DE2316257C3 - Einrichtung zur Bearbeitu ng von Stoffen Im Vakuum mittels eines Elektronenstrahls - Google Patents
Einrichtung zur Bearbeitu ng von Stoffen Im Vakuum mittels eines ElektronenstrahlsInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Bearbeitung von Stoffen im Vakuum mittels eines
Elektronenstrahls mit einem Elektronenstrahl-Erzeugungssystem, mit Mitteln zur Erzeugung eines zeitlich
konstanten Magnetfeldes zur Umlenkung des Elektronenstrahls auf das zu erhitzende Gut und mit Mitteln
zur Erzeugung eines variablen Magnetfeldes zur periodischen Ablenkung des Brennfleckes auf dem Gut. Eine
derartige Einrichtung ist aus der DL-PS 64 107 bekannt.
Um größere Oberflächenteile des Gutes erhitzen zu können, wurden zur periodischen Ablenkung des
Brennfleckes auf dem Gut zusätzliche magnetische Felder variabler Intensität angewendet, die meist durch
von Wechselstrom durchflossene Spulen erzeugt wurden, die aber wegen ihres großen Platzbedarfes, und
weil sie wegen ihrer Impedanz nur für eine verhältnismäßig niederfrequente Strahlablenkung brauchbar sind
bzw. bei höheren Frequenzen eine unerwünscht hohe Betriebsspannung erfordern, nachteilig sind.
Aus DT-AS 12 04 342 ist ein Axialstrahler — bei dem
also der Strahl im zeitlichen Mittel in der Achse der Strahlerzeugungsanordnung verläuft und keine Umlenkung
durch ein zeitlich konstantes Magnetfeld erfährt — bekannt, bei dem zur Erzeugung eines variablen Magnetfeldes
für eine periodische Ablenkung zwei zueinander und zur Achse der Anordnung parallele elektrisehe
Leiter vorgesehen sind. Diese Anordnung ist auf Umlenk-Elektronenstrahlkanonen kaum anwendbar,
oder wäre mindestens nur auf konstruktiv umständliche Weise zu verwirklichen, denn sie würde je einen Leiter
auf der Innen- und der Außenseite der gekrümmten Bahn des Elektronenstrahls erfordern, um eine periodische
Ablenkung senkrecht zur Krümmungsebene zu ermöelichen.
Die Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, eine Einrichtung der eingangs erwähnten Art zu schaffen, bei
welcher die Mittel zur Erzeugung eines variablen Magnetfeldes raumsparend aufgebaut sind und eine geringe
Impedanz aufweisen.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß als Mittel zur Erzeugung eines variablen Magnetfeldes ein im Betrieb
von einem Wechselstrom durchflossener elektrischer Leiter vorgesehen ist, welcher parallel zu den
Kraftlinien des zeitlich konstanten Magnetfeldes in der Nähe der gekrümmten Elektronenbahn auf der Innenseite
derselben angeordnet ist.
Der wesentliche Vorteil, den die erfindungsgemäße Anordnung bietet, liegt darin, daß der Leiter zur Erzeugung
des variablen Ablenkfeldes nur eine sehr geringe Impedanz aufweist und daher auch eine hochfrequente
Ablenkung des Elektronenstrahls leicht möglich ist. wozu eine Hochfrequenzspannung von wenigen Volt
genügt. Im Gegensatz zur bekannten Ablenkung eines Elektronenstrahls mittels Spulen, bei denen wesentlich
höhere Betriebsspannungen erforderlich sind, benötigt der erfindungsgemäß zur Ablenkung vorgesehene Leiter
keine eigene Hochspannungsdurchführung durch die Wand der Vakuumkammer. Gegenüber der Verwendung
von Spulen als Ablenkelemente bietet die Erfindung ferner den Vorteil einer kompakteren Bauweise
und benötigt zum Aufbau weniger Isoliermaterial (Spulenisolation), so daß auch beachtliche vakuumtechnische
Vorteile erzielt werden.
Wie die Erfindung beispielsweise ausgeführt werden kann, soll an Hand der Zeichnungen an Ausführungsbeispielen erläutert werden.
Die F i g. 1 und 2 zeigen eine bevorzugte Ausführungsform, bei welcher der Leiter selbst als Teil der
Anode ausgebildet ist.
Die F i g. 3 und 4 zeigen ein Beispiel, bei dem ein eigener Leiter zur Erzeugung des variablen Ablenkfeldes
vorgesehen ist. In den Zeichnungen bedeutet:
1 den Elektronenstrahl,
2 eine Elektronen emittierende Kathode, üblicherweise eine Glühkathode,
3 eine Fokussierungselektrode (Wehneltelektrode),
4 und 5 Polschuhe eines Magneten zur Erzeugung eines der Führung des Elektronenstrahls auf das zu
erhitzende Gut dienenden Magnetfeldes,
6 die magnetischen Kraftlinien des Führungsfeldes,
7 die Hochspannungs- und gegebenenfalls Heizstromzuführung für die Kathode,
8 die Hochspannungszuführung für die Fokussierelektrode,
9 und 10 die beiden äußersten vom Brennfleck auf dem zu behandelnden Gut im Zuge der periodischen
Ablenkung des Strahls eingenommenen Positionen,
11 eine Erregerspule oder einen Permanentmagneten zur Magnetisierung der Polschuhe des zeitlich
konstanten Magnetfeldes, wobei Nord- und Südpol mit Nund Sbezeichnet sind,
12 die Anode des Elektronenstrahlerzeugungssystems,
13 die Grundplatte, auf welcher das System aufgebaut ist, und
14 das Werkstück, welches mit dem gebündelten und periodisch abzulenkenden Strahl bearbeitet werden
soll.
