DE2330646A1

DE2330646A1 - Vorrichtung und verfahren zur aenderung der polarisation einer elektromagnetischen welle

Info

Publication number: DE2330646A1
Application number: DE19732330646
Authority: DE
Inventors: Derek Humphery Martin
Original assignee: BECKMAN RIIC Ltd; Beckman R I I C Ltd
Current assignee: BECKMAN RIIC Ltd; Beckman R I I C Ltd
Priority date: 1973-06-15
Filing date: 1973-06-15
Publication date: 1975-01-09

Description

_{15# Juni 1973}

Dr, Ing. WcStar Abitz 1674a

Dr. Dieter F. Morf
Dr. Hans-A. Brauns

itoelwn 88, Fwuaaamntr, 21 j

BECKMAN - RIIC LIMITED

1 Frederick's Place, Old Jewry, London E. C. 2

England

Vorrichtung und Verfahren zur .änderung der Polarisation einer elektromagnetischen Welle

Diese Erfindung betrifft die .Änderung der Polarisation eines elektromagnetischen Strahlungsbündels und insbesondere die Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten elektromagnetischen Strahls.-

Die früher vorgeschlagenen Vorrichtungen zur Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten Strahls hatten die Nachteile, dass derartige Vorrichtungen für eine bestimmte Wellenlänge ausgelegt sein mussten, und dass es schwierig war, das einwandfreie Arbeiten solcher Vorrichtungen im Langwellenbereich zu erreichen.

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Die Erfindung liefert eine Vorrichtung zur Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten elektromagnetischen Strahlungsbündels. Die erfindungsgemässe Vorrichtung besteht aus einer Halterung und zwei oder mehr metallischen, reflektierenden Oberflächen, wobei die Stellung der reflektierenden Oberfläche relativ zueinander fest ist und die reflektierenden Oberflächen zusammen relativ zu der Halterung um eine Achse gedreht werden können, und wobei die metallischen, reflektierenden Oberflächen so angeordnet sind, dass der austretende Strahl parallel oder antiparallel zum einfallenden Strahl verläuft, wenn ein linear polarisiertes elektromagnetisches Strahlungsbünde Γ in einer zu dieser Achse parallelen Richtung in die Vorrichtung eintritt und der Strahl metallischen Beflextionen .an jeder der reflektierenden Oberflächen unterworfen ist.

Die in Verbindung mit den Eichtungen von Strahlen, Ebenen und Achsen verwendeten Bezeichnungen "parallel" und "antiparallel", sowie wie sie hier verwendet werden, sollen die Fälle einschliessen, in denen die Sichtungen der je nach dem als parallel oder anti-parallel bezeichneten Ebenen, Strahlen and Achsen miteinander zusammenfallen.

Venn auch die fiichtung des austretenden Strahls, die durch die Drehung der reflektierenden Oberflächen um die Achse nicht geändert wird, so soll dies den Fall einschliessen, in dem der austretende Strahl seitlich versetzt ist und dabei parallel zu seiner Eichtung vor der Versetzung bleibt. Im allgemeinen ist es jedoch zweckmässigerweise so, dass der austretende Strahl nicht seitlich versetzt wird, wenn die reflektierenden Oberflächen gedreht werden.

Für ein Strahlungsbündel, das im wesentlichen "ideale metallische Reflexion" an den metallischen, reflektierenden Oberflächen erleidet, kann die Polarisationsebene des austre-

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tenden Strahls im Vergleich zur Polarisationsebene des eintretenden Strahls um jeden gewünschten Winkel, inklusive 0° und 180°, dadurch gedreht werden, dass lediglich die metallischen, reflektierenden Oberflächen um die Achse in eine geeignete Winkelstellung gedreht werden. Das Ausmass der Drehung der Polarisationsebene hängt von dem Winkel zwischen der Einfallsebene des Strahls bei jeder Eeflexion und der Polarisationsebene des eintretenden Strahls ab. Der Winkel, um den die Polarisationsebene des austretenden Strahls infolge der Drehung der reflektierenden Oberflächen um einen bestimmten Winkel um die Achse gedreht wird, ist das Zweifache des Winkels, um den die reflektierenden Oberflächen gedreht werden.

