DE2325109A1 - Elektrolyt - Google Patents

Elektrolyt

Info

Publication number
DE2325109A1
DE2325109A1 DE2325109A DE2325109A DE2325109A1 DE 2325109 A1 DE2325109 A1 DE 2325109A1 DE 2325109 A DE2325109 A DE 2325109A DE 2325109 A DE2325109 A DE 2325109A DE 2325109 A1 DE2325109 A1 DE 2325109A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
cobalt
group
tin
electrolyte according
electrolyte
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2325109A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2325109B2 (de
DE2325109C3 (de
Inventor
Shimetomo Fueki
Kazuhiro Ogawa
Kenji Ohsawa
Naomi Sakai
Junichi Tada
Kanagawa Yokohama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP4818272A external-priority patent/JPS5444652B2/ja
Priority claimed from JP4818372A external-priority patent/JPS5347343B2/ja
Priority claimed from JP4818472A external-priority patent/JPS5444653B2/ja
Priority claimed from JP4818172A external-priority patent/JPS5536716B2/ja
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Publication of DE2325109A1 publication Critical patent/DE2325109A1/de
Publication of DE2325109B2 publication Critical patent/DE2325109B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2325109C3 publication Critical patent/DE2325109C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/60Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

It 2506
SONY CORPORATION Tokyo / Japan
Elektrolyt
Die Erfindung betrifft allgemein einen Elektrolyten zur Herstellung einer hellen Zinn-Kobalt-Auflage und insbesondere einen Elektrolyten mit einem Zusatzstoff als Äufhellungsmittel.
Im allgemeinen ist eine elektroplattierte Überzugsschicht, die aus Zinnlegierungen gebildet ist, hinsichtlich der antikorrosiven Eigenschaften überlegen. Eine Zinn-Nickel-Legierungsauflage ist eine Überzugsschicht hiervon, die hinsichtlich der antikorrosiven Eigenschaft im Vergleich zu einer Auflage nur aus Zinn oder Nickel überlegen ist. Außerdem zeigt die Zinn-Nickel-Legierungsauflage ein rötliches Aussehen. Um die Zinn-Nickel-Legierungsauflage zu bilden, wird allgemein ein Säurefluoridbad" verwendet, jedoch ist die so gebildete elektroplattierte Schicht sehr spröde und bei Beanspruchung der Schicht treten Risse auf.
30 9849/1122
_ φ „
Es wurde auch bereits ein.Pyrophosphatbad für den gleichet Zweck vorgeschlagen, jedoch ist die so gebildete elektroplattierte Schicht ebenfalls spröde und es ist im Vergleich zu dem Säurefluoridbad schwierig, das Pyrophosphatbat zu kontrollieren. Aus diesem Grund wird das Pyrophosphatbad praktisch nicht verwendet.
Von der Zinn-Kobalt-Legierungsauflage ist bekannt, daß sie die Sprödigkeit der Zinn-Nickel-Legierungsauflage verbessert. Die Zinn-Kobält-Legierungsauflage ist im wesentlichen gleich der Zinn-Nickel-Legierungsauflage hinsichtlich der antikorrosiven Eigenschaften, hat jedoch eine höhere Sprödigkeit. Außerdem treten keine Risse auf. Als praktisches Galvanisierungsbad ist ein Säurefluoridbad bekannt und die auf diese Weise gebildete Auflage hat eine Farbe, die der der Chrom- . Auflage gleich ist. Daher kann die Zinn-Kobalt-Legierungsauflage als Oberflächenauflage zur Elektroplattierung anstelle der Chromauflage verwendet werden, die normalerweise als Dberflächenauflage verwendet wird. Das Bad zur Bildung einer Zinn-Kobalt-Legierungsauflage enthält Fluorid, benötigt jedoch einen schwierigen Trocknungs- und Absaugvorgang, so daß solch ein Bad vom Standpunkt der öffentlichen Verschmutzung unerwünscht ist.
