DE2320878C3 - Elektromechanisches System für hohe Resonanzfrequenzen und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Elektromechanisches System für hohe Resonanzfrequenzen und Verfahren zu dessen HerstellungInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 42
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 15
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 10
- 210000001772 Blood Platelets Anatomy 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001808 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 210000003608 Feces Anatomy 0.000 description 1
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic Effects 0.000 description 1
- 235000015108 pies Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Description
20
idUrcnAUluaiiiHivu—e— .
9 Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß das Herausarbeiten der Ausnehmung (10) im Substrat (6) durch
lonenbearbeitung erfolgt
10 Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß jede der Lötsch.chten
M6 171 durch aufeinanderfolgendes Aufdampfen einer Goldschicht und einer Indiumschicht hergestellt
wird.
Die Erfindung betrifft ein elektromechanisches Svstem für hohe Resonanzfrequenzen, das mindestens
Pin Plättchen piezoelektrischen Materials aufweist, auf
dessen sich gegenüberliegenden Oberflächen jeweils wenigstens eine metallische Elektrode angeordnet ,st,
und das auf einem starren Substrat befestigt ist, das eine
Aussparung aufweist und das piezoelektrische Plattchen am K dieser Aussparung auf dem Substrat befestigt
isT und die Schwingungszone duich die Elektroden
1. Elektromechanisches System für hohe Resonanzfrequenzen,
das mindestens em Plattchen piezoelektrischen Materials aufweist, auf dessen sich
gegenüberliegenden Oberfläichen jeweils wenigstens eine metallische Elektrode angeordnet ist, und das
auf einem starren Substrat befestigt ist, das eine
Aussparung aufweist und das piezoelektrische Plättchen am Rand dieser Aussparung auf dem
Substrat befestigt ist und, die Schwingungszone durch die Elektroden begrenzt ^ dadurch
g e k e η η ζ e ic fa η e t, daß eine der Elektroden (18)
aus der Verbindung zweier Lötscbichten (16, U)
besteht, die einerseits an der Seite des Plättchens (7)
und andererseits am Rand der Aussparung (10) im
Substrat (6) haften, währen-j die andere Elektrode (8
oder 11) auf der gegenüberliegenden Seite aes Plättchens (7) innerhalb des über der Aussparung
(10) liegenden Bereiches angebracht ist
2. Elektromechanisches System nach Anspruch, 1
dadurch gekennzeichnet, daß die Lötschicht (»*,·/)
gleichzeitig als durchgehende Gegenelektrode (18) hp„enztist
dadurch gekennzeichnet, daß die Lötschicht (»*,·/)
gleichzeitig als durchgehende Gegenelektrode (18) hp„enztist
dient und wenigstens zwei Elektroden (8,11) auf die 25 w« Erfindung behandelt elektromechanische Resoandere
Seite des Plättchen (7) innerhalb des über die zur Herstellung von Geräten, wie
der Aussparung (10) liegenden Bereiches aufge- na«. . ^^ ^ Frequenzdjskriminatoren,
bracht sind, um ein Paar gekoppelter Resonatoren ""^ sjnd Ein elektromechanischer Resonator
zu begrenzen. b t ht aus einem Plättchen eines piezoelektrischen
3. Elektromechanisches System nach Anspruch 1 30 °fl auf dessen beiden Seiten Elektroden vorgese-
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plattchen J^™^™,. Art Von Zweipolnetzwerken haben ein
(7) auf dem Substrat (6) durch eine ringförmige die "leinleitwertsverhalten, dessen Maxima und Minima
Aussparung (10) umgebende Lötschicht befestigt ist, ~J? h rf sind und die es erlauben, Resonanzfrequen-
und daß die Elektroden (8, 11, 18) durch auf das sehr senary ^.^ ^ parallelresonanzeni zu
Plättchen (7) aufgedampfte metallische Schichten 35 ·.mmen Die einem elektromechanischen Resonator
gebildet sind. . eieenen Frequenzen sind um so höher, je dünner das
4. Elektromechanisches System nach einem d.r e.|c _ μ dadurch wird deutlich, daß es mit
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich- ™. "" b'isher hcrgesteHter Resonatoren nicht
net, daß die Lötschicht (18) eine Indiumschicht ist, *1™* . Frequenzbereiche zu erfassen, die höher als
die an den beiden einander zugekehrten ebenen 40 mog"c ,^ MH M Z sindi denn für diese Frequenzbereiche
Flächen des Plättchens (7) und des Substrates (6) ^nd "e Plattehen zu zerbrechlich. Mit modernen
Ionen-Herstellungsverfahren ist es jedoch möglich, sehr dünne Plättchen herzustellea. mit denen Resonatoren
« für hohe Frequenzen realisierbar sind, aber das übliche
Aufbauverfahren für solche Resonatorplattchen ist
haftet.