Ein wichtiger Vorteil der erfindungsgemässen Vorrichtung besteht darin, dass das Ausmass der Drehung der Polarisationsebene des austretenden Strahls verglichen mit der des eintretenden Strahls für einen grossen Wellenlängenbereich und vor allem für Wellenlängen im langwelligen Bereich unabhängig von der Wellenlänge der Strahlung ist.

Ein Strahl, der "ideale metallische Reflexion" erleidet, wird unter jedem Einfallswinkel ohne Intensitätsverlust als linear polarisierte Welle reflektiert, wenn er zuvor linear polarisiert war. In der Praxis ist die Reflexion eines elektromagnetischen Strahlungsbünde·s von einer Metalloberfläche eine unvollkommene metallische Eeflexion, so dass ein linear polarisierter Strahl als elliptisch polarisierter Strahl und mit etwas Intensitätsverlust reflektiert wird, in vielen Fällen kommt die Reflexion jedoch vollständiger metallischer Beflexion sehr nahe und das Ausmass der eingeführten Elliptizität ist klein.

Die Reflexion der Strahl en von den reflektierenden Oberflächen der Vorrichtung kommt so vollständiger metallischer JBeflexLon für eine grosse Anzahl von Metallen (solche mit guter

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Leitfähigkeit) sehr nahe, wenn die Wellenlänge der Strahlung in dem Bereich zwischen der Millimeter- und der dem sichtbaren Spektrum nahen Infrarotstrahlung des Spektrums (Langwelliger Bereich) liegt. Wenn jedoch die Wellenlänge bis zu der des sichtbaren Bereichs- abnimmt, muss das Metall für die reflektierenden Oberflächen sorgfältiger ausgewählt werden, um sich der idealen metallischen Reflexion gut anzunähern. Am kurzwelligen Ende des sichtbaren Bereichs kann wahrscheinlich kein Metall gefunden werden, das diese Bedingung erfüllt. Die Verwendungsmöglichkeiten der Vorrichtung nehmen also mit wachsender Wellenlänge der Strahlung zu.

Wenn die Reflexion ideäLer metallischer Reflexion nahekommt, können Einfallswinkel vom normalen Einfall bis innerhalb einiger Grade des Haupteinfallswinkels verwendet werden, und dieser Haupteinfallswinkel erreicht unter diesen Umständen 90°. Bei kurzer werdender Wellenlänge nimmt der Haupteinfallswinkel für die üblichen Metalle ab, um Werte im Bereich zwischen 70° und 80° im sichtbaren Spektrum bei 5893 -8 zu erreichen, und Einfallswinkel, die erheblich kleiner sind als dies, sind notwendig, wenn merkliche Elliptizität vermieden werden soll.

Die Vorrichtung kann jedoch immer noch nützlich sein, sogar, wenn ein merkliches Ausmass von Elliptizität eingeführt wird. Pur die verschiedenen Wellenlängen und für jeden einzelnen Einfallswinkel und für jedes Metall kann bei Kenntnis der als Punktion der Wellenlänge angegebenen optischen Konstanten des Metalls das tatsächliche Ausmass der eingeführten Elliptizität als eine Funktion der Drehung der Polarisationsebene berechnet werden. In der Praxis wird bei Einführung von Elliptizität ein Linear-Polarisator verwendet, um den austretenden Strahl linear zu polarisieren. Die Intensität des auf diese Weise linear polarisierten Strahls ändert sich mit der Drehung der

Polarisationsebene, diese Intensitätsänderung kann j'edoch aus der berechneten Elliptizität berechnet werden und es

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kann daraus ersehen werden, ob die Vorrichtung für eine bestimmte Anwendung geeignet ist.

Die erfindungsgemässe Vorrichtung kann auch zur Drehung der Hauptachse elliptisch polarisierter Strahlung verwendet werden. In diesem Fall kann für im wesentlichen ideale metallische Reflexion die .änderung der bei der Reflexion verursachten Elliptizität vernachlässigt werden.

Die Erfinämg betrifft auch ein Verfahren zur Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten elektromagnetischen Strahlungsbündels oder der Hauptachse eines elliptisch polarisierten Strahlungsbündels. Das Verfahren ist dabei dadurch gekennzeichnet, dass man den Strahl auf solche weise mindestens zwei metallische Reflexionen erleiden lässt, dass der austretende Strahl parallel oder anti-parallel zu dem einfallenden Strahl verläuft, wobei der Strahl die metallischen Reflexionen an metallisch reflektierenden Oberflächen erleidet, die relativ zueinander fest angeordnet sind und zusammen relativ zu einer Halterung um eine zur Richtung des eintretenden Strahls parallelen Achse gedreht werden können, um das Ausmass der Drehung der Polarisationsebene oder der Hauptachse des austretenden Strahls ohne Änderung der Richtung des austretenden Strahls zu ändern.

