DE2410886A1

DE2410886A1 - Verfahren zur verbesserung der elektrophotographischen eigenschaften von polyn-vinylcarbazol-schichten

Info

Publication number: DE2410886A1
Application number: DE19742410886
Authority: DE
Inventors: David R Dr Terrell
Original assignee: Philips Patentverwaltung GmbH
Current assignee: Philips Intellectual Property and Standards GmbH
Priority date: 1974-03-07
Filing date: 1974-03-07
Publication date: 1975-09-18
Also published as: IT1033410B; FR2263540A1; GB1497746A; NL7502454A; JPS50123347A; FR2263540B1; BE826333A

Description

PHILIPS PATENTVERWALTUNG GMBH, 2000 Hamburg 1, Steindamm 94

Verfahren zur Verbesserung der elektrophotographischen Eigenschaften von Poly-N-vinylcarbazol-Schichten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verbesserung der elektrophotographischen Eigenschaften von Poly-N-vinylcarbazol-Schichten, die gegebenenfalls mindestens einen Sensibilisator enthalten, durch Erwärmen.

Poly-N-vinylcarbazol findet in zunehmendem Maße als Photoleiter Verwendung. Die photoleitenden Eigenschaften von Photo-N-vinylcarbazol ohne und mit Sensibilisatoren sind u.a.

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von H. Hoegl, G. Barchietto und D. Tar in Photochemistry and Photobiology Λ6_ (1972) 335-352 beschrieben worden.

Für elektrophotographische Zwecke wird Poly-N-vinylcarbazol sowohl ohne Träger, z.B. in Form von Filmen oder Folien, als auch zusammen mit einem Träger, z.B. in Form von Platten oder Bändern, verwendet. Als Träger dienen z.B. Glasplatten» Metallplatten, Metallfolien oder Kunststoffolien, z.B. Polyesterfolien. Unter 'Schichten" sind im Rahmen der Erfindung solche mit und ohne Träger zu verstehen. Auf Träger aufgebrachte Schichten werden z.B. durch Eintauchen eines Trägers in eine Poly-N-vinylcarbazol-Lösung, Herausziehen des Trägers aus dieser Lösung-und Entfernen der Lösungsmittel aus der Schicht, insbesondere durch Trocknen der Schicht, z.B. durch Erwärmen, hergestellt. Als Lösungsmittel dienen z.B. Toluol, Dioxan, Methylenchlorid, Xylol, Chlorbenzol, Methyläthylketon, Tetrahydrofuran, Benzol und/oder 1,2-Dichloräthylen. Die Lösungen können auch z.B. durch Aufstreichen, Auftragen mit Hilfe von Walzen oder durch Aufsprühen aufgebracht werden.

Als Sensibilisatoren für KLy-N-vinylcarbazol sind z.B. Elektronenakzeptoren, wie mit Nitrogruppen substituierte Fluorenone, geeignet - z.B. 2,4,7-Trinitrofluorenon (TNF), 2,4,5,7-Tetranitrofluorenon (TENF) und die entsprechenden mit Malonsäuredinitril kondensierten Fluorenone geeignet.

Aus der französischen Patentschrift 1 454 493 ist bekannt, daß die elektrophotographischen Eigenschaften von PoIy-N-vinylcarbazol-Schichten durch eine 15 Minuten bis 1 Stunde dauernde Erwärmung auf 250 bis 300⁰C verbessert werden können. Nach der deutschen Offenlegungsschrift 2 039 484 wird eine photoleitfähige Schicht bis 60 Sekunden lang auf eine über dem Erweichungspunkt der Schicht liegende Temperatur erhitzt. So wird die Schicht auf Basis Poly-N-vinylcarbazol auf 145 bis 170⁰C erhitzt. Derart hohe Temperaturen können auf andere Bestandteile von Materialien und Vorrichtungen, die Poly-N-vinylcarbazol-Schichten aufweisen oder in denen eine photoleitende Schicht ein integrierender Bestandteil

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ist, z.B. auf Träger bzw. Kunststoffolien von elektrophotographischen Materialien, auf eingemischte Materialien, z.B. Weichmacher und Klebstoffe von elektrophotographisehen Schichten, und auf zusätzliche Schichten, z.B. thermoplastische Schichten in thermoplastischen Vorrichtungen, schädigend einwirken.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Verbesserung der elektrophotographischen Eigenschaften der eingangs definierten Schichten bei niedrigeren Temperaturen zu erzielen.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Schichten mindestens 15 Stunden lang bei einer Temperatur von 45 bis 75⁰C, vorzugsweise bei 50 bis 60⁰C, gelagert werden.

