DE2247977B2 - Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter Schaltungsplatten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter SchaltungsplattenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter
Schaltungsplatten.
Schaltungsplatten, die beidseitig Leitungsmuster tragen, müssen in der Regel mit Durchkontaktierungen
zur Verbindung der beidseitigen Leitungsmuster versehen werden. Dies erfolgt in der Regel in der Form von
Bohrungen, deren Bohrungswände metallisiert werden.
Es sind verschiedene Verfahren zur Metallisierung der Bohrungen bekannt. So wird nach dem sog.
Panelplating-Verfahren (s. Electronic Packaging and Production, Mai 66, S. 20 bis 25) eine doppelseitig
kupferkaschierte Isolierstoffplatte gebohrt, die gesamte Oberfläche einschließlich der Bohrungswandungen
stromlos verkupfert, die Kupferschicht galvanisch verstärkt, hierauf die Oberflächen mit Ausnahme der
Bohrungswände einer galvanischen Abdeckung versehen, die nichtabgedeckten Teile vergoldet und nach
Entfernen der galvanischen Abdeckung unter Verwendung einer Ätzmaske die Leiterbahn geätzt.
Nach dem Patternplating-Verfahren wird ebenfalls eine doppelseitig kupferkaschierte Isolierstoffplatte
gebohrt, stromlos verkupfert, dann jedoch mit einer Galvanikabdeckung versehen, die nur die Bohrungen
freiläßt, hierauf im Bereich der Bohrungen die Kupferschicht verstärkt und mit einer Goldauflage
versehen, sodann wird die galvanikfeste Abdeckung entfernt und unter Verwendung einer Ätzmaske das
Leitungsmuster geätzt.
In der DE-AS 18 12 692 ist ein weiteres Verfahren zur
Herstellung von durchmetallisierten Bohrungen beschrieben, wobei zunächst auf eine doppelseitig
kupferkaschierte Isolierstoffplatte photolithographisch eine Ätzmaske aufgebracht wird, die Ätzmaske
einschließlich den übrigen Teilen der Oberfläche der Isolierstoffplatte durch eine galvanikfeste Lackschicht
abgedeckt wird, im Anschluß daran die Bohrungen hergestellt werden und sodann die Bohrungsinnenwände
durch stromlose Metallabscheidung und nachfolgende galvanische Verstärkung der abgeschiedenen Metallschicht
metallisiert werden und daß nach Entfernen der galvanikfesten Lackschicht die Ätzung der Leiterbahnen
unter Verwendung der Ätzbedeckung erfolgt
Bei den bekannten Verfahren ist es jeweils erforderlich, für die Ätzung der Leiterbahnen und für die
Metallisierung der Bohrungswände zwei verschiedene Abdeckschichten in der Regel lichtempfindliche Photolackschichten
oder -folien zu verwenden. Nachteilig ist ferner, bei einer Reihe dieser Verfahren, daß die
Kupferkaschierungen im Laufe der Metallisierung der Bohrungswände galvanisch verstärkt werden, was
außer einem erhöhten Verbrauch an Kupfer zu stärkerer Unterätzung führt und damit die Herstellung
von Feinstrukturen verhindert.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung doppelseitiger
durchkoijtaktierter gedruckter Feinstruktur-Schaltungsplatten
anzugeben, bei dem nur eine Photoresist-
jo Abdeckung erforderlich ist und wobei ein übermäßiger
Kupferverbrauch durch Abscheidung von Kupfer an unerwünschten Stellen vermieden wird.
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung von mit Leiterbahnen versehenen Schaltungsplatten
mit metallischen Löchern, bei dem auf eine beidseitig kupferkaschierte Isolierstoffplatte beidseitig
eine Kunststoffschicht aufgebracht wird, anschließend die erforderlichen durchgehenden Bohrungen hergestellt
werden, in den Bohrungen stromlos Kupfer
.in abgeschieden und galvanisch verstärkt wird, als
Deckschicht eine ätzresistente Metallschicht niedergeschlagen wird und bei dem das Leiterbild durch einen
Ätzvorgang hergestellt wird und die nicht den Leiterbahnen entsprechenden Teile der Kunststoffschicht
wieder entfernt werden. Die erfindungsgemäße Lösung besteht darin, daß die Kunststoffschichten aus
lichtempfindlichen Kunststoffolien bestehen und daß das Leiterbild durch Belichten in den Kunststoffolien
erzeugt wird und daß ferner die Belichtung und Entwicklung der Kunststoffschichten nach dem Aufbringen
der ätzresistenten Metallschicht auf die Löchermetallisierung erfolgt.
Durch dieses Verfahren wird der Vorteil erreicht, daß die Schaltungsplatten mit nur einer Fotoresistabdekkung
zur Strukturerzeugung und Lochmetallisierung herstellbar sind.
Vorteilhafterweise wird im Bereich der Bohrungen als ätzresistente Metallschicht Gold oder Zinn abgeschieden.