Ein Verwendungsbeispiel für dieses Verfahren ist die kontinuierliche Überwachung der Polari sierung seigenschaften eines Streifens aus polarisierendem Material in Verbindung mit einem Laser.

Es kann eine gerade Anzahl von metallischen, reflektierenden Oberflächen vorhanden sein, die so angeordnet sind, dass der austretende Strahl anti-parallel zu dem eintretenden Strahl verläuft. Vorzugsweise sind zwei metallische, reflektierende Oberflächen so angeordnet, dass der Winkel zwischen ihnen 90° beträgt.

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Es kann eine ungerade Anzahl von metallischen, reflektierenden Oberflächen vorhanden sein, die so angeordnet sind, dass der austretende Strahl parallel zu dem eintretenden Strahl verläuft. Vorzugsweise sind drei metallische, reflektierende Oberflächen vorhanden und die zwei Oberflächen, an denen die erste und dritte metallische fieflexion stattfindet, sind in solcher Weise voneinander weg und bezüglich der Oberfläche, an der die zweite metallische Eeflexion auftritt, geneigt, dass die kleineren Winkel zwischen jeder der zwei Oberflächen und der Oberfläche, an der sich die zweite Eeflexion ereignet, gleich sind.

Es kann eine Einrichtung zur linearen Polarisation des austretenden Strahls vorgesehen sein, die derart angeordnet ist, dass sie sich bei Drehung der metallischen, reflektierenden Oberflächen um eine zur Achse der Drehung der metallischen Oberflächen parallelen Achse dreht, und zwar in der gleichen Sichtung, in der die metallischen Oberflächen gedreht werden, aber um den zweifachen Winkel, um den die metallischen Oberflächen gedreht werden. Eine solche Anordnung ist z. B. nützlich, wenn der die Vorrichtung verlassende Strahl linear polarisiert sein soll, aber die Beflexion in der Weise stattfindet, dass ein geringes Ausmass von Elliptizität eingeführt wird. Die Einrichtung zur linearen Polarisation kann für die Polarisation des elliptisch polarisierten Strahls in einer dessen Hauptachse enthaltenden Ebene angeordnet werden (z. B. dadurch, dass am Anfang die Winkelstellung der Einrichtung für die lineare Polarisation relativ zu den reflektierenden Oberflächen eingestellt wird). Mit dem Winkel, um den die Polarisationsebene gedreht wird, kann sich dann die Intensität der von der Einrichtung zur linearen Polarisation durchgelassenen Strahlung etwas ändern, dies ist jedoch für manche Verwendungen der Vorrichtung ohne Bedeutung. Es kann eine Einrichtung zur linearen Polarisation des austretenden Strahls vorgesehen sein,die auf solche Weise mit den metallischen, reflektierenden Oberflächen gekoppelt ist,

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dass sie solche Intensitätsänderungen für eine bestimmte Wellenlänge und eine bestimmte Vorrichtung korrigiert, und zwar dadurch, dass sie in der Lage ist, den austretenden Strahl in der Ebene zu polarisieren, die für diese Winkelstellung der Oberflächen bezüglich ihrer Rotationsachse, bei der die Intensität des linear polarisierten austretenden Strahls ein Mjτι-imum ist, die Hauptachse enthält, und dass sie gegenüber der Ebene, die die Hauptachse für jede andere Winkelstellung der Oberflächen enthält, auf solche Weise versetzt ist, dass die Intensität des austretenden Strahls gleich dieser minimalen Intensität ist.

Vorteilhafterweise ist eine Anzeigevorrichtung vorgesehen, die so mit den metallischen, reflektierenden Oberflächen gekoppelt ist, dass sich die Anzeigevorrichtung bei Drehung der metallischen, reflektierenden Oberflächen in der gleichen Richtung wie die metallischen Oberflächen und um eine parallele Achse dreht, aber üb den zweifachen Winkel, um den die reflektierenden Oberflächen gedreht wurden, um Änderungen in dem Ausmass der Drehung der Polarisationsebene des linear polarisierten einfallenden Strahls oder der Hauptachse des elliptisch polarisierten einfallenden Strahls anzuzeigen.

