DE2314284A1 - Ionenzerstaeuber-vakuumpumpe - Google Patents
Ionenzerstaeuber-vakuumpumpeInfo
- Publication number
- DE2314284A1 DE2314284A1 DE19732314284 DE2314284A DE2314284A1 DE 2314284 A1 DE2314284 A1 DE 2314284A1 DE 19732314284 DE19732314284 DE 19732314284 DE 2314284 A DE2314284 A DE 2314284A DE 2314284 A1 DE2314284 A1 DE 2314284A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- vapor pressure
- anode
- high vapor
- plates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J41/00—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas; Discharge tubes for evacuation by diffusion of ions
- H01J41/12—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps
- H01J41/18—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps with ionisation by means of cold cathodes
- H01J41/20—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps with ionisation by means of cold cathodes using gettering substances
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
VEEGO INSTHUMENTS ING., Terminal Drive, Plainview, New York 11803,
USA
Ionenzerstäuber-Vakuumpumpe
Zusatz zu Patent ...
Patentanmeldung P 23 11 083.0
Die Erfindung bezieht sich auf elektronische Vakuumpumpen mit Kaltkathodenentladung, die auf dem Prinzip der Ionenzerstäubung
arbeiten, und insbesondere auf Verbesserungen in Ionenzerstauberpumpen, bei denen eine Elektrode hohen Dampfdruckes
als Ionenquelle verwendet wird. Eine solche Ionenzerstäuberpumpe
ist in Patent ... (Patentanmeldung P 23 11 083.0) beschrieben und dargestellt.
Bei Ionenzerstauberpumpen werden Gasmoleküle ionisiert und die Ionen unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes beschleunigt,
so daß sie eine Zerstäubungselektrode aus reaktivem Material
309843/0404
V/p 7619 -2- 20. Harn I^ ο W/We
23U284
"bombardieren. Die ionisierten Moleküle treffen auf die Elektroden-Oberfläche
auf und bewirken ein Ablösen oder Zerstäuben geringer Mengen an reaktivem Material, wobei das zerstäubte Material einen
dünnen Film auf einer Getterflache bildet, wodurch, die Gasmoleküle
eingefangen werden und damit der Piimpiaeciiani sinus entstellt.
Eine eingehende Erörterung dieser1 Erscheinung kann der vielfältigen
Literatur entnommen werden; beispielsweise wird hier auf die US-PS 2.967.25? hingewiesen.
Allgemein gilt, daß die Leistung ύοπ Ionenpumpe!! von der Ionisierungsgeschwindigkeit
abhängt. 3ei licIiem Yakuun ist die Anzahl
von für die Ionisierung sur Verfügung stehenden Kolekülen
verhältnismäßig gering, so daß die Pumpleistung begrenzt wird.
In Patent ... (Patentanmeldung P 2~>
11 OSJ,0) ist ausgeführt, daß die Pumpleistung der ZerstaubUiigspumpen, insbesondere bei.
niedrigeren Drücken, wesentlich dadurch verbessert werden kann, daß ein Material hohen Dampfdruckes, z.B. Magnesium, mit der Pumpentladung
aufgeheizt wird, damit Arone in der Dampfphase erzeugt
werden, und daß dann die Dampf at one in die Entladung eingeführt werden, damit eine Ionisierung und ein anschließendes Bombardement
der reaktiven Zerstäüberkathcde hervorgerufen wird, van. die Zerstäubungs-
und Pumpgeschwindigke.it zu vergrößern, Kan hat jedoch
festgestellt, daß bestimmte Elektrodenanordnungen mit hohem Dampfdruck
in der Praxis die Tendenz, des Ausbremiens unter bestimmten
Betriebsbedingungen zeigen.
