt die Entladegeschwindigkeit, was ein erneutes oder wiederholtes
Abbilden mit hoher Geschwindigkeit schwierig oder unmöglich macht.
Die US-P3 3 121 007 offenbart einen weiteren Photoleitertyp,
der eine zweiphasige, photoleitfähige Binderschicht
mit photoleitfähigen isolierenden Teilchen,
dispergiert in einer homogenen, phocoleitfähigen, isolierenden Matrix, umfasst. Der Photoleiter liegt in
Form eines teilchenförmigen, pho colei'jf ähigen, anorganischen kristallinen Pigments vor, das, nur allgemein
offenbart, in einer !,!enge von e twa 5 bis 80 Gew.-?o zugegen sein soll. Die Photoentladung sol/durch die Kombination von Ladungsträgern, die in dem photoleifcfähigen, isolierenden Matrixmaterial erzeugt werden, und von
Ladungsträgern, die von dem photoleitfähigen kristallinen Pigment in die photoleitfähige, isolierende Matrix eingebracht v/erden, ausgelöst werden.
dispergiert in einer homogenen, phocoleitfähigen, isolierenden Matrix, umfasst. Der Photoleiter liegt in
Form eines teilchenförmigen, pho colei'jf ähigen, anorganischen kristallinen Pigments vor, das, nur allgemein
offenbart, in einer !,!enge von e twa 5 bis 80 Gew.-?o zugegen sein soll. Die Photoentladung sol/durch die Kombination von Ladungsträgern, die in dem photoleifcfähigen, isolierenden Matrixmaterial erzeugt werden, und von
Ladungsträgern, die von dem photoleitfähigen kristallinen Pigment in die photoleitfähige, isolierende Matrix eingebracht v/erden, ausgelöst werden.
Die US-PS 3 037 361 offenbart, dass Polyvinylcarbazol eine gewisse langwellige UV-Empfindlichkeit zeigt, und
empfiehlt, die spektrale Empfindlichkeit durch den Zu-
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satz von Partstcffsensibilisatoren ois zum sichtbaren
Spektralbereich, auszudehnen. Ferner empfiehlt; sie,
aridere Zusätze, wie z.B. Zinkoxid cder Titandioxid, auch in-Verbindung" mit Polyvinylcarbazol, zu verwenden.
3s ist klar, dass das Polyvinylcarbazol als Photoleiter verwendet werden soll, mit oder ohne Zusatzstoffen,
die seine spektrale Empfindlichkeit ausdehnen.
Darüberhinaus sind gewisse, besonders für die Heflexabbildung
bestimmte, spezielle Schichtstrukturen vorgeschlagen
worden. Die US-PS 3 165 405 z.B. wendet eine zweischichtige Zinkoxidbinderstruktur zum P.eflexabbilde'n
an. Sie verwendet zwei getrennte, aneinandergrenzende
photoleitfähige Schichten axt verschiedenen
spektralen Empfindlichkeiten, um eine besondere Heflexabbildungssecuenz
durchzuführen. Das hier beschriebene Mittel nutzt die Eigenschaften mehrerer pliotolextfähiger
Schichten, um die kombinierten Vorteile der getrennten Photoanregung der jeweiligen phocoleitfähigen
Schichten zu erzielen.
Aus der vorstehenden Übersicht über die herkömmlichen
zusammengesetzten photoleitfähigen Schichten ist zu erkennen,
dass nach Belichtung die Photoleitfähigkeit in der. Sehichfcsrruktur durch Iadungstransport durch die
Masse der photoleitfähigen Schicht erreicht wird, wie
im Falle glasartigen Selens (und anderer homogener Schichtmodifikationen). In pho toleitf ähige Binders υτ-ukturen
verwendenden Vorrichtungen, die inaktive, elektrisch isolierende Farze umfassen, wie die, die in der
US-PS 3 121 006 beschrieben sind, wird Leitfähigkeit
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oder Ladungstransport durch hohe Anteile des photoleitfähigen
Pigments erreicht, was Teilchen-an-Teilchen-Berührung
der photoleitfähigen Teilchen ermöglicht. Im Falle von in einer photoleitfähigen Matrix
dispergierten photoleitfähigen Teilchen, veranschaulicht z.B. in der US-PS 3 121 007, erfolgt Photoleitfähigkeit
durch die Erzeugung von Ladungsträgern sowohl in der photoleitfähigen Matrix als auch in den
photoleitfähigen Pigmentteilchen.
Obgleich sich die obigen Patentschriften auf verschiedene Entladungsmechanismen durch die photoleitfähige
Schicht hindurch· beziehen, leiden sie im allgemeinen an gemeinsamen Mängeln, indem nämlich die photoleitfähige
Oberfläche während des Betriebs der Umgebung ausgesetzt ist, und insbesondere im Falle erneuter Xerographie
dem Abrieb, chemischem Angriff, Hitze und vielfacher Belichtung während wiederholten Betriebs unterliegt.
Diese Effekte zeichnen sich durch eine stufenweise Verschlechterung in den elektrischen Eigenschaften
der photoleitfähigen Schicht aus, was zur Ausbildung von Oberflächenfehlern und Kratzern j "obegrenzten
Bereichen ständiger Leitfähigkeit, die keine elektrostatische
Ladung halten, und hoher Dunkelentladung führt.
Zusätzlich zu den obigen Problemen erfordern diese photoleitfähigen
Schichten, daß der Photoleiter entweder 100% der Schicht umfaßt, wie im Falle der glasartigen
Selenschicht, oder daß sie vorzugsweise einen hohen Anteil an photoleitfähigem Material in der Binderzusammensetzung enthalten. Die Anforderungen an eine
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das gesamte oder einen größeren Anteil des photoleitfähigen Materials enthaltende photöleitfähige
Schicht beschränken weiter die physikalischen Eigenschaften der endgültigen Platte, Walze oder Bandes,
■ indem die physikalischen Eigenschaften, wie z.B. Flexibilität und Adhäsion des Photoleiters an ein Trägersubstrat
hauptsächlich von den ^physikalischen Eigenschaften des Photoleiters bestimmt werden und
nicht von dem Harz oder dem Matrixmaterial, das vorzugsweise in einer kleineren Menge vorhanden ist.
Eine weitere Form einer zusammengesetzten photoempfindlichen Schicht, die vom Stand der !Technik ebenfalls in
Betracht gezogen wurde, umfaßt eine Schicht photoleitfähigen
Materials, die mit einer verhältnismäßig dicken Kunststoffschicht bedeckt und auf einem Trägersubstrat
aufgezogen ist. Die US-PS 3 04-1 166 beschreibt eine
solche Anordnung, bei der ein transparentes Kunststoffmaterial über einer Schicht von glasartigem Selen liegt,
die auf einem Trägersubstrat enthalten ist. Das Kunststoff
material soll einen großen Bereich für Ladungsträger
der gewünschten Polarität besitzen. Beim Betrieb wird die freie Oberfläche des transparenten Kunststoffs
auf eine gegebene Polarität elektrostatisch aufgeladen. Dann wird die Anordnung aktivierender Strahlung
ausgesetzt, die in der photoleitfähigen Schicht ein Loch - Elektronen-Paar erzeugt. Das Elektron bewegt
sich durch die Kunststoffschicht und neutralisiert eine positive Ladung auf der freien Oberfläche der
Kunststoffschicht, wodurch ein elektrostatisches Bild
erzeugt wird. Diese Patentschrift offenbart jedoch keine speziellen Kunststoffmaterialien, die in dieser Wei-
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se wirken, und "beschränkt ihre Beispiele auf t Strukturen,
äie ein Pho ^leitermaterial für die Oberschicht
verwenden.
Die PH-PS 1 577 355 beschreibt eine zusammengesetzte
photoe:npfindliche Jtordnung für spezielle Zwecke, die
für Reilexbelichrung durch polarisiertes licht geeignet
ist. Eine Ausführungsform verwendet eine Schicht
dichroitischer, organischer, photoleitfähiger Teilchen,
die auf einem tragenden Substrat orientiert angeordnet sind, sowie eine Schicht aus Polyvinylcarbazol über
der orientierter. Schicht dichroitischen Materials. Wenn die orientierte dichroitische Schicht und die
Polyvinylcarbazclschicht geladen und licht ausgesetzt sind, v/elches senkrecht zu·" Orientierung der dichroitischen
Schicht polarisiert ist, sind beide Schichten für das anfängliche Bestrahlungslicht praktisch transparent.
Trifft das polarisierte Licht den -,veissen Hintergrund
des gerade kopierten Dokuments, wird das Licht, depolarisiert, durch die Anordnung reflektiert und von dem
dichroitischen photoleitfähigen Material absorbiert.
Bei einer weiteren Ausführur.gsf orni ist der dichroi tische
Photoleiter in orientierter '.'/"eise über die Polyvinylcarbazolschicht
verteilt.
In den amerikanischen Patentanmeldungen 94 139, 93 994,
*94 071 und 93 9"5 vom 1.42.1971 werden photoempfindliche Mittel
mit funktionellen Materialien beschrieben. Das erste Material 13'; ein Photoleiter, der in der Lage ist, lichterregte Löcher und 31ekö~oner. in einem angrersnden,
elektronisch aktiven !,!aterial zu erzeugen und einzubringen.
