DE2303158A1 - Verfahren zur herstellung von anschlussplatten - Google Patents

Verfahren zur herstellung von anschlussplatten

Info

Publication number
DE2303158A1
DE2303158A1 DE19732303158 DE2303158A DE2303158A1 DE 2303158 A1 DE2303158 A1 DE 2303158A1 DE 19732303158 DE19732303158 DE 19732303158 DE 2303158 A DE2303158 A DE 2303158A DE 2303158 A1 DE2303158 A1 DE 2303158A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
connection
electrically insulating
layers
insulating material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19732303158
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiko Ihochi
Kanji Otsuka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of DE2303158A1 publication Critical patent/DE2303158A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4664Adding a circuit layer by thick film methods, e.g. printing techniques or by other techniques for making conductive patterns by using pastes, inks or powders
    • H05K3/4667Adding a circuit layer by thick film methods, e.g. printing techniques or by other techniques for making conductive patterns by using pastes, inks or powders characterized by using an inorganic intermediate insulating layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5383Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/20Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
    • H05K3/207Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern using a prefabricated paste pattern, ink pattern or powder pattern
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0275Fibers and reinforcement materials
    • H05K2201/0284Paper, e.g. as reinforcement
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0364Conductor shape
    • H05K2201/0376Flush conductors, i.e. flush with the surface of the printed circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0147Carriers and holders
    • H05K2203/0156Temporary polymeric carrier or foil, e.g. for processing or transferring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