Über die Herstellung einer Zinn^Kobalt-Legierungsauflage aus Pyrophosphat wurde von S. Sree und T.L. Rama Char ein Bericht veröffentlicht (Electrodeposition of Alloys, Band 2, Acaddmic Press, New York und London, Seiten bis 341, 1963, von A. Brenner). Die Erfindung beruht auf Versuchen, die auf der Grundlage dieses Berichts durchgeführt wurden, wobei Ammoniumcitrat dem Pyrophosphatbad als Zusatzmittel, ebenfalls auf der Grundlage dieses Berichts, zugesetzt wurde. Bei allen diesen Versuchen wurde der Inhalt des Bades durch eine Rührvorrichtung
3 0 9 8 4 9/1122
!ungerührt, um eine sogenannte Hull-Cell-Prüfung durchzuführen. Die durch diesen Versuch elektroplattierte Schicht hatte schwarze oder graue Flecken»
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Bad zur Galvahoplattierung einer hellen Zinn-Kobalt-Legierung zu schaffen, das ohne die Verwendung von Pluorid eine hellweiße Zinn-Kobalt-Auflage bildet.
Gelöst wird diese Aufgabe gemäß der Erfindung durch eine Hautplattierungsflüssigkeit, bestehend aus Stannosalz Kobaltsalz und Alkalimetallpyrophosphat und wenigstens einem Stoff, der aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Aminosäure mit Schwefel,' neutrale oder Grundaminosäure, Pepton oder Protein, eine Organoschwefelverbindung, Ammoniak, Ammoniumsalz und Amin enthält.
Bei der vorliegenden Erfindung kann jeder der folgenden Stoffe oder eine Kombination hiervon als Aufhellungsmittel verwendet werden: Aminosäure mit Schwefel, neutrale oder Grundaminosäure, Protein oder Pepton, Ammoniak, Ammoniaksalz, eine Aminverbindung, eine Organoschwefelverbindung und dergleichen.
In einem Legierungs-Galvanisierungs-Bad, das Zinn, Kobalt und Pyrophosporsäure enthält, kann Zinn-Pyrophosphat leicht in einer wässrigen Lösung aus Kaliumpyrophosphat gelöst werden, jedoch wird Kobaltpyrophosphat in einer wässrigen Lösung von Kaliumpyrophospat, verdünnt um das 1 bis 20-fache bei Temperaturen von 60 bis 80°C, kaum gelöst.
Ein Galvanisierungsbad gemäß der Erfindung wird wie folgt gebildet: -
15 Gewichtsteile Kaliumphosphat kommen auf 1 Gewichtsteil Kobaltmetall. 40% Kobalt-Salzwasserlösung werden in Kalium-
309849/1122
pyrophosphat-wasserlösung bei 60 C unter Umrühren zum Zwecke der Auflösung gegossen und danach wird Stannopyrophosphatwasserlösung in die so hergestellte Wasserlösung unter Umrühren zum Zwecke der Auflösung gegossen. Der so hergestellte Legierungs-Galvanisierungs-Elektrolyt hat eine hohe Stabilität hinsichtlich seines komplexen Salzes, so daß eine helle Zinn-Kobalt-Legierungsauflage unter mechanischem Umrühren nur- durch Hinzufügen eines Zusatzstoffes", der später beschrieben wird, ohne eine vergebliche Elektrolyse gebildet wird.