Es hat sich gezeigt, daß wahrend des Puruparflaufes bei Drücken von
etwa 10 Mikron bis etwa 10 Torr die durch die Pump entladung erzeugte Wärme so intensiv sein kann, daß ".uviele Atome aus dem
Material hohen Dampfdruckes verdampfen und daß diese Atome ionisiert werden und weiter zur Intensität des Ionenstrahles beitragen, was
309843/0404
V/p 7619 -3- 20. März 1973 W/We
23U28A
eine weitere Aufheizung der Elektrode hohen Dampfdruckes bewirkt,
so daß noch eine höhere Anzahl von Atomen hohen Dampfdruckes zur weiteren Ionisierung frei werden. Dieser Schneeballeffekt erzeugt
schließlich Entladungsintensitäten in der Größenordnung von einer halben Million A/Torr, wodurch die Elektrode hohen Dampfdruckes
ausbrennt.
Gemäß der Erfindung wird eine Ionenzerstäuber- Vakuumpumpe mit einer Vorrichtung, die eine Pumpkammer bildet, einer Anode in
der Kammer, einer Zerstäuberelektrode aus reaktivem Gettermaterial,
das in Wirkbeziehung zu der Anode in der Kammer angeordnet ist, einer Elektrode aus Material verhältnismäßig hohen Dampfdruckes,
die in Wirkbeziehung zu der Anode und der Zerstäuberelektrode in der Kammer steht, einer Vorrichtung, die ein elektrisches Entladungsfeld zwischen der Anode und der den Elektroden aufbaut, wobei
die Anode auf einem erhöhten Potential in bezug auf die Elektroden steht, und einer Vorrichtung, die ein Magnetfeld aufbaut, das
sich in Richtung des elektrischen Feldes erstreckt, wobei die Elektrode hohen Dampfdruckes eine Vielzahl von im Abstand voneinander
versetzten Flächen hohen Dampfdruckes aufweist und Dampfatome zur Ionisierung bei einer Beheizung durch die Pumpentladung
erzeugen, vorgeschlagen, die gekennzeichnet ist durch eine Elektrodenanordnung niedrigen Dampfdruckes, welche einen Teil
der Elektrode hohen Dampfdruckes mit einer Vielzahl von im Abstand voneinander zwischen den Flächen hohen Dampfdruckes angeordneten
Elektrodenelementen aufweist, um die Verdampfungsgeschwindigkeit
der Elektrode hohen Dampfdruckes zu steuern und eine zu hohe Intensivierung der Ionenentladung zu verhindern.
Nach einer speziellen Ausgestaltung der Erfindung ist die Elektrode hohen Dampfdruckes mit einem Material verhältnismäßig
niedrigen Dampfdruckes, z.B. Wolfram, Molybdän, Tantal oder Titan in geeigneter Ausgestaltung bel.egt , so daß der an der
309843/04
V/p 7619 -4- 20. Mära 73 W/We
23H284
Kathodenoberflache ankommende Ionenstrahl diffundiert. Bei
einer entsprechenden Anordnung von Material niedrigen Dampfdruckes
zu einem Material hohen Dampfdruckes wird die Verdampfungsgeschwindigkeit der Atome hohen Dampfdruckes in dem
Maße geregelt oder moduliert, daß "das Problem des Kathodenausbrennens
unter den gegebenen Arbeitsbedingungen elZ'iminiert wird.
Nach einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden Stäbe oder Streifen aus Gettermaterial verwendet, um Elektroden aus
einem Material hohen Dampfdruckes zu verbinden und damit die der Pumpentladung ausgesetzte effektive Fläche zu steuern, während
in weiterer Ausgestaltung der Erfindung Stäbe oder Streifen aus einem Elektrodenmaterial hohen Dampfdruckes auf einer Unterlage
aus Gettennaterial verteilt sind. Nach einer anderen Ausführungsform der Erfindung werden Stäbe oder Streifen aus einem Material
hohen Dampfdruckes zwischen Zerstäuberelektroden axial in Richtung der E-und B- Felder in der Pumpe angeordnet.