Die erfindungsgemäße Wärmebehandlung beginnt vorzugsweise unmittelbar nach Herstellung der Schichten. Eine Verbesserung der elektrophotographischen Eigenschaften wird auch erzielt, wenn die Schichten nach ihrer Herstellung zunächst bei Zimmertemperatur und dann erst bei der erhöhten Temperatur gelagert werden. Dies ist insbesondere dann zweckmäßig, wenn der letzte Herstellungsschritt darin besteht, daß die Schichten 1 bis 2 Stunden lang bei 50 bis 60⁰C getrocknet werden.

In manchen Fällen kann es vorteilhaft sein, die erfindungsgemäße Wärmebehandlung zu wiederholen. Dabei besteht allerdings in manchen Fällen die Gefahr einer geringfügigen Zersetzung. Es wird jedoch dem Fachmann in Kenntnis der Erfindung leicht möglich sein, derartige Schäden zu vermeiden.

Die Dauer der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung ist nach oben hin nicht begrenzt und wird durch wirtschaftliche Gesichtspunkte bestimmt. Ähnlich ist die Dauer der Lagerung bei Zimmertemperatur nach oben hin nicht begrenzt, sie kann Tage, Wochen oder Monate betragen. Die erfindungsgemäß erzielte Verbesserung nimmt jedoch mit zunehmender Lagerzeit ab.

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Zur Durchführung der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung geeignete Vorrichtungen sind z.B. Trockenschränke, Wärmeschränke und Vakuumtrockenschränke.

Die erfindungsgemäße Wärmebehandlung ruft keine Änderung der optischen Absorption oder der Dicke der Schicht hervor. Es tritt daher keinerlei stärkere Komplexbildung ein, wenn ein innerer Sensibilisator vorhanden ist, und kein Kompakterwerden der Schicht.

Durch die erfindungsgemäße Wärmebehandlung kann die elektro-

photographische Empfindlichkeit von Poly-N-vinylcarbazol-Schichten mit oder ohne inneren Sensibilisator um einen Faktor von 6 oder mehr gesteigert werden. Die elektrophotographische Empfindlichkeit F wird im Rahmen dieser Beschreibung berechnet, indem das Produkt aus der Intensität I_Q des einfallenden Lichtes und der Zeit ^/p (ⁱⁿ Sekunden) gebildet wird. tw₂ ist die Zeit, die erforderlich ist, um quer durch die Schicht ein aufgebautes elektrisches Feld (z.B. durch Coronabeladung) auf d'ie Hälfte des ursprünglichen Werges absinken zu lassen.

Es sei bemerkt, daß in der deutschen Offenlegungsschrift 2 230 935 eine Verbesserung der Photoempfindlichkeit eines Aufzeichnungsmaterials um einen Faktor von bis zu 20 durch vorheriges Erhitzen des Materials auf Temperaturen von 35 bis 250⁰C beschrieben ist. Dieses Material besteht aus einer Mischung aus einer Organohalogenverbindung, die bei Bestrahlung freie Radikale bilden kann, mit einer N-Vinyl-Verbindung sowie gegebenenfalls einem Sensibilisator, der im allgemeinen ein Farbstoff ist, einem Stabilisator und einem Verstärker. Diese Mischung ist in einer hydrophilen Matrix suspendiert, und das Ganze ist auf einem Träger angebracht. Bei Belichtung entsteht in diesem Material ein Bild, indem sich an den belichteten Stellen eine Poly-N-Vinyl-Verbindung bildet, während die K-vinyl-Verbindung an den unbelichteten Stellen bleibt. Die Sensibilisierung vor dem Be-