Das bevorzugte Kobaltsalz ist Kobaltsulfat, Kobaltnitrat, Kobaltchlorid, Kobaltbromid, Kobaltcarbonat, Kobaltacetat, Kobalthydroxid, Äthylendiamin-Tetraessigsäurekobalt, Kobalt (II)-Acetylacetonat, Kobalt(III)-acetylacetonat, Glycinkobalt(III), Kobaltpyrophosphat usw.
Die jeweiligen Komponenten des Elektrolyten der vorliegenden Erfindung werden in dem folgenden Konzentrations- bereich verwendet. Das Stannometall wird als Lösung von 2 bis 70 g/l verwendet, das Metallkobalt wird als Lösung von 1 bis 40 g/l verwendet, die Gesamtmetallkonzentration ist niedriger als 75 g/l und mehr als zwei Mol Kaliumpyrophosphat sind für die Gesamtmolkonzentration notwendig.
Die Aminosäure mit Phosphor, die dem Galvanisierungs-Elektrolyten der Erfindung zugesetzt werden muß,ist·z.B. Cystein, Methionin, Cystin, Homocystin, Homocystein, Äthionin, Cystindisulfoxid, aktiviertes Methionin, Vitamin U usw. Die notwendige Menge dieser Verbindungen beträgt 0,01 bis 5 g/l. Wenn die Menge der Verbindungen niedriger als der oben angegebene Wert gewählt wird, wird der Aufhellungseffekt nicht erreicht und wenn die gewählte Menge größer als der obige Wert ist, wird keine Zunahme des Aufhellungseffektes festgestellt.
' 3 0.98 A 9/11 22
_ 5 —
Die dem Galvanisierungs-Elektrolyten der Erfindung zuzusetzende Aminosäure ist neutrale oder Grundaminosäure und vorzugsweise Aminosäure wie z.B. Glycin, Alanin, Valin, Leucin, Norleucin, Isoleucin, Phenylalanin, Serin, Threonin, Cystein, Methionin, Cystin, Triptophan, Tyoosin, Thyroxin, Ricin, Arginin, Histidin usw. Die Zusatzmenge dieser Aminosäuren zu dem Galvanisierungs-Elektrolyten wird so gewählt, daß sie etwa 0,1 bis 80 g/l beträgt.
Die Verbindung, die dem Galvanisierungs-Elektrolyten der Erfindung als Aufhellungsmittel zugesetzt wird, kann das folgende Protein und Pepton sein. Die notwendige Menge der Verbindung wie Leim, Gelatine, Pepton und Gluten beträgt 0,1 bis 80 g/l. Wenn die Verbindungen dem Bad zugesetzt werden, werden sie nach Auflösung in Wasser, Ätzalkali, einer Wasserlösung von Kaliumpyrophosphat oder Alkohol wie Methanol, Äthanol und dergleichen verwendet.
Eine Organoschwefelverbindung kann dem Galvanisierungs-Elektrolyten der Erfindung zugesetzt werden, wie Dithioammelid, 4-Amino-3,5-dimercapto-4, 1,2-Triazol, Äthylenthiurammonosulfid, 2,5-Dimercapto-l,3,4-thiazosol,-Thiocarbohydrazid, Hydrazodithiodicarvoneamid, Äthylenbis-dithio-carbonsäuresoda und dergleichen. Die Verbindung wird in einer Konzentration von 0,01 bis 5 g/l verwendet.
Das Ammoniak, das Ammoniaksalz und die Amiηverbindung, die dem.Galvanisierungs-Elektrolyten der Erfindung zugesetzt werden, sind Wasserlösungen von Ammoniak, Ammoniumchlorid, Ammoniumeitrat, Ammoniumtartrat, Ammoniumsulfat, Ammoniumacetat, Äthylendiamin, 1,2-Propandiamin, 1,3-Propandiamin, 1,4-Butandiamin, Hydroxylaminhydrochlorid,. Hydrazin, Methylamin, Äthylamin, Propylamin, Buthylamin, Piperazin, Pyrrolidin, Monoäthanolamin, Diäthanolamin,
309849/1122
Triethanolamin usw. Die notwendige Menge von 28% Wasserlösung von Ammoniak beträgt 20 bis 100 cm /1 und die notwendige Menge der anderen Verbindungen 0,1 bis 15O g/1.
Der Galvanisierungs-Elektrolyt der Erfindung hat einen pH-Wert von 8,0 bis 12,0, 20 bis 70°C und eine Stroro-