Der jeweilige Elektrodenaufbau nach diesen Ausführungsformen beseitigt nicht nur das Ausbrennproblem, sondern verbessert
auch entscheidend die Fähigkeit der Pumpe, inerte Gase zu evakuieren.
Nachstehend wird die Erfindung in Verbindung mit der Zeichnung anhand von Ausführungsbeispielen erläutert. Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Teilschnittansicht einer Zerstäuberionenpumpe
gemäß der Erfindung, und
Figuren 2, 3 und 4- Ansichten ähnlich der nach Figur 1, aus denen
drei verschiedene Ionenpumpen- Elektrodenanordnungen gemäß vorliegender Erfindung hervorgehen.
Eine Ionenpumpe gemäß vorliegender Erfindung ist in Fig. 1 dargestellt.
Die Pumpe weist ein Gehäuse 10 auf, das einen Einlaß
309843/0404
V/p 7619 -§- 20. März 73 W/We
23H284
in eine Pumpkammer 13 besitzt, in welcher die Pumpelemente
aufgenommen sind. Die Pumpelemente schließen eine zellenartige Anode 15 mit ein, die aus einer Vielzahl von in axialer Richtung
ausgerichteten Anodenzellen 14 besteht, sowie eine Zerstäubungselektrode 16, die auf einer Seite der Ano^de 15 angeordnet ist.
Die Elektrode 16, die aus einem reaktivem Gettermaterial, z.B. Titan besteht, weist beispielsweise die Form einer flachen Platte
auf, die etwa parallel zur größeren Ebene der Anode 15 liegt, wobei eine senkrechte Fläche zu den axialen Entladungen der
einzelnen Anodenzellen 14 erzielt wird.
Eine Hochspannungsquelle 18 ist an die Anode 15 über einen Isolator
21 gelegt, während die Zerstäubungselektrode .16 an niedrigeres Potential (als Erde dargestellt) über einen Isolator 21 gelegt
ist. Zwei Magnetkernstücke 19 und 20, die entgegengesetzt zueinander außerhalb des Gehäuses 10 angeordnet sind, bauen ein
Magnetfeld B in der Kammer 13 auf, das sich in axialer Richtung längs der Anodenzellen 14 in der Richtung erstreckt, die in
herkömmlicher Weise angezeigt ist.
Unter der Annahme, daß der Druck in der Kammer 13 auf 10 Torr
oder darunter verringert worden ist, ist die herkömmliche Arbeitsweise der Ionenpumpe folgende: Beim Anlegen eines genügend hohen
Potentials an die Anode 15 in bezug auf die Zerstäubungskathode 16 (z.B. + 5 kv) wird eine Entladung erzeugt, die einen Elektronenfluß
von der Kathode zur Anode ergibt. Das Magnetfeld bewirkt, daß die Elektronen einem spiralförmigen Pfad folgen und dabei mit
Molekülen des Gases kollidieren, das evakuiert wird und im Raum zwischen den beiden Elektroden vorhanden ist, so daß die Moleküle
in positive Ionen umgewandelt werden, die von der negativ aufgeladenen Zerstäubungselektrode 16 angezogen werden. Die ionisierten
Partikel treffen auf die Zerstäubungselektrode auf und bewirken, daß reaktives Material von der Kathodenoberfläche zerstäubt und
sich als dünner Film hauptsächlich auf der Anodenoberfläche niederschlägt. Die Getterwirkung dieses dünnen reaktiven Filmes stellt
309843/QA(H
V/p 7619 -6- 20. Harz 75 W/We
23U284
den Hauptvörgang dai1, durch den GasnoXeküle gepumpt werden.
Es ist dabei entscheidend für den Pumpbetrieb, daß dieser
dünne reaktive Film laufend durch Zerstäubung erneuert wird.
