DE2247821A1

DE2247821A1 - Aufschmelzwalze und verfahren zu ihrer herstellung

Info

Publication number: DE2247821A1
Application number: DE19722247821
Authority: DE
Inventors: John R Baker; Edward G Williams
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1971-10-06
Filing date: 1972-09-29
Publication date: 1973-04-12
Also published as: AU4746972A; DE2247821C3; ZA727133B; DE2247821B2; AT335842B; US3776760A; ATA855072A; CA990149A; JPS5317062B2; GB1410025A; CH597633A5; BE789728A; AU465141B2; JPS4846340A

Description

Patentanwälte

Dipl.-Ing. Λ. Crünecker

Dr.-Inn. H, Kinkoldey

Dr.-Ing. W. Stockmair

8 München 22, Maxiinilianstr. 43 224782 1

29. Sep. OT P 5310

XEROX CORPORATION

Xerox Square

Rochester, New York 14605

USA .

Aufschmelzwalze und Verfahren zu ihrer Herstellung

Die Erfindung betrifft eine Aufschmelzwalze (fuser. roll) mit einem Überzug aus einem Tetrafluoräthylenpolymerisat für die Verwendung in einer xerographischen"Vervielfältigungsvorrichtung zum: Fixieren eines Pulverbildes auf Harzbasis auf einer Irägeroberfläche, auf der das Pulverbild lose haftet, sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung.

Die vorliegende Erfindung ist zwar allgemein anwendbar, sie ist Jedoch mit besonderem Vorteil anwendbar auf dem Gebiet der Xerographie und eine wichtige Anwendung besteht darin, daß es mit Hilfe der. erfindungsgemäßen Walze möglich ist, ein elektrophotοgraphisch oder xerographisch erzeugtes Harzpulverbild auf ein Blatt Papier oder dgl. aufzuschmelzen, auf welches das Pulverbild übertragen worden ist, nachdem es durch Ablagerung eines Pulvers auf einem latenten elektrostatischen Bild erzeugt worden ist. Die Erfindung wird daher nachfolgend der Einfachheit

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halber an Hand ihrer Verwendung zum Aufschmelzen von xerographischen Pulverbildern unter Einwirkung von Wärme näher erläutert» Selbstverständlich kann sie aber auch auf anderen Gebieten angewendet werden.

In dem xerographischen Verfahren, wie es beispielsweise in der US-Patentschrift 2 297 691 beschrieben ist, wird eine xerographische Platte, die eine Schicht aus einem photokonduk-■feiven isolierenden Material auf einer elektrisch leitfähigen Unterlage aufweist, auf ihrer gesamten Oberfläche mit einer gleichförmigen elektrischen Ladung versehen und dann der zu reproduzierenden Vorlage exponiert, in der Regel unter Anwendung üblicher Projektionstechniken, Durch diese Belichtung werden bestimmte Bereiche der Platte entsprechend der auf-■fereffenden Strahlungsintensität entladen und dadurch entsteht ein latentes elektrostatisches Bild auf oder in der photokon-(Jtaktiven Schicht. Die Entwicklung des latenten Bildes erfolgt mit einem elektrostatisch aufgeladenen, feinen Entwicklungsmaterial oder Toner, das bzw. der mit der photokonduktiven Schicht in Oberflächenkontakt gebracht und entsprechend dem latenten elektrostatischen Bild in Form eines Musters elektrostatisch darauf festgehalten wird. Danach wird das entwickelte xerographische Pulverbild gewöhnlich auf eine Trägeroberfläche, "beispielsweise Papier, übertragen, auf der es in geeigneter Heise fixiert werden kann. '

Eine der Methoden, die gewöhnlich zum Entwiekeln des latenten elektrostatischen Bildes angewendet werden ,ist in der US-Patentschrift 2 618 551 beschrieben und sie ist bekannt unter der Bezeichnung "Kaskadenentwicklung", die im allgemeinen für die Entwicklung von Strichkopien verwendet wird. Bei dieser Methode wird das Pulver oder der Toner mit einem körnigen "Trägermaterial" gemischt und dieser Zweikomponenten-Entwickler wird auf die Plattenoberfläche gegossen od,er rieseln gelassen. Die

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Funktion des Trägermaterials besteht darin, die Fließeigenschaften des Pulvers zu verbessern und auf dem Pulver durch Triboelektrifizierung eine geeignete elektrische Ladung zu erzeugen, so daß das Pulver von dem Bild angezogen wird. Die Funktion des Trägermaterials besteht genauer gesagt darin, eine mechanische Kontrolle des Pulvers zu bewirken oder das Pulver auf eine Bildoberfläche zu übertragen und gleichzeitig die Polarität homogen zu machen.

