DE4438315A1 - Vorrichtung zum Entfernen von Ionen aus einem Elektronenstrahl - Google Patents

Vorrichtung zum Entfernen von Ionen aus einem Elektronenstrahl

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Description

1. Einleitung und Stand der Technik
Der sondenformende Teil des aus [1, 2] bekannten Elektronen­ strahl-Tomographen besteht im wesentlichen aus einer Elektro­ nenkanone, einem evakuierten, sich stufenweise erweiternden Driftrohr und einer Solenoidlinse, die die Elektronen aus der Strahlachse ablenkt und auf einen als Röntgenquelle dienenden Anodenring fokussiert. Zwischen Elektronenkanone und So­ lenoidlinse soll sich der Elektronenstrahl aufgrund seiner Raumladung möglichst weit aufspreizen, da die Größe des Elek­ tronenfokus auf dem Anodenring und damit auch die Größe der Röntgenquelle dem Querschnitt des in die Solenoidlinse ein­ tretenden Strahls umgekehrt proportional ist. Infolge der Wechselwirkung der Elektronen mit dem im Driftrohr immer vor­ handenen Restgasen entstehen allerdings positive Ionen, die die Raumladung des Strahls zumindest teilweise neutralisieren und dessen Aufweitung somit verringern.
Zur Lösung dieses Problems wird in [3, 4] vorgeschlagen, die durch Elektronenstoß erzeugten Gasionen mit Hilfe elektri­ scher oder magnetischer Ablenksysteme aus dem Strahl zu ent­ fernen. Bei dem in [4] beschriebenen elektrostatischen Ab­ lenksystem handelt es sich um eine verbesserte Version der aus [3] bekannten Elektrodensysteme. Es ermöglicht die Erzeu­ gung homogenerer elektrostatischer Querfelder und vermeidet die Ablenkung des Elektronenstrahls. Die beiden antiparalle­ len elektrischen Querfelder bewirken allerdings eine Verset­ zung des Elektronenstrahls, so daß dieser außeraxial in die Solenoidlinse eintritt. Dies vergrößert die Aberrationen des Systems (außeraxialer Astigmathismus) und erschwert die Kon­ trolle der Lage des Elektronenfokus auf dem Anodenring.
2. Ziele und Vorteile der Erfindung
Ziel die Erfindung ist die Schaffung einer Vorrichtung, mit der sich Ionen aus einem Elektronenstrahl wirkungsvoll ent­ fernen lassen. Die Ionenextraktion soll insbesondere keine Strahlablenkung und keinen Strahlversatz hervorrufen. Eine Vorrichtung mit den in Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen besitzt diese Eigenschaften. Man kann sie insbesondere in den eingangs erwähnten Elektronenstrahl-Tomographen einsetzen, um die Strahlführung und -Kontrolle zu erleichtern und die Aber­ rationen der Elektronenoptik zu verringern (axialer Eintritt der Elektronen in die Solenoidlinse).
Die abhängigen Ansprüche betreffen vorteilhafte Ausgestaltun­ gen und Weiterbildungen der Erfindung.
3. Zeichnungen
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnungen erläu­ tert. Hierbei zeigt:
Fig. 1 das ein E×B-Dipolfeld erzeugende Elektroden- und Spulensystem der Vorrichtung im Längsschnitt (y-z-Ebene);
Fig. 2 die ein azimutal drehbares Dipolfeld erzeugende elek­ trostatische Ablenkeinheit im Querschnitt (x-y-Ebene);
Fig. 3 die elektrische und die magnetische Ablenkeinheit im Querschnitt (x-y-Ebene);
Fig. 4 den axialen Verlauf des elektrostatischen und magne­ tischen Ablenkfeldes
4. Beschreibung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung zum Entfernen von Io­ nen aus einem sich in Richtung der optischen Achse OA aus­ breitenden Elektronenstrahl besteht im wesentlichen aus einer elektrostatischen Ablenkeinheit ED, einer ein inneres und ein äußeres Sattelspulenpaar SPI, SPA aufweisenden magnetischen Ablenkeinheit MD und zwei auf einem konstanten Potential V₀ liegenden Rohrelektroden RA und RE, die jeweils im Abstand d vor bzw. hinter den ein senkrecht zur Strahlachse OA orien­ tiertes E×B-Feld erzeugenden Ablenkeinheiten angeordnet sind.
Wie die Fig. 2 zeigt, besitzt die elektrische Ablenkeinheit ED einen bezüglich der Strahlachse OA rotationssymmetrischen Aufbau. Ihre mit den Potentialen
Vi = Vo + Vxcosϑi + Vysinϑi
ϑi: Azimutwinkel (ϑi = 0°, 45°, 90°, . . . ) (1)
beaufschlagten acht Elektroden erzeugen ein homogenes trans­ versales elektrostatisches Dipolfeld ohne höhere Multipolkom­ ponenten. Schreibt man das elektrostatische Potential Φ in der Form (s. beispielsweise [5])
mit der Multipolkomponenten
ϕ₂ν +1:= r²ν +1{f₂ν +1(z,r)cos[(2ν+1)ϑ] + g₂ν +1(z,r)sin[(2ν+1)ϑ]} (3)
so gilt für das Acht-Elektroden-Element
Φo = Vo, Φ₃ = Φ₅ = 0, Φ₇ ≠ 0,