Es ergibt sich jedoch, daß bei niedrigen Brücken verhältnismäßig
wenig Moleküle zur Ionisierung und Zerstäubung zur Verfügung
stehen. Gemäß dem Vorschlag nach Patent ... (Patentanmeldung P 23 11 083.0) weist die Ionenpumpe eine getrennte
Quelle hoher Ausbeute von Metallatomen in der Gasphase zur Ionisierung und Zerstäubung auf, wobei ein Metall mit einem
verhältnismäßig hohen I ampfdruck, z.B. Magnesium oder Mangan
vorgesehen ist. Das Metall hohen Dampfdruckes wird aufgeheizt, damit Atome in der Dampfphase entstehen, die bei der Entladung
zur Zerstäubung ionisiert werden. Eine örtliche Aufheizung wird zweckmäßigerweise durch die Pumpentladung erreicht.
Nach Figur 1 ist die Metallquelle hohen Dampfdruckes als
zweite Elektrode 17 ausgeführt, die mit Erde über den Isolator 22 verbunden ist. Die Elektrode 17 hohen Dampfdruckes kann
aus Magnesium, Mangan, Barium, Kalzium-, Aluminium, Strontium, Ger oder Neodym oder Kombinationen daraus bestehen und ist in
Form einer flachen Platte dargestellt, die parallel zu der Zerstäubungselektrode 16 auf der entgegengesetzten Seite der
Anode 15 angeordnet ist.
Man hat festgestellt, daß die getrennte Atomquelle, die durch
die Elektrode hohen Dampfdruckes gebildet wird, eine verbesserte Leistung über den gesamten Pumpbetriebbereich ergibt. Im Gegensatz zu den Erwartungen hat das Vorhandensein des Materiales
hohen Dampfdruckes in der Vakuumkammer keinen beschränkenden Einfluß auf die höchsten erzielbaren Drücke.
Wie weiter oben beschrieben, besteht unter bestimmten Arbeits-
309843/(HtU
V/p 7619 -7- 20. März 73 W/We
"bedingungen eine ausgeprägte Tendenz für das Elektrodenmaterial 17 hohen Dampfdruckes nach Figur 1 zum Ausbrennen.
Dies läßt sich mit vorliegender Erfindung dadurch beheben, daß die effektive Fläche der Elektrode hohen Dampfdruckes,
die der Pumpentladung ausgesetzt ist, gesteuert wird, damit die Möglichkeit des Ausbrennens ausgeschaltet wird. Eine Ausführungsform
ist in Figur 1 dargestellt, in der eine Reihe von Stäben 12 aus einem Material verhältnismäßig niedrigen
Dampfdruckes, z.B. Molybdän, Tantal, Titan, Wolfram oder eine Kombination daraus auf der Oberfläche des Elektrodenmateriales
hohen Dampfdruckes angeordnet sind, die der Pumpentladung zugewandt ist. Die Stäbe 12 sind mit der Stirnseite der Elektrode
17 beispielsweise durch Verschweißen befestigt.
Figur 2 zeigt eine andere Auiührungsform einer Elektrodenanordnung
gemäß vorliegender Erfindung. Die Ausführungsform nach Figur 2 besitzt eine zellenförmige Anode 15>
die ähnlich der nach Figur 1 ausgebildet ist. Auf entgegengesetzten Seiten der zellenförmigen Anode 15 sind Elektroden 17 hohen Dampfdruckes
angeordnet, die in Form von flachen Platten dargestellt sind, welche sich parallel zur größeren Ebene der Anode
15 erstrecken. Eine Vielzahl von senkrechten Stäben oder
Streifen aus reaktivem Gettermaterial 16 erstreckt sich in axialer Richtung durch die Anodenzellen 14 und verbindet die
beiden Platten 17 miteinander. Die Elektroden 17 hohen Dampfdruckes
und die Zerstäubungselektroden 16 sind mit Erde in der dargestellten Weise verbunden. Die Stäbe oder Streifen
aus einem Gettermaterial 16 verhältnismäßig niedrigen Dampfdruckes bewirken, daß die effektive Fläche der Elektroden 17
hohen Dampfdruckes, die der Pumpentladung zugewandt ist, gesteuert
wird, während sie gleichzeitig als Speisequellen für das Gettermaterial dienen. Somit wird die Gefahr des Ausbrennens
der Elektroden 17 hohen Dampfdruckes vermieden.