Das elektronisch aktive Material umfasst ein trans- ' parenses organisches lüaserial, das elektromagnetische
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BAD ORIGINAL
Strahlung im Bereich der beabsichtigten xerographischen
Verwendung praktisch nicht absorbiert, das aber elektronisch aktiv ist, indem es das Injizieren von
lichterregten Löchern oder Elektronen von dem Photoleiter her und weiter den Transport dieser lichterzeugten
Ladungen durch das aktive Material zum selektiven Abbau einer Oberflächenladung ermöglicht.
Die Verwendung von elektronisch aktiven Materialien in Kombination mit Photoleitern in xerographischen Photorezeptoren,
wie sie in den vorgenannten Anmeldungen offenbart sind, ist für die Xerographie von enormer Bedeutung.
Beispielsweise kann diese Art von Photoempfänger bis herab zu 0,1 Volumenprozent Photoleiter, bezogen
auf elektronisch aktives organisches Material, enthalten, wodurch es wirtschaftlich wird. Zudem bieten
diese Photoempfänger hervorragende physikalische Festigkeit und Flexibilität, was ihre Verwendung unter raschen
Wiederholungsbedingungen ermöglicht, die in derzeitigen xerographischen Prozessen gefordert werden.
So ist leicht zu erkennen, daß ein fortbestehendes Bedürfnis zur Entwicklung xerographischer Photoempfänger
besteht, die die für die Bedingungen raschen wiederholten Betriebs erfaderlichen elektrischen und physikalischen
Eigenschaften besitzen. Zudem wird der Bedarf nach Photoempfängern, die neue Zusammensetzungen elektronisch
aktiver organischer Materialien und Photoleiter enthalten, sehr hoch geschätzt.
Die Erfindung soll eine neue, photoempfindliche, für wiederholtes Abbilden (cyclic imaging) geeignete Vorrich-
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tung und ein -neues Abbildungssystem schaffen. Die Erfindung
soll ferner photoempfindliche Mittel zur Verfügung stellen,
die eine wirksame Löchererzeugung durch Licht und einen Löcher-, transport "zeigen; die Erfindung soll ferner ein Verfahren zur
Herstellung dieser Mittel angeben. Weiterhin soll die Erfindung neue lichtempfindliche .Vorrichtungen und ein neues Verfahren
zur Bilderzeugung auf photoempfindlichen Vorrichtungen zur Verfugung stellen. Schließlich soll die Erfindung neue photoempfindliche
Vorrichtungen schaffen, die hervorragende mechanische Eigenschaften aufweisen. Diese Aufgaben werden durch die
Erfindung gelöst.
Erfindungsgemäss wird ein lichtempfindliches Mittel mit
wenigstens zwei funktionellen Materialien vorgesehen. Das erste Material umfasst eine photoleitfähige Substanz,
die in der Lage ist, bei Lichtanregung Löcher zu erzeugen und in ein angrenzendes oder benachbartes,
elektronisch aktives Material zu injizieren. Das elektronisch aktive Material umfasst ein transparentes,
organisches, polymeres oder nichtpolymeres Material, das im Bereich der beabsichtigten Verwendung sichtbares Licht
oder Strahlung praktisch nicht absorbiert, das aber insoweit aktiv ist, als es die Injektion von durch Licht erzeugten
Löchern aus der photoleitfähigen Schicht erlaubt und den Transport dieser Löcher durch die aktive Schicht zur
selektiven Entladung einer Oberflächenladung: auf der freien Oberfläche der aktiven Schicht ermöglicht.
Die erfindungsgemäß besonders bevorzugten organischen, elektronisch
aktiven Verbindungen umfassen phenylsubstituierte polycyclische Verbindungen, wie 2-Phenylnaphthalin, 2-Phenylanthracen,
2-Phenylin3ol, v-Rienylindol, 1-Ihenylpyren, 2-Fhenylnyre.n 1IHd
deren entsprechende Polymerisate. Spezielle Beispiele von Kono-
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BAD ORIGINAL
mereinheiten von erfindungsgemäß verwendbaren Polymerisaten
sind nachstehend zusammengestellt:
C CH
C —CII.
In den vorstehenden Strukturformeln bedeutet R z.B. einen Alkyl-
rest wie einen Alkylrest mit 1 bis 15 Kohle nstoffatomen und
vorzugsweise mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, \vie eine Methylrrruppe,.
die wiederum reaktive'Substituenten zum Pfropfen, wie eine
Hydroxylgruppe, enthalten kann; R bedeutet weiterhin einen Arylrest, wie eine Phenylgruppe, einschließlich Alky!phenyl-
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Ealcgenphenyl-, Hydroxylphenyl- und CyariopLeiiylresten; i±
wird üblicherweise als positive Zahl mit Werten von etwa 5 bis etwa 5000, oder höher definiert; das Polymerisat kann
Molekulargewichte bis zu etwa 1 Million oder höher" haben.
Ein breiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung umfaßt die Verbindungsklasse mit phenylsubstituierten aromatischen oder
heterocyclischen Gruppen mit mindestens zwei kondensierten Ringkernen, wobei die Position der Phenylgruppe durch die
Annahme bestimmt wird, daß ein Hauptring (pivotal ring) aus einem aromatischen oder heterocyclischen Rest, der einen
Ring mehr besitzt als die substituierte Verbindung, eliminiert worden sei.
Die vorliegende Erfindung umfaßt auch photoaktive Polymerisate mit einem induzierten exocyclischen Quartett-Konzept. Die
Erfindung umfaßt ferner ein lichtempfindliches Material bzw. Mittel mit wenigstens zwei funktioneilen Materialien. Das erste
Material umfaßt eine photoleitfähige Substanz, die in der Lage ist, bei Lichtanregung Löcher zu erzeugen und in ein angrenzendes
oder benachbartes elektronisch aktives Material zu injizieren. Das elektronisch aktive Material wird unter Einwirkung
mindestens eines Katalysators aus Vinylderivaten geeigneter
polycyclischer Verbindungen synthetisiert. Spezielle Beispiele solcher Verbindungen sind phenylsubstituierte aromatische oder
heterocyclische Gruppierungen, wie Phenylnaphthaline, Phenylanthracene,
Pnenylindole, Phenylpyrene und deren entsprechende •Polymerisate. Das aktive Material absorbiert die in der Xerographie
verwendeten Wellenlängen praktisch nicht und ist zum Transport von durch Licht erzeugten Löchern befähigt. Die photoleitenden
und elektronisch aktiven Materialien können mit einem Binder kombiniert oder in schichtenförmigen xerographischen
Aufzeichnungsmaterialien verwendet werden.
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Verständlicherweise ermöglicht die Verwendung dieser elektronisch aktiven Substanzen eine Vielfalt von
Photoempfängerstrukturen. Daher können die elektronisch
aktiven Substanzen zusammen mit photoleitfähigem Material in Form einer Binderstruktur oder einer Schichtanordnung
vorliegen.
Die erfindungsgemäßen aktiven Materialien wirken nicht als Photoleiter im Wellenlängenbereich xerographischer
Anwendung. Wie oben angegeben, werden Loch-Elektronen Paare
in dem photoleitfähigen Material durch Licht erzeugt,
und die Löcher werden dann in das angrenzende oder benachbarte, elektronisch aktive Material injiziert, und
der Löchertransport erfolgt durch das aktive Material.
Zu einer typischen Anwendung der Erfindung gehört die Verwendung einer Sandwich-Zelle oder Schichtenanordnung,
die bei einer Ausführungsform aus einem tragenden Substrat, wie z.B. einem Leiter, der darauf eine photoleitfähige
Schicht enthält, besteht. Die photöleitfähige Schicht kann z.B. in Form einer Schicht aus einem amorphen oder
glasartigen Selen vorliegen. Eine transparente 2-Phenylindol-Schicht,
die die Löcherinjektion und -transport ermöglicht, wird als Überzug auf die photoleitfähige Selenschicht
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aufgebracht. Die Verwendung der transparenten, elektronisch aktiven Schicht aus 2-Phenylindol ermöglicht es,
Vorteile zu ziehen aus der Anordnung einer photoleitfähigen Schicht nahe dem tragenden Substrat sowie aus dem
Schutz der photöleitfähigen Schicht durch eine äußere
Oberflächenschicht, die den Transport von durch Licht erzeugten Löchern aus dem Photoleiter ermöglicht und
zugleich als physikalischer Schutz der photoleitfähigen Schicht gegenüber Umgebungsbedingungen wirkt. Diese Struktur
kann dann in herkömmlicher xerographischer Weise belichtet werden, was gewöhnlich Aufladen, optische Belichtung
und Entwicklung umfaßt.
Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Ausführung
sbeispiel en, vor allem in Verbindung mit den Zeichnungen. Darin zeigt:
Pig. 1 ein Diagramm der Photoempfindlichkeit gegen die Feldabhängigkeit für ein elektronisch aktives
Material alleine und in Verbindung mit einem Photoleiter}
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Fig. 2 ein Diagramm ähnlich Fig. 1 für ein zweites
aktives Material;
Fig. 3 ein Diagramm des Absorptionsspektrums für
Polyvinylcarbazol;
Fig. 4 ein Diagramm des Absorptionsspektrums für Pyren,
Fig. 5 bis 9 je eine schematische Darstellung einer
Ausführungsform einer erfindüngsgemäßen Vorrichtung bzvr. Anordnung, und
Fig.10 die Entladungscharakteristiken der erfindungsgemäßen
elektronisch aktiven Materialien.
Wie hierin definiert, ist ein Photoleiter ein Material, das in dem Wellenlängenbereich, in dem es verwendet
werden soll, auf Licht elektrisch anspricht. Insbesondere ist es ein Material, dessen elektrische Leitfähigkeit
entsprechend der Absorption elektromagnetischer Strahlung in einem Wellenlängenbereich, in dem es benützt
werden soll, beträchtlich ansteigt. Diese Definition wird nötwendig durch die Tatsache, daß eine große
Zahl aromatischer organischer Verbindungen als photoleitfähig bekannt sind oder die Photoleitfähigkeit erwartet
wird, wenn sie mit stark absorbierter UV-, Röntgen- oder Gamma-Strahlung bestrahlt werden. Photoleitfähigkeit
in organischen Materialien ist ein übliches Phänomen. Praktisch alle hochkonjugierten organischen
Verbindungen entwickeln ein bestimmtes Maß an Photoleitfähigkeit unter geeigneten Bedingungen. Die meisten
dieser organischen Materialien haben ihre Hauptwellenlängenanregung in den auf UV ansprechenden Materialien,
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und ihre Anregung durch kurze Wellenlängen ist nicht
sonderlich geeignet für das Kopieren von Vorlagen oder Farbreproduktionen. In Anbetracht des allgemeinen
Überwiegens einer Photoleitfähigkeit in organischen Verbindungen:!aufgrund der Anregung kurzer. Wellenlängen
ist es 'daher -nötig, im Rahmen dieser Erfindung den Ausdruck "Photoleiter11 oder "phot öl ei t fähig" so
zu verstehen, daß nur solche Materialien umfaßt werden, die tatsächlich in dem Wellenlängenbereich, in
dem sie verwendet werden sollen, durch Licht angeregt werden.
Elektronisch aktives Material, wie es in dieser Erfindung beschrieben wird, das auch als aktives Matrixmaterial
bezeichnet wird, wenn es als eine Matrix für eine Binderschicht benutzt wird, ist ein praktisch nichtphotoleitfähiges
Material, das 'die Wirksamkeit der Injektion von durch Licht erzeugten Löchern aus der
photoleitfähigen Schicht zu wenigstens etwa 10% bei
Feldstärken von etwa 2 χ 10-7 V/cm unterstützt. Dieses
Material zeichnet sich weiter durch die Fähigkeit zum
—5 Transport des Trägers von mindestens 10 cm bei einer
Feldstärke von nicht mehr als etwa 10 V/cm aus. Zudem ist das aktive Material in dem Wellenlängeribereich, in
dem die Anordnung verwendet werden soll, transparent.
Die aktiven Transportmaterialien, die zusammen mit Photoleitern
^mäß der Erfindung eingesetzt werden sollen, sind Materialien, die insoweit Isolatoren sind, als eine
elektrostatische Ladung, die auf die aktiven Transportmaterialien aufgebracht wurde, bei fehlender Belichtung
nicht geleitet wird, und zwar in einem solchen Umfang, der ausreicht, die Bildung und Retention eines elektro-
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statischen latenten Bildes darauf zu vermeiden. Dies bedeutet im allgemeinen, daß der spezifische Widerstand
des aktiven Transportmaterials wenigstens etwa
10
10 ohm-cm sein sollte.
10 ohm-cm sein sollte.
Wie aus den vorstehenden Ausführungen zu entnehmen ist, sind die für die aktiven.Transportsysteme gemäß der
Erfindung brauchbaren besonderen Materialien nebenbei auch photoleitfähig, wenn Strahlung von für elektronische
Erregung geeigneten Wellenlängen von ihnen absorbiert wird. Ph'otoerregung im Bereich kurzer Wellenlängen
jedoch, der außerhalb des Spektralbereichs fällt, für den der Photoleiter verwendet werden soll, ist für die
Leistung der Anordnung bzw. Vorrichtung unerheblich. Bekanntlich muß Strahlung absorbiert werden, um Photolei
tfähigkeitsanregung hervorzurufen, und die obigen Transparentkriterien für die aktiven Materialien besagen,
daß diese Materialien nicht in wesentlichem Umfang von Photoanregung des Photoempfängers in dem verwendeten
Wellenlängenbereich beitragen.
Der Grund für das Erfordernis, daß die aktiven Transportmaterialien
transparent sein müssen, beruht auf der Erkenntnis, daß unter allen praktischen Bedingungen die
Wirksamkeit der Lichteinstrahlung von dem Photoleiter in die aktiven Materialien für sichtbare, von dem Photoleiter
absorbierte Strahlung die dem aktiven Material in jeglichem Wellenlängenbereich, dem sichtbaren oder
einem anderen, eigene Photoempfindlichkeit bei weitem übersteigt. Diese Lage wird von den Fig. 1 und 2 veranschaulicht,
die einen Vergleich der Feldabhängigkeit der Einstrahlungsempfindlichkeit des Photoleiterselens
in sowie die materialeigene Photoempfindiichkeit von
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zv/ei elektronisch aktiven Materialien zeigen, die in
den BE-PSen 763 54-0 und 763 54-1 offenbart sind, nämlich
Polyvinylcarbazol (PVK) und Polyvinylpyren (PVP), jeweils gemessen an Proben von 20 Mikron Stärke auf einem
Aluminiumsubstrat und hergestellt nach den in diesen Anmeldungen beschriebenen Methoden. Die Kurven für die
Schichtenstrukturen der gleichen Materialien mit einer 0,4 Mikron starken Schicht glasartigen Selens zwischen
der Schicht aktiven Materials und dem Substrat sind ähnlich denen der Struktur der Pig. 2.
Die Daten der' Fig. 1 und 2 werden durch Auftragen der anfänglichen xerographisehen Ausbeute (g) alsFunktion
des angewandten Feldes bestimmt. Die xerographische Ausbeute wurde aus d!er anfänglichen Entladegeschwindigkeit
(dv/dt)t=o
G =
(eld/ S)
berechnet, worin I der auftreffende, direkte Photonenfluß,
d die Stärke der Schicht, £ die elektrische Dielektrizitätskonstante und e die Elektronenladung ist.
Eine xerographische Ausbeute einer Einheit würde beobachtet, wenn ein Ladungsträger pro auftreffendes Photon angeregt
würde und sich durch die Schicht bewegen würde. Aus den Fig. 1 und 2 wird klar, daß die materialeigene
Photoleitfähigkeit der aktiven Materialien bei ihrem Absorptionswellenlängen-peak (UV-Anregung) zu Ausbeuten
führt, die erheblich geringer sind als die wirksamen photoleitfähigen Materialien mit Zweiphasenstruktur, wie
sie z.B. durch die Schichtenstrukturen unter Verwendung
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dünner Selenschichten mit geeigneten aktiven Materialien veranschaulicht werden, die Ausbeuten von annähernd
0,70 bei einem PeId von etwa 10 V/cm erreichen, unter
Anwendung einer anregenden Wellenlänge innerhalb des sichtbaren Spektrums (4000 - 8000 Ä).
Die Fig. 3 und 4 sind Absorptionsspektren für PVK und
PVP bei Wellenlängen von 2500 - 4000 S. . Aus diesen
Spektren wird klar, daß PVK und PVP, wenn überhaupt, vernachlässigbare Entladung zeigen, wenn sie einer
Wellenlänge von in der Xerographie brauchbarem Licht, d.h. 4000 - 8000 Ä , ausgesetzt werden. Die offensichtliche
Verbesserung der Leistung, die sich aus der Verwendung der zweiphasigen Systeme dieser Art ergibt,
kann am besten verwirklicht werden, wenn das aktive Material praktisch transparent gegenüber der Strahlung
in einem Bereich ist, in welchem der Photoleiter verwendet werden sollj denn jede Absorption von erwünschter
Strahlung durch das aktive Material hindert diese Strahlung das photoleitfähige Material zu erreichen, wo sie
viel wirkungsvoller zur Anwendung gelangt. Daraus folgt, daß es vorteilhaft ist, elektronisch aktive Materialien
zu verwenden, die transparent sind bei Wellenlängen, bei denen der Photoleiter hauptsächlich angeregt wird,
und insbesondere bei dem Wellenlängenbereich, in dem der Photoleiter verwendet werden soll, Die elektronisch
aktiven Materialien gemäß der Erfindung zeigen auch Transparenz und fehlende Absorption im Wellenlängenbereich
von 4000 - 8000 £ .