In der US-Patentschrift 2 297 691 ist angegeben, daß zum Entwickeln von latenten elektrostatischen Bildern die verschiedensten Typen von feinen elektroskopischen Pulvern verwendet werden können. Mit der fortschreitenden Entwicklung der Xerographie wurde jedoch gefunden, daß Strichkopierbilder vorzugsweise mit einem Pulver oder Toner entwickelt werden, der aus einer Vielzahl von pigmentierten thermoplastischen Harzen gebildet wird, die für diesen Zweck,speziell entwickelt worden sind. Eine Reihe dieser Entwicklungsmaterialien ist im Handel erhältlich und diese Entwickluiigsmaterialien werden spezifisch compoundiert (zubereitet) zur Erzeugung von dichten Bildern mit einer hohen Auflösung und zur Erzielung solcher Eigenschaften, welche die bequeme Lagerung und Handhabung erlauben. Diese Entwicklungsmaterialien werden so compoundiert, daß sie auf der Oberfläche eines tJbertragungsmaterials fixiert werden können, entweder durch Wärmefixierung oder durch Dampffixierung,je nach dem speziellen Zweck, zu dem sie verwendet werden, d.h. die einzelnen Harzpartikel (Tonerpartikel) werden weich und koaleszieren, wenn sie erhitzt werden oder sie v/erden durch ein Lösungsmittel weich gemacht, so daß sie klebrig werden und leicht an der Oberfläche des tJbertragungsmaterials haften.

Der hier verwendete Ausdruck "klebrig gemacht" und die verschiedenen Varianten dieses Ausdruckes bezeichnen den Zustand der Pulverpartikel des xerographischen Pulverbildes,· wenn dieses erhitzt oder durch ein Lösungsmittel in der Weise weich gemacht

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wird, daß die einzelnen Partikel weich werden und koaleszieren, wodurch sie klebrig werden und leicht auf anderen Oberflächen haften. Obwohl dieser Zustand notwendigerweise ein Zusammenfließen der Partikel bedingt, um ein vollständiges Verschmelzen derselben zu bewirken, ist der Grad dieser Fließfähigkeit natürlich nicht so groß, daß sie über die Grenze des Musters, das durch die Partikel gebildet wird, hinausfließen.

Eine der wichtigen Anwendungen des xerographischen Verfahrens ist seine Verwendung in automatischen Kopiervorrichtungen für allgemeine Bürozwecke, in denen die auf einer xerographischen Platte erzeugten Pulverbilder auf Papier übertragen und dann auf diesem durch Aufschmelzen unter der Einwirkung von Wärme fixiert werden. Um Harzbilder, die aus den derzeit üblicherweise verwendeten Harzpulvern gebildet werden, aufzuschmelzen, müssen das Pulver und das Papier, auf welches sie aufgeschmolzen vtrerden sollen, auf eine verhältnismäßig hohe Temperatur, beispielsweise von etwa 163⁰C (325⁰F) erhitzt'werden. Es ist jedoch unzweckmäßig, die Temperatur des Papiers auf einen Γ/ert von wesentlich mehr als 190⁰G (375°F) zu erhöhen, weil dann das Papier die Neigung hat, sich bei solchen hohen Temperaturen zu verfärben.

Es ist seit langem bekannt, daß eine der schnellsten und vorteilhaftesten Methoden zum Aufbringen von Wärme zum Aufschmelzen des Pulverbildes auf Papier darin besteht, das Pulverbild in direkten Kontakt mit einer heißen Oberfläche, beispielsweise einer erhitzten flachen Platte, zu bringen. Da jedoch das Pulverbild durch die Wärme klebrig wird, klebt ein Teil des Bildes auf dem Trägermaterial an der Oberfläche der erhitzten Platte, so daß dann, wenn das nächste Blatt auf die erhitzte Platte gelegt wird, das von dem ersten Blatt teilweise entfernte klebrig gemachte Bild teilweise auf das nächste Blatt übertragen wird und gleichzeitig ein Teil des klebrig gemachten Bildes des nächsten Blattes an der erhitzten Platte haftet. Dieses Ver-

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fahren wird in der Kopiertechnik allgemein als "Offset"-Verfahren·bezeichnet.