Die erfindungsgemässe Vorrichtung und das erfindungsgemässe Verfahren werden im folgenden durch ein Ausführungsbeispiel und in Verbindung mit den Zeichnungen beschrieben.

Es zeigen:

Fig. 1 in einer schematischen Darstellung einen Teil einer Ausführungsform der Vorrichtung,

Fig. 2 in einer schematischen Darstellung einen Teil einer zweiten Ausführungsform der Vorrichtung und

Fig. 3 in einem schematischen Aufriss die erste Ausführungsform der Vorrichtung.

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Ein einfallendes linear polarisiertes elektromagnetisches Strahlenbündel mit einer dem fernen Infrarotbereich entsprechenden Wellenlänge, das durch eine nicht gezeigte Einrichtung erzeugt wird, erleidet drei metallische Reflexionen an den Oberflächen 1, 2 und 3 .(Fig. 1), die aus Aluminium bestehen, das auf Glas aufgedampft wurde. Die kleineren, durch die Oberflächen 1 und 3 mit der Oberfläche 2 gebildeten Winkel sind einander gleich. Nach den Reflexionen pflanzt sich der austretende Strahl in der gleichen Richtung wie vor den Reflexionen fort, d. h. er ist zu den einfallenden Strahlen parallel. Die Richtungen der eintretenden und austretenden Strahlen fallen tatsächlich zusammen und der Strahl besitzt kreisförmigen Querschnitt.

Die metallischen, reflektierenden Oberflächen 1, 2 und 3 sind um die Achse aa¹ drehbar gelagert und unter der Annahme, dass der Strahl anfänglich in der Zeichenebene polarisiert ist, in welchem Pail die Polarisationsebene nach den Reflexionen mit der Polarisationsebene vor den Reflexionen zusammenfällt, verursacht eine allmähliche Drehung der Oberflächen um 180° eine Drehung der Polarisationsebene des Strahls, die sich allmählich von 0° über 180° bis 360° ändert, wobei der Winkel um den die Polarisationsebene des austretenden Strahls im Vergleich zu dem eintretenden Strahl gedreht wurde, das Zweifache des Winkels ist, um den die reflektierenden Oberflächen gedreht wurden.

Ein linear polarisiertes elektromagnetisches Strahlungsbündel mit einer dem fernen Infrarotbereich entsprechenden Wellenlänge, das durch eine nicht gezeigte Einrichtung erzeugt wird, fällt gemäss Pig. 2 auf zwei Oberflächen 4 und 5, die in einem Winkel von 90° zueinander angeordnet sind und aus Aluminium bestehen, das auf Glas aufgedampft wurde. Die Strahlen sind zu der Linie bb' parallel und das Strahlenbündel besitzt kreisförmigen Querschnitt und ist auf die Linie bb¹ zentriert. In der Zeichnung ist nur ein Randstrahl der Strah-

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lung dargestellt. Die Strahlung kann als aus zwei Strahlen bestehende betrachtet werden, wobei einer auf jeder Seite der Linie bb¹ von Fig. 2 liegt und der eine von ihnen zuerst an der Oberfläche 4 und dann an der Oberfläche 5 metallische Reflexionen erleidet und der .andere zuerst an der Oberfläche 5 und dann der Oberfläche 4· metallische Reflexionen erleidet. Jedes der austretenden Teilbündel ist antiparallel zu dem entsprechenden einfallenden Teilbündel, und die Strahlung wird insgesamt entlang ihres eigenen Weges zurückreflektiert.

Die metallischen, reflektierenden Oberflächen 4- und 5 sind um die Achse bb' drehbar gelagert und unter der Annahme, dass die Strahlung anfänglich in der Zeichenebene polarisiert ist, in welchem Fall die Polarisationsebene nach den Reflexionen mit der Polarisationsebene vor den Reflexionen zusammenfällt, erzeugt wie bei der ersten Ausführungsform der Vorrichtung eine allmähliche Drehung der Oberflächen um 180° eine allmähliche Drehung der Polarisationsebene der austretenden Strahlen von 0° über 180° bis 360° im Vergleich zu den einfallenden Strahlen.