während für das aus [4] bekannte Elektrodensystem schon der Dezipolterm nicht mehr verschwindet (Φ₅ ≠ 0). Das Potential V₀ wird vorteilhafterweise so gewählt, daß alle Elektroden auf einem negativen Potential liegen. Im Falle eines reinen x-Ablenkfeldes (Vy = 0) kann das Potential beispielsweise den Wert V₀ = -Vx erhalten.
Die beiden die elektrostatische Ablenkeinheit ED ringförmig umschließenden Sattelspulenpaare SPI und SPA erzeugen ein transversales magnetisches Dipolfeld, das senkrecht zum elek­ trischen Dipolfeld orientiert ist ( ⟂) und wie dieses keine Komponente in Richtung der Strahlachse OA aufweist (Bz = 0, Ez = 0). Da die in einer flexiblen Isoliermasse ein­ gebetteten Leiterbahnen LB der Sattelspulenpaare SPI, SPA gemäß der Beziehung
(dN/dϑ)SPA = konst. cosϑ (4a)
(dN/dϑ)SPI = konst. sindϑ (4b)
in der x-y-Ebene verteilt sind, baut sich innerhalb der Ab­ lenkeinheit ein sehr homogenes magnetisches Dipolfeld ohne höhere Multipolkomponenten auf (s. beispielsweise [5]). Das von dem äußeren Sattelspulenpaar SPA erzeugte Magnetfeld zeigt Fig. 3, wobei die Richtung des in den äußeren Leiter­ bahnen LB jeweils fließenden Stromes Iy hierbei wie üblich durch Kreuze bzw. Punkte innerhalb der einzelnen Leiterbahn­ querschnitte angedeutet ist. Das von dem stromdurchflossenen inneren Sattelspulenpaar SPI erzeugte magnetische Dipolfeld erhält man in einfacher Weise durch Drehung der dargestellten Feldverteilung um 90°.
Wie oben erläutert, erzeugen die beiden Ablenkeinheiten ED, MD rein transversale und zueinander orthogonale Dipolfelder (E×B-Feld). Deren Feldstärken E₀ und B₀ sind hierbei derart aufeinander abgestimmt, daß die in das System eintretenden Elektronen keine Ablenkung oder Versetzung erfahren und star­ ke Querkräfte nur auf die im Strahl vorhandenen Ionen wirken.
Zur Herleitung der dafür erforderlichen Abgleichbedingungen sei im folgenden von einem elektrischen Ablenkfeld
und einem magnetischen Ablenkfeld
auf der Strahlachse OA ausgegangen. Die in einem solchen Feld auf ein Elektron wirkende Kraft berechnet sich zu
wobei e die Elementarladung und v die Elektronengeschwindig­ keit bezeichnet. Da die Geschwindigkeit v nur eine Komponente in Strahlrichtung aufweist (e = ve·z) kann man (7) unter Berücksichtigung von (5) und (6) zu
umformen. Soll keine Kraft auf das Elektron wirken, müssen die Feldstärken der Bedingung
Ex(0,0,z)/By(0,0,z) = ve (9a)
und
Ey(0,0,z)/Bx(0,0,z) = -ve (9b)
genügen, was sich durch Anpassung der Elektronenpotentiale Vi und der in den Sattelspulen SPI, SPA fließenden Ströme Ix bzw. Iy ohne weiteres erreichen läßt. Da die oben angegebene Abgleichbedingung für die in das System eintretenden bzw. dort erzeugten Gasionen nicht erfüllt sind, erfahren die po­ sitiv geladenen Ionen eine Ablenkung quer zur Strahlrichtung. Die auf ein Ion (Ladung q < 0) mit der Geschwindigkeit
wirkenden Kräfte i berechnen sich hierbei zu
die Kräfte sind unabhäng von der Ionengeschwindigkeit immer von Null verschieden und senkrecht zur Strahlachse OA gerich­ tet. Eine Ablenkung findet auch dann statt, wenn sich das Ga­ sion entgegen der Strahlrichtung bewegt (vi < 0).
Durch geeignet Wahl der Länge l der Rohrelektroden RA, RE (s. Fig. 1) deren Abstand d von der elektrostatischen Ablenkein­ heit ED und dem Parameter δ (Abstand der Mitte des Kopfspu­ lenbereichs vom Kopfstück der elektrostatischen Ablenkein­ heit; s. Fig. 1 in [6]) kann man es einrichten, daß die Be­ dingung
Ex(0,0,z)/By(0,0,z)=Ey(0,0,z)/(-Bx(0,0,z)=Eo/Bo=e (11)
für das Wien′sche Filter nicht nur im Hauptfeld, sondern auch im Randbereich erfüllt ist. Das elektrostatische und magneti­ sche Ablenkfeld besitzt dann beispielsweise den in Fig. 4 dargestellten axialen Verlauf.
5. Weitere Ausführungsbeispiele
Die durch Gleichung (1) gegebene Potentialbelegung der Ablenkelektroden erlaubt eine statische und eine dynamische Drehung des elektrischen Dipolfeldes in der x-y-Ebene. Da man das magnetische Dipolfeld entsprechend mitdrehen muß, sind in der beschriebenen Vorrichtung auch zwei Sattelspulenpaare SPI, SPA für die x- und y-Ablenkung vorgesehen. Ein Sattel­ spulenpaar kann entfallen, wenn man auf die Drehbarkeit der Dipolfelder verzichtet. Dies ist insbesondere dann der Fall, wenn die in Fig. 2 dargestellte Ablenkeinheit durch das aus [4] bekannte Elektrodensystem ersetzt wird.
6. Literatur
[1] D.P. Boyd et al., US-A-4,352,021;
[2] K.R. Peschmann et al., Applied Optics 24 (No. 23), Dec. 1985, S. 4052-4060;
[3] R.E. Rand et al, US-A-4,521,900;
[4] R.E. Rand et al, US-A-4,625,150;
[5] E. Plies, Siemens Forschungs- und Entwicklungsberichte Bd. 11(1982) Nr. 1, S. 38-45
[6] F.E. Mills, G.H. Morgan, Particle Accelerators 5 (1973), 227.

