DE2364037C2 - Verfahren zum Retuschieren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen - Google Patents

Verfahren zum Retuschieren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen

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DE2364037C2
DE2364037C2 DE19732364037 DE2364037A DE2364037C2 DE 2364037 C2 DE2364037 C2 DE 2364037C2 DE 19732364037 DE19732364037 DE 19732364037 DE 2364037 A DE2364037 A DE 2364037A DE 2364037 C2 DE2364037 C2 DE 2364037C2
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Germany
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retouching
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lithographic printing
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Kesanao Kobayashi
Hiroshi Odawara Kanagawa Matsumoto
Teruhiko Yonezawa
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325—Non-aqueous compositions

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

nung von Schichtbereichen mit Chlnondlazlden verwendet werden können.
Das Retuschlermatlerlal gemäß der Erfindung wird auf den auszulöschenden Bereich unter Anwendung üblicher Methoden aufgebracht, beispielsweise mit einer Bürste oder ähnlichen Werkzeugen. Wenn der auszulöschende Bereich breit ist, wird es bevorzugt, eine Farbbürste bzw. einen Farbpinsel oder dgl. zu verwenden. Selbst wenn eine Lactonlösung einer relativ geringen Konzentration verwendet wird, kann die Aufgabe der Erfindung erreicht werden, und eine praktische Konzentration der Lactonlösung liegt im Bereich von etwa 10 bis 100 Gew.-%, bevorzugt 30 bis 100 Gew.-». Die Konzentration der Lactonverbindung kann natürlich je nach der Schattierung, dem Bereich und dgl. des zu löschenden Bildes verändert werden, und daher Ist die Lactonlösung nicht auf diesem Konzentrationsbereich beschränkt.
Das erfindungsgemäß verwendete Retuschiermaterial ist äußerst wirksam, fast geruchlos, nicht-toxisch und lü hoch-stabil.
Vorteilhafte und geeignete Benetzungsmittel sind beispielsweise wasserlösliche mehrwertige Alkohole, z. B. Glycerin, Glykol, Polyglykol und dgl., in einer Menge bis zu etwa 30 Gew.-%, bevorzugt bis zu etwa 15 Gew.-«. Zu geeigneten oberflächenaktiven Mitteln, die bevorzugt verwendet werden, gehören solche, die beispielsweise In der US-PS 36 69 660 beschrieben sind, wie beispielsweise anionische, nicht-ionische oder amphotäre oberflächenaktive Mittel und insbesondere anionische oberflächenaktive Mittel, z. B. vom Alkylsulfattyp, Alkylsulfonattyp, Alkylarylsulfonattyp, Alkanoltyp und dgl. Nlchf-ionische oberflächenaktive Mittel, die sich aus Alkylphenol-Äthylenoxld-Addukten ableiten, sind gleichfalls geeignet; ferner sind nicht-Ionische oberflächenaktive Mittel, die sich aus Addukten aus Propylenglykol-Propylenoxld-Blockpolymeren und Äthylenoxid ableiten, sowie Addukte von Sorbitanpalmltat, Sorbitanlaurat, Sorbitanoleat ode Sorbltanstearat und Äthylenoxid auch geeignet. Darüber hinaus sind die lösungsmittellöslichen oberflächenaktiven Mittel wie Sorbitanlaurat, Sorbitanpalmitat, Sorbitanstearat oder Sorbitanoleat, die Natriumlsothlonat-Kokosnußölester gleichfalls geeignet. Eine günstige Menge des oberflächenaktiven Mittels ist bis zu etwa 50 Gew.-%, bevorzugt bis zu etwa 30 Gew.-%.
Ein Mittel zur Einstellung der Viskosität wird in einer Menge bis zu etwa 30 Gew.-%, bevorzugt bis zu etwa 25 Gew.-% zu dem Retuschlermaterlal zu dem Zweck zugegeben, die Fließfähigkeit des Retuschiermaterials herabzusetzen und damit ein Übertaufen des Retuschiermaterials zu verringern gder zu beseitigen und ein Abtropfen des Materials von einem Pinsel oder einem ähnlichen Werkzeug, wenn das Retuschlermaterial auf den zu retuschierenden Bereich aufgebracht wird, zu unterdrücken und somit die Einfachheit der Handhabung des Retuschiermittels zu verbessern. Es ist zweckmäßig, daß das MIttel zur Einstellung der Viskosität nach der Aufbringung des Retuschiermaterials mit fließendem Wasser entfernt wird, und daher sind wasserlösliche und lactonlösllche Harze als Mittel zur Einsteilung der Viskosität besonders bevorzugt und geeignet. Günstige derartige Mittel sind belspielswe.se Polyvinylpyrrolidon, Polyäthylenoxid, modifizierte Cellulosen, z. B. Carboxymethylcellulose oder MethylcülvJose, Polyvlnylacetat-Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Polyvinylmethyläther-Malelnsäureanhydrld-Copolymere unt. dgl. Feine Pulver aus Siliciumdioxid eignen sich gleichfalls für diesen Zweck.