Unter Bezug aif Fig. 5 zeigt die Bezugsziffer 10 eine
bevorzugte Ausführungsform der Erfindung, die ein pho-
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toempfindliches Mittel in Form einer Platte mit einem tragenden Substrat 11 umfaßt, welches mit einer Binderschicht 12 überzogen ist. Das Substrat 11 enthält
bevorzugt jedes geeignete leitfähige Material. Typische Leiter sind Aluminium, Stahl, Messing od.dgl..
Das Substrat kann starr oder·flexibel und von jeder geeigneten Stärke sein. Typische Substrate umfassen
flexible Bänder oder Hülsen, Bleche, Stege oder Netze (webs), Platten, Zylinder und Trommeln. Das Substrat
oder der Träger kann auch eine zusammengesetzte Struktur aufweisen, wie z.B. eine dünne, leitfähige Beschichtung
auf einer Papierunterlage; ein Kunststoff, beschichtet mit einer dünnen leitfähigen Schicht, wie
z.B. aluminium oder Kupferiodid; oder Glas, beschichtet mit einem dünnen leitfähigen Überzug aus Chrom oder
Zinnoxid. Bei Verwendung eines transparenten Substrats sollte es klar sein, daß bildweise Belichtung gegebenenfalls
durch das Substrat oder die rückwärtige Schicht des abbildenden Mittels erfolgen kann.
Die Bindeschicht 12 enthält photoleitfähige Teilchen 13, die in nicht orientierter Anordnung in einer elektronisch
aktiven Matrix oder einem Bindermaterial 14 dispergiert
sind. Die photoleitfähigen Teilchen können aus jedem geeigneten anorganischen oder organischen Photoleiter und
deren Gemischen bestehen, die in der Lage sind, durch Licht erzeugte Löcher in die Matrix einzuführen. Typische
anorganische Materialien umfassen anorganische kristalline Verbindungen und anorganische photoleitfähige
Gläser. Zu typischen anorganischen kristallinen Verbindungen gehören Cadmiumsulfoselenid, Cadmiumselenid,
Cadmiumsulfid und deren Gemische. Anorganische photo-
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leitfähige Gläser umfassen amorphes Selen und Selenlegierungen,
wie z.B. Selen-Tellur und Seien-Arsen.
Selen kann auch als kristalline Form verwendet werden, die als trigonales Selen bekannt ist. Typische
organische Materialien umfassen Phthalocyaninpigmente, wie z.B. Kupfer-Phthalocyanin} Chinacridone (Monastral
Rot, Monastral Violett und Monastral Rot Y der DuPont)} substituierte 2,4-Diamino-triazine der US-PS 3 44-5 227;
Triphenodioxazine der US-PS 3 44-2 781; mehrkernige aromatische
Chinone (Indofast Doppelscharlach, Indofast
Violett Pigment B,'Indofast Brilliant Scharlach und Indofast Orange der Allied Chemical Corp.). Diese Zusammenstellung
von Photoleitern ist in keiner Weise begrenzend, sondern veranschaulicht lediglich geeignete
Materialien. Die Abmessungen der photoleitfähigen Teilchen
ist nicht kritisch, aber Teilchen in einer Größe im Bereich von etwa 0,01 - etwa 1 Mikron führen zu besonders
befriedigenden Ergebnissen.
Wie zuvor festgestellt, werden die photoleitfähigen Materialien gemäß der Erfindung in nicht orientierter
Weise eingesetzt. Unter "nicht orientiert" ist zu verstehen, daß das Pigment oder das photoleitfähige Material
isotrop hinsichtlich der anregenden elektromagnetischen Strahlung ist, insofern, als es gegenüber jeder
Polarisierung der anregenden Strahlung gleich empfindlich ist. "
Das elektronisch aktive Matrixmaterial 14- umfaßt die vorstehend beschriebenen phenylsubstituierten aromatischen
oder heterocyclischen organischen Materialien; spezielle
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Beispiele dafür sind 2-Phenylnaphthalin, 2-Phenylanthracen,
4-Phenylpyreh und 2-Phenylindol. Diese Materialien unterstützen
die Einführung von durch. Licht angeregten Löchern aus dem photoleitfähigen Pigment und ermöglichen den Transport
dieser Löcher durch das aktive Matrixmaterial zur selektiven Entladung der Oberflächehladung. Ferner sind die entsprechenden
Kondensations-,Additions- und andere Polymerisattypen von 2-Phenylnaphthalin, 2-Phenylanthracen, 4~Pyren und 2-Phenylindolen
elektronisch aktiv und fallen in den Bereich der Erfindung .
Wie oben angegeben, kann jedes Polymerisat (ein Polymerisat
ist ein grosses Molekül, das sich durch Wiederholung kleiner einfacher chemischer Einheiten aufbaut),
dessen sich wiederholende Einheit das geeignete,
elektronisch aktive organische Monomere gemäss der 3rfindung,
d.h., 2-Phenylindol, enthält, in Rahmen dieser Erfindung verwendet v/erden. Daher legt der Rahmen
dieser Erfindung nicht die Art des Polymerisats fest, die als Matrixmaterial verwendet v/erden kann. Polyester,
Polysiloxane, Polyamide, Polyurethane und Epoxide sowie Block-,Pfropf- oder statistische Copolymerisate
(die die sich wiederholende aromatische Einheit enthalten) sind Beispiele für die verschiedenen Polymerisattypen,
die eingesetzt werden können. Ausserdem können geeignete Mischungen aktiver Polymerisate mit inaktiven Polymerisaten oder nichtpolymeren Materialien
ebenfalls eingesetzt v/erden.
Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung der erfindun£;sgemäßen
Verbindungen umfaßt die Umwandlung geeigneter polycyclischer Moleküle mit einer organischen Säure, wie Essigsäure
oder dem Anhydrid, in Gegenwart von Zinkchlorid, wobei ein Acetylderivat erhalten wird. Dieses Derivat wird dann
409848/0978 . .
durch Umsetzen mit Triphenylmethylphosphoniumbromid und
einer Base wie n-Butyllitium, in das entsprechende Vinyl-Zwischenprodukt
umgewandelt. Das Vinyl-Zwischenprodukt wird anschließend polymerisiert. Vorzugsweise werden Homopolymerisate
oder Mischpolymerisate mit bis zn etwa 4-0 '
Gew.-% an anderen Monomeren hergestellt. Die Polymerisation wird vorzugsweise bei einer kontrollierten Temperatur von
etwa -75 C bis etwa 00C in einem geeigneten organischen
Lösungsmittel, wie Äthyläther, Methylenchlorid oder Tetrahydrofuran, in Gegenwart einer katalytischen Menge.(d.h.
etwa 100 bis 500 ppm) einer Lewis-Säure, insbesondere BF,.,
AlCl-,, SbCl.,, BiCl, und Triphenyl chi orme than, durchgeführt.
Die Synthese wird durch die nachstehenden Gleichungen verdeutlicht.
•2
cn.
CS.
ZnCl2
RCO v
'0
RCO
BF.
bis O 0C
Il
C R
?3 (Ph) P-Br
n-Butyllithiuia
„ Zwischenprodukt A
il
in dem vorstehenden PLeaktionsschema bedeutet R2 eine polycyclisch^
Gruppierung, wie ein Aryl mit mindestens zwei kondensierten Hingen oder eine- heterocyclische Gruppierung,wie eine Kaphbhalin-Carbazol-iAnthracen-,
Indol- oder Pyrengruppierung, die Ih.er.ylrieriväte,
die auf den Seiten 1Cund 36bis 3SaIs R^ definiert sind,
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sind im vorstehenden Reaktionsschema mit umfaßt, wobei dios.er
Bezug andere Reste nicht ausschließt; R und η haben die vorstehend angegebene Bedeutung. Anstelle von OSp können reeignete
organische alliphatische Säuren, wie Essigsäure oder Buttersäure, als Lösungsmittel eingesetzt werden, ■ falls dies
erwünscht ist. ' .
Gemäß einem weiteren bevorzugten "Verfahren zur Herstellung
des vorgenannten Zwischenprodukts A wird ein entsprechender Aldehyd- von Rp gemäß dem von J*L. Vollman, Annalen der Chemie,
Band 534- (1937), Seite 1 beschriebenen Verfahren nach der
Wittig-Reaktion umgesetzt, wobei das entsprechende Vinyl-Derivat
erhalten wird, das dann, wie angege-n, in üblicher Weise polymerisiert wird.
Wenn ein Kopolymerisat hergestellt werden soll, kann ein kontrolliertes
Gemisch mit bis zu etwa 90 Gew.-% eines Monomeren
aus einer polycyclisehen aromatischen Verbindung oder bis zu
etwa 10 Gew.-% eines Alkylvinylathers, Butadien oder eines anderen
aliphatischen Vinylmonomeren bei einer geringfügig höheren Temperatur von etwa -10 bis etwa 0 C in Gegenwart eines Lösungsmittels
und eines Katalysators des vorstehend beschriebenen Typs in üblicher Weise umgesetzt werden.