Die Übertragung des Toners auf die Heizoberfläche führte zur Entwicklung von verbesserten Methoden und Vorrichtungen zum Aufschmelzen des Tonerbildes, insbesondere dem in der US-Patentschrift 3 268 351 beschriebenen Verfahren und der darin beschriebenen Vorrichtung. Die Tonerbilder wurden aufgeschmolzen, indem man das das Bild tragende Blatt oder Band aus Papier .zwischen zwei beheizten Walzen hindurchführte, wobei die mit dem Bild in Kontakt stehende Walze mit einem dünnen Überzug aus einem Tetrafluoräthylenharz und einem Siliconölfilm versehen war, um die Tonerübertragung (Tonermitnahme) zu verhindern. Das Tetrafluoräthylenharz wird unter der Handelsbezeichnung "Teflon" von der Eirma E.I. DuPont De Nemours & Co. vertrieben. Sowohl das Tetrafluoräthylenharz als auch das SiIiconöl weisen solche physikalischen Eigenschaften auf, daß sie gegenüber trockenen oder klebrig gemachten xerographischen Entwicklungsmaterialien im wesentlichen "abhesiv '-' sind. Der Ausdruck "abhesiv" ist eine neue, von der Dow Corning Corporation in erster Linie in Verbindung mit ihrem Silicon geprägte Wortschöpfung, die eine Oberfläche beschreiben soll, die "Trenn"-Eigenschaften aufweist, so daß sie stark abweissend ist. für klebrige oder klebende Substanzen.

Obwohl die Verwendung einer mit einem Tetraflucräthylenharz beschichteten Walze in einer xerographischen Eeproduktionsvorrichtung einen großen Fortschritt darstellte, traten im Hinblick auf die mit Harz beschichtete Walze selbst bestimmte Probleme auf. So ist es beispielsweise bei dem üblichen Verfahren zur Herstellung der mit Harz beschichteten Walzen erforderlich, zur Erzielung einer ausreichenden Harzdicke auf der Oberfläche der V/alze mehrere Harzschichten aufzubringen_o Dies führt häufig zu Harzüberzügen, die hinsichtlich ihrer Dicke nicht homogen sind und bei denen gelegentlich eine Blasenbildung auftritt. Deshalb war die Dauerhaftigkeit von bestimmten mit

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Harz beschichteten Walzen etwas geringer als erwünscht· Außerdem ist das bisher angewendete Verfahren zur ■ Herstellung von mit Harz beschichteten Walzen ein langwieriges Verfahren, bei dem die beschichteten Walzen nacheinander bei hohen Temperaturen gesintert bzw. gehärtet werden müssen.

Hauptziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, die Herstellung von mit einem Fluorkohlenstoffharz, z.B. Tetrafluoräthylenharz ,beschichteten Walzen zu verbessern zur Erzielung einer homogenen Dicke der Harzschicht darauf und zur Vermeidung der Blasenbildung. Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine mit Tetrafluoräthylenharz beschichtete Walze mit einer größeren Dauerhaftigkeit anzugeben. Noch ein anderes Ziel der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung von mit Harz beschichteten Walzen anzugeben, das einen besseren Wirkungsgrad aufweist und wirtschaftlicher ist.

Diese und andere Ziele der Erfindung werden dadurch erreicht, daß man auf die Walze nacheinander dünne tJberzüge aus einem Tetrafluoräthylenschmelzfilm aufbringt und zwischen federn Auftrag die mit dem Film beschichtete Walze auf eine Temperatur von nicht mehr als 82°0 (180⁰F) erhitzt, um so den größten Teil des in dem Film enthaltenen Wassers und Lösungsmittels abzudampfen. Wenn die gewünschte Dicke des Überzugs erreicht ist, werden die beschichteten Walzen einer Temperatur von 440 bis 4-82⁰C (825 bis 900⁰F), vorzugsweise von 388 bis 399⁰C (730 bis 75O⁰F),ausgesetzt, um den Tetrafluoräthylenharzüberzug zusammenzuschmelzen. Dies steht im Gegensatz zu dem bisher angewendeten Verfahren, bei dem die Walzen nach dem Aufbringen Jeder dünnen Tetrafluoräthylenüberzugsschicht auf die Schmelztemperatur erhitzt wurden.