309843/040A
ORIGINAL INSPECTED
V/p 7619 -8- 20. Harz ?3 J
2 31
η 2 8 A
Bei der in Figur 3 gezeigten Ausführungsform weist die Elektrodenanordnung
eine zellenförmige Anode 15 und zwei annähernd
parallele, gegenuberliegend angeordnete Zerstäubungselektrodenplatten
16 auf, die aus reaktivem G-etr-ermaterial bestehen.
Von einer der Elektroden 16 stehen eine Vielzahl von Elektroden 17 hohen Dampfdruckes, die aus einem entsprechenden Material
hohen Dampfdruckes bestehen, nach abwärts gegen die Anode 15
in axialer Ausrichtung mit den Anodenzellen 14 vor. Das Problem
des Ausbrennens der Elektroden aus einem Material hohen Dampfdruckes wird somit dadurch gelöst, daß die Stäbe oder Streifen
des Materials hohen Dampfdruckes auf einer Unterlage aus reaktivem Gettermaterial verteilt werden.
Eine weitere Ausführungsform nach vorliegender Erfindung ist bei der Elektrodenanordnung nach Figur M- dargestellt, die eine
zellenförmige Anode 15 und zwei entgegengesetzt angeordnete
Zerstaubungselektrodenplatten 16 aufweisen, welche aus reaktivem Gettermaterial bestehen. Eine Vielzahl von senkrechten Stäben
oder Streifen aus einem Material 17 hohen Dampfdruckes erstreckt sich in axialer Richtung durch die Anodenzellen 14 etwa parallel
zu den E- und B-Feldern in der Pumpe, damit die beiden Zerstäubungselektroden 16 miteinander verbunden werden. Auf diese
Weise wird die Gefahr des Ausbrennens der Elektrode hohen Dampfdruckes beseitigt.
309843/04 04
Claims (1)
- V/p 7619 -9- 20. März 1973 W/V^g ^ 28 4Patent ansprüche1./Ionenzerstäuber-Vakuumpumpe mit einer Vorrichtung, die eine Pumpkammer bildet, einer Anode in der Kammer, einer Zerstäuberelektrode aus reaktivem Gettermaterial, das in Wirkbeziehung zu der Anode in der Kammer angeordnet ist, einer Elektrode aus einem Material verhältnismäßig hohen Dampfdruckes, die in Wirkbeziehung zu der Anode und der Zerstäuberelektrode in der Kammer steht, einer Vorrichtung, die ein elektrisches Entladungsfeld zwischen der Anode und den Elektroden aufbaut, wobei die Anode auf einem erhöhten Potential in bezug auf die Elektroden steht, und einer Vorrichtung, die ein Magnetfeld aufbaut, das sich in Richtung des elektrischen Feldes erstreckt, wobei die Elektrode hohen Dampfdruckes eine Vielzahl von im Abstand voneinander versetzten Flächen hohen Dampfdruckes aufweist und Dampfatome zur Ionisierung bei einer Beheizung durch die Pumpenentladung erzeugen, gekennzeichnet durch eine Elektrodenanordnung (12) niedrigen Dampfdruckes,die einen Teil der Elektrode (17) hohen Dampfdruckes mit einer Vielzahl von im Abstand voneinander zwischen den Flächen hohen Dampfdruckes angeordneten Elektrodenelementen aufweist, um die Verdampfungsgeschwindigkeit der Elektrode (17) hohen Dampfdruckes zu steuern und eine zu hohe Intensivierung der Ionenentladung zu verhindern.Pumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektrodenmaterial hohen Dampfdruckes aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Magnesium, Mangan, Barium, Kalzium, Aluminium, Strontium, Cer und Neodym und Kombinationen daraus besteht, und daß das Material geringen Dampfdruckes aus der Gruppe ausgewählt ist, die Molybdän, Tantal, Titan und Wolfram sowie Kombinationen davon umfaßt.309843/0404ORIGINAL INSPECTEDV/p 