Im allgemeinen ist die aktive Schicht praktisch transparent
oder absorbiert nicht in zumindest einem wesentlichen Teil des Bereichs von etwa 4000 - 8000 A, wirkt aber noch in der Weise,
daß das Einführen und der Transport von Fehlstellen ermöglicht
wird, die innerhalb dieses Wellenlängenbereichs durch die photoleitenden PigTientteilchen erzeugt worden sind.
3ine obere Grenze der Volunankonzen-tration oder -belegung
an Photoleiter wird von verschiedenen Faktoren bestimmt: insbesondere (1) von der St-afe, bei
der die physikalischen Eigenschaften des Polymerisats
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ernsthaft beeinträchtigt werden; (2) der Stufe, bei der'ein erheblicher Transport durch Teilchen-an-Teilchen-Berührung
eintritt; und (3) der Stufe, an der mit leitfähigen Pigmenten,wie z.B. trigonalem Selen,
ütermässige Fehlstellenabwanderung während des Ladens
auftritt. Die beiden letzteren Faktoren führen häufig zu einem Ausbleiben der Fähigkeit zu erneutem Betrieb,
fm allgemeinen darf die obere Grenze für das photoleitfähige Pigment oder die Teilchen nicht über etwa 5 Vol.$
der Binderschicht liegen, um die beste Kombination von physikalischen und elektrischen Eigenschaften zu erzielen.
Sine untere Grenze für die photoleitfähigen Teilchen von etwa 0,1 Vol.$ der Binderschicht ist nötig,
um sicherzustellen, dass der Iichtabsorptionsk.oeffizient
ausreicht, uin eine beträchtliche Trägererzeugung zu ergeben. Um eine eng äquivalente Entladungsrate unter beiden
Ladebedingungen zu erzielen, ist es notwendig, in einem Bereich der Volumenbelegung zu arbeiten, wo die
Durchschnittstiefe der Lichtdurchdringung nahe dem Zentrum der Schicht liegt.
Eine vollständige Erläuterung der ladungseigenschaften
einer aktiven Binderplatte bezüglich der Yoluaenkonzentration
ist in der BE-PS 765 541 offenbart,
deren Inhalt deshalb bezugsweise hier einzubeziehen
Wie in der BE-PS 763 541 offenbart ist,
ist ein kritischer Bereich von etwa 0,1 bis 5 VoIS
des Photoleiters erforderlich, um die Vorteile der elektronisch aktiven MatrisSinder-Zuaamiriensetzung/gemäaö
dsr Erfindung zu erzieler..
Die Stärke der Binderschicht ist nicht besonders kritisch. Schichtdicken von etv:a 2 bis etwa 100 Mikron
haben sich al3 zufriedene teilend erv.'iesen, wobei eine
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bevorzugte Stärke von etwa 5 bis etwa 50 Mikron zu besonders
guten Ergebnissen führt.
Unter Bezug auf Fig. 6 bezeichnet die Bezugs;ziffer 10
ein Abbildungsmittel in Form einer Platte mit einem tragenden Substrat 11 und einer Binderschicht 12 hierauf
sowie einer aktiven Schicht 15 über der Binderschicht
12. Das Substrat 11 besteht bevorzugt aus Jedem geeigneten leitfähigen Material, wie z.B. die, die für das
Substrat der Fig. 5 genannt wurden.
Die Binderschicht 12 enthält photöleitfähige Teilchen
13» die ohne Orientierung in einem Binder 14 statistisch
verteilt sind. Die photoleitfähigen Teilchen können aus
jedem geeigneten anorganischen oder organischen Photoleiter und deren Gemischen bestehen. Geeignete photoleitfähige
Materialien umfaesen die, die oben für die
Struktur von Fig. 5 genannt wurden·
Das Bindermaterial 14 kann Jedes elektrisch isolierende Harz umfassen, wie z.B. die, die in der vorgenannten
US-PS 3 121 006 offenbart warden, ode Jedes geeignete
aktive Material, das das gleiche oder ein anderes als das für die Schicht 15 verwendete sein kann. Wird
ein elektrisch inaktives oder isolierendes Harz verwendet, ist es wesentlich, daß'»wischen den photoleitfähigen Teilchen Teilchen-än-Teilchen-Kontakt besteht. Dies erfordert das Vorliegen dea photoleitfähigen Materials in einer Menge von wenigstens etwa
25 Vol.% der Binderschicht ohne Begrenzung der Maximalmenge des Photoleiters in der Binderschicht. Venn
die Matrix oder der Binder ein elektronisch aktives Material umfaßt, muß das photoleitfähige Material nur
etwa 1 Vo.% oder weniger der Binderschicht ohne
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Begrenzung der Maximalmenge des Photoleiters, in der
Binderschicht umfassen. Die Stärke der photoleitfi-ihigen
Schicht" ist nicht kritisch. Schichtdicken von etwa 0,05 bia 20 Mikron haben-sich als zufriedenstellend
erwieaen, wobei eine bevorzugte Stärke von etwa 0,2 bia 5 Mikron zu guten Ergebnissen -führt.
Die elektronisch aktive Schicht 15 umfasst die elektronisch
aktiven Stoffe 2-Phenylnaphthslin, 2-Phenyl?inthr*cen,
2-Phenylindol und deren Polymerisate. Dieae S-ofίο air.i
in der lage, die Einführung von durch Licht angeregsn
Fehlstellen aua der photoleitfähigen Schicht zu unterstützen
und den Transport dieser Fehlstellen durch die organische Schicht zur selektiven Entladung einer Oberflächenladung
zu ermöglichen.
Die aktive Schicht dient nicht nur zum Transport von löchtra, sondern 3ohützt auch die photoleitfähige
Schicht vor Abrieb oder chemischem Angriff und erv/aiterfc
daher die betriebliche lebensdauer des abbildenden Photoempfangers. , ·
Im allgemeinen sollte die Stärke der elektronisch aktiven Schicht-.etwa 5 bia etwa 100 Mikron sein,
aber,auch Stärken ausserhalb dieses Bereichs 1:8ππ·3ϊι
verwendet werden. Das Verhältnis der Dicke der aktiven Schicht zur Photoleiterachicht sollte zwischen
etwa 2:1 bis 200:1 gehalten werden.
Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird
die Struktur der,Pig. 6 modifiziert, unt oioherzuattllen,
dass die photoleitfähigen Teilchen in ?orm
kontinuierlicher Ketten durch die Starke der Binderschicht
12 vorliegen. Diese Ausführungsfor:i ist in
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Pig. 7 dargestellt, bei der die G-rundotruktur und
-materialien die gleichen sind wie in3Tig.6f auaser^ dass
die p'ho^toleitfähigen Teilchen 13 in Form kontinuierlicher
Ketten vorliegen.
Andererseits kann die photol-eitf ähige Schicht ganz aus
dem praktisch homogenen, nicht orientierten, photoleitfähigen Material bestehen, wie z.B. einer Schichj&us
amorphem Selen oder Selenlegierung, oder einer pulverförmigen
oder gesinterten photoleitfähigan Schicht,
v/ie z.B. Cadmiumsulfoselenid oder Phthalocyanin. Diese Abwandlung ist in Pig. 8 veranschaulicht, wobei ein
photoerapfindliches Mittel 30,ein Substrat 11 mit einer homogenen photoleitfähigen Schicht 16 und einer darübe·»--
liegenden aktiven organischen Schicht 15 umfasst.
Eine v/eitere Abwandlung der in den Pig. 5» 6» 7 und 8
beschriebenen Binder und Schichtenkonfigurationen schlieest die Verwendung einer Sperrschicht 17 an der
Substrat-Photoleiter-Zwischenfläche fein« Diese Anordnung
wird durch das photoempfindliche Mittel '40 in Pig. 9 veranschaulicht, in welcher das Substrat 11
und die photoleitfähige Schicht 16 durch eine Sperrschicht
17 getrennt sind. Die Sperrschicht funktioniert so, dass die Einführung von Ladungsträgern aus dem
Substrat in die photoleitfähige Schicht verhindert
wird. Jedes geeignete Sperrmaterial kann verwendet werden. Typische Stoffe sind Kylon, Epoxid und Alur
miniunoxid.
V/ie oben ausgeführt, ist das photoleitf ähige I. gleich, ob in der Porm eines Pfenents oder als homogene
Schicht, in nicht orientierter Form angewandt.
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nicht orientiert ist zu verstehen, dass das Pigment oder die phptoleitfähige Schicht isotrop bezeuch der
eiektro- .
anregenden, magnetischen Strahlung ist, d.h., sie ist
gleich empfindlich gegenüber jeder Polarisation der anregenden Strahlung.