Gegenstand der Erfindung ist eine Aufschmelzwalze (fuser roll) mit einem Überzug aus einem Tetrafluoräthylenpolymerisat für die Verwendung in einer xerographischen Vervielfältigungsvorrichtung zum Fixieren eines Pulverbildes auf Harzbasis auf einer

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Trägeroberflache, auf der das Pulverbild lose haftet, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie einen durch einmaliges Aufschmelzen aufgebrachten Überzug aus einem Fluorkohlenstoff-Polymerisat eino? Dicke von mindestens 0,0762 mm (3 mils) aufweist.

Gegenstand der Erfindung.ist ferner ein Mehrstufenverfahren zur Herstellung der vorstehend gekennzeichneten Aufschmelzwalze, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man (a) einen Tetrafluoräthylengrundierüberzug aufbringt, (b) die mit dem Grundierüberzug versehene Walze auf eine Temperatur erhitzt, die ausreichend hoch ist, um die Grundiermasse zu schmelzen, (c) einen dünnen Überzug aus einer Tetrafluoräthylengla-sierflüssigkeit aufbringt, (d) die mit der Glasur überzogene Walze durch eine Temperaturzone von nicht mehr als 82°C (18O°P) hindurchführt, um das Wasser und das Lösungsmittel schnell abzudampfen, die Stufen (c) und (d) so lange wiederholt, bis man die gewünschte Dicke des Tetrafluoräthylenüberzugs auf der Walze erreicht hat, und (e) die beschichtete Walze auf eine hohe Temperatur in einer solchen Größenordnung erhitzt, daß der Überzug zusammenschmilzt .

Das erfindungsgemäße Verfahren stellt ein Verfahren dar, mit dessen Hilfe es möglich ist, durch einmaliges Aufschmelzen Tetrafluoräthylenharzüberzüge auf xerοgraphische Aufschmelzeinrichtungen aufzubringen. Der dabei erhaltene Überzug stellt eine homogene Schicht dar, bei der keine Blasenbildung auftritt. Ein anderer Vorteil, der sich bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ergibt, ist der, daß die Tetrafluoräthylengrundierschicht, die vor dem Aufbringen der Tetrafluoräthylenglasur (enamel) auf die Walze aufgetragen werden muß, bei Temperaturen gehärtet werden kann, die beträchtlich niedriger liegen als bisher_o

Es ist wichtig, daß die Oberfläche der Walze vor dem Aufbringen der Tetrafluoräthylengrundierschicht in geeigneter Weise prä-

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pariert wird. Die Oberfläche sollte sauber und frei von Fettsubstanzen sein. Außerdem v/ird die Haftung der Grundier schicht verbessert, wenn die Oberfläche gleichförmig etwas aufgerauht worden ist. Verfahren für die richtige Präparierung der Oberfläche, beispielsweise durch Lösungsmittelreinigung, Behandlung mit einem Sandstrahlgebläse, chemisches Ätzen, Schleifen mit Sandpapier usw.,sind an sich bekannt.

Nachdem die Oberfläche der Walze in geeigneter Weis,e präpariert worden ist, wird die Tetrafluoräthylengrundierschicht aufgetragen. Es ist eine Reihe von Grundiersubstanzen im Handel erhältlich, besonders geeignet für die Verwendung für Aufschmelzwalzen in einer xerographischen Reproduktionsvorrichtung ist Teflon® 850-204 der Firma DuPontl Es wird eine Schicht des Grundiermaterials aufgebracht und ihre Dicke sollte etwa 0,0076 mm (0,3 mils) und nicht mehr als 0,178 mm (0,7 mils) betragen. Der Grundierfilm, der eine Flüssigkeit darstellt, kann entweder manuell oder vorzugsweise automatisch durch Luftzerstäubung aufgebracht werden.