5. Verfahren zur Herstellung eines elektromechanischen Systems nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
Bearbeiten der Seite (15) des Substrates (6), die die Aussparung (10) enthält;
Anbringen einer ersten (16) Lötschicht auf der
bearbeiteten Seite (15);
Bearbeiten einer Seite des piezoelektrischen
Plättchens (7) und Aufbringen einer zweiten
Lötschicht (17) auf dieser Seite;
Verlöten durch Zusammenpressen der ersten
und zweiten Lötschicht (16, 17), Verringerung
der Dicke des Plättchens (7) durch Erosion und
Bearbeiten der der Seite (15) des Substrates (6) gegenüberliegenden Seite;
Aufbringen wenigstens einer Elektrode (z. B. 8) auf diese Seite.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitung durch Ionen erfolgt.
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Lötschicht (17) auf die
Ringzonc des Plättchens (7) aufgebracht wird, um
nicht geeignet, denn es führt zu sehr schwierigen Herstellungsverfahren und zu sehr zerbrechlichen
S5
60 DieLösung, die darin besteht, verhältnismäßig
robuste Plättchen zu benutzen, die in einer Oberschwincrung
arbeiten, ist nur ein Notbehelf, da die Grundschwingung
bei verhältnismäßig tiefen Frequenzen ,. f p;n. andere Lösung besteht darin, eine sehr dünne
l'g^£« ™Je ScSi auf ein Substrat aufzubringen,
Pjaoete kWcte*» ^ klt Aber diese
das ^e Roiie^ e^^ verführerisch erscheint, bringt
eine nicht vernachlässigbare Dämpfung der Schwingungsenergie und zahlreiche parasitäre Schwingungsformen
mit sich.
Wie bereits erwähnt, wird im folgenden ein
elektromechanisches System verwendet, in dem das dünne Plättchen piezoelektrischen Materials nur in
seinem Randbereich an einem ausgehöhlten Substrat
,. r-.. .ι,,,- J-- J-«:~;«r<>r<
f4ohf»i eine
Ringzonc des Plättchens (7) aufgebracht wird, um seinem KanaDcrcitn an vn.w „—ö
,.
den Rand der Aussparung (10) zu'bedecken, und daß 65 befestigt ist; die Elektroden dcfir.ierer. dabei eine
im Innern der Ringzone anschließend eine dünne Schwingungszone, deren Mitte über der Aushöhlung
Metallschicht angebracht wird. des Substrates liegt, damit die Schwingungsenergie auf
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, den Bereich dieser Zone begrenzt bleibt.
Aus der DT-OS 17 66 913 ist eine monolithisch ntegrierte Schaltungsanordnung bekannt, bei der in
inem Halbleiterkristall mit einer darin vorgesehenen Vertiefung ein mit dem Kristall integrierter Resonator
de Vertiefung überbrückt Es wird bei der Realisierung nach dieser bekannten Anordnung jedoch von der
Verwendung p- bzw. η-leitender Materialien ausgegangen die insbesondere auch für die dam Resonator
mechanische Energie zuführenden Vorrichtungen erforderlich sind, wodurch ein gewisser technologischer
Aufwand nicht unterschritten werden kann.
Ferner ist aus der US-PS 33 96 287 eine Resonatoranordnung
bekannt, bei der auf sich gegenüberliegenden Seiten eines piezoelektrischen Plättchens Elektroden
angeordnet sind. Das piezoelektrische Plättchen ist dabei zur starren Halterung auf einem Substrat
befestigt das mit einer gegenüber den Elektrodenflächen größeren Aussparung versehen ist Die Elektrodenflächen
befinden sich dabei innerhalb der Aussparung Auch ist in der vorgenannten US-Patentschrift ein
Herstellungsverfahren angegeben, wozu lediglich ausgesagt ist, daß das piezoelektrische Plättchen und das
Substrat durch ein geeignetes verbindendes Material miteinander verbunden werden sollen.