Verfahren zur Herstellung von AnschliiBplatten (Priorität: 28. Januar 1972, Japan, Ir. 9881/72)
Die Erfindung bezieht sich auf die Verbindungs- oder Schalttechnik, bei der die äußeren Anschlüsse aktiver Halbleiterelemente mit nach zur Anschlußplatte gerichteten Anschlüssen befestigt werden. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf ein Verfahren zur Herstellung mehrschichtiger Anschlußplatten zum äußeren Anschluß nach der obigen Technik, die im folgenden als Fuß-Verbindungstechnik bezeichnet werden soll.
In neuerer Zeit werden HalbleitereleEente, insbesondere aktive Halbleiterelemente in starkem Maße integriert (sogenannte large scale integration).Dabei wird zur Herstellung der Verbindungen zwischen den aktiven Eleaenten und der Anschlußplatte zur äußeren Verbindung das sogenannte Fuß-Verbindungsverfahren angewendet, wodurch der Zusammenbau wirtschaftlicher wird. Bei der Fuß-Verbindungstechnik werden an den Anschluß- Ausführungsteilen auf der Oberfläche einer Pastille, in der die aktiven Elemente gebildet werden, vorher als Anschlußpuffer bezeichnete Anschlüsse oder Anschlußschienen gebildet. Die Verbindungen werden bei von innen nach außen gedrehter Pastille hergestellt. Der Grund für die Verwendung des
309834/1024
DITTMANN SCHIFF v.FÜNER STREHL SCHÜBEL-HOPF BBBINQHAUS — ff
Fuß- VerMndungsverfahrens anstelle der Drahtverbindung besteht in der geringeren Anzahl von Verbindungsschritten. Eine in solchen Fällen verwendete bekannte Verdrahtungsplatte stellt die in Fig. 1 der beigefügten Zeichnung dargestellte mehrschichtige Anschlußplatte dar. Üblicherweise werden die erste und zweite metallisierte Schicht B \md C, die elektrisch voneinander isoliert sind, im Inneren elektrisch isolierender Schichten umschlossen, die durch Verbacken mehrschichtiger keramischer Platten oder Folien hergestellt, werden. Die metallisierte Schicht B ist mit sockeiförmigen Elektroden D verbunden, die nach dem Vakuum- Verdampfungsverfahren öder dergleichen derart ausgebildet werden, daß sie über die Oberfläche der obersten elektrisch isolierenden Schicht A hinausragen. Demzufolge wird ein an der mehrschichtigen Anschlußplatte anzuschließendes Halbleiterplättchen E entsprechend den in Fig. 1 gezeigten gestrichelten Linien nach dem sogenannten Fuß- Verbindungsverfahren verbunden. Je nach der Stelle, an der sie sich befinden, haben jedoch die sockeiförmigen Anschlüsse D unterschiedliche Höhen. Dies liegt daran, daß die Schichten gedruckt und gleichzeitig verbacken bzv/. gesintert werden, bevor die sockeiförmigen Anschlüsse D gebildet werden und somit die Oberfläche der mehrschichtigen Anschlußplatte infolge Schrumpfungsunterschieden und dergleichen extrem uneben ist. Infolge der unterschiedlichen Hohen sind die Verbindungen zwischen den Plättchenanschlüsssn F und den sockeiförmigen Anschlüssen D unzuverlässig. Um diesen Nachteil zu vermeiden, müssen die Höhen der sockelföraiigen Elektroden möglichst gleichmäßig gemacht werden. Dies geschieht bei bekannten Verdrahtungsplatten dadurch, daß die metallisierten Schichten, die elektrisch isolierenden Schichten und die sockeiförmigen Anschlüsse. D aufeinanderfolgend über einer keramischen Unterlage A. hergestellt werden. Die Bestimmung der Höhen ist jedoch äußerst schwierig.
— 3 — 309834/1024
DITTMANN SCHIFF ν. FÜNER STREHL 6CHÜBEL-HOPF EBBINGHAUS -.Jp-.
3 23Ü3158
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung mehrschichtiger Anschlußplatten anzugeben, nach dem mehrschichtige Verbindungsplatten hergestellt werden können, die die Nachteile bekannter Anschlußplatten vermeiden.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung mehrschichtiger Anschlußplatten zeichnet sich dadurch aus, daß eine gewünschte Anzahl von Elektroden- oder Anschlußschichten auf einer vorläufigen Unterlage hergestellt.werden, daß die Oberfläche der vorläufigen Unterlage mit einer Schicht aus elektrisch isolierendem Material derart überzogen wird, daß ein Teil der Oberfläche jeder Anschlußschicht unbedeckt bleibt, daß eine leitende Ausführungsschicht für die Anschlußschichten gebildet wird, und daß die vorläufige Unterlage entfernt wird.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 2 den Querschnitt einer erfindungsgemäß hergestellten mehrschichtigen Anschlußplatte und
Fig. 3a
bis 3d Querschnitte von Anschlußplatten während verschiedener Arbeitsschritte des erfindungsgeraäßen Verfahrens.
Fig. 2 zeigt eine erfindungsgemäße mehrschichtige Anschlußplatte, deren Oberfläche 1 flach ausgeführt ist. In elektrisch isolierende Schichten 2, 3 und 4, die als Unterlage dienen, sind mehrere Anschlüsse 5 eingebettet. Ihre Oberflächen liegen in einer Ebene mit der Oberfläche 1 der Platte. Die Anschlüsse 5 liegen zur Oberfläche 1 frei. Die erste metallisierte Schicht 6, beispielsweise aus Wolfram oder Molybdän, die gegenüber den Anschlüssen 5 durch die Isolierschicht 2 isoliert ist, ist in den Isolierschichten 2, 3 und 4 versenkt. Jeder Teil der metallisierten Schicht 6 ist über ein Fenster 7 mit dem Anschluß 5 verbunden. Die zweite, gegenüber der metallisierten Schicht 6 durch die elektrisch isolierende Schicht 3 isolierte metallisierte Schicht 8 ist in den elektrisch isolierenden Schichten 2, 3 und 4 versenkt. Die metallisierte Schicht 8 ist über Fen-