Im allgemeinen machen die Binder- und Schichtstrukturen
der Erfindung es erforderlich, dass., der Photoleiter zu den'elektronisch aktiven Ilaterialien genc'-ss dar Erfindung
so ausgewählt oder passend zusammengestellt wird, dass ladungen durch Strahlung erzeugt v/erden, fMidie
die aktiven Materialien transparent oder nicht absorbierend sind. Dieser Bereich entspricht einen V;ellenlangenbereich
von etwa 400C bis etwa 80C0 λ,was den
bevorzugten 3ereich für xerographische Anwendung darstellt. Zudem sollte ein Phctoleiter auch alle V/'ellenlängen
von 4000 bis 8000 S. ansprechen, wenn panchromatische
Anregung gefordert wird. Alle photoleitfrlhig-
_aktiven IJaterialkonbinationen geaäss der Erfindung führen
zu der* Injektion una zuia nachfolgenden transport
von Löchern durch die physikalische Zwischenfläche zwischen dem Photoleiter und dem aktiven-Material.
Die folgenden Beispiele geben weiter spezielle und bevorzugte Ausführungsformen der Srfindung bezüglich
eines Verfahrens zur Herstellung eines photoempfindli-
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chen Mittels mit einer photoleitfähigen Schicht an, die an eine Schicht des elektronisch aktiven Materials
gemäß der Erfindung angrenzt. Sofern nicht anders angegeben, beziehen sich die Prozentangaben auf Gewicht.
Die Beispiele dienen lediglich zur Veranschaulichung der Erfindung, ohne sie zu begrenzen.
- Beispiel I
Eine Platte oder Schichtstruktur ähnlich der in Fig. 9
dargestellten, bestehend aus einer 20 Mikron starken Schicht aus 2-Phenylindol, aufgebracht auf eine 1 Mikron
starke Schicht aus amorphem Selen, abgeschieden auf einem etwa 5 χ 5 cm (2x2 Zoll) NESA-Glassubstrat, wird
wie folgt hergestellt:
1) Eine Polyvinylcarbazol-Sperrschicht von 0,2 Mikron Stärke wird auf einer Oberfläche des NESA-Substrats
durch Tauchbeschichten des Substrats in einer 1%igen
Lösung von Polyvinylcarbazol in Toluol hergestellt. Nach dem Überziehen wird das Substrat an der luft
16 Stunden bei 100 0C getrocknet.
2) Eine Photoleiter schicht aus glasartigem Selen wird
Nach einer Vakuumabscheidungstechnik , wie sie z.B. in den US-PS 2 753 278 und 2 970 906 offenbart wurd-
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det auf die Sperrschicht aufgebracht. Die Selenschicht
wird in einer Stärke von etwa 1 Mikron aufgebracht. Während der Abscheidung wird die
Temperatur des Substrats bei etwa 25 bis 55 0C gehalten. Die Selenquelle.wird.bei 260 0C gehalten,
und die Verdampfung erfolgt bei einem Druck von 1 χ 10"6 Torr.
3) Die beschichtete Platte wird dann in eine zweite Vakuumkammer gebracht und 1 g 2-Phenylindol in das
Verdampferschiffchen gebracht. Das organische Material wurde dann bei einem Druck von 5χΛ0 Torr
in 30 Minuten auf die Selenschicht bei einer Quel*·
tentemperatur von etwa 50 0C vakuumverdampft, während
daa Substrat bei einer Temperatur von etwa 10 0C
gehalten wurde. Dies führt zu einer 2-Phenylindolschicht
von etwa 20 Mikron Stärke. Die erhaltene Schichtplatte wird in einem Vakuum bei Raumtemperatur
für 24 Stunden abkühlen gelassen.
Eine Schichtstruktur ähnlich der des Beispiels I mit
einer 35 Mikron-2-Phenylnaph thalin-Schicht, aufgezogen
auf «ine 0,5 Mikron starke Selenschicht, abgeschieden auf einem NESA-Glassubstrat, wird nach dem in Beispiel I
wiedergegebenen Vakuumverdampfungsverfahren hergestellt. Bei der Bildung der Schicht aus 2-Phenylnaphthalin ist
der Druck 6x10 Torr, und die Abscheidung wird 150 Minuten
bei einer Quellentemperatur von 50 0C und einer
Sub»trattemperatur von O 0C durchgeführt.
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- 31 - . ■
Die Entladungscharakteristik der elektronisch, aktiven"
Platten, hergestellt nach den Beispielen I und II, wird gemessen. Im einzelnen v/erden die Schicht strukturen
auf ein selektives negatives Potential V0 aprühgeladon
und einer monochromatischen Lichtquelle vcn
ι ρ ρ ■
4000 α "bei einem Fluss vcn .2x10 Photonen/c:n see
ausgesetzt. Bei dieser ".'/ellenlange sind die elektronisch
aktiven Materialien gemäßs der Erfindung praktisch nicht absorbierend, und das Selen wird durch Licht angeregt.
Die anfängliche Sntladungsgeycl-.windigkeit
(qY ) ^_0 einer jeden Platte bei den gewählten rcisitinl -
wurde gemliss den von P. Hegensburger in "Optical Senr.itisation
of Charge Carrier Transport in P7PZ", Photochenistr;-
and Photobiology 8, S. 429-40 (JTovember 1968) offenbarten
Techniken gemessen, die hier bezugsweise ein zubeziehen
sind.
Sine Anzahl von anfänglichen Entladungsgecchv/indigkeiten
bei gewählten Potentialen für jede PIstte v;i-?vj-^e;.:e33en,
dividiert durch die Dicke der elektronisch aktiven organischen Schicht und in logarithmischem LIa3stab gegen
das entsprechende angewandte ?eld ID aufgetragen, wie
in Pig. 10 dargestellt. Diese Art der Darstellung zeigt die Fslcabhängigksit der ladungsbeweglichkeit durch äie
jeweilige elektronisch aktive organische Schicht. Kurve A stellt die Ladungsbeweglichkeit photoerzeugter
Fehlstellen durch Selen dar. Das ideale elektronisch aktive Material in Kombination mit Selen würde sich der
Feldabhpngigkeitskurve A für Selen eng annähern.
"Jie Fig. 12, Kurve 3, zu entnehmen ist, zeigt dia mit
Selen und 2-?henylnaphthalin beschichtete Platte ange-
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inessene Entladung bei den angewandten Feldern "bs1"
etwa 1 Volt/liikron. Ausserdem deutet die Kurve an,
dass das 2-Phenyinaphthalin Fehlstellen angerissen
genug transportiert, um zu annehmbaren Hestspannungen
nach der Entladung zu führen, im Vergleich zu einer reinen S-elen-Photoenpfängerschicht. Yvr>vs G,
die Selen-2-Phenylindol-beschichtete Platte, zeigt
.ein sogar noch geringeres Grenzfeld, bei dem La dung3-beweglichke'it
auftritt, und daher verbleibt bei Entladung ein Llinimuni an Restspannung.
Ohne die Erfindung darauf festzulegen, wird nachfolgend
eine Theorie erörtert, ua die elektronisch aktiven Eigenschaften der erfindungsgeniässen Stoffe zu
erklären. Ss wurde festgestellt, dass Pyren, Tetracen,
1,2-Benzanthracen und 3,4-Benzcarbazol elektronisch
aktiv sind, und das wichtige Kriterium hierfür ist das Ausmass der iT-Elektri
Tetracen
1,2-Benzanthracen
Das Ausnass der Slektronendelokalisierung ist durch Sinführung
eines benzoiden Sextetts in Tetracen und ζτ,-ei
in 1,2-Benzanthracen dargestellt (S. dar, "Polycyclic
Fydrocarbons", Academic Press, 1964, llevi York). Pfeile
oind eingezeichnet, ua die Bewegung des Sextetts über
die Hinge der Verbindung anzudeuten. Diese Sextetta bestehen
aus drei beweglichen TT-Elektronenpaaren, von
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denen zwei auf die einzelnen Ringe festgelegt sind, während sich das restliche Paar frei über das System
bewegen kann. In dem Maße, wie das Ringsystem, über das sich dieses dritte Paar bewegt, größer wird,
steigt die TT-Elektrodendelokalisierung. Anders ausgedrückt:
die IT-Elektronen sind von der positiven Kernladung weniger abgeschirmt als in einem kleineren
Ringsystem, dessen Grenze Benzol ist.
In 1,2-Benzanthracen sind zwei Sextetts, die beide in
der Lage sind, ein bewegliches Elektronenpaar dem zentralen Ring des Ringsystems zuzusteuern. Das führt zu
einem induzierten Sextett in dem Ring. Die Doppelbindung in 5,^-Stellung ist mehr oder weniger formal, da
durch die Reaktion in diesen Positionen entwickelt. Spektren zeigen, daß die Delakalisierung stattfindet, selbst
wenn die -CH=CH-Gruppe entfernt wird. Das heißt, 2-Phenylnaphthalin
hat ein ähnliches elektronisches Spektrum wie 1,2-Benzanthracen. Insbesondere wird angenommen,
daß die p-Orbitale. der Phenylgruppe mit denen des substituierten
Moleküls aufgrund der Coplanarität der Ringe in Wechselwirkung treten. Die Elektronen können sich
über die gesamte Ebene des Moleküls verschieben. Daher ist bei einem Vergleich von 2-Phenyl-naphthalin
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- .34-
mit Benzanthracen, oben, eine ähnliche 31ektronenaktivität
vorauszusagen. Das gleiche gilt für 1,2-Benztetracen und 2-Phenylanthraceh.