Darüber hinaus muß bei dieser bekannten Anordnung für die innerhalb der Aussparung liegende Elektrode
eine eigene Zuführungsleitung vorgesehen werden, da die das piezoelektrische Plättchen und das Substrat
verbindende Schicht lediglich der Verbindung dieser beiden Teile dient
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektromechanisches System für hohe Resonanzfrequenzen
anzugeben, bei dem einerseits die Verwendung halbleitender Materialien nicht zwingend erforderlich
ist und bei dem es andererseits durch eine mehrfache Ausnutzung der der Aushöhlung zugewandten Schicht
möglich ist, einen widerstandsfähigen Aufbau bei einem möglichst einfachen Herstellungsverfahren zu errei-
Ausgehend von einem elektromechanischen System für hohe Resonanzfrequenzen, das mindestens ein
Plättchen piezoelektrischen Materials aufweist, auf dessen sich gegenüberliegenden Oberflächen jeweils
wenigstens eine metallische Elektrode angeordnet ist, und das auf einem starren Substrat befestigt ist, das eine
Aussparung aufweist und das piezoelektrische Plättchen am Rand dieser Aussparung auf dem Substrat befestigt
ist und die Schwingungszone durch die Elektroden begrenzt ist, wird diese Aufgabe gemäß der Erfindung
dadurch gelöst, daß eine der Elektroden aus der Verbindung zweier Lötschichten besteht, die einerseits
an der Seite des Plättchens und andererseits am Rand der Aussparung im Substrat haften, während die andere
Elektrode auf der gegenüberliegenden Seite des Plättchens innerhalb des über der Aussparung liegenden
Bereiches angebracht ist
Hierbei ist auch daran gedacht, daß die Lötschicht
gleichzeitig als durchgehende Gegenelektrode dient und wenigstens zwei Elektroden auf die andere Seite
des Plättchens innerhalb des über der Aussparung liegenden Bereiches aufgebracht sind, um ein Paar
gekoppelter Resonatoren zu begrenzen.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung ist ferner dann zu
sehen, daß die Lötschichi dne Indiumschicht ist, die an
den Deiaen einander zugcncm ivu w..».. .
—
Plättchens und des Substrates haftet
Als Lötschichten eignen «ich auch Indiumschichten.
Die Erfindung behandelt auch ein Herstellungsverfahren des obenerwähnten elektromechanischen Systems.
Hierzu sind folgende Verfahrensschritte vorgesehen: Bearbeiten der Seite des Substrates, die die
Aussparung enthält;
Anbringen einer ersten Lötschicht auf der bearbeiteten Seite;
Bearbeiten einer Seite des piezoelektrischen Plättchens und Aufbringen einer zweiten Lötschicht
auf dieser Seite;
Verlöten durch Zusammenpressen der ersten und zweiten Lötschicht Verringerung der Dicke des
Plättchens durch Erosion und Bearbeiten der der Seite des Substrates gegenüberliegenden Seite;
Aufbringen wenigstens einer Elektrode auf diese Seite.
Es ist bei diesem Verfahren insbesondere möglich, die Bearbeitung durch Ionenbeschuß vorzunehmen.
In Weiterbildung des genannten Verfahrens ist es möglich, daß die zweite Lötschicht auf die Ringzone des
Plättchens aufgebracht wird, um den Rand der Aussparung zu bedecken, und daß im Inneren der
Ringzone anschließend eine dünne Metallschicht angebracht wird.
Eine vorteilhafte Möglichkeit ist ferner darin zu sehen, daß die Schichten durch Aufdampfen aufgebracht
werden.
Bei eier Bearbeitung des Substrates kann zur Herstellung der Aussparung vorteilhaft ebenfalls eine
Ionenbearbeitung angewendet werden.
Besonders widerstandsfähige Verbindungen ergeben sich dann, wenn jede der Lötschichten durch aufeinanderfolgendes
Aufdampfen einer Goldschicht und einer Indiumschicht hergestellt wird.
Nachstehend wird die Erfindung anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele näher
erläutert
Es zeigt in der Zeichnung
F i g. 1 eine perspektivische Darstellung eines elektromechanischen
Systems gemäß der Erfindung,
F i g. 2 das Herstellungsverfahren des in F i g. 1 dargestellten Systems,
F i g. 3 und 4 sind Erklärungen zur Funktion. F i g. 1 zeigt ein elektromechanisches Filter, das aus zwei gekoppelten Resonatoren besteht und dazu bestimmt ist, als selektives Übertragungsmittel für ein hohes Frequenzband zu dienen.
F i g. 3 und 4 sind Erklärungen zur Funktion. F i g. 1 zeigt ein elektromechanisches Filter, das aus zwei gekoppelten Resonatoren besteht und dazu bestimmt ist, als selektives Übertragungsmittel für ein hohes Frequenzband zu dienen.