3G9834M024 " 4 "
DITTMANN SCHIFF ν. FONEH STREHL BCHOBEL-HOPF EBBINOHAUS _ φ> _
ster 9 mit vorherbestimmten Teilen der metallisierten Schicht 6 verbunden. Auf diese Weise werden die äußeren Verbindungen der Anschlüsse 5 ermöglicht. Die Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht 3 ist mit einer dritten elektrisch isolierenden Schicht 4 überzogen. Hierdurch wird die Steifigkeit der mehrschichtigen Anschlußplatte erhöht. Wie sich aus den folgenden Ausführungen ergibt, kann die Isolierschicht 4 beliebig aus keramischem Material oder aus Kunststoff bestehen.
Figuren 3a bis 3d zeigen die verschiedenen Herstellungsschritte der erfindungsgemäßen mehrschichtigen Anschlußplatte. Das gewählte Ausführungsbeispiel betrifft den Fall, in dem die Anschlußplatte nach dem Siebdruckverfahren hergestellt wird. Eine Oberfläche einer vorläufigen Unterlage 10, die aus Mylar, Papier oder dergleichen besteht, wird zunächst zur Ausbildung der Anschlüsse 5 nach dem Siebdruckverfahren mit Molybdänfarbe bedruckt. Auf die eine Oberfläche der vorläufigen Unterlage 10 wird eine keramische Druckfarbschicht (aus AIgO,, einem glasförmigen Material, einem Lösemittel und einem Bindematerial) für die elektrisch isolierende Schicht 2 bedeckt, wobei ein Teil jedes Anschlusses unbedeckt bleibt (Fig. 3a). Hierdurch werden durch Aufbringung der elektrisch isolierenden Schicht 2 die Fenster 7 gebildet. Die Anschlüsse 5 liegen über die Fenster 7 örtlich nach außen frei.
Darauf folgend wird die erste metallisierte Schicht 6, die beispielsweise aus Wolfram- oder Molybdän- Druckfarbe besteht, nach dem Siebdruckverfahren auf die Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht 2 aufgebracht. Bestimmte Elektroden 5 werden durch die einzelnen Teile der metallisierten Schicht 6 miteinander verbunden. Darauf wird eine keramische Farbe, deren Zusammensetzung der der oben erwähnten gleich oder ähnlich ist, auf die Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht 2 aufgebracht. Hierdurch bildet sich die elektrisch isolierende Schicht 3. Bestimmte Teile der metallisierten Schicht 6 werden bei diesem Arbeitsschritt örtlich freigelassen, so daß sich die
— 5 — 30983A/1024
TOTTMANN 8CHIFF ν. FÜNEH STREHL SCHÜBEL-HOPF BBBINGHAUS — Jff —
S 23U3158
Fenster 9 bilden (Fig. 3b).
Während des nächsten ArbeitsSchrittes wird auf die Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht 3 entsprechend dem oben erwähnten Vorgang Molybdän-Farbe aufgedruckt, wodurch die vorherbestimmten Teile der metallisierten Schicht 6 mit der so gebildeten zweiten metallisierten Schicht 8 verbunden werden. Die metallisierte Schicht 8 wird als äußere Anschlußklemme verwendet. Darauf wird auf der Oberfläche der elektrisch isolierenden Schicht 3 und der Metallschicht 8.eine starke Schicht aus Keramikfarbe aufgebracht. Dabei bildet sich die elektrisch isolierende Schicht 4, die auch als Verstärkungsschicht dient (Fig. 3c).
Wenn die vorläufige Unterlage 10 weggebrannt werden kann, wird der sich ergebende Aufbau nach den vorstehend beschriebenen Herstellungsschritten gebrannt, ohne zuvor die Unterlage 10 abzunehmen. Hierbei brennt die brennbare Schicht oder Folie ab, so daß nur die gedruckte mehrschichtige Anschlußplatte zurückbleibt. Besteht die vorläufige Unterlage 10 aus Mylar (zäher, durchsichtiger, kältebeständiger Polyesterfilm in Folienform aus Äthylenglykol und Terephthalsäure), so wird die sich er-, gebende Platte nach der Abnahme derselben gebrannt. Damit ist die mehrschichtige Anschlußplatte fertig.
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen mehrschichtigen Anschlußplatte können statt des Siebdruckverfahrens auch teilweise oder bei sämtlichen Arbeitsschritten das Fotoätzverfahren und das Vakuumverdampfungsverfahren angewendet werden. Hierbei werden die elektrisch isolierenden Schichten 2, 3 und
4 durch lichtbeständige Filme ersetzt, während die Anschlüsse
5 sowie die Metallschichten 6 und 8 durch Al-Verdampfungsschichten ersetzt werden. Ferner kann die Isolierschicht 4 nach dem Brennen der Anschlußplatte aus einer Kunststoffschicht hergestellt werden.
- 6 -309834/1024
DITTMANN 6CHIFF ν. FONEH STRBHL εΏΐΟΒΕΙ^ΗΟΡΡ EIBBINOHAUS — · —
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren kann die Verbindungsfläche der mehrschichtigen Anschlußplatte flach und sehr genau ausgebildet werden. Damit ergibt sich eine gleichmäßige und enge Verbindung zv/ischen der Ebene und den plättchenseitigen Anschlüssen. Die Zuverlässigkeit der elektrischen Verbindungsteile wird damit verbessert. Ferner können bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die bekannten Techniken angewendet werden. Das erfindungsgemäße Verfahren ist somit sehr wirtschaftlich, so daß die Herstellungskosten gering gehalten werden.
Als Material für die vorläufige Unterlage können anstatt Mylar, Papier und dergleichen auch andere Materialien verwendet werden, beispielsweise Metall.
Patentansprüche
309834/1024