j Das Färbungsmittel hat keinerlei direkte Wirkung auf die Retuschierfähigkeit des Retuschlcrmatertals, wird
jedoch In günstiger Welse dazu In einer Menge bis zu etwa 10 Gew.-%, bevorzugt bis zu etwa 5 Gew.-%, zugegeben, um eine einfache Ermittlung des Bereichs, auf den das Retuschlermaterlai aufgebracht worden 1st, zu erleichtern. Jeder wasserlösliche Farbstoff oder jedes anorganische oder organische Pigment kann als Färbemittel verwendet werden. Zu geeigneten Beispielen für wasserlösliche Farbstoffe gehören Kristallviolett (CI 42 555), Brllliantblau (CI 42 090) und Safranin (CI 50 240). Zu geeigneten Beispielen für anorganische Farbstoffe gehören Rotoxid (red oxide) und für organische Farbstoffe Phthalocyaninblau (CI 74 160), Brilliant Carmln 6B (CI 15 850) und Lake Red (CI 15 585).
Als Mittel zur pH-Wert-Einstellung werden saure Substanzen bevorzugt, die In jüngster Zeit als Material zur -15 Einstellung der Oberfläche einer Druckplatte oder dgl. verwendet worden sind, wie beispielsweise Phosphorsäure, Zitronensäure, Lävullnsäure, Milchsäure und dgl. Eine geeignete Menge Mittel zur Einstellung der pH-Werte Ist bis zu etwa 15 Gew.-%, bevorzugt bis zu etwa 5 Gew.-%.
Das Lacton selbst besitzt eine ausgezeichnete Bildauflösungswlrkung, und es Ist daher Im allgemeinen unnötig, ein organisches Lösungsmittel zu dem Retuschlermaterlal der Erfindung zuzusetzen. Wenn dagegen ein mit «1 einer Tinktur oder Entwicklungsdruckfarbe oder einem ähnlichen Mittel überzogenes Bild, das zum Schutz der Llpld-Empflndlichkelt des Bildteils verwendet wird, retuschiert werden soll, wird ein Lösungsmittel vom aromatischen Typ, das hochwirksam hinsichtlich der Auflösung dieser Tinktur oder Entwicklungsdruckfarbe Ist, wie beispielsweise Benzol, Toluol oder Xylol, oder ein Lösungsmittel vom Erdöltyp mit einem Siedepunkt von etwa 80 bis 160° C zusammen mit dem vorliegenden Retuschiermaterlal verwendet, wodurch dessen Retuschlereffekt verbessert werden kann.
Die lichtempfindlichen lithographischen Druckformen, auf die das erfindungsgemäße Retuschlermaterlal aufgebracht werden kann, besitzen eine lichtempfindliche Substanz vom o-Dlazooxld-Typ, die der Platte Lichtempfindlichkeit erteilt, und der Träger dieser Platte kann aus Aluminium, Zink, Kupfer, Nickel, Magnesium, Elsen oder dgl. sein, und die Oberfläche des Trägers kann In ähnlicher Welse zur anodischen Oxidation von '" Aluminium behandelt werden. Beispiele für lichtempfindliche lithographische Druckplatten sind In den US-PS 36 35 709, 30 46 120 und 30 64 123 beschrieben. Typische Beispiele für lichtempfindliche Substanzen vom o-Dlazooxld-Typ sind beispielsweise 2-Dlazo-l-napthol-4-sulfonsäureester von Aceton/Pyrogallol-Kondensatlonspolymeren gemäß der US-PS 36 35 709; 4,4'-Bls[naphthochInon(l,2)-dlazldo-2-sulfonyloxy]-5-dihydroxy-(2,2')-dlphenylpropan(2,2) oder 4,4'-Bis-[naphthochlnon-(l,2)-dlazldo-2-sulfonyloxy]-5-trlhydroxy-2.2',4"- '·< trlphenylmethan gemäß der japanischen Patent-Veröffentlichung 1953/62; 6-Chlorchlnollnchlnon-(3,4)-dlazido-(3) gemäß der US-PS 28 59 112. Ferner können Verbindungen, die In Kosar. »Llcht-Sensltlve Systems«, Selten 342 bis 352, John WHey & Sons. Inc., New York, und in den US-PS 30 46 110, 30 46 111. 30 46 115. 30 46 116,
30 46 118, 30 46 119, 30 46 210, 30 46 212, 30 46 123, 30 46 121, 3106 465 und 3180 733 beschrieben sind, auch verwendet werden. Die lichtempfindliche Schicht kann andere Zusätze enthalten, beispielsweise Bindemittel, z. B. Phenol-Formaldehyd-Harze sowie Färbemittel für die lichtempfindliche Schicht.