Der flüssige Grundierfilm enthält in der Regel 30 bis 50 % ' Wasser und andere flüchtige Materialien. Vor dem Härten des Filmes ist eine Trocknungsstufe erforderlich. Diese muß bei einer Temperatur von 82°C (180⁰F) oder darunter durchgeführt werden und die Trocknung erfolgt vorzugsweise durch Lufttrocknung. Die Trocknungsstufe kann auch bei Raumtemperatur durchgeführt werden, indem man die beschichteten Walzen 10 bis 15 Minuten lang bei niedrigen Feuchtigkeitsbedingungen stehen läßto Nach Beendigung der Trocknung werden die Walzen gewöhnlich einer Sinterungstemperatur (Brenntemperatur) von etwa 385 bis etwa 427°C (725 bis 800⁰F) ausgesetzt, um die Tetrafluoräthylengrundiermasse zu schmelzen. Es ist wichtig, diese hohen Temperaturen anzuwenden, wenn beim Aufbringen der Tetrafluroäthylenglasur ein Mehrfachschmelzprozeß angewendet

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wird. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird jedoch "beim Aufbringen der Tetrafluoräthylenglasur nur eine Einfachschmelzstufe angewendet. Unter diesen Umständen kann das Sintern (Brennen) des Tetrafluoräthylengrundierüberzugs bei einer beträchtlich niedrigeren Temperatur, nämlich bei etwa 204⁰C (400 F) über einen Zeitraum von 20 Minuten oder bei etwa 232 bis etwa 260⁰C (450 bis 500⁰I) über einen Zeitraum von 10 Minuten durchgeführt werden. Die Anwendung dieser beträchtlich niedrigeren Temperaturen ist einer der Hauptvorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens. Außer diesem offensichtlichen Vorteil in bezug auf Kosteneinsparungen, der aus der Durchführung des Verfahrens bei niedrigeren Temperaturen resultiert, besteht erfindungsgemäß keine Gefahr, daß der Grundierüberzug übermäßig gebrannt wird und man läuft nicht Gefahr, daß die Haftung des Zwischenüberzugs nach dem Aufbringen der Glasur schlecht ist.

Das Aufbringen der Tetrafluorathylenglasurüberzüge wird auf analoge Weise wie das Aufbringen des Grundierüberzugs durchgeführt. Für die Zwecke der vorliegenden Erfindung müssen "gut auftragende" Tetrafluoräthylenschmelzglasuren von DuPont verwendet v/erden. Dabei handelt es sich um Substanzen, die in Stärken von bis zu etwa 0,0635 his etwa 0,076 mm (2,5 bis 3,0 mils) aufgetragen werden können, ohne daß die Gefahr der "Mu d-Rißbildung'<mud cracking) auftritt. Bei der "Mud-Rißbildung" handelt es sich um ein Phänomen, das auftritt, wenn ein feuchter Glasurfilm zu dick ist und die Teilchen beim Trocknen als Folge der Schrumpfung auseinandergerissen werden. Besonders geeignet für die Verwendung für Walzen in xerogra- ' phischen Reproduktionsvorrichtungen ist Tef loir-^ 851 - 224. Bei der praktischen Durchführung der Erfindung sollte jeder Überzug eine Trockenfilmstärke von etwa 0,0152 bis etwa 0,0229 mm (0,6 bis 0,9 mils) aufweisen.

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Nach dem Aufbringen jedes Tetrafluoräthylenglasurüberzugs wird die Walze einer Temperatur von nicht mehr als 82 G (180⁰F), vorzugsweise von 66 bis 82°C (I50 bis 180⁰F), ausgesetzt, um den Hauptanteil des in dem Film enthaltenen Wassers und der sonstigen flüchtigen Materialien schnell abzudampfen. Dies erfolgt zweckmäßig in der Weise, daß man die beschichtete Walze in eine Trocknungszone einführt, welöhe die erforderliche Temperatur aufweist. Nach Beendigung des Trocknens sollte man die beschichtete Walze vor dem Aufbringen des nächsten Glasurüberzugs bis fast auf Raumtemperatur abkühlen lassen. Bei einer Trocknungstemperatur von 82⁰C (18O⁰F) verstreichen etwa 7 bis 10 Minuten zwischen den aufeinanderfolgenden Beschichtungsvorgangen.

Bei dem bisher durchgeführten Verfahren wurden die mit einem Tetrafluoräthylenglasurüberzug versehenen Walzen nach jeder Beschichtungs- und Trocknungsstufe in einen Ofen gebracht und auf eine hohe Temperatur (385 bis 427°C (725 bis 800⁰F)) erhitzt, um den Glasurüberzug zusammenzuschmelzen. Bei der Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind diese wiederholten Sinterungsstufen nicht erforderlich.