Zu einem ähnlichen Bild gelangt man, wenn nan Oarbazol
betrachtet. Das heisst?ein benzoidsr Ring an einer
Y/inkelstellung wird die Delokalisierung des ganzen aromatischen
Systems steigern. Betrachtet man die Strukturen
und
3,4-Benzearbazol
2-3enzcarbazol
so zeigt sich, dass in beiden Molekülen der abgewinkelte
Ring 'iT-Slektronen. den Carba zolsys te.:' zusteuert.
Man könnte erwarten, dass, selbst wenn die Kohlenstoffatome in 1,2- oder 3,4-Steilung der entsprechenden Benzcarbazole
eliminiert wurden, dieser Beitrag noch vorhanden wäre.
Aufgrund dieser Überlegungen Hesse sich erklären, dass
die sich ergebenden Verbindungen, 3-Phenyl- und 2-Pher.ylindol,
gegenüber des In'do^eibot, überlegenen Transport
und Übertragung entwickeln.
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3-Phenylindol.
2-Phenylindol
Zwei weitere Verbindungen, bei denen der Stickstoff des Carbazole durch Sauerstoff oder Schwefel ersetzt i: t,
d.h. Dibenzol [bdT] furan und Dibenzo Qbdj thiophen, können
als aktive Stoffe betrachtet werden. Die interesanten, phenyl substituierten Verbindungen sind
und
3-Fhenylbenzo jjTj furan
2-Phenylbenzo [bj furan
5-Phenylbenzo [V] thiophen 2-Phenylbenzo [bj thiophen
Beispiele für weitere Verbindungen, die dieses Erfordernis erfüllen, sind nachfolgend zusammen mit der Stammyerbindung
wiedergegeben, von der sich die phenylsubstituierte
Verbindung ableitet.
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- 56 -
StammverbinflutiK *
abgeleitete Verbindung
5,6-Benzchrysen
1,2 Benztetracen
1,2-Benzopentacen
und
1-Phenylphenantren
2-Phenylanthracen
2-Phenyltetracen
Naphtho-(1',2'-3 Λ)-Ρ7Γβη 1~Phenylpyren
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O1
Nayhtho(2', 1'-3,4)-pyren
2 -Phenylpyren
Naphtho-(. 1 ' , 2' -2,3) -fluoranther. ^-Phsr.ylflucran then
"?.phtho-(2·, 1 '-2,3)-fluorantheK 3-Pher.yifluoTarithan
Α098Α8/0Θ7Θ
-34Γ-
Naphtho-(1' ,2'-3,4-)carbazol
3-Phenylcarbazol
Naphtho-(2^1-3,4)-carbazol 4-Phenylcarbazol
* Die -CH-CH-Gruppe, die in jeder Verbindung eliminiert wird, ist eingekreist.
Die Erfindung umfaßt ferner gleichwertige Strukturen,
in denen N ersetzt ist durch S oder 0. Die Wirksamkeit dieser Stoffe ist abhängig von der aromatischen Struktur
des Moleküls und daher können funktionelle Gruppen als
ßübstituenten, wie z.B. Alkyl, Amino, Nitro usw., die die Chemie der Herstellung erleichtern oder vorteilhaft zu
den nechaniechen Eigenschaften der Polymerisate beitragen,
die diese als sich wiederholende Einheiten enthalten, in die Phenylaromaten ohne Verlust an Aktivität eingeführt
werden.
Die Klasse der Verbindungen und unter Verwendung von die-β·η
hergeatellten Polymerisate ala Tall dar eich wieder-.
holenden Einhalt kann wia folgt beschrieben werden: ein aroaatisches System einschließlich Heterocyclen und
solcher alt funktionellen Gruppen ala Substituenten, bei
den baw. denen die TT-Hektronendelokalielerung durch
Phenylsubatitutiom erhöht ist. Die Stellung der Phenyl-
409β48/097β
gruppe kann beschrieben werden als durch Eliminieren von zwei Kohlenstoffatomen und der festgelegten Doppelbindung
im Winkel des Hauptrings aus dem aromatischen Kohlenwasserstoff, der einen Ring mehr besitzt als die
substituierte Verbindung, gebildet. Z.B. führt im Ί ,2-Benzantracen'
die Eliminierung der zwei Kohlenstoffe und der fixierten Doppelbindung, die einem Olefin entsprechende
Reaktivität zeigt,zu dem aktiven Molekül 2-Ehenylnaphthalin. /"
Kurz, die Erfindung umfaßt die Klasse von Verbindungen, zu denen phenylsubstituierte Aromaten gehören, wobei
die Stellung der Phenylgruppe durch Eliminieren des Hauptrings aus dem Aromaten bestimmt wird, der einen
Ring mehr besitzt als die substituierte Verbindung.
Obgleich spezielle Komponenten und Verhältnisse in der vorausgegangenen Beschreibung von bevorzugten Ausführungeformen
der Erfindung genannt worden sind, können andere geeignete Stoffe und Verfahren als die, die zuvor
genannt wurden, mit ähnlichen Ergebnissen verwende werden. Zudem können andere Stoffe und Abwandlungen
zur Anwendung gelangen, die das photoempfindliche.Mittel und das Verfahren zu seiner Anwendung synergistisch verbessern,
steigern oder anderweitig abwandeln. Wird z.B. ein transparentes Substrat, wie etwa eine Kunststoffbeßchichtung
mit einer dünnen leitfähigen Beschichtung
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von Aluminium oder Zinnoxid verwendet, kann die Struk tür
durch Belichten durch das Substrat in ein Bild überführt werden. Zudem kann, wenn gewünscht, ein elektrisch
isolierendes Substrat ebenfalls verwendet werden. In diesem Falle kann die Ladung auf das Abbildungsmittel durch doppelte Koronaaufladung aufgebracht werden,
wie sie auf dem Gebiet üblich ist. Weitere Abwandlungen unter Verwendung eines isolierenden Substrats
oder überhaupt ohne Substrat umfassen das Aufbringen des Abbildungsmittels auf eine leitfähige Unterlage oder
Platte und das Aufladen der Oberfläche während der Berührung mit der Unterlage. Nach dem Abbildungsvorgang
kann das Abbildungsmittel von der leitfähigen Unterlage
abgenommen werden.
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Claims (1)
- Pat entansprücher 1.. Abbildungsmittel mit einer Schicht un orientiert en photoleitfahigen Materials und einer angrenzenden Schicht eines elektronisch aktiven organischen Materials, das über der photoleitfahigen Schicht liegt, wobei die phatoleitfähige Schicht bei Lichtanregung Löcher erzeugen und injizieren und das aktive organische Material die Injektion von durch Licht angeregten Löchern aus der photoleitfahigen Schicht unterstützen und die Löcher durch die aktive Schicht transportieren kann, wobei die aktive Schicht wenigstens eine Verbindung aus der Gruppe der Phenylnaphthaline, Phenylanthracene, Phenylindole, Phenylpyrene und deren entsprechenden Polymerisaten enthält. ·2. Mittel nach Anspruch 1, in welchem die photoleitfähige Schicht in einem Binder verteilte photoleitfähige Teilchen enthält.3. Mittel nach Anspruch 1 und/oder 2, in welchem die photoleitfähige Schicht ein praktisch homogenes, photoleitfähige s Material enthält.4. Mittel nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, in welchem sich die photoleitfähige Schicht auf einem tragenden Substrat befindet.5. Mittel nach Anspruch 4, in welchem das Substrat elektronisch leitfähig ist. -409848/09786. Mittel nach Anspruch 4 und/oder 5i in welchem sich die .photoleitfäbige Schicht auf einem .praktisch transparenten tragenden Substrat befindet.7· Mittel nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, in welchem das photoleitfähige Material, glasartiges Selen, eine Selenlegierung, trigonales Selen, Cadmiumsulfoselenid und/oder die X-Fonn metallfreien Phthalocyanine enthält.8. Mittel nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, in welchem die aktive Schicht mindestens eine Verbindung aus der Gruppe von 3-Phenylindol, 2-Phenylindol, 3-Phenylbenzo(b)furan, 2-Phenylbenzo(b)furan, 3-Phenylbenzo/b)thiophen, 2-Phenylbenzo(b)thiophen, 1-Phenylphenanthren, 2-Phenyltetracen, 1-Phenylpyren, 2-Phenylpyren, 4-Phenylfluoranthen, .3-Phenylfluoranthen, 3-Phenylcarbazol Und 4-Phenylcarbazol enthält.9. Mittel nach Anspruch 1, in w.elchem die aktive Schicht ein /homopolymeres oder ^polymeres Material enthält, das im wesentlichen Monomereinheiten in statistischer oder Blockanordnung der allgemeinen FormelCH,enthält, in der 3 einen Alkyl- oder Arylrest, Rp eine 2-Pheny!naphthalin-, 2-Phenylanthracen-, 2-Phenylindol-, 3-Phenylpyren- oder 4-Phenylpyrengruppe und η eine positive409348/0978• Zahl von etwa 5 bis 500 bedeutet und das Molekulargewicht bis zu etwa 1 Million oder mehr beträgt.1CU Abbildungsverfahren, dadurch gekennzeichnet , daß ein Abbildungsmittel gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9 auf der freien Oberfläche der aktiven Schicht gleichförmig negativ aufgeladen wird und die aufgeladene Schicht einer Quelle aktivierender Strahlung, die die photoleitfahige Schicht absorbiert und für die die aktive Schicht praktisch transparent und nicht absorbierend ist, ausgesetzt wird, wobei diese Bestrahlung in Form eines optisch auf diese Schicht projizierten Licht- und Schatten-Musters erfolgt, wodurch durch Licht in der photoieitfähigen Schicht . erzeugte Löcher in die aktive Schicht eingeführt und durch sie hindurch transportiert ,werden zur Bildung einee latenten elektrostatischen Bildes auf der freien Oberfläche der aktiven Schicht.11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das latente Bild in ein sichtbares Bild entwickelt wird.12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichn e t , daß als aktivierende Strahlung eine Strahlung im sichtbaren Spektrum verwendet wird.13· Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Quelle für die aktivierende Strahlung eine solche für den Bereich von etwa 4000 bis etwa 8000. & verwendet wird.14. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch g e -409848/0978kennzeichnet , daß die photoleitfähige Schicht auf einem tragenden Substrat verwendet wird.15· Verfahren nach Anspruch 14-, dadurch gekennzeichnet, daß ein elektrisch leitfähiges Substrat verwendet wird.16. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das latente Bild zur Herstellung eines sichtbaren Bildes entwickelt und auf das Aufladen, Belichten und Entwickeln zumindest ein weiteres Mal wiederholt wird.17· Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichn et , daß als Quelle für die aktivierende Strahlung eine solche für den Bereich von etwa 4000 bis 8000 & verwendet wird.16. Abbildungsmittel , dadurch gekennzeichnet, daß es eine Binderschicht enthält, die photoleitfähige !Teilchen in unorientierter Form in einem elektronisch aktiven organischen Matrixmaterial dispergiert enthält, wobei die photoleitfähigen Teilchen bei Lichtanregung Löcher erzeugen und injizieren können und das aktive Matrixmaterial die Injektion von Löchern aus den photoleitfähigen !Teilchen unterstützt und die Löcher leicht weiterleiten kann, daß die photo· leitfähigen Teilchen in einer Menge von etwa 0,1 bie 5 Volumprozent der Binderschicht vorhanden sind und die- aktive Matrix wenigstens eine Verbindung aus der Gruppe der Fhenylnaphthaline, Phenylanthracene, Phenylindole, Phenylpyrene und deren entsprechenden Polymerisaten enthält.19· Mittel nach Anspruch 18, in welchem die photoleitfähigen Teilchen in einer Menge von etwa 0,1 bis 1,0 Volumprozent409848/0978der Binderschicht vorhanden sind. '20. Mittel nach Anspruch 18 und/oder 19» in welchem sich die Binderschicht auf einem Substrat befindet.21. Mittel nach Anspruch 20, in welchem das Substrat elektrisch leitfähig ist.22. Mittel nach mindestens einem der Ansprüche 18 bis 21,in welchem sich die Binderschicht auf einem transparenten Substrat befindet.23. Mittel nach Anspruch 18, in welchem die photoleitfähige Schicht glasartiges Selen, eine Selenlegierung, trigonales Selen, Cadmiumsulfoselenid und/oder die X-Form eines metallfreien Phthalocyanine enthält.24. Mittel nach mindestens einem der Ansprüche 18 bis 23» in welchem das aktive Matrixmaterial wenigstens eine Verbindung aus der Gruppe von 3-Phenylindol, 2-Phenylindol, 3-Phenylbenzo(b)furan, 2-Phenylbenzo(b)furan, 3-Phenylbenzo</b7-thiophen, 2-Phenylbenzo(b)thiphen, 1-Phenylphenanthren, 2-Phenyltetracen, 1-Phenylpyren, 2-Phenylpyren, 4-Phenylfluoranthen, 3-Phenylfluoranthen, 3-Fhenylcarbazol und 4-Phenylcarbazol.enthält,25. Abbildungsverfahren, dadurch gekennzei chnet, daß bei einem Mittel gemäß mindestens einem der Ansprüche 18 bis 24 auf einem tragenden Substrat die Binderschicht gleichförmig elektrostatisch aufgeladen wird, die geladene Schicht einer Quelle aktivierender Strahlung, die die Photoleiterteilchen absorbieren und die das aktive organi-409848/0978ache Matrixmaterial ni'cht absorbiert, ausgesetzt wird, wobei diese Bestrahlung in Form eines Licht- und Schatten-Muaters optisch auf die Schicht projiziert wird, wodurch die durch Licht erregten, durch die photoleitfähigen Teil-. ohen erzeugten Löcher in das. aktive Matrixmaterial injiziert und durch dieses hindurch transportiert werden zur Bildung eines latenten elektrostatischen Bildes auf der Oberfläche der Binderschicht.26. Verfahren nach Anspruch 25» dadurch gekennzeichnet, daß das latente Bild zu einem sichtbaren Bild entwickelt wird.27· Verfahren nach Anspruch 25 und/oder 26, dadurch g β k e η η zeichnet , daß das Aufladen, Bestrahlen und Entwickeln wenigstens ein weiteres Mal wiederholt werden.28. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 25 bis 27, . dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung im Bereich von etwa 4000 bis 8000 % erfolgt.29- Abbildungsmittel mit einer Schicht photoleitfähigen Materials und einer angrenzenden Schicht eines elektronisch aktiven organischen Materials, das über der photoleitfähigen Schicht liegt, wobei die photoleitfähige Schicht bei Lichtanregung Löcher erzeugen und injizieren und das aktive organische Material die Injektion von durch Licht angeregten Löchern aus der photoleitfähigen Schicht unterstützen und die Löcher durch die aktive Schicht transportieren kann, wobei die aktive Schicht wenigstens eine Verbindung aus der Gruppe der Phenylnaphtaline, Phenylanthracene,Phenyl -indole, Phenylpyrene und deren entsprechenden Polymerisaten , enthält, ' ■ ·409848/097830. Abbildungsmittel, dadurch gekennzeich. net, daß eine. Binderschicht vorgesehen ißt, die photoleitfähige Teilchen dispergiert in einem'elektronisch'' aktiven organischen Matrixmaterial enthält, wo- . bei die photoleitfähigen Teilchen bei Lichtanregung Löcher erzeugen und injizieren können und das aktive Matrixmaterial die Injektion von Löchern aus den photoleitfähigen Teilchen unterstützt und die Löcher leicht weiterleiten kann, daß die photoleitfähigen Teilchen in einer Menge von etwa 0,1 bis.5 Volumprozentd der Binderschicht vorhanden sind und daß die aktive Matrix mindestens eine Verbindung aus der Gruppe von 2-Phenylnaphthalin, 2-Phenylanthracen, 1-Phenylpyren, 2-Phenylpyren, 2-Phenylindol, 3-Phenylindol und deren . entöprechenden Polymerisate enthält.31· Abbildungsverfahren, dadurch gekennzeichnet daß man zur Herstellung eines Polymerisats mit Monomereinheiten der allgemeinen FormelCH2E2in der R einen Alkylrest mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen oder einen. Arylrest, R2 einen polycyclisehen Rest und η eine positive Zahl mit Werten von etwa 5 bis etwa 5OuO bedeutet, dadurch gekennzeichnet , daß man eine dem Rest R2 entsprechende polycyclisch^ Verbindung mit mindestens der äquimolaren Menge eines ßäureanhydrids der all-409848/09781 t I?ir.elR-COT)in der R die vorstehend angegebene Bedeutung hat, in Gegenwart von Zinkchlorid in einem Lösungsmittel zum entsprechenden Acylderivat umsetzt, das Acylderivat durch Umsetzen mit Triphenylmethylphosphoniumbromid und einer organometallischen Base in das entsprechende Vinyl-Zwischenprodukt überführt und das Vinyl-Zwischenprodukt in Gegenwart einer katalytischen Menge einer säure bei einer Temperatur von etwa - 75 C his etwa O C polymerisiert.32. Verfahren nach Anspruch 1Λ , dadurch gekennzeichnet, daß man ein Polymerisat der in Anspruch 7A angegebenen allgemeinen Formel herstellt, in der R einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Phenylgruppe, R2 einen Naphthalin-; Anthracen-, Indol- oder Pyrenroste und η eine ganze Zahl mit Werten von etwa 5 his etwa 5000 bedeuten.33· Verfahren nach Anspruch 31 und/oder 32, dadurch g e k e η η ■ zeichnet , daß man ein Polymerisat der in Anspruch 31 angegebenen allgemeinen Formel herstellt , in der R eine Methyl- oder Hydroxymethylgruppe, ^ einen Phenylnaphthalin-, Phenylanthracen-, Phenylindol- oder Phenylpyrenrest und η eine positive Zahl mit Werten von etwa 5 bis etwa 5000 bedeuten.409848/0978Leerte ι te
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