Eine Ausführungsform einer lichtempfindlichen lithographischen Druckform, auf die das Retuschiermaterial s der Erfindung angewendet werden kann, wird im folgenden gegeben. Dieses Beispiel soll den Rahmen der lichtempfindlichen lithographischen Druckform, auf die das Retuschiermaterial der Erfindung aufgebracht werden kann, nicht beschränken, sondern ist lediglich eine erläuternde Ausführungsform zur Erleichterung des Verständnisses der Erfindung. Falls nicht anders angegeben, beziehen sich sämtliche Teile, ProzentverhSltnisse und dgl. auf das Gewicht.
1(1 Im folgenden wird die Herstellung der lichtempfindlichen lithographischen Druckform beschrieben.
Beide Oberflächen einer 3S18H-Aluminiumplatte wurden mit Aluminiumoxid mit einer Siebkorngröße von etwa 58 μπι gesandstrahlt und dann in eine 20%ige Lösung aus tertiärem Natriumphosphat (auf 70° C erhitzt) 1 Minute eingetaucht. Nach Waschen der Platte mit Wasser wurde die so erhaltene Aluminiumplatte 1 Minute in eine 70%ige Salpetersäurelösung eingetaucht und dann wieder mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde die s Platte in ein Bad einer 2%igen. wäßrigen Natriumsilicailösung JIS Nr. 3, die auf 80 bis 85° C erhitzt war, während 2 Minuten eingetaucht, um dadurch eine hydrophile Schicht auf der Oberfläche der Aluminiumplatte auszubilden. Nach dem Waschen der Platte mit Wasser und anschließendem Trocknen der Platte wurde eine Lösung aus 5 Gew.-Teilen einer lichtempfindlichen Substanz vom Diazooxid-Typ (hergestellt nach dem Verfahren gemäß Beispiel 1 der US-PS 36 35 709), 10 Gew.-Teilen eines öllöslichen Phenolharzes und 0,8 Gew.-Teilen
2" Ölblau CI. 74 350 gelöst in einem Lösungsmittelgemisch aus 100 Gew.-Teüen Methyläthylketon und 80 Gew.-Teilen Cyclohexanon auf die auf der Aluminiumplatte ausgebildete hydrophile Schicht unte.· Verwendung einer Rotationsüberzugsmaschine aufgebracht und dann getrocknet. Das Gewicht der aufgezogenen Schicht betrug 1,5 g/m2, bezogen auf Trockenbasis.
Die erhaltene Druckplatte, der auf diese. Weise Lichtempfindlichkeit erteilt worden war, wurde durch einen
-? positiven Film während 2 Minuten unter Verwendung einer in einem Abstand von 70 cm von der Platte angeordneten Bogenlampe von 35 Ampere belichtet. Die Platte wurö; dann in eine 5%ige tertiäre Natriumphosphatlösung während 1 Minute eingetaucht, um die belichteten Bereiche zu lösen und daraus zu entfernen. Nach Entwicklung wurde die Form mit Wasser gewaschen und getrocknet. In der so erhaltenen lichtempfindlichen lithographischen Druckform blieb das Schnittende des Positivfilms als schwaches Bild auf der Oberfläche (dies
-'·· wird einfach als »lichtempfindliche lithographische Druckform« in den nachfolgenden Beispielen bezeichnet).