Claims (7)

1. Vorrichtung zum Entfernen von Ionen aus einem Elektronen­ strahl die
  • - eine einen weitgehend homogenes elektrisches Dipolfeld er­ zeugende erste Ablenkeinheit (ED) und
  • - eine ein weitgehend homogenes magnetisches Dipolfeld er­ zeugende zweite Ablenkeinheit (MD, SPI, SPA) enthält, wobei
  • - die Ablenkeinheiten (ID, MD) eine gemeinsamme Symmetrieach­ se (OA) aufweisen,
  • - das elektrische und das magnetische Dipolfeld räumlich so zueinander orientiert sind, daß die Feldvektoren nahezu senkrecht aufeinander stehen und jeweils keine Komponente in Richtung der Symmetrieachse (OA) aufweisen und
  • - der Quotient aus dem Betrag der elektrischen Feldstärke und dem Betrag der magnetischen Feldstärke entlang eines Ab­ schnitts der Symmetrieachse (OA) konstant und annähernd gleich ist dem Betrag der mittleren Geschwindigkeit der entlang der Symmetrieachse (OA) laufenden Elektronen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Ablenkeinheit (ED) in axialer Richtung gesehen zwischen zwei auf einem kon­ stanten Potential (V₀) liegenden Rohrelektroden (RA, RE) an­ geordnet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch ein elektrostatisches Multipol­ element (ED) als erste Ablenkeinheit.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrostatische Multipolelement vier oder acht Elektroden aufweist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Ablenkein­ heit (MD) eine oder zwei die erste Ablenkeinheit (ED) ring­ förmig umschließende Sattelspulenpaare (SPI, SPA) aufweist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Sattelspulen (SPI, SPA) auf der ersten Ablenkeinheit (ED) angeordnet sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl der strom­ führenden Elemente (LB) einer Sattelspule (SPI, SPA) pro Win­ keleinheit in einer senkrecht zur Symmetrieachse (OA) orien­ tierten Ebene eine Cosinus- oder Sinusverteilung aufweist.
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