2
dichte von 0,1 bis 4,0 A/dm . Die mit dem Plattierungs-Elektrolyten gebildete Auflage wurde bei Verwendung einer mechanischen Rührvorrichtung, einer Kathodenschwingvorrichtung oder einer Kombination daraus als wirksam festgestellt.
Die helle Zinn-Kobalt-Legierungsauflage, die durch den Galvanisierungs-Elektrolyten gebildet wurde, hatte ein' Aussehen ähnlich dem einer Chromauflage und war hinsichtlich der antikorrosiven Eigenschaft überlegen, so daß selbst dann, wenn sie etwa 30 Tage lang der Atmosphäre ausgesetzt wurde, keine Farbänderung auftritt und auch an dem Teil, den eine Person mit den Fingern berührt, tritt keine Farbänderung und keine Korrosion auf. Selbst wenn eine Salzwasserlösung auf die erfindungsgemäß gebildete Auflage, z.B. mit einer Sprühvorrichtung etwa 72 Stunden lang bespritzt wird, treten keine Änderungen auf. Wenn das Prüfstück mit der plattierten Schicht darauf wiederholt von einem Prüfgerät mit einem Biegeradius von 4 mm etwa 90° auf- und abgebogen wird, wird die plattierte Schicht nicht als Pulver von dem Prüfstück abgeschält. Die'Härte der Auflage beträgt etwa 5OO nach der Vicker's-Skala.
849/1IXZ
2325103
g/i .- Beispiel 1 2 η
g/i 250 250 Il
Il
Kaliumpyrophospat g/i 15 15 11
Zinnpyrophosphat g/i 81,5
Kobaltchlorid g/i 35 Il
Kobaltsulfat ' g/i 30 Il
Kobaltacetat g/i
Glycin g/g/i
Phenylalanin g/l 5
Methionin 3
Cystin °c 10,0
pH-Wert 55
Temperatur A/dm2 vorhanden
Kathodens chwing-
vorrichtung
% 0,5 - 2
Stromdichte 80,5
Menge enthaltenen
Zinns
hellweiß
Aussehen Kohlenstoff
Anode
309849/1112
Beispiele 3 bis 10
g/i 3 4 Il 5 « Beispiel 6 Il 7 1 Il 8 Il 5 9 Il 5 10 Bezugs-
wert
0 25O Il
g/i 250 250 Il 250 250 Il 250 Il 250 Il 250 Il 25O 15 Il
KaIium-
pyrophospat
g/i 15 15 Il 15 15 Il 15 Il 15 Il 15 Il 15 Il
Zinn-
pyrophospat
g/i 30 30 Il 30 Il Il 30 Il 30 Il 30 Il
Kobaltchlorid g/i 80,6 35 79,9 81,2 80, 81, 30 85,8
Kobaltsulfat cc/l Il Il 30 1 Il Il Il Ä
Kobaltacetat cc/1 70 Il Il Il 20 Il 30 Il 70 Il
28$ Ammonium-
wasserlösung
cc/l 3 ' 3 3 1
1,3-Propan-
•diamen
g/i
Triäthanol-
amin
g/i 10 10 5 5
Glycin g/i 20
Alanin g/i
Phenylalanin g/i 1 2 2 2
Methionin
Ri ein °c 100 Il Il
pH-Wert 55 Il Il
Temperatur 2
Stromdichte A/dm
vor
handen
Il Il
Kathoden-
schwingvor-
richtung
Menge enthaltenen
Zinns %
0,5-2 Il II
Aussehen 80,3 80 86,
Anode hell
weiß
Il ,9 Il
Kohlen
stoff
Il Il
In der obigen Tabelle bedeutet das Zeichen x, daß das Aussehen "nicht weiß ist, sondern dunkelgraue Flecken hat und
309849/1122
daher praktisch nicht verwendet werden kann.
Aus den obigen Beispielen und Bezugswerten ergibt sich, daß die helle Zinn-Kobalt-Legierungsauflage, die in dem Pyrophosphatbad gebildet wird, durch neutrale Aminosäure oder Grundaminosäure selbst oder durch die kombinierte Wirkung eines jeden hiervon zusammen mit Ammoniak, Ammoniumsalz oder Amin erhalten wird und die ohne solche Zusätze gebildete elektroplattierte Schicht hat ein dunkelgraues Aussehen. ·
Beispiele 11 bis 17
11 Beispie] 12 II 13 It L 14 ■ Il 15 Il 16 Il 17
250 250 Il 250 Il 250 It 250 It 250 It 250
Kaliumphosphat g/l 15 15 Il 15 Il 15 Il 15 II ' 15 - Il 15
Zinnpyrophosphat g/l 30 30 Il 30 II ir II 30 Il 30