Es wurde festgestellt, daß die optimale Stärke des Tetrafluoräthylenharzüberzugs auf Walzen, wie sie in einer xerographischen Reproduktionsvorrichtung verwendet werden, zwischen etwa 0,0381 und etwa 0,1524 mm (1,5 bis 6 mils) liegt. Wenn diese Stärke durch aufeinanderfolgende Beschichtungs- und Trocknungsstufen erreicht worden ist, wird die beschichtete Walze dann einer Schmelztemperatur von etwa 440 bis etwa 482⁰C (825 bis 900⁰F), vorzugsweise von etwa 388 bis etwa 399°C (730 bis 75O⁰F)₁ ausgesetzt. Die Schmelzzeit beträgt etwa 10 bis 20 Minuten.

Das folgende spezifische Beispiel erläutert das erfindungsgemiiße Verfahren und die erfindungsr;emäße Vorrichtung. Es dient nur

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Illustrationszzwecken und die Erfindung ist darauf natürlich nicht beschränkt.

Beispiel

Auf einem sich bewegenden Förderband wurden Aufschmelzwalzen für eine xerographische Vervielfältigungsvorrichtung befestigt, die mit einem Teflonr-^ 850-204~Grundierüberzug versehen und bei einer Temperatur von 24-6⁰C (475°F) gesintert worden waren. Sie wurden dann durch eine Sprühanlage vorbei an einer Sprühpistoleneinrichtung geführt, durch welche ein Überzug aus einer Teflon^ 851-224-Schmelzglasur mit einer Trockenfilmstärke von 0,0229 mm (0,9 mils) aufgebracht wurda Nach etwa 1 1/2 Minuten wurden die Walzen durch eine Abdampfzone geführt, in der sie warmer,trockener luft einer Temperatur von 82⁰C (180⁰F) ausgesetzt wurden. Die flüchtigen Lösungsmittel und etwa 7° % des Wassers in dem Überzugsfilm wurden bei dieser Behandlung entfernt. Die Fördefgeschwindigkeit wurde so eingestellt, daß die mit dem Teflon® 851-224-Überzug besprühten Teile nach etwa 10 Minuten erneut vor die ^öprühpistolen kamen. Der Besprühungs- und Trocknungscyclus wurde noch viermal durchgeführt, bis ein Film einer Dicke von etwa 0,137 mm (5^ mils) erhalten worden war. Dann wurden die Walzen herausgenommen, in Körbe gelegt und in einem Sinterofen bei einer Temperatur von etwa 77°C (17O⁰F) luftgetrocknet. Nach Beendigung dieser Lufttrocknung wurden die beschichteten Walzen sofort in einen Schmelzofen eingeführt, in dem die Temperatur bei etwa 393°C (740⁰F) gehalten wurde. Die Walzen wurden 15 Minuten lang dieser Temperatur ausgesetzt. Es wurde festgestellt, daß sie einen dauerhaften,nicht-laminaren Überzug aufwiesen.

Die Erfindung wurde zwar vorstehend an Hand spezifischer Ausführung sformen näher erläutert, es ist jedoch klar, daß sie darauf nicht beschränkt ist.

Patentansprüche: 3 0 9 8 15/10 &5 - "

Claims

22Λ7821

Patentansprüche

(1. Aufschmelzwalze mit einem Oberzug aus einem Tetrafluorathylenpolymerisat für die Verwendung in einer xerographiechen Vervielfältigungsvorrichtung zum Fixieren eines Pulverbildes auf Harzbasis auf einer Trägeroberfläche, auf der das Pulverbild lose haftet, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen durch einmaliges Aufschmelzen aufgebrachten überzug aus einem Fluorkohlenstoff polymerisat einer Dicke von mindestens 0,0381 mm Ov>mils) aufweist.
2. Aufschmelzwalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen überzug einer Dicke von bis zu etwa 0,1524 mm (6 mils) aufweist.
3. Verfahren zur Herstellung einer mit einem Tetrafluoräthylenpolymerisat beschichteten Aufschmelzwalze nach Anspruch und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man

(a) auf die Oberfläche der Walze einen TetrafluoräthylengrundierÜberzug aufbringt,

(b) die mit dein Grundierüberzug versehene Walze erhitzt, bis der Grundierüberzug gesintert ist,