Das Filter besteht aus einer Grundplatte 1, an der drei Verbindungsstifte 2, 3 und 4 befestigt sind, die mit der
Grundplatte mechanisch durch isolierende Durchführungen 13 verbunden sind. Am Rand der Grundplatte 1
läßt sich eine Abdeckhaube 5 anbringen und in der Mitte der Grundplatte ist ein starres Substrat 6 befestigt. Das
Substrat 6 weist eine Aussparung 10 auf, die gestrichelt dargestellt ist; diese Aussparung kann, wie es in F i g. 1
gezeichnet ist, das Substrat von einer Seite zur anderen durchdringen oder es kann auch nur die obere Seite
ausgehöhlt sein. Die obere Seite des Substrates 6 weist einen leitenden Belag 18 auf, der elektrisch mit dem Stift
4 durch einen Anschlußdraht 14 verbunden ist Ein dünnes Plättchen 7 piezoelektrischen Materials haftet
am Belag 18 und überdeckt die Aussparung 10 des Substrates 6. Die Oberseite des Plättchens 7 trägt zwei
Elektroden 8 und 11, die mit den Stiften 2 bzw. 3 über
Anschlußdrähte 9 und 12 verbunden sind. Die Elektroden 8 und 11 befinden sich eindeutig innerhalb
der Kontur der Aussparung 10 und begrenzen mit der Gegenelektrode 18 zwei Schwingungszonen des Platt-
chens 7, das longitudinale und transversale Schwingungen
ausführen kann. Der longitudinale Schwingungsmodus entspricht Schwingungsamplituden, die senkrecht
/.ur Ebene der großen Flächen des Plättchens 7 gerichtet
sind, während der transversale Schwingungsmodus Amplituden entspricht, die parallel zu dieser Ebene
gerichtet sind.
Aufgrund der Aussparung 10 sind die großen Flächen des Plättchens 7 in dem Bereich, der über der
Aussparung 10 liegt, völlig frei; daraus resultiert, daß diese Flächen in den Schwingungsbäuchen der stationären
Schwingung liegen, die sich unter dem Einfluß einer an die Klemmenpaare 3, 4 oder 2, 4 angelegten
elektrischen Wechselspannung ausbildet.
Die elektrischen Wechselströme oder Wechselspannungen, die an den Anschlußklemmen des Resonators
entstehen, sind abhängig von den mechanischen Größen, die die stationäre Schwingung des piezoelektrischen
Plättchens bestimmen; diese Größen bzw. deren Verhältnis lassen sich durch einen elektrischen Scheinleitwert
Y darstellen, dessen Elemente im elektrischen Ersatzschaltbild der F i g. 4 dargestellt sind.
In diesem Schaltbild erkennt man einen Kondensator Co, dessen Kapazität zwischen der Elektrode 8 oder 11
und der Gegenelektrode 18 wirksam wird; der Schwingkreis Li, Ri, C der parallel zu C0 geschaltet ist,
bildet die Resonanz- und Dämpfungseigenschaften des Plättchens 7 nach. Die Induktivität L\ und die Kapazität
C-, bestimmen eine der natürlicher. Eigenfrequenzen des
Plättchens 7 und der Widerstand Ri bildet die Dämpfung der Schwingung nach.
In F i g. 3 ist die Frequenzabhängigkeit des Scheinleitwertes
j YI eines Resonators dargestellt.
Die gestrichelte Linie 19 stellt den Leitwert des Kondensators C0 dar. Die ausgezogen gezeichnete
kurve 20 zeigt den Frequenzgang von |V|; er enthält ein erstes Maximum bei der Resonanzfrequenz /',. da bei
dieser Frequenz das Plättchen als Halbwellenresonator bei der Grundfrequenz schwingt; diesem Maximum
folgt ein Minimum, das der Parallelresonanzfrequenz /),
entspricht. Wenn man die Frequenz Γ weiter erhöht, beobachtet man Maxima und Minima, wie beispielsweise
bei den Frequenzen 3/rund 3/],, die den Oberschwingungen
des Plättchens entsprechen; es ist hierbei darauf hinzuweisen, daß es Oberschwingungen der dritten
Ordnung bei den Frequenzen 3fr und 3fa gibt, die nicht
genau das Dreifache der Frequenzen Ä und f-, sind. Um
die Güte eines derartigen Resonators zu beurteilen, muß man die Gut·.'. Q betrachten, die gleich dem Verhältnis
der Große bei der Frequenz /Vzur Größe Af, bei -- 3 dB
,. 1 ■;■ r Rcsonatv'.spif/e ist; weiterhin ist es erforderlieh, den
i-'.ujipii'nsiskoeili/ienien zu betr'chlen, dei durcii die
tollende i ileichuiis* >"<:;:ebeü ist:
',7
Die Erfahrung zeigt, daß man bei Verwendung eines ,uisgehühllen Substrates gemäß F i g. 1 Resonatoren
„•rhält. die für hohe Frequenzen eine Im)K Güte
aufweisen, aufgrund der Tatsache, daß die Schwingiings-.■one
get.'.,':;m1 ■■■ r dem Substrat sehr put entkoppelt ist.