Kobaltchlorid g/l 80,3 81,4 ν 35 80,8 80,5 80,3
Kobaltsulfat g/l Il Il Il 30 II Il
Kobaltacetat g/l
28 $> Ammonium
70 70 It Il 70 Il tr 20 Il
wasserlösung cc/1 3 3 1
1-3-Propandiamin cc/1 1
Leim . g/l 1 1 1 4 1
Gelatine g/l 1 20
Pepton g/l 10,0 It
pH-Wert 55 Il
Temperatur C vor
handen
If
Kathodenschwing-
vorrichtung
0,5-2 Il
Stromdichte A/dm 80,5 .81,1
Menge des ent
haltenen Zinns %
hell
weiß
Il '
Aussehen Kohlen
stoff
Il
Anode
0 9 8 4 9/1122
- ιό -
Aus den Beispielen 11 bis 17 ergibt sich, daß die helle Zinn-Kobalt-Legierungsauflage, die in dem Pyrophosphatbad gebildet wird," nur durch Verwendung von Pepton oder der Kombination von Leim, Gelatine und Peptin mit Ammoniak, Ammoniaksalz und Amin erhalten wird.
Beispiele 18 bis 24
18 19 Beispiel 21 22 23 It 24 ..
250 250 20 250 250 250 Il 25Ο
Kaliumpyrophosphat g/l 15 15 250 15 15 15 II 15
Zinnpyrophosphat g/l 30 30 15 Il
Kobaltchlorid g/l 30 35 j 35 80,3
Kobaltsulfat g/l 30 Il 30
Kobaltaceta£ g/l
28 % Ammonium
70 40
wasserlösung cc/1 3 3
1-3-Propandiamin cc/1 3 1 2
Triäthanolamin cc/1 0,6 0,8 0,5
Dithio-Ammelid g/l 0,8
4-Amino-3,5-di-
mercapto-4,1,2-
triazol g/l
0,8 2 0,5
Hydrazodithiodi-
carbonamid g/l.
10,0 Il ' 0,8 Il It It
pH-Wert 55 Il Il Il It Il
Temperatur 0C vor
handen
Il Il Il Il ■I
Kathodenschwing-
vorrichtung
0,5-2 II 11 Il It Il
Stromdichte A/dm 80,3 80,7 Il 80,9 80,1 80,8
Menge des ent
haltenen Zinns %
hell
weiß
It 79,8 Il Il It
Aussehen Kohlen
stoff
Il
Anode
309849/1122
-.11 -
7325109
Aus den obigen Beispielen 18 bis 24 ergibt sich, daß die helle Zinn-Kobalt-Legierungsauflage, die in dem Pyrophosphatbad gebildet wird, durch die kombinierte Wirkung von Ammoniaksalζ und Amin mit einer Organoschwefelverbindung (ausgenommen Aminsäure mit Schwefel) erhalten wird.
Die Wirkung des erfindungsgemäßen Elektrolyten zur Bildung einer hellen Zinn-Kobalt-Auflage läßt sich wie folgt zusammenfassen:
1. Der Trocknungsvorgang und der Absaugvorgang können leicht durchgeführt werden-, da kein Fluorid verwendet wird;
2. die Galvanisierung wird von Raumtemperatur ausgehend durchgeführt, nicht wie im Falle der Verwendung von Fluorid, das Temperaturen von 65 bis 9O°C benötigt, so daß die Galvanisierung auf Kunststoffe angewendet werden kann;
3. wenn die Galvanisierung bis zu einer Dicke von mehr als 10 Mikron durchgeführt wirdj, zeigt die Auflage ein Aussehen ähnlich dem einer Chromauflage und ist '
, in der antikorrosiven Eigenschaft überlegen und zeigt keine Sprödigkeit? die Auflage kann daher als Oberflächen- und Grundauflage verwendet werden;
4. die Auflage ist an ihrer Randkante sehr glatt und selbst wenn die Auflage für das Metall mit einer Dicke von 1 bis 3 Mikron auf einem nicht-leitenden Material mit einer relativ niedrigen Stromdichte von -
' 0,1 bis 1 A/dm gebildet wird, zeigt die Auflage eine hohe antikorrosive Eigenschaft und hat ein gutes -Aussehen; die Auflage ist für solche Materialien geeignet, auf die eine Chromauflage nicht aufgebracht werden kann;
5. die Auflage wird auf elektronische Teile, akustische Geräte, optische Vorrichtungen, Präzisionsgeräte, Teile von Automobilen und Ornamenten aufgebrächt.
309 849/1122