Claims (2)

PATENTANSPRÜCHE
1. Verfahren zur Herstellung mehrschichtiger Anschlußplatten, dadurch gekennzeichnet , daß eine gewünschte Anzahl von Anschlußschichten auf einer vorläufigen Unterlage ausgebildet wird, daß die Oberfläche der vorläufigen Iftiterlage mit einer Schicht aus elektrisch isolierendem Material derart abgedeckt wird, daß ein Teil der Oberfläche jeder Anschlußschicht unbedeckt bleibt, daß eine leitende Ausleitungsschicht für die Anschlußschichten ausgebildet wird, und daß die vorläufige Unterlage entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e η η zeichnet , daß die Oberfläche der vorläufigen Unterlage mit einer ersten Schicht aus isolierendem Material derart überzogen wird, daß ein Teil der Oberfläche jeder Anschlußschicht unbedeckt bleibt, daß eine erste Metallschicht auf der Oberfläche der Schicht aus isolierendem Material gebildet wird, so daß sie mit bestimmten Anschlußschichten verbunden wird, daß eine zweite Metallschicht auf der Oberfläche einer zweiten elektrisch isolierenden Schicht gebildet wird, die die Oberfläche der Schicht aus isolierendem Material derart bedeckt, daß Teile der ersten Metallschicht unbedeckt bleiben, und daß die vorläufige Unterlage vor oder
309834/1024
ORIGINAL INSPECTED
DA-1O316
23Ü3158
nach der Ausbildung einer dritten elektrisch isolierenden Schicht entfernt wird, die die gesamten Oberflächen der zweiten Isolierschicht und der zweiten Metallschicht bedeckt.
30983Λ/1024
ORIGINAL INSPECTED
Lee rse
i te
DE19732303158 1972-01-28 1973-01-23 Verfahren zur herstellung von anschlussplatten Pending DE2303158A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP988172A JPS5517518B2 (de) 1972-01-28 1972-01-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2303158A1 true DE2303158A1 (de) 1973-08-23

Family

ID=11732484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732303158 Pending DE2303158A1 (de) 1972-01-28 1973-01-23 Verfahren zur herstellung von anschlussplatten

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPS5517518B2 (de)
DE (1) DE2303158A1 (de)
FR (1) FR2169227A1 (de)
NL (1) NL7301256A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0130417A2 (de) * 1983-06-30 1985-01-09 International Business Machines Corporation Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Verbindungsaufbaus für ein integriertes Schaltmodul

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5210568A (en) * 1974-12-28 1977-01-26 Hideo Machida Method of manufacturing multilayered printed wiring substrate
JPS52154074A (en) * 1976-06-18 1977-12-21 Fujitsu Ltd Method of producing multilayer alumina substrate
JPS54111670A (en) * 1978-02-22 1979-09-01 Alps Electric Co Ltd Circuit board and method of forming same
EP0074605B1 (de) * 1981-09-11 1990-08-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zum Herstellen eines Substrats für Multischichtschaltung
US4480288A (en) * 1982-12-27 1984-10-30 International Business Machines Corporation Multi-layer flexible film module
JPS6419795A (en) * 1987-07-14 1989-01-23 Midori Mark Seisakusho Kk Flexible printed wiring board with multilayered pattern and manufacture thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0130417A2 (de) * 1983-06-30 1985-01-09 International Business Machines Corporation Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Verbindungsaufbaus für ein integriertes Schaltmodul
EP0130417A3 (en) * 1983-06-30 1986-04-30 International Business Machines Corporation A method of fabricating an electrical interconnection structure for an integrated circuit module

Also Published As

Publication number Publication date
JPS4878470A (de) 1973-10-22
NL7301256A (de) 1973-07-31
JPS5517518B2 (de) 1980-05-12
FR2169227A1 (de) 1973-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3886605T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Mehrschichtsubstrats.
DE60038276T2 (de) Vielschicht-Piezoelement und dessen Herstellungsverfahren
DE60010505T2 (de) Festelektrolytkondensatoren und deren herstellungsverfahren
DE3612084C2 (de)
EP0043001B1 (de) Feuchtigkeitsfühler und Verfahren zu seiner Herstellung
DE4091418C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkondensators
DE2558361A1 (de) Verfahren zum herstellen von durchgehend metallisierten bohrungen in mehrschichtigen keramischen moduln
DE2217538B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Zwischenverbindungen in einer Halbleiteranordnung
DE2843581C2 (de) Elektrischer Schichtkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2843716A1 (de) Schichtaufbau besitzende bzw. laminierte sammelschiene mit eingelassenen kondensatoren
DE1640457B1 (de) Elektrische Verbindungen in Schaltkreisanordnungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1207511B (de) Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1903819A1 (de) Aus Keramik und Metall zusammengesetztes Verbundgebilde
DE60019592T2 (de) Festelektrolytkondensatoren und herstellungsverfahren
DE10296884B4 (de) Herstellung festkörperelektronischer Bauteile
DE2418813A1 (de) Verfahren zur herstellung einer vielzahl von halbleiterchips
DE2059919A1 (de) Transparenter Isolierungswerkstoff fuer den Siebdruck
DE2628327A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von mehrschichtkondensatoren
DE1916789C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer integrierten Mehrschichtschaltung
DE2202520A1 (de) Metall-Isolieraufbau
DE2358495A1 (de) Verfahren zur herstellung von substraten mit verbundenen leiterschichten
DE2303158A1 (de) Verfahren zur herstellung von anschlussplatten
DE3235772A1 (de) Mehrschichtkondensator
DE19609221C1 (de) Verfahren zur Herstellung von keramischen Mehrschichtsubstraten
DE69726056T2 (de) Dielektrische Dickschichtzusammensetzung für Kondensatoren