7619 -10- 20. März 1973 W/We23H2843. Pumpe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubungselektrode (16) und die Elektrode (1?) hohen Dampfdruckes die Form von flachen parallelen Platten aufweisen, die auf entgegengesetzten Seiten der Anode (15) angeordnet sind, und daß die Elektrode geringen Dampfdruckes eine Vielzahl von Elementen (12) aufweist, welche im Abstand zu der Seite der Elektrodenplatte (17) hohen Dampfdruckes befestigt sind, die der Anode(15) zugewandt ist.4. Pumpe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode (17) hohen Dampfdruckes ein Paar flacher paralleler Platten aufweist, die auf entgegengesetzten Seiten der Anode (15) angeordnet sind, und daß die Zerstäubungselektrode und die Elektrode geringen Dampfdruckes aus einer Vielzahl von Elementen (16) aus einem Material niedrigen Dampfdruckes bestehen, die sich im Abstand zwischen den Elektrodenplatten (17) hohen Dampfdruckes erstrecken und die Platten (17) miteinander verbinden, wobei die Elemente (16) teilweise die Stirnflächen der Elektrodenplatten (17) hohen Dampfdruckes bedecken (Fig. 2).5. Pumpe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubungselektrode (16) ein Paar flacher paralleler Platten aufweist, die auf entgegengesetzten Seiten der Anode (15) angeordnet sind, und daß die Elektrode hohen Dampfdruckes (Figur 3) eine Vielzahl von im Abstand versetzten Elementen (17) aufweist, die mit einer der Zerstäubungselektrodenplatten (16) auf der Seite befestigt sind, die der Anode (15) zugewandt und gegen die Anode (15) gerichtet ist.309843/04V/p 7619 -11- 20. März 73 W/We23H2846. Pumpe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerstäubungseiektrode ein Paar flacher paralleler Platten (16) aufweist, die auf entgegengesetzten Seiten der Anode (15) angeordnet sind, wobei die Elektrode hohen Dampfdruckes eine Vielzahl von im Abstand versetzten Elementen (17) besitzt, die zwischen den Zerstäubungselektrodenplatten (16) auf den Oberflächen, die der Anode (15) zugewandt sind, verlaufen und die Platten (16) miteinander verbinden (Fig. 4). ·309843/04Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00240451A US3827829A (en) | 1972-04-03 | 1972-04-03 | Sputter-ion pump |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2314284A1 true DE2314284A1 (de) | 1973-10-25 |
Family
ID=22906580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732314284 Pending DE2314284A1 (de) | 1972-04-03 | 1973-03-22 | Ionenzerstaeuber-vakuumpumpe |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3827829A (de) |
JP (1) | JPS497807A (de) |
DE (1) | DE2314284A1 (de) |
FR (1) | FR2179397A6 (de) |
IL (1) | IL41717A0 (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6023280Y2 (ja) * | 1978-08-10 | 1985-07-10 | 日本ケ−ブル・システム株式会社 | 舶用機関の制御装置 |
KR100216478B1 (ko) * | 1996-08-27 | 1999-08-16 | 정명세 | 이온드래그 진공펌프 |
US7371051B2 (en) * | 2002-09-09 | 2008-05-13 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Controlled magnetohydrodynamic fluidic networks and stirrers |
KR100860274B1 (ko) * | 2007-06-29 | 2008-09-25 | 포항공과대학교 산학협력단 | 저온 가열탈기체 처리 가능한 소형, 경량 초고진공용스퍼터 이온펌프 및 그제조방법 |
WO2009101814A1 (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | National Institute Of Information And Communications Technology | イオンポンプシステム及び電磁場発生装置 |