Ein feiner Pinsel wurde jeweils mit den in den nachfolgenden Beispielen beschriebenen Retuschiermaterialien getränkt, und das Material wurde auf den Bereich .aufgetragen, wo das Schnittende des Films als Bild in der lichtempfindlichen lithographischen Druckform verblieb. Nach 30 Sekunden wurde das aufgebrachte Material mit kräftig fließendem Wasser abgewaschen. Die hydrophile Schicht wurde in dem gelöschten Bereich vollstän-
-'5 dig freigelegt, und dieser Bereich kann danach nicht von den anderen Nicht-Bildbereichen unterschieden werden. Die so retuschierte Form wurde auf eine Kopiermaschine gebracht, und es wurden davon 10 000 Reproduktionen ausgedruckt. In diesen Reproduktionen fanden sich keine Flecken in dem gelöschten Bereich, und die Reproduktionen waren sehr schön.
Wenn der zu löschende Bereich groß ist, wird eine Farbbürste bzw. ein Farbpinsel oder dgl. bevorzugt verwendet, wodurch der Bereich in ganz ähnlicher Welse gelöscht werden kann, und ein feiner Pinsel wird zur Auslöschung komplizierter enger Bereiche verwendet, worauf die Retuschierlösung nicht überläuft. Der Retuschiervorgang kann somit sicher mit dem Retuschiermaterial der Erfindung durchgeführt werden.
Die Retuschiermaterialien der Erfindung werden unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
<n 4-Butyrolacif>n 80
85%lgc, wäßrige Phosphorsäurelösung 2
Natriumalkyl-iCg-Cn-GemisctO-Benzolsulfonat 5
Polyvinylpyrrolidon, K-Konstante: 30 ± 3; 10 CI. 42 555 0,3
Beispiel 2
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
'■" 3-Propiolacton g0
85%ige, wäßrige Phosphorsäurelösung 2
Natriumalkylbenzolsulfonat 4
Polyolnylpyrrolidon wie in Beispiel 1 10
CI. 42 555 wie m Beispiel 1 6,3
Beispiel 3
Eir1 Reluschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt.
3-Proplolacton 50
6-Hexanolacton 30
85%lge, wäßrige Phosphorsäurelösung 2
Natrlumalkylbenzolsulfonat wie in Beispiel 1 4
Polyvinylpyrrolidon, K-Konstante: 87,5 ± 2,5; 10 >
C.I. 42 555 0,3
Beispiel 4
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt: ι»
5-Valerolacton 70
Xylol 10 Sorbftanmonosiearat 3
Slliclumdloxidpulver 5 i~
Beispiel 5
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton 72
Lösungsmlttelnaphtha (Fraktion von 80 bis 150° C) 10
Sorbltansesqulstearai 3
Natrlumalkylbenzolsulfonat wie in Beispiel 1 2
Slliclumdloxidpulver 3
Beispiel 6
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton 60
6-Hexanolacton 15
75*lge, wäßrige Milchsäurelösung 15
Polyäthylenglykolalkylphenyläther 3
Methylcellulose; Methoxygehalt, 2 7 bis 32 Gew.-%; 5 ν
Viskosität einer 2%lgen Lösung bei 20° C, 550 bis 750 cP,
Slliclumdloxidpulver 2
Beispiel 7
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
5-Valerolacton 35
Lävullnsäure (80%) 35
Polyäthylenglykolalkylphenyläther wie in Beispiel 6 5 ·ι;
Methylcellulose wie in Beispiel 6 5 Siliciumdloxidpulver 2
Beispiel 8
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton 56
3-Propiolacton 15
Cellulose; Methoxygehalt, 28 bis 30%, Hydroxypropoxygehalt 7 bis 12«, Viskosität einer > >
2%igen, wäßrigen Lösung bei 20° C: 3500 bis 5600 cP 1
Äthylenglykol 2 Addukt aus Propylenglykol-Propyienoxid-Blockpolymerem und Äthylenoxid im Molverhältnis
50 : 50 Molekulargewicht etwa 2000 bis 2500, 21
Siliciumdloxidpulver 5 &o
Beispiel 9
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
5-Vaieroiacton 80
Carboxymethylcellulose (2%ige, wäßrige Lösung, 600 bis 900 cP bei 250° C 2
Siliciumdioxid 3