(c) auf die Oberfläche der Walze eine flüssige Tetrafluoräthylenschmelzglasur in einer Dicke von etwa 0,0152 bis etwa 0,0229 mm (0,6 bis 0,9 mils) aufbringt,

(d) die Walze auf eine Temperatur von nicht mehr als 82⁰C (180⁰F) erhitzt, um Wasser und Lösungsmittel abzudampfen,

(e) weitere flüssige Tetrafluoräthylenschmelzglasurüberzüge in einer Diclco von etwa 0,0152 bis etwa 0,0229 mm (0,6 bis 0,9 mils) aufbringt und die Walze nach jeder Beschichtung auf eine Temperatur von nicht mehr als 82⁰C (180⁰F) erhitzt, bis die gewünschte Dicke des Tetrafluoräthylenüberzugs auf der Oberfläche der Walze erreicht ist, und

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(f ) die beschichtete Walze auf eine Temperatur von etwa 385 bis etwa 427°C (725 bis 800⁰F) erhitzt,' bis der Tetrafluorathylenüberzug vollständig geschmolzen ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß in der Stufe (a) ein Tetrafluoräthylengrundierüberzug

einer Dicke von etwa 0,0076 bis etwa 0,0178 mm (0,3 bis 0,7 mils) aufgebracht wird, daß die mit dem Grundierüberzug versehene Walze in der Stufe ' (b) auf eine Temperatur von etwa 232 bis etwa 260⁰G (450 bis 500⁰F) erhitzt wird, bis der Grundierüberzug geschmolzen ist, daß die Walze in der Stufe (d) zum Abdampfen des V/assers und des Lösungsmittels auf eine Temperatur von etwa 66 bis etwa 82⁰C (I50 bis 18O⁰F) erhitzt wird, daß in der Stufe (e) die Walze nach jeder Beschichtung auf eine Temperatur zwischen etwa 66 und etwa 82⁰O (150 bis 180⁰F) erhitzt wird, bis die Oberfläche der Walze einen bis zu etwa 0,1524- mm (6 mils) dicken Tetrafluorathylenüberzug aufweist und daß in der Stufe (f) die beschichtete Walze auf eine Temperatur von etwa 388 bis etwa 399°O (730 bis 75O⁰F) erhitzt wird, bis der Tetrafluoräthylenüberzug vollständig geschmolzen ist.
5» Verfahren nach Anspruch 3> dadurch gekennzeichnet, daß in der Stufe (a) auf die Oberfläche der Walze ein Tetrafluoräthylenpolymerisatgrundierüberzug einer Dicke von etwa 0,0127 mm (0,5 mils) aufgebracht wird, daß in der Stufe (b) die mit dem Grundierüberzug versehene Walze 10 Minuten lang auf eine Temperatur von etwa 232 bis etwa.260⁰C (45Ο bis 500⁰F) erhitzt wird, bis der Grundierüberzug gesintert ist, daß in der Stufe (d) die Walze auf eine Temperatur von etwa. 77 bis etwa 82⁰C (170 bis 180⁰F) in trockener Luft erhitzt wird, um das Wasser und das Lösungsmittel abzudampfen, daß in der Stufe (e) die Walze zwischen den aufeinanderfolgenden BeSchichtungen auf eine Temperatur von etwa 77 bis etwa 82°G (I70 bis 180⁰F)

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erhitzt wird, bis auf der Oberfläche der Walze ein bis zu etwa 0,1524 mm (6mils) dicker Tetrafluoräthylenüberzug erreicht ist, daß die beschichtete Walze in Luft bei einer Temperatur zwischen etwa 74 und etwa 8O⁰C (165 bis 175⁰I¹) getrocknet wird und daß in der Stufe (f) die beschichtete Walze etwa 10 bis etwa 20 Minuten lang auf eine Temperatur von etwa 388 bis etwa 399°C (730 bis 75O⁰F) erhitzt wird, bis der Tetrafluoräthylenpolyiiierisatüberzug vollständig geschmolzen ist.
6. Verwendung der Aufschmelzwalze nach Anspruch 1 und/oder 2 in einer xerographisehen Vervielfältigungsvorrichtung, die zwei parallel zueinander gelagerte Walzen aufweist, durch welche ein das Bild tragendes Blatt Papier geführt wird, als diejenige der beiden Walzen, die mit dem Bild in Kontakt steht.

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