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lichten besteht in einem Erhitzen, vorzugsweise bis zum Schmelzpunkt der N-Vinyl-Verbindung. Bei dieser Temperatur werden anfangs Oligomere gebildet, die aus Ketten von 2 bis 5 Molekülen der N-Vinyl-Verbindung bestehen. Ein Gemisch derartiger Oligomerer, das gegebenenfalls noch Monomeres enthält, polymerisiert bekanntlich leichter als das Monomer, so daß die Empfindlichkeit derartiger Schichten gegenüber Belichtung erhöht wird. Hieraus ergibt sich, daß diese Art der Sensibilisierung ihrer Natur nach von der erfindungsgemäß bewirkten Sensibilisierung völlig verschieden ist. Denn bei der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung treten keine chemischen Veränderungen in den Schichten ein. Daß bei der Herstellung der erfindungsgemäß behandelten Schichten auch Organohalogenverbindungen als Lösungsmittel verwendet werden können, hat keinen Einfluß auf die elektrophotographischen Eigenschaften der Schichten, weil die Lösungsmittel bereits vor Fertigstellung der Schichten vollständig entfernt sind.

Eine mögliche Erklärung der Wirkungsweise der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung könnte von dem bekannten Phänomen ausgehen, daß die effektive Quantenausbeute G (definiert als das Verhältnis zwischen der Zahl η der Ladungsträger, die durch einen Photoleiter transportiert werden, und der Zahl der Photonen η . , die aus dem einfallenden Licht absorbiert werden; siehe Hoegl und Mitarbeiter, a.a.O., Seite 347) ansteigt, wenn die Stärke des elektrischen Feldes im Photoleiter zunimmt. Ein Teil der durch die Erfindung erzielten Verbesserung läßt sich möglicherweise dadurch erklären, daß die maximale Aufladbarkeit der Schichten zunimmt. Hierdurch steigt der Wirkungsgrad des Leitungsvorganges, was sich durch eine Zunahme der Quantenausbeute bemerkbar macht. Da der gefundene Effekt nur teilweise auf diese Weise erklärt werden kann, würde dies bedeuten, daß sich in der Schicht ein höherer Ordnungsgrad einstellt, so daß die Leitvorgänge bei Belichtung wirkungsvoller ablaufen können.

Durch die Erfindung wird also eine Verbesserung der elek-

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trophotographisehen Sensibilität ohne die Gefahr einer thermischen Zersetzung erzielt, indem die Schichten entweder unmittelbar nach ihrer Herstellung oder einige Tage später mindestens 15 Stunden lang bei einer Temperatur von 45 bis 75°C, vorzugsweise bei 50 bis 60°C gelagert werden.

Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden Ausführungsbeispiele und den Diagrammen der Zeichnung näher erläutert.

Bei den Versuchen, die zur Erfindung geführt haben, wurde Poly-N-vinylcarbazol sowohl in Form des Handelsproduktes Luvican M 170 der BASF AG (Beispiele 3 und 4) als auch durch kationische Polymerisation Von N-Vinylcarbazol selbst hergestelltes Material (Beispiele 1, 2 und 5) verwendet. In allen Fällen wurde das Material zweimal gereinigt, indem es in Benzol gelöst und durch tropfenweises Hinzufügen von Methanol ausgefällt wurde. Für die Versuche wurde schließlich diejenige Fraktion benutzt, die beim tropfenweisen Hinzufügen von 75 ml Methanol zu einer Lösung von 3 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol in Benzol unter gleichmäßigem Rühren bei der konstanten Temperatur von 22°C ausfiel.

In den nachfolgenden Beispielen wurden die Schichten zum Abschluß ihrer Herstellung 1 bis 2 Stunden bei 50 bis 60⁰C getrocknet. Dann wurde die elektrophotographische Empfindlichkeit gemessen, die erfindungsgemäße Wärmebehandlung bei Temperaturen zwischen 50 und 75⁰C durchgeführt und die Messung wiederholt.