Fig. 3 zeigt die Oberflächen 1 bis 3 in. einer Halterung, die mit 6 bezeichnet ist. Die Oberflächen 1 und 3 sind starr in einem Zylinder 7 gelagert, der in einer feststehenden Hülse der Lagerung um die Achse aa' drehbar ist. Ein Ring 9» der ebenfalls in der Hülse 8 drehbar gelagert ist, hält einen Idnear-Polarisator 10.

Der Ring 9 ist so an den Zylinder 7 gekoppelt, dass sich der Zylinder 7 bei Drehung des Ringes 9 in der gleichen Richtung wie der Ring dreht, aber um den halben Winkel, um den sich der Ring dreht. Ein Zeiger 11, der sich radial von dem Ring 9 wegerstreckt, überstreicht bei Drehung des Ringes eine kreisförmige Skala 12, die am Ende der Hülse 8 befestigt ist. Dieser Zeiger zeigt Änderungen in der Drehung der Polarisationsebene an.

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Da sich der Zeiger 11 um den zweifachen Winkel dreht, um den sich bei einer gegebenen Winkelversetzung des Ringes 9 und des Zylinders 7 die Oberflächen 1 bis 3 um die Achse aa¹ drehen, überstreicht der Zeiger den gleichen Winkel, den die Polarisationsebene des austretenden Strahls überstreicht.

Die Aufgabe des Idnear-Polarisators 10 besteht darin, sicherzustellen, dass der austretende Strahl linear polarisiert ist, und zwar sogar dann, wenn die Vorrichtung mit Strahlung von einer solchen Wellenlänge verwendet wird, dass Elliptizität bei den Reflexionen auftritt. Es sind Vorkehrungen getroffen, um den Ring 9 unabhängig von dem Zylinder 7 zu drehen, um die Ebene des Polarisators 10 mit der Polarisationsebene des austretenden Strahls für jede Einstellung der Polarisationsebene des einfallenden Strahls auszurichten. Dazu wird der Ring 9 relativ zu dem Zylinder 7 gedreht, bis maximale Durchlässigkeit erreicht wird. Danach, können sich der Ring 9 und der Zylinder 7 mit gleicher Relation wie zuvor drehen.

Die gleiche Halterung, jedoch ohne den Linear-Pclarisator 10, kann für die in Fig. 2 gezeigten Oberflächen verwendet werden.

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Claims

Pat ent an sp rüc he

Vorrichtung zur Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten elektromagnetischen Strahlungsbündels, wobei die Vorrichtung eine Halterung aufweist, gekennzeichnet durch zwei oder mehr metallische, reflektierende Oberflächen (1, 2, 3 und 4, 5), wobei die Stellung der reflektierenden Oberflächen relativ zueinander fixiert ist und die reflektierenden Oberflächen zusammen relativ zu der Halterung um eine Achse (aa¹ und bb¹) gedreht werden können, und wobei die metallischen, reflektierenden Oberflächen so angeordnet sind, dass der austretende Strahl parallel oder anti-parallel zu dem einfaüenden Strahl verläuft, wenn ein linear polarisiertes elektromagnetisches Strahlungsbündel in einer zu der Achse parallelen Richtung in die Vorrichtung eintritt und der Strahl an jeder der reflektierenden Oberfläche eine metallische Reflexion erfährt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine gerade Anzahl von metallischen, reflektierenden Oberflachen, die so angeordnet sind, dass der austretende Strahl anti-parallel zu dem einfallenden Strahl verläuft.
3- Vorrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch zwei metallische, reflektierende Oberflächen (4, 5), die so angeordnet sind, dass der Winkel zwischen ihnen 90° beträgt.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine ungerade Anzahl von metallischen, reflektierenden Oberflächen, die so angeordnet sind, dass der austretende Strahl parallel zu dem einfallenden Strahl verläuft.
5· Vorrichtung nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch drei