75%ige, wäßrige Milchsäurelösung Natrlumlaurylalkoholsulfat
Beispiel 10
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
5-Valerolacton 6-Hexanolacton Methylcellulose Polyäthylenglykolalkylphenylfither 85'hlge. wäßrige Phosphorsäurelösung CI. 50 240
Beispiel 11
Ein Retuschlermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
^-oütyföiäütün Pülyäthylenglykolalkylphenyliither Äthylenoxldaddukt 75%ige, wäßrige Milchsäurelösung Slliciumdloxidpulver Glycerin
Beispiel 12
Ein Retuschiermateria! der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Buiyrolacton Cellulose
Äthylenoxidaddukt Sillciumdloxidpulver 751V1IgC, wäßrige Milchsäurelösung
Beispiel 13
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton Cellulose
Äthylenglykol Natriumlaurylalkoholsulfat 75%ige, wäßrige Milchsäurelösung CI. 42 555
Beispiel 14
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
5-Valerolacton Äthylenoxidaddukt
Beispiel 15
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton 75%lge, wäßrige Mlichsäureiösung Natriumlaurylalkoholsulfat
Beispiel 16
Ein Retuschiermaterial der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt:
4-Butyrolacton 6-Hexanolacton
wie In Beispiel 6
wie In Beispiel 6
wlp In RpKnIpI fi
wie In Beispiel 6
gemäß Beispiel 8
gemäß Beispiel 8
gemäß Beispiel 8
gemäß Beispiel 8
gemäß Beispiel 8
48
27 6
25 1,5 0,2
80
15
20
30 1
10 6
70
50
10 50
0,5
60
25
40 40
40 40
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne darauf begrenzt zu sein.
Vergleichsbelspiel
Eine Aluminlumplatle mit einer Dicke von 0,15 mm wurde in eine IO%lge wüßrige Lösung von Natriumtert.-phosphat bei 800C während 3 Minuten zur Entfettung eingetaucht, und nach der Körnung der Oberfläche mit einer Nylonbürste wurde die Platte einer Entschmutzungsbehandlurig mit einer 3%lgen wäßrigen Lösung von Natriumhydrogensulfat unterworfen. Dann wurde die Platte mit einer l,5%igen wäßrigen Lösung von Natriumslllkat bei 700C während einer Minute behandelt, mit Wasser gewaschen und getrocknet.
Die dabei erhaltene Aluminiumplatte wurde dann mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung überzogen und bei 100° C während 2 Minuten getrocknet.
Veresterte Substanz aus Naphthochinonel,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäurechlorld und Pyrogallol-
Acetonharz 0,75 g (beschrieben In Beispiel 1 der US-PS 26 35 709)
Kresol-Novolakharz 2.10 g
Tetrahydrophthalsäureanhydrid 0.15 g
CI. 74 350 0.01 g
Ci. 42 555 0.0! g
o-Naphthochlnondlazld^-sulfonsäurechlorid 0,02 g
2-Trlchlormethyl-5-(p-n-buto.\ystyryl)-l,3,4-oxadlazol 0.02 g
Äthylendichlorld 16 Β
2-Methoxyäthylesslgsäure 12 g
Die Überzugsmenge nach der Trocknung betrug 2,4 bis 2,5 g/m''.
Die erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde bildweise an Licht aus einer Kohienbogenlampe (30 A) In einem Abstand von 70 cm ausgesetzt und anschließend mit einer wäßrigen Natrlumsllikatlösung entwickelt, mit Wasser gewaschen und getrocknet, so daß die lithographische Druckform erhalten wurde.
Retuschiermaterialien (bei 25° C) mit den folgenden Zusammensetzungen wurden auf den Bildbereich der lithographischen Druckform unter Anwendung eines Schrelbplnsels aufgetragen, und nach Stehenlassen der Form während 60 Sekunden wurde die Form mit Wasser zur Entfernung des Retuschlermittels gewaschen. Dann wurde Entwicklungsdruckfarbe auf die Form zur Untersuchung der Radlerwirkung aufgetragen. Proben vor und nach der Auftragung der Entwicklungsdruckfarbe wurden bewertet.