Beispiel 1

Eine Schicht wurde hergestellt, indem ein mit Zinndioxid beschichtetes Glassubstrat mit einer Geschwindigkeit von 25 cm/min aus einer Lösung gezogen wurde, die aus 4 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol in einer Mischung von Methylenchlorid und Dioxan (molares Mischungsverhältnis 1:1) und 20 Mol?6 2,4,7-Trinitrofluorenon, bezogen auf die äquivalente N-

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Vinylcarbazol-Konzentration, bestand. Die dabei entstandene Schicht wurde 1,5 Stunden bei 6O⁰C getrocknet, um das in der Schicht zurückgebliebene Lösungsmittel vollständig zu entfernen. Nach dem Trocknen betrug die Dicke der Schicht 1,0 /um. Nachdem die Schicht 48 Stunden im Dunkeln aufbewahrt worden war, konnte sie mittels Coronaentladung auf 18 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem Lichtstrahl der

—5 2 Wellenlänge 435 run und einer Intensität von 2,49 »10 "w/cm sank die Ladung nach 30 Sekunden auf die Hälfte ihres Anfangswertes. 8 Tage später wurde die Schicht 15,5 Stunden lang einer Wärmebehandlung bei 60⁰C unterworfen. Die Schicht konnte, nachdem sie 48 Stunden im Dunkeln gelagert hatte, nunmehr auf 10,2 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem-435 nm-Lichtstrahl der Intensität 2,49 ·10~^ρ W/cm sank die Ladung bereits innerhalb von 5 Sekunden auf die Hälfte ihres Anfangswertes. Die elektrophotographische Empfindlichkeit konnte demnach um den Faktor 6 verbessert werden.

Beispiel 2

Eine 2,15 /um dicke Schicht wurde hergestellt, indem ein mit Zinndioxid überzogener Glasträger in eine Lösung von 6 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol und 10 Vlol% (bezogen auf die äquivalente N-Vinylcarbazol-Konzentration, d.h. auf die Monomeren-Einheit) 2,4,7-Trinitrofluorenon in einer 1 : 1-molaren Mischung von Methylenchlorid und Dioxan getaucht und mit 125 cm/min herausgezogen wurde. Die entstandene Schicht wurde 1 Stunde bei 54°C getrocknet, wonach sämtliches Lösungsmittel entfernt war. Nachdem die Schicht zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln gelagert worden war, konnte sie mittels Coronaentladung auf 108 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 1,88 ·10 W/cm sank die Ladung in 3,25 see auf die Hälfte ihres Ursprungswertes. Nach 29 Tagen wurde die Schicht etwa 17 Stunden lang bei 60°C wärmebehandelt. Nachdem die Schicht zwecks Stabilisierung im Dunkeln aufbewahrt worden war,

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konnte sie auf 65 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung

—5 mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 3,36 «10 W/cm sank die Ladung in 4,5 see auf die Hälfte ihres Ausgangswertes. Es wurde demnach eine Verbesserung der elektrophotographischen Empfindlichkeit um einen Faktor 4 beobachtet.

Beispiel 3

Eine 0,80 /um dicke Schicht wurde durch Herausziehen eines mit Zinndioxid beschichteten Glassubstrats (Ziehgeschwindigkeit 1,25 cm/min) aus einer Lösung von 4 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol in einer 1 : 1-molaren Mischung von Methylenchlorid und Dioxan, die außerdem 6,1 Mol% 2,4,7-Trinitrofluorenon (bezogen auf die äquivalente N-Vinylcarbazol-Konzentration) enthielt, hergestellt. Die entstandene Schicht wurde etwa 2 Stunden bei 60⁰C getrocknet, wonach das restliche Lösungsmittel vollständig verschwunden war, und dann zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln aufbewahrt. Danach konnte die Schicht mittels Coronaentladung auf 74 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 3,10 ·10~ W/cm sank die Ladung in 2,13 see auf die Hälfte ihres Ursprungswertes. Nach 73 Tagen wurde die Schicht etwa 17 Stunden lang bei 60°C wärmebehandelt. Nachdem die Schicht zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln aufbewahrt worden war, konnte sie auf 65 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der In-

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tensität 5,51 «10 ^ W/cm sank die Ladung in 5,75 see auf die Hälfte ihres Ausgangswertes. Es wurde demnach eine Verbesserung der elektrophotographischen Empfindlichkeit um einen Faktor 2,1 beobachtet.

