DE2240853A1 - Verfahren zum verbinden einer zur herstellung einer leiterplatte geeigneten metallschicht mit einer biegsamen dielektrischen unterlage - Google Patents
Verfahren zum verbinden einer zur herstellung einer leiterplatte geeigneten metallschicht mit einer biegsamen dielektrischen unterlageInfo
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Description
PATENTANWALT DIPL.-ING. E. WEINTRAUD, C FRANXFURTVMaIN i, MAINZER LANDSTRASSE 134-146
ium.: Buckbee-Mears Company
St. Paul /USA ■
Verfahren zum Verbinden einer zur Herstellung einer Leiterplatte geeigneten Metallschicht mit einer
biegsamen dielektrischen Unterlage
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden
einer zur Herstellung einer Leiterplatte geeigneten Metallschicht mit einer biegsamen dielektrischen
Unterlage. Es ist bekannt, biegsame Leiterplatten durch Aufwalzen einer Metallfolie, z.B. einer Kupferfolie,
auf eine biegsame dielektrische Unterlage herzustellen. Die Unterlage kann aus einem dielektrischen
Film bestehen, der mit einem geeigneten Kleber bezogen ist, um die Metallfolie, festzuhalten. Auch
ist es bekannt, thermoplastische Unterlagen, wie solche aus Polyethylen zu verwenden, an denen die
Metallfolie unter Anwendung von Hitze befestigt wird.
Auch sind biegsame dielektrische Unterlagen auf Kunstharzbasis bekannt, an denen die Kupferfolie während
des Trocknens der Unterlage gebunden wird..
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mittels eines
neuen Verfahrens zur Verbindung einer Metallschicht
mit einer biegsamen dielektrischen Unterlage eine biegsame Leiterplatte zu schaffen, bei welcher die
elektrischen Leiter fester als bisher mit der dielektrischen Unterlage verbunden sind. Diese Aufgabe wird
gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die auf einer Basis liegende Metallschicht zusammen mit dieser ausreichend
lang in ein Oxydationsbad eingebracht wird,
309820/0898