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metallische, reflektierende Oberflächen (1, 2, 3) »wobei die zwei Oberflächen (1, 3)» sra. denen die erste und dritte metallische Eeflexion stattfindet, voneinander weg und zu der Oberfläche (2) Tn τ» geneigt sind, an der die zweite metallische Eeflexion stattfindet, und zwar in der Weise, dass die kleineren Winkel zwischen jeder der zwei Oberflächen (1, 3) und der Oberfläche (2), an der die zweite Eeflexion stattfindet, gleich gross sind.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5» gekennzeichnet durch eine linear polarisierende Einrichtung (10) für den austretenden Strahl, wobei die linear polarisierende Einrichtung so angeordnet ist, dass sie sich bei Drehung der metallischen, reflektierenden Oberflächen um eine zur Sotationsachse der metallischen Oberflächen parallele Achse dreht, und zwar in der gleichen Richtung, in der sich die metallischen Oberflächen drehen, aber um den zweifachen Winkel, um den sich die metallischen Oberflächen drehen.
7· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch eine Anzeigevorrichtung (11), die in der Weise mit den metallischen, reflektierenden Oberflachen gekoppelt ist, dass sich die Anzeigevorrichtung bei Drehung der metallischen Oberflächen in der gleichen Sichtung wie die metallischen Oberflächen und um eine parallele Achse, aber um den zweifachen Winkel dreht, um den sich die reflektierenden Oberflächen drehen, um Änderungen der Drehung der Polarisationsebene des linear polarisierten einfallenden Strahls anzuzeigen.
8. Verfahren zur Drehung der Polarisationsebene eines linear polarisierten elektromagnetischen Strahlungsbündels oder der Hauptachse eines elliptisch polarisierten Strahlungsbündels, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahl mindestens zwei metallischen Reflexionen in der Weise unter-

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worfen wird, dass der austretende Strahl parallel oder anti-parallel zu dem einfallenden Strahl verläuft, wobei der Strahl metallische fieflexionen an metallischen, reflektierenden Oberflächen erfährt, die relativ zueinander fixiert sind und zusammen relativ zu einer Halterung um eine zur Richtung des einfallenden Strahls parallelen Achse gedreht werden können, um eine Änderung der Drehung der Polarisationsebene oder der Hauptachse des austretenden Strahls ohne Änderung der Richtung des austretenden Strahls zu ermöglichen.
9· Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die metallischen, reflektierenden Oberflächen relativ zu der Halterung um diese Achse in der Weise gedreht werden, dass sich das Ausmass der Drehung der Polarisationsebene oder der Hauptachse des austretenden Strahls ändert.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9» dadurch gekennzeichnet, dass der Strahl eine gerade Anzahl von metallischen Reflexionen erfährt und der austretende Strahl antiparallel zu dem einfallenden Strahl verläuft.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahl eine metallische Reflexion an Jeder der zwei metallischen, reflektierenden Oberflächen erfährt, die unter einem Winkel von 90 zueinander angeordnet sind.
12. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9? dadurch gekennzeichnet, dass der Strahl eine ungerade Anzahl von metallischen Reflexionen erfährt und der austretende Strahl parallel zu dem einfallenden Strahl verläuft.
13· Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahl an jeder der drei metallischen, reflektierenden Oberflächen eine metallische Reflexion erfährt,

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wobei die zwei Oberflächen, an denen der Strahl die erste und die dritte Eeflexion erfährt, voneinander weg und zu der Oberfläche hin geneigt sind, an der der Strahl die zweite Reflexion erfährt, und zwar in der Weise, dass die kleineren- Winkel zwischen jeder der zwei Oberflächen und der Oberfläche, an der die zweite fieflexion stattfindet, gleich gross sind.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass der austretende Strahl nach den Reflexionen elliptisch polarisiert ist, aber durch eine Einrichtung, die den Strahl in einer zur Hauptachse des austretenden Strahls parallelen Richtung polarisiert, linear polarisiert wird, wobei die linear polarisierende Einrichtung so angeordnet ist, dass sie sich bei Drehung der metallischen, reflektierenden Oberfläche um eine zur Botationsach.se der metallischen Oberflächen parallele Achse dreht, und zwar in der gleichen Richtung, in der die metallischen Oberflächen gedreht werden, aber um den zweifachen Winkel, um den die metallischen Oberflächen gedreht werden.

15- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass eine Anzeigevorrichtung in der Weise mit den metallischen, reflektierenden Oberflächen, auf die der Strahl einfällt, gekoppelt ist, dass sich die Anzeigevorrichtung bei Drehung der metallischen, reflektierenden Oberflächen in der gleichen Richtung wie die metallischen Oberflächen und um eine parallele Achse, aber um den zweifachen Winkel dreht, um den die reflektierenden Oberflächen gedreht werden, um Änderungen der Drehung der Polarisationsebene des linear polarisierten Strahls oder der Hauptachse des elliptisch polarisierten Strahls anzuzeigen.

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