Claims (11)

7325 Patentansprüche
1.. Elektrolyt zur Herstellung einer hellen Zinn-Kobalt-Legierung, gekennzeichnet durch eine Hautplattierungs^· flüssigkeit, bestehend aus Stannosalz, Kobaltsalz und Alkalimetallpyrophosphat und wenigstens einem Stoff, der aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Aminosäure mit Schwefel, neutrale oder Grundaminosäure, Pepton oder Protein, eine Org-anoschwefelverbindung, Ammoniak, Ammoniumsalz und Amin enthält.
2. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nur Aminosäure mit Schwefel aus der Gruppe ausgewählt ist.
3. Elektrolyt nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aminosäure mit Schwefel Cystein ist.
4. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nur neutrale oder Grundaminosäure aus der Gruppe ausgewählt ist.
5. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nur Pepton aus der Gruppe ausgewählt ist..
6. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens einer der Stoffe Ammoniak, Ammoniumsalz und Amin und wenigstens eine der Organoschwefelverbindungen aus der Gruppe ausgewählt sind.
7. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens einer der Stoff Ammoniak, Ammoniumsalz und Amin und wenigstens eine der neutralen oder Grundaminosäuren aus der Gruppe ausgewählt ist.
309849/1122
8. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens einer der Stoffe Ammoniak,. Ammoniumsalz und Amin und wenigstens eine der Stoffe Pepton und Protein aus der Gruppe ausgewählt sind.
9. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, . daß wenigstens eine der neutralen oder Grundaminosäuren und wenigstens eine der Organoschwefelverbindungen aus der Gruppe ausgewählt sind.
10. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der neutralen oder Grundaminosäuren und wenigstens einer der stoffe Protein oder Peptonaus der Gruppe ausgewählt sind.
11. Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der Organoschwefelverbindungen und wenigstens einer der Protein- oder Peptonstoffe aus der Gruppe ausgewählt sind.
309849/1122
DE2325109A 1972-05-17 1973-05-17 Galvanisches Bad zur Abscheidung von hellen Zinn-Kobalt-Legierungen Expired DE2325109C3 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4818272A JPS5444652B2 (de) 1972-05-17 1972-05-17
JP4818372A JPS5347343B2 (de) 1972-05-17 1972-05-17
JP4818472A JPS5444653B2 (de) 1972-05-17 1972-05-17
JP4818172A JPS5536716B2 (de) 1972-05-17 1972-05-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2325109A1 true DE2325109A1 (de) 1973-12-06
DE2325109B2 DE2325109B2 (de) 1981-07-30
DE2325109C3 DE2325109C3 (de) 1982-05-06