Beispiel 4

Eine 1,10/um dicke Schicht wurde durch Herausziehen (Ziehgeschwindigkeit 2,5 cm/min) eines mit Zinndioxid überzogenen Glassubstrats aus einer Lösung von 4 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol in Tetrahydrofuran hergestellt, die außerdem noch

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10 Mol?6 (bezogen auf die äquivalente N-Vinylcarbazol-Konzentration) 2,4,7-Trinitrofluorenon enthielt. Die entstandene
Schicht wurde 16,5 Stunden auf 60°C erhitzt, wobei sämtliches Lösungsmittel entfernt wurde. Nachdem die Schicht
zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln gelagert worden war, konnte sie mittels Coronaentladung auf 40 V positiv
aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 2,56 Ί0 W/cm sank die Ladung in
0,98 see auf die Hälfte ihres Ursprungswertes. Nach 72 Tagen wurde die Schicht nochmals etwa 17 Stunden lang bei 60⁰C
wärmebehandelt. Nachdem die Schicht zwecks Stabilisierung
48'Stunden im Dunkeln aufbewahrt worden war, konnte sie auf 63 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem
435 nm-Lichtstrahl der Intensität 4,55 ·1Ο""^ W/cm sank die Ladung in 3,88 see auf die Hälfte ihres Ausgangswertes. Es
wurde demnach durch die zweite Wärmebehandlung eine Verbesserung der elektrophotographischen Empfindlichkeit um einen Faktor 1,4 beobachtet. .

Beispiel 5

Eine 1,60/Um dicke Schicht wurde durch Herausziehen eines mit Zinndioxid beschichteten Glassubstrats (Ziehgeschwindigkeit 1,25 cm/min) aus einer Lösung von 4 Gew.% Poly-N-vinylcarbazol in einer 1 : 1-molaren Mischung von Methylenchlorid und Dioxan, die außerdem 20 Mol?6 2,4,7-Trinitrofluorenon (bezogen auf die äquivalente N-Vinylcarbazol-Konzentration) enthielt, hergestellt. Die entstandene Schicht wurde 16,5 Stunden auf 50°C erhitzt, wodurch auch das restliche Lösungsmittel vollständig entfernt wurde, und dann zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln aufbewahrt. Danach konnte die Schicht mittels Coronaentladung auf 60 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 7,60 ·1Ο V//cm sank die Ladung in 0,40 see auf
die Hälfte ihres Ursprungswertes. Nach 42 Tagen wurde die
Schicht etwa 17 Stunden lang bei 60⁰C wärmebehandelt. Nachdem die Schicht zwecks Stabilisierung 48 Stunden im Dunkeln

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aufbewahrt worden war, konnte sie mittels Coronaentladung auf 60 V positiv aufgeladen werden. Bei Belichtung mit einem 435 nm-Lichtstrahl der Intensität 1,35 -10 W/cm sank die Ladung in 2 see auf die Hälfte ihres Ausgangswertes. Es wurde demnach durch die zweite Wärmebehandlung eine Verbesserung der elektrophotographischen Empfindlichkeit um einen Faktor 1,1 beobachtet.

In Tabelle I sind Meßergebnisse an Proben, die nach den Beispielen 1 bis 3 oder analog hierzu hergestellt worden sind, aufgeführt.

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•	System	Probe Schichtdicke	um	TNF = 2,4,7-Trinitrofluorenon	TABELL	-	E I	Elektropho 10graphi s ehe
		Nr. in/		Absorption	Elektropho tographis ehe	Sensibilität nach der
		1	0,50	d.Schicht bei	Sensibilität nachodem	Wärmebehandlung in /uJ/cm
	PVK+10 Mol% TNF	2	1,85	435 nm	Trocknen in/uJ/cm	699
	PVK+10 Mol% TNF	3 (Bsi).2)	2,15	0,13	2504	128
	PVK+10 M0I96 TNF	*\ ^J-'-'Jr · /** 4	' 1,70	0,43	282"	151
	PVK+20 M0I96 TNF	5	1,15	• 0,48	611	119
cn	PVK+20 M0I96 TNF	6	1,00	0,80 ■	141 *	175
O co	PVK+20 Mo 196 TNF	(Bsp.1)		0,66	241	125
CX) f O		7	0,95	0,61	748
VA/ OO	PVK+6,1Mol?6 TNF	8	0,80~			219
r~>	FVK+6,1Mol# TNF	(Bsp.3)		.0,16	261	317
		PVK = Poly-N-vinylcarbazol		0,14	661
CO
				•