Zusammensetzungen der Retuschiermaterialien
Komponente uckauiucS EmndüfigS gern äße η .ι _ g 3 g Retuschier
DMF- 80 - - g - g material
Retu- - It 50 g 50 50 entsprechend
schier- - 11 30 g 30 g 30 g DE-OS
material 1 2 3 - 1 - 18 17416
Dimethylformamid (DMF) 80 g - - — ig 1 g 1 g _
y-Butyrolaceton 80 g 80 g g -
σ-Valerolacton - - - 2 — 2 2 -
Hexalacton - - - g -
Siliciumdioxidpulver 8g 8g - 1 - 8g
Hydroxylropylmethyl- _ _ _ 5 — 5 —
cellulose gem. Beisp. 8
85%ige wäßrige Phosphor 2g - 2g — g — 2g
säure
Polyvinylpyrrolidon - - - g -
Natriumalkyl (C8-I2)- _ _ _ g —
benzolsulfonat
2-Äthoxyäthanol _ _ _ 80 g
(Glykoläther)
Ιό 04 UJ/
Es wurij>n die In der nachfolgenden Tabelle aufgeführten Ergebnisse erhalten.
DMF-
Retu-
schier-
material		 I
1		 2 3 II
1		 2 3 III
DE-OS
18 17416
Radierfiihigkeit X Δ O O Δ O O X
Einfluß des Dampfes des
verwendeten Lösungs
mittels		 X O O O O O O X
Fleckbildung >; O O O Δ O O X
Randflecken X O O O O O η Δ~Χ
χ - schlecht. Δ = genügend. C = gut
Das gemäß der DE-OS 18 17 416 den Glykoläther 2-Athoxyäthanol enthaltende Retuschlermaterial scheint eine gute nulierte Fläche vor der Aufbringung der Druckfarbe auszubilden, während sich nach der Aufbringung der Druckfarbe zeigt, daß die radierte Flüche vollständig gefleckt wird.
Die Retuschlermaterialien I und II gemäß der vorliegenden Erfindung ergeben also weit bessere Ergebnisse als die bekannten Retuschiermaterialien.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verfahren zum Retuschieren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen mit o-Chinondiaziden In der lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß das Retuschiermaterial mindestens 1 Lacton mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen enthält.
    Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Retuschieren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen mit o-Chinondiazlden in der lichtempfindlichen Schicht.
    Retuschiermaterialien werden verwendet, um einen gewünschten Bereich einer Druckform selektiv ohne Korrodierung der hydrophilen Schicht des rohen Bildteils darin auszulöschen.
    Bei dem Photograviervorgang ist häufig eine Retuschierung der Druckformen erforderlich. Der Hauptgrund für Notwendigkeit der Verwendung eines Retuschiermaterials besteht beispeiiswelse darin, daß ein Teil des verwendeten Originalfilms aus gewissen Gründen unnötig wird, und In diesem Fall Ist die Retuschierung auf diesem unnötigen Teil erforderlich, nachdem der Originalfilm auf einer lichtempfindlichen lithographischen Druckform wiedergegeben ist. Darüber hinaus gibt es noch die folgenden Gründe: Bei der Herstellung positiver -0 Druckformen bewirken Flecken Im Film sowie das Schnittende des Films die Bildung unzureichend belichteter Teile in der Oberfläche der Druckform, und diese Teile werden farbaufnahmefähig. Daher werden diese unzureichend belichteten Teile vor der Verwendung der Druckplatte entfernt. Wenn ein automatisches Plattenzusammensetzungsgerät für den Mehrplattendruck verwendet wird, bleibt femer die Grenzfläche zwischen den Bildern unbelichtet, und daher ist es notwendig, diese zu entfernen. Für die Tiefälzretuschierung und dgl. wurden :> bisher einige Methoden durchgeführt, einschließlich einer Gumml-Stoppmethode bzw. Gumnil-Sperrmethode, wobei ein wasserlöslicher Harzgummi vorher auf die zu retuschierenden Teile vor Aufbringung der Öldruckfarbe auf die Tiefdruckteile aufgezogen wird, und eine Methode, bei der die unnötigen Teile mit einem Steinstab physikalisch entfernt werden. Jedoch kann die Gummi-Sperrmethode nicht auf Druckplatten angewendet werden, die kürzlich entwickelt worden sind, wie beispielsweise vorsenslbillsierte Platten, Aufwischplatten und 3t) dgl., da die Schicht der lichtempfindlichen photographischen Substanz bereits auf der gesamten Druckfläche der Druckplatten ausgebildet Ist. Die andere Methode unter Verwendung eines Steinstabs Ist Insofern nachteilig, als die mit dem Steinstab geriebenen Teile farbaufnahmefähig werden, da dieses PS-Platten, Aufwischplatten und dgl. im allgemeinen flache Körnung aufweisen.