Family

ID=27462158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2325109A Expired DE2325109C3 (de) 1972-05-17 1973-05-17 Galvanisches Bad zur Abscheidung von hellen Zinn-Kobalt-Legierungen

Country Status (6)

Country Link
US (2) US3914160A (de)
CA (1) CA1023687A (de)
DE (1) DE2325109C3 (de)
FR (1) FR2185007B1 (de)
GB (1) GB1422179A (de)
NL (1) NL161512C (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4029556A (en) * 1975-10-22 1977-06-14 Emlee Monaco Plating bath and method of plating therewith
JPS6015716B2 (ja) * 1977-10-21 1985-04-20 デイツプソ−ル株式会社 錫または錫合金電気めつき用浴の安定化方法
CA1193222A (en) * 1981-02-25 1985-09-10 Wim M.J.C. Verberne Electroplating cobalt alloy with zinc or tin from amine bath
JP3279353B2 (ja) * 1992-09-25 2002-04-30 ディップソール株式会社 錫−亜鉛合金電気めっき浴
AU1069999A (en) 1997-10-08 1999-04-27 Regents Of The University Of California, The Aqueous electrodeposition of rare earth and transition metals
GB0106131D0 (en) * 2001-03-13 2001-05-02 Macdermid Plc Electrolyte media for the deposition of tin alloys and methods for depositing tin alloys
US7780838B2 (en) * 2004-02-18 2010-08-24 Chemetall Gmbh Method of anodizing metallic surfaces
JP6088295B2 (ja) * 2013-03-07 2017-03-01 ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 スズ合金めっき液
CN105568332B (zh) * 2016-02-25 2018-08-10 盈昌集团有限公司 锡钴合金电镀液及用其电镀眼镜框架的工艺
RU2694095C1 (ru) * 2018-10-29 2019-07-09 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" (ИГХТУ) Электролит для электроосаждения олово-кобальтовых покрытий
CN110306213B (zh) * 2019-07-08 2020-08-04 广州三孚新材料科技股份有限公司 一种太阳能电池用镀锡液及其制备方法
CN110923756A (zh) * 2019-12-30 2020-03-27 广东超导电子有限公司 一种无氰电镀锡液及其电镀方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3039942A (en) * 1961-09-20 1962-06-19 Cox George Chandler Electrodeposition of metals using pyrophosphates
US3772168A (en) * 1972-08-10 1973-11-13 H Dillenberg Electrolytic plating of tin-nickel, tin-cobalt or tin-nickel-cobalt on a metal base and acid bath for said plating

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Fieser - Fieser: "Lehrbuch der or- ganischen Chemie", 1957, S. 487-489 *
Römpp: "Chemielexikon", 1966, Sp. 4737-4738 *

Also Published As

Publication number Publication date
FR2185007B1 (de) 1976-06-11
FR2185007A1 (de) 1973-12-28
NL161512B (nl) 1979-09-17
NL161512C (nl) 1980-02-15
US3914160A (en) 1975-10-21
GB1422179A (en) 1976-01-21
CA1023687A (en) 1978-01-03
NL7306929A (de) 1973-11-20
US4021316A (en) 1977-05-03
DE2325109B2 (de) 1981-07-30
DE2325109C3 (de) 1982-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2419024A1 (de) Elektrolyt fuer die elektroplattierung glaenzender zinn/nickel-ueberzuege, und insbesondere ein waessriges pyrophosphatelektroplattierbad fuer die herstellung einer glaenzenden plattierung aus einer zinn/nickellegierung
DE2152785A1 (de) Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Zinn, Blei oder Legierungen davon
DE1496843A1 (de) Elektroabscheidungsverfahren
DE2325109A1 (de) Elektrolyt
DE2610507A1 (de) Cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung glaenzender silberueberzuege
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
CH644157A5 (de) Bad zum elektrolytischen niederschlag von chrom und seine verwendung.
DE2608644C3 (de) Glanzzinkbad
DE2445537A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung von gold
DE3122390A1 (de) "waessriges galvanisches bad und verfahren zur abscheidung einer eine chromauflage vortaeuschenden kobalt-zink-legierung"
DE2249037A1 (de) Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium
DE3205951A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung eines glaenzenden ueberzugs aus kobalt-zinn- oder kobalt-zink-legierung und ein verfahren zur herstellung solcher ueberzuege mit diesem bad
DE2815786C2 (de) Wäßriges Bad und Verfahren elektrochemischen Abscheidung von glänzenden Eisen-Nickel-Überzügen
DE3027982C2 (de) Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung einer schwarzen Nickelschicht
DE1941487A1 (de) Stoffzusammensetzungen und Verfahren zum Verzinken von metallischen Werkstuecken
CH626122A5 (en) Process for producing a deposit by electroplating, and an electroplating bath for implementing the process
DE3219666A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung von ruthenium auf einem substrat und ein verfahren zur abscheidung von ruthenium auf einem substrat mit diesem bad
DE2210091A1 (de) Elektrolyt für galvanische Nickelüberzüge
DE3108466C2 (de) Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
DE3619386C2 (de)
DE3021665A1 (de) Stark saures goldlegierungsbad
DE3000734A1 (de) Verfahren zur elektrochemischen herstellung von zinnglanzueberzuegen
DE2333096B2 (de) Galvanisch aufgebrachter mehrschichtiger Metallüberzug und Verfahren zu seiner Herstellung
DE815882C (de) Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse
DE1086508B (de) Saures galvanisches Kupferbad

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)