Die in Tabelle I angegebenen Werte geben nicht die optimale elektrophotographische Sensibilität wieder, die mit den untersuchten Systemen allgemein erzielt werden kann, sondern die optimalen Werte, die in Anbetracht der Absorption und der Dicke der untersuchten Schichten erreicht wurden. In manchen Anwendungsfällen für organische Photoleiter, z.B. für optische Schaltvorrichtungen, in denen Schreiben und Lesen bei derselben Wellenlänge durchgeführt wird, z.B. bei thermoplastischen Vorrichtungen, ist es erforderlich, daß die Schichten teilweise transparent und nicht allzu dick sind. Unter "teilweiser Transparenz" ist hierbei zu verstehen, daß die Absorption bei der angewendeten Wellenlänge nicht größer als 0,8, vorzugsweise kleiner als 0,6 sein soll, so daß der optische Wirkungsgrad der optischen Speichervorrichtung nicht beeinträchtigt wird. In dieser Hinsicht ist das erfindungsgemäße Verfahren besonders vorteilhaft.

Gegenstand der Erfindung ist daher auch die Anwendung der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung auf Schichten, die teilweise transparent und höchstens 5/um dick sind. In diesem Zusammenhang sei bemerkt, daß in den einleitend erwähnten Druckschriften zumeist dickere Schichten beschrieben sind: Hoegl und Mitarbeiter erwähnen Schichten von etwa 5/um Dicke; nach der französischen Patentschrift 1 454 493 werden 6 bis 10/um dicke Schichten und nach der deutschen Offenlegungsschrift 2 039 484 5 bis 50/um dicke Schichten behandelt.

In Fig. 1 der Zeichnung ist der gefundene Verbesserungsfaktor F der elektrophotographischen Empfindlichkeit gegen die Lagerungszeit t-j_ aufgetragen, t-^ ist die Zeit der Lagerung bei Zimmertemperatur zwischen Herstellung der Schicht und Wärmebehandlung. Das Diagramm beruht auf Werten für Proben, die nach den Beispielen 1 bis 3 oder analog hierzu hergestellt worden sind. Hieraus geht hervor, daß F zunimmt, wenn t, herabgesetzt wird.

In Tabelle II sind Meßergebnisse von Proben aufgeführt, die

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■nach den Beispielen 4 und 5 und analog zu diesen Beispielen hergestellt worden sind. Es handelt sich also um Proben, die zweimal der erfindungsgemäßen Wärmebehandlung unterworfen worden sind.

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TABELLE II

cn ο co οο co οο

ο -j co

System Probe Schichtdicke Absorption Elektrophotographisehe Elektrophotographischß

Nr. in/um der Schicht Sensibilität in/uJ/cm Sensibilität in/uJ/cm ' bei 435 nm nach der 1. Wärmebe- nach der 2. Wärmebehandlung handlung

177 27

128 498

PVK4-10 Mol%	TNF	9 (Bsp	.4)	1,10	0,29	252
PVK+20 Mol%	TNF	10 (Bsp	• 5)	1,60	0,79	30
PVK+20 Mol?6	TNF	11		1,35	0,73	96
PVK+6,1Mol%	TNF	12		0,15	0,03	186

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Aus Tabelle II geht hervor, daß nach der 2. Wärmebehandlung eine schwache weitere Verbesserung eintreten kann, daß aber auch die Gefahr einer Verschlechterung besteht.

In den Fig. 2 bis 5 der Zeichnung ist die zuvor definierte effektive Quantenausbeute G in Abhängigkeit vom Potential P entlang der Filmdicke (in V/cm) graphisch dargestellt. Es zeigen

Fig. 2 Meßwerte von Schichten aus reinem PVK

Fig. 3 Meßwerte von Schichten aus PVK mit 6,1 Mol# TNF

Fig. 4 Meßwerte von Schichten aus PVK mit 10 Mol% TNF und

Fig. 5 Meßwerte von Schichten aus PVK mit 20 Mol% TNF.