Mit 15 ist in allen Figuren jener Teil eines Leiters bezeichnet, welcher mit Wechselstrom oder pulsierendem
Gleichstrom beschickt zur Erzeuüune des Deriodi-
sehen Ablenkfeldes dient. Bei Verwendung einer länglichen
Kathode zur Erzeugung eines Elektronenbandstrahls wird der ablenkende Teil cieses Hochstromleiters
zweckmäßigerweise parallel zur Längserstreckung der Kathode, in der Nähe einer der das System bildenden
übrigen Elektroden (2, 3, 12) jedoch unmittelbar neben der Bahn des umgelenkten Elektronenstrahls angeordnet,
derart, daß seine Kraftlinien, wie die F i g. 1 und Z erkennen lassen, senkrecht zu den Kraftlinien 6
des Umlenkfeldes verlaufen. Wird der Leiter 15 beim Betrieb mit einem periodisch veränderlichen Strom beschickt,
be.vtrkt das von ihm erzeugte magnetische
Wechselfeld eine periodische Ablenkung des Elektronenstrahls zwischen den beiden Endlagen 9 und 10.
Ohne Ablenkfeld befindet sich der Brennfleck etwa in is
der Mitte dazwischen. Mit Wechselströmen von 100 A wurden beispielsweise Ablenkungen von ±10 mm von
der Miitellage erzielt.
Es ist vorteilhaft, beim Betrieb die Kathode auf negative
Hochspannung und die Fokussierungselektrode auf eine gegenüber der Kathode negative Spannung (also
ebenfalls Hochspannung) zu legen, v>obei sich dann die Anode auf Erdpotentia! befinden kann. Dies ermöglicht
die Unterbringung der auf Hochspannung befindlichen Teile innerhalb eines von der Grundplatte 13 und dem
entsprechend geformten Anodenblech 12 gebildeten Schut/gehäuses. Bei einem solchen Aufbau ist im Ani'dcnblcch
eine Durchtrittsöffnung, meist in der Form eines Schlitzes, für den Durchtritt des Elektronenstrahls
vorzugehen. Im Beispiel der F i g. 1 und 2 ist, wie bereits erwähnt, der Leiter zur Erzeugung des variablen
Ablenkfeldes in der Ebene des Anodenbleches 12 angeordnet und stellt auf diese Weise — funktionell
gesehen — selbst einen Teil der Anode dar.
Im Beispiel der F i g. 3 und 4 ist der Leiter zur Erzeugung
des variablen Ablenkfeldes als separater Leiter ausgebildet, jedoch \um Anodenblech gehalten. Er
könnte auch zwischen der Anode und der Fokussierungselektrode angeordnet sein oder zwischen dieser
und der Kathode, jedoch stets so, daß er auf der konkaven Seite der Bahn des umgelenkten Elektronenstrahls
liegt.
Die Zu- und Ableitungen des Stromes zum Leiter 15 zur Erzeugung des variablen Ablenkfeldes sollen sich
nicht in unmittelbarer Nähe der Bahn des Elektronenstrahls befinden. Am einfachsten ist es, sie von außen
an die Polschuhe 4 und 5 und durch diese hindurch /u führen, wie die F i g. 1 und 2 andeuten. Man kann die
Zu- und Ableitungen aber auch, wie die F i g. 3 und 4 erkennen lassen, innerhalb der Polschuhe anbringen,
wobei die I.eiterteile 16 und 1/ so weit entfernt vom Elektronenstrahl angeordnet sind, daß sie auf diesen im
Vergleich /um Leiterteil 15 keinen nennenswerten Einfluß mehr ausüben.
Erwähnt sei noch, daß der Leiter 15 auch aus mehreren
parallelen Leiterbahnen bestehen kann.
Hierzu 2 Blatt Zeiclinunccii
Claims (3)
1. Einrichtung zur Bearbeitung von Stoffen im Vakuum mittels eines Elektronenstrahls mit einem
Elektronenstrahl-Erzeugungssystem, mit Mitteln zur Erzeugung eines zeitlich konstanten Magnetfeldes
zur Umlenkung des Elektronenstrahls auf das zu erhitzende Gut und mit Mitteln zur Erzeugung
eines variablen Magnetfeldes zur periodischen Ablenkung des Brennfleckes auf dem Gut, dadurch
gekennzeichnet, daß als Mittel zur Erzeugung eines variablen Magnetfeldes ein im Betrieb
von einem Wechselstrom durchflossener elektrischer Leiter vorgesehen ist, welcher parallel zu den
Kraftlinien des zeitlich konstanten Magnetfeldes in der Nähe der gekrümmten Elektronenbahn auf der
Innenseite derselben angeordnet ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode mit einer spaltförmigen
Durchtrittsöffnung für den Elektronenstrahl ausgebildet ist, daß die auf der Innenseite der Bahn des
umgekehrten Elektronenstrahls liegende seitliche Begrenzung der Durchtrittsöffnung durch den für
die Erzeugung des variablen Magnetfeldes vorgesehenen elektrischen Leiter gebildet wird.
3. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der elektrische Leiter aus mehreren
Leiterbahnen besteht.
30
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH624972 | 1972-04-26 | ||
CH624972A CH551083A (de) | 1972-04-26 | 1972-04-26 | Elektronenstrahlerzeugungssystem zur materialbearbeitung. |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2316257A1 DE2316257A1 (de) | 1973-11-15 |
DE2316257B2 DE2316257B2 (de) | 1975-03-27 |
DE2316257C3 true DE2316257C3 (de) | 1977-04-28 |
Family
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