!'•e/üj;lii 1Ii des Kupplum^koe-ffr/uMilen sind die Kip.eii
'!■halHVi ebenfalls sehr imt. was an: 'tilgenden Beispiel
■'■■■' ·■ ■ ph .-lies .-■ vsie.m, das mit hilfe eines
: · ■ . ■ p:">. i.nstal'ineu I .viliiiunmobat
ι« i-iri;>lli'.elH.-s ! (Meii auf
einem ausgehöhlten Siliziumsubstrai befestigt ist, hat
man für den Betrieb bei der dritten Oberschwingung eine Resonanzfrequenz von 230MFIz, ein Gütefaktor
von 460 und einen Kopplungskoeffizienten von 0,05 erreicht.
Bei Verwendung eines Paares kritisch gekoppelter Resonatoren ist das von einem derartigen Filter
übertragene Durchlaßband verhältnismäßig breit.
Obwohl die Dicke edes Lythiumniobatplättchens nur
50 Mikron beträgt, ist es wegen der Montage auf das Substrat sehr widerstandsfähig.
Es ist darauf hinzuweisen, daß man Resonatoren mit einer Plättchendicke von weniger als 50 Mikron
herstellen kann. Bei Verwendung von Lythiumtantalat, das einen geringeren thermischen Koeffizienten als
Lythiumniobat hat, ist es möglich, einen Resonator herzustellen, dessen Grundfrequenz bei etwa 100 MHz
liegt.
Zur Realisierung von Filtern muß man mindestens zwei Elektroden vorsehen, die in geringer Entfernung
auf der Oberseite des Plättchens 7 liegen; ihr Abstand ist so zu wählen, daß sich die gewünschte Kopplung ergibt,
und ihre Entfernung zum Rand der Aussparung 10 ist so zu wählen, daß sich eine hohe Entkopplung gegenüber
dem Substrat 6 ergibt.
Man kann gleichermaßen das System der Fig. 1 /ur
Herstellung eines einfachen Resonators benutzen, indem man eine der Elektroden 8 oder 11 wegläßt. Man
kann auch einen Doppelresonator realisieren, indem man um jede der Elektroden 8 und Ii eine Aussparung
vorsieht. In diesem Fall müssen die Elektroden 8 und ί <
so weit voneinander entfernt sein, daß jede unerwiinsch te Kopplung zwischen den Resonatoren vermieden wird
und erforderlichenfalls muß für das Plättchen ei*;
Zwischenstück aus Substratmaterial zwischen tie;.
Elektroden vorgesehen werden.
Die Herstellung eines elektromechanischen Systems
nach Fig. 1 erweist sich dann als problematisch, v--c:h
man das Plättchen 7 vor dem Aufbringen aui &■.>.>.
Substrat dünner macht, denn dieses Plättchen ist außenzerbrechlich
und schwer zu handhaben.
Um diese Schwierigkeiten zu umgehen, schlagt die
Erfindung ein Herstellungsverfahren vor. dessen wichtigste Verfahrensschritte schematisch in F i g. 2 dargc
stellt sind. Zur einfacheren Darstellung wird ir F i g. nur eine Anordnung gezeigt; man. konnte jedoch ir
einem einzigen Arbeitsgang mehrere Anordnungen gleichzeitig herstellen, die erst kurz vor dem F.iidstaü!
um der Umhüllung mit einer Schutzhaube umerteil werden.
Der erste in F i g. 2a dargestellte Schritt besien .;■.: ■■
die obere Fläche 15 des mit seiner Aussparen;·
versehenen Substrats6 sorgfältig z.u irkitien.