    Aus diesen Gründen wurde ein Verfahren zur chemischen Retuschierung, Insbesondere für die PS-Platte,
    .'5 Aufwischplatte und dgl. entwickelt. Beispielsweise ist ein Retuschlermittel bekannt, das eine stark-alkalische Lösung aufweist und desssen Hauptnachteil besteht darin, daß eine Bürste oder ähnliche Werkzeuge, die zur Aufbringung dieses Retuschlermaterials notwendig sind, durch dieses Material korrodiert werden. Andererseits Ist die Verwendung eines eine fluorhaltlge Verbindung enthaltenden Retuschlermaterials Insofern nachteilig, als der Fluorgehalt der Abfallflüssigkeit genau überwacht werden muß, da es eine toxische Substanz Ist. Ferner 1st eine Retuschlermasse, die vorwiegend aus einem Lösungsmittel besteht, gleichfalls nachteilig, da es schwierig Ist, komplizierte Bildteile unter Verwendung dieses Retuschiermaterials zu retuschleren oder zu löschen, da das Mittel zur Verteilung In Bereiche, weiche die Teile, auf die das Material aufgebracht wird, umgeben, aufgrund von Diffusion des Materials oder Verdampfung des Lösungsmittels selbst neigt.
    Ferner Ist aus der DE-OS 18 17 416 ein Korrekturmittel für auf photomechanischem Wege hergestellte Druckformen bekannt, das zwei organische Lösungsmittel, Wasser, eine Säure oder saure Substanz und ein Verdlkkungsmlttel enthält. Wie Versuche zeigten. Ist die Radlerfähigkeit dieses Mittels schlecht, da beim Aufbringen der Druckfarbe die radierte Fläche völlig bedeckt wird, und das Mittel zeigt weiterhin eine Schädigung benachbarter Bildteile durch Lösungsmitteldampf und dadurch bedingte Fleckenbildung.
    Aufgabe der Erfindung Ist die Schaffung eines Verfahrens zum Retuschleren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen mit o-Chlnondlazlden In der lichtempfindlichen Schicht, wob»,! lediglich der unerwünschte Bereich Innerhalb einer kurzen Zeltdauer entfernt werden kann und ein Retuschlermittel eingesetzt wird, das praktisch geruchlos, nichttoxisch und In hohsm Maß sicher Ist, womit die Bildteile in Nachbarschaft zu den unerwünschten Bereichen sowie die Oberfläche des die hydrophile Schicht enthaltenden Trägers der sntfernten Bereiche nicht beschädigt werden.
    Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt gemäß der Erfindung durch die Schaffung eines Verfahrens der vorstehend angegebenen Art, das dadurch gekennzeichnet ist, daß das Retuschiermaterial mindestens 1 Lacton mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen enthält.
    Im Rahmen der Erfindung wurden viele Verbindungen untersucht, und es wurde gefunden, daß Intramolekulare cyclische Ester (als Lactone bezeichnet) mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Proplolacton, Butyro- <·» lacton, Valerolacton, Hexanolacton und dgl., die gewünschten Eigenschaften aufweisen. Diese Lactone können allein oder als ein Gemisch von zwei oder mehreren verwendet werden. Ferner können diese als eine Masse verwendet werden, welche das Lacton und zusätzliche übliche Additive, wie beispielsweise Benetzungsmittel, oberflächenaktive MIttel, MIttel zur Einstellung der Viskosität, Färbungsmittel, Mittel zur Einstellung des pH-Wertes und/oder organische Lösungsmittel und dgl., enthalten. Ferner können diese mit Wasser verdünnt fr> werden, und die verdünnte Lösung kann mit diesen Additiven vermischt werden.
    Butyrolacton ist z. B. In Ullmann's Enzyklopädie der technischen Chemie, 3. Auflage, Band 4, Selten 802 bis 803, beschrieben. Die DE-OS 20 12 390 beschreibt die Verwendung von Lactonen In Entwicklerzusammensetzuneen. Es war icdoch bisher nicht bekannt, daß Lactone mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen zur selektiven Entfer-
DE19732364037 1972-12-26 1973-12-21 Verfahren zum Retuschieren von belichteten und entwickelten lithographischen Druckformen Expired DE2364037C2 (de)

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