Bei Verwendung positiv arbeitender lichtempfindlich arbeitender Kunststoffolien kann auf einer Plattenseite
die lichtempfindliche Kunststoffolie vor der Herstellung der Bohrungen im Bereich der vorgesehenen Bohrungen
belichtet und entwickelt werden. Die Locher
werden dann in den Öffnungen in der lichtempfindlichen Kunststoffolie gebohrt.
An Hand der Figuren wird im folgenden ein Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutert.
Die F i g. 1 bis 5 zeigen verschiedene Stadien der Herstellung einer doppelseitig durchkontaktierten gedruckten
Schaltungsplatte.
Gemäß Fig. I werden auf eine Isolierstoffplatte, die
beidseitig mit Kupferfolien 2 kaschiert itt, lichtempfindliche
Kunststoffolien 3 aufgebracht. Hierauf wird die Anordnung gemäß Fig.2 mit Bohrungen 4 versehen.
Sodann wird im Bereich der Bohrungen 4 stromlos Kupfer auf den Bohrungswänden 5 niedergeschlagen.
Die niedergeschlagene Kupferschicht 5 wird anschlie-
Bend galvanisch verstärkt und mit einer Goldabdeckschicht 6 versehen. Nun werden die lichtempfindlichen
Folien 3 belichtet mit dem Muster der vorgesehenen Leitungsstruktur und entwickelt Nur an den Stellen, an
denen später Leiterbahnen enistehen sollen, bleibt die lichtempfindliche Folie 3, wie Fig.4 zeigt, bestehen.
Sodann wird gemäß F i g. 5 die Kupferkaschiemng 2 an den nichtabgedeckten Stellen abgeätzt Im Anschluß an
diesen Verfahrensschritt werden die restlichen Teile der lichtempfindlichen Folie 3 entfernt
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung von mit Leiterbahnen versehenen Schaltungsplatten mit metallischen
löchern, bei dem auf eine beidseitig kupferkaschierte Isolierstoffplatte beidseitig eine Kunststoffschicht
aufgebracht wird, anschließend die erforderlichen durchgehenden Bohrungen hergestellt werden, in
den Bohrungen stromlos Kupfer abgeschieden und galvanisch verstärkt wird, als Deckschicht eine
ätzresistente Metallschicht niedergeschlagen wird und bei dem das Leiterbild durch einen Ätzvorgang
hergestellt wird und die nicht den Leiterbahnen entsprechenden Teile der Kunststoffschicht wieder
entfernt werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Kunststoffschichten (3) aus lichtempfindlichen
Kunststoffolien bestehen und daß dis Leiterbild durch Belichten in den Kunststoffolien erzeugt
wird und daß ferner die Belichtung und Entwicklung der Kunststoffschichten nach dem Aufbringen der
ätzresistenten Metallschicht (6) auf die Löchermetallisierung erfolgt
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich der Bohrungen als
ätzresistente Metallschicht Gold abgeschieden wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich der Bohrungen als
ätzresistente Metallschicht Zinn abgeschieden wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine positiv arbeitende
lichtempfindliche Kunststoffolie verwendet wird und daß auf einer Plaiienseite die lichtempfindliche
Kunststoffolie vor der Herstellung der Bohrungen im Bereich der vorgesehenen Bohrungen belichtet
und entwickelt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722247977 DE2247977B2 (de) | 1972-09-29 | 1972-09-29 | Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter Schaltungsplatten |
Applications Claiming Priority (1)
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DE19722247977 DE2247977B2 (de) | 1972-09-29 | 1972-09-29 | Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter Schaltungsplatten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2247977A1 DE2247977A1 (de) | 1974-04-11 |
DE2247977B2 true DE2247977B2 (de) | 1979-02-08 |
Family
ID=5857828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722247977 Withdrawn DE2247977B2 (de) | 1972-09-29 | 1972-09-29 | Verfahren zur Herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter Schaltungsplatten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2247977B2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3121131A1 (de) * | 1981-05-27 | 1983-06-01 | AEG-Telefunken Nachrichtentechnik GmbH, 7150 Backnang | Verfahren zur herstellung von mit leiterbahnen versehenen schaltungsplatten mit metallischen durchkontaktierungen |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2835017C2 (de) * | 1978-08-10 | 1986-10-30 | Telefonbau Und Normalzeit Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Überspannungsableitern |
US4303798A (en) * | 1979-04-27 | 1981-12-01 | Kollmorgen Technologies Corporation | Heat shock resistant printed circuit board assemblies |
JPS56129394A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-09 | Dainippon Screen Mfg | Method of producing through hole of printed board |
EP0639043A1 (de) * | 1993-08-10 | 1995-02-15 | Siemens Nixdorf Informationssysteme AG | Verfahren zur Herstellung von durchkontaktierten Leiterplatten mit sehr kleinen Lötaugen |
-
1972
- 1972-09-29 DE DE19722247977 patent/DE2247977B2/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
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DE3121131A1 (de) * | 1981-05-27 | 1983-06-01 | AEG-Telefunken Nachrichtentechnik GmbH, 7150 Backnang | Verfahren zur herstellung von mit leiterbahnen versehenen schaltungsplatten mit metallischen durchkontaktierungen |
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DE2247977A1 (de) | 1974-04-11 |
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