US9960026B1 (en) * | 2013-11-11 | 2018-05-01 | Coldquanta Inc. | Ion pump with direct molecule flow channel through anode |
JP5855294B1 (ja) * | 2015-02-06 | 2016-02-09 | 株式会社日立製作所 | イオンポンプおよびそれを用いた荷電粒子線装置 |
US10665437B2 (en) * | 2015-02-10 | 2020-05-26 | Hamilton Sundstrand Corporation | System and method for enhanced ion pump lifespan |
WO2017046886A1 (ja) * | 2015-09-16 | 2017-03-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3112863A (en) * | 1960-10-06 | 1963-12-03 | Cons Vacuum Corp | Ion pump |
US3141605A (en) * | 1961-08-18 | 1964-07-21 | Nippon Electric Co | Magnetron type getter ion pump |
US3233823A (en) * | 1961-11-20 | 1966-02-08 | Nippon Electric Co | Electron-discharge vacuum apparatus |
US3546510A (en) * | 1967-11-30 | 1970-12-08 | Philips Corp | Square cathode for ion getter pumps |
US3542488A (en) * | 1968-10-28 | 1970-11-24 | Andar Iti Inc | Method and apparatus for producing alloyed getter films in sputter-ion pumps |
-
1972
- 1972-04-03 US US00240451A patent/US3827829A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-03-07 IL IL41717A patent/IL41717A0/xx unknown
- 1973-03-22 DE DE19732314284 patent/DE2314284A1/de active Pending
- 1973-03-27 FR FR7310892A patent/FR2179397A6/fr not_active Expired
- 1973-04-03 JP JP48038175A patent/JPS497807A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL41717A0 (en) | 1973-05-31 |
US3827829A (en) | 1974-08-06 |
FR2179397A6 (de) | 1973-11-16 |
JPS497807A (de) | 1974-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4109619C1 (de) | ||
DE2943862A1 (de) | Ionenquelle und ionenaetzverfahren | |
DE3338377A1 (de) | Sputtervorrichtung | |
DE2307649B2 (de) | Anordnung zum Aufstäuben verschiedener Materialien auf einem Substrat | |
EP0205028A1 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten auf ein Substrat | |
EP0396019A2 (de) | Ionen-Zyklotron-Resonanz-Spektrometer | |
DE1962617A1 (de) | Ionenquelle fuer Massenspektrometer | |
DE2314284A1 (de) | Ionenzerstaeuber-vakuumpumpe | |
DE4142103A1 (de) | Vorrichtung zur herstellung von duennschichten | |
DE1764782A1 (de) | Ionen-Getter-Vakuumpumpe | |
DE1953659C3 (de) | Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen | |
CH367865A (de) | Einrichtung zur Umwandlung thermischer Energie in elektrische Energie | |
DE3000451A1 (de) | Vakuumbedampfungsanlage | |
DE1934328A1 (de) | Vorrichtung zur wahlweisen Zerstaeubung fester Substanzen durch Ionenbeschuss nach der Plasma- oder Ionenstrahlmethode | |
DE1104111B (de) | Verfahren zur Verbesserung der Leistung einer Kaltkathoden-Entladungs-Ionenpumpe undzur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
DE2655942C2 (de) | ||
DE730628C (de) | Elektronenroehre zur Erzeugung oder Verstaerkung elektrischer Schwingungen | |
DE2838676C2 (de) | ||
DE2362723C3 (de) | Ionenquelle zur Erzeugung einfach und/oder mehrfach geladener Ionen | |
DE3703207C2 (de) | ||
DE2025987B2 (de) | Ionenquelle | |
DE2311083A1 (de) | Zerstaeubungsionenpumpe | |
DE1255440B (de) | Einrichtung zur Herstellung von UEberzuegen auf Unterlagen durch Aufdampfen von Substanzen im Hochvakuum mittels Elektronenstrahlen | |
CH650104A5 (de) | Mit bombardierung durch elektronen arbeitende ionenquelle. | |
DE2136134C3 (de) |