Wie in Fig. 2b gezeigt wird, ist die Sei·..: ■■■■
Substrats mit einer aufgedampften Indium1.;■';!.. ii :
versehen, während eine gleichartige Schicht :.; ".i,i ^
glatte Seite eines pie,'.ociek::i: vlien Pliit'iei.eü.
aufgebracht ist; indem man die Schichte;- v.·. '.·:·■·'.
zusammendrückt, verlötet sich ;i is Phiitciiet ··.'.;'·
metallische Diffusion mit dem Substrat ·■> w·. '■ ι.;■'■ '■·
vollkommen am Rand der /uissparun;1, Hi. '■*■■■::■. .".■' ■'
Substrat β gelötete Plättchen 7 weist eiiie ^-■:.■■■! ■>''■>
auf als es für die Funktion bei d-.Ί .■.'.■.-. ! ην■■
Frequenz erlorderlieb ist. Man mul' a>·.··. ·.-■ u
!''ig. 2;- gezeigt wird, die "here Nach- :'·■ ■ ; i:i,■■ i:fü
bearbeiten, um seine Dick: aiii das ,'<■.,>.ι ">
. /η bringen. Die Bearbeitung dea ,j-■ *■ ι ■ -,. ■■!..■■.■■· '
I1Hilichens 7 kanu durch die ül.li, h·, ι, .:ί. ...
ken erfolgen, aber vorteilhafterweise wendet man eine Bearbeitungstechnik mit Ionen an, wenn das Plättchen
besonders dünn und klein sein muß. Der letzte Verfahrensschritt nach der Bearbeitung der oberen
Fläche des Plättchens 7 besteht darin, auf dieser Fläche eine über der Aussparung 10 liegende Elektrode 8
anzubringen. Wie in Fig.2d gezeigt, arbeitet die
Elektrode 8 mit der Gegenelektrode 18 zusammen, die aus dem Verlöten der Schichten 16 und 17 entstanden
ist. Der Vorteil der Bearbeitung mit Ionen besteht in der ι ο Möglichkeit, das Plättchen 7 in dem Bereich, in dem es
die Aussparung 10 bedeckt, entsprechend dünn herzustellen, denn es ist überflüssig, auch den Rand des
Plättchens 7 auf die für den schwingenden Bereich erforderliche Dicke zu bringen. Im oben beschriebenen
Beispiel kann die Elektrode 8 aus einem metallischen Scheibchen von 0,1 mm Durchmesser bestehen, das sich
im Zentrum einer Aussparung von 7 mm Durchmesser befindet; diese Aussparung ist aus dem mittleren
Bereich eines quadratischen Siliziumscheibchens von 10 mm Kantenlänge und 2 mm Dicke herausgenommen.
Damit die Gegenelektrode 18 so leicht wie möglich ist, kann man im Hinblick auf das Verlöten in einem ersten
Verfahrensschritt ringförmige Indiumschichten aufbringen und in einem zweiten Verfahrensschritt im mittleren
Bereich dieser Schichten einen sehr dünnen Metallfilm aufdampfen, ähnlich demjenigen, der die gegenüberliegende
Elektrode 8 bildet. Die Aussparung des Substrats kann durch Ionenbearbeitung gewonnen werden.
Um eine gute Haftung des Plättchens auf dem Substrat zu erzielen, können die zur Lotung zusammenzufügenden
Schichten in zwei Schritten hergestellt werden, indem man nämlich in einem ersten Schritt auf
die zu verlötenden Flächen eine Goldschicht und in einem zweiten Schritt die Indiumschichten aufdampft.
Die Lötung erfolgt durch Diffusion des Indiums in das
Gold und zwischen den zu verbindenden Schichten. Selbstverständlich kann die Aufdampfung des Indiums
auf die Goldschicht so erfolgen, daß der Bereich, der über der Aussparung des Substrats liegt freigelassen
wird; durch diese Maßnahme wird das Gewicht der Gegenelektrode verringert.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentansprüche:dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (ζ. Β. 16,17, 18) durch Aufdampfen aufgebracht werden. ' .. ,-.ι ««^h >iot»m der AnsDruche 5 bis 8IO"5
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7214638 | 1972-04-25 | ||
FR7214638A FR2182295A5 (de) | 1972-04-25 | 1972-04-25 | |
US35298573A | 1973-04-20 | 1973-04-20 | |
US445900A US3924312A (en) | 1972-04-25 | 1974-02-26 | Method of manufacturing an electromechanical system having a high resonance frequency |
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---|---|
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DE2320878C3 true DE2320878C3 (de) | 1977-12-22 |
Family
ID=
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