Alle Werte sind nach positiver Aufladung und Belichtung mit Licht von 435 nm Wellenlänge gemessen worden. Die Meßwerte von Schichten, die (nicht im Rahmen der Erfindung) nur 1 bis 2 Stunden bei 50 bis 60°C getrocknet worden waren, um das Lösungsmittel zu entfernen, sind durch kleine Kreise gekennzeichnet; sofern es sich dabei um Angaben von Hoegl und Mitarbeitern handelt, sind die Kreise außerdem mit H bezeichnet.Die entsprechenden Kurven sind gestrichelt dargestellt. Die Meßwerte von Schichten, die nach dem Trocknen (1 bis 2 Stunden bei 50 bis 60°C) bei Zimmertemperatur gelagert wurden und später einmal etwa 17 Stunden lang bei 60°C (Fig. 5: 50 bis 60°C) wärmebehandelt wurden, sind durch kleine Dreiecke gekennzeichnet; die entsprechenden Kurven sind strichpunktiert dargestellt. Die Meßwerte von Schichten, die einmal etwa 17 Stunden lang bei 60⁰C (Fig. 4: 50 bis 60⁰C) wärmebehandelt wurden, wobei während der ersten Stunden das Lösungsmittel verdampfte, sind durch kleine auf die Spitze gestellte Quadrate gekennzeichnet; die entsprechenden Kurven sind punktiert dargestellt. Meßwerte von Proben, die ein zweites Mal etwa 17 Stunden lang bei 60°C (Fig. 4: 50 bis

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wärmebehandelt wurden¹, sind durch kleine Quadrate mit waagrechten und senkrechten Seiten gekennzeichnet.

Sofern in den Figuren die Bezugszeichen 1 bis 12 angegeben sind, entsprechen diese den Proben-Nummern in den Tabellen I und II; das Bezugszeichen 13 (Fig. 3) bezeichnet eine weitere übereinstimmende Probe nach einfachem Trocknen bzw. nach einmaliger Wärmebehandlung.

Aus den Diagrammen geht die mit der Erfindung erzielte Verbesserung, insbesondere bei Potentialen entlang der Filmdicke von mehr als 5 *10 V/cm, klar hervor. Außerdem zeigen die Fig. 35 4 und 5, daß die Quantenausbeuten von denjenigen Proben, bei denen die Wärmebehandlung unmittelbar auf das Trocknen (1-bis 2stündiges Erwärmen auf 50 bis 60⁰C zwecks Entfernen des Lösungsmittels) folgte, im allgemeinen höher liegen als die Quantenausbeuten von denjenigen Proben, die zwischen dem Trocknen und der Wärmebehandlung bei Zimmertemperatur gelagert wurden. Aus den genannten Figuren geht ferner der Einfluß dieser Zwischenlagerung auf die Verbesserung der Quantenausbeute hervor: Bei Fig. 3 z.B. betrug die Dauer der Zwischenlagerung 73 Tage, und es wurde nur eine geringfügige Verbesserung der Quantenausbeute G beobachtet. Bei Fig. 4 hingegen betrug die Zwischenlagerperiode 29 Tage, wobei eine beträchtliche Verbesserung der Quantenausbeute G festgestellt werden konnte.

Patentansprüche:

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Claims

Pa ten tansprüche;

Verfahren zur Verbesserung der elektrophotographischen Eigenschaften von Poly-N-vinylcarbazol-Schichten, die gegebenenfalls mindestens einen Sensibilisator enthalten, durch Erwärmen, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten mindestens 15 Stunden lang bei einer Temperatur von 45 bis 75 C gelagert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lagerung bei 50 bis 6O⁰C durchgeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten nach ihrer Herstellung zunächst bei Zimmertemperatur und dann erst bei der erhöhten Temperatur gelagert werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Lagerung bei Zimmertemperatur ein 1- bis 2stündiges Trocknen bei 50 bis 60°C vorhergeht.
5. Verfahren nach Anspruch 1, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Lagerung bei erhöhter Temperatur wiederholt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß teilweise transparente Schichten von höchstens 5/um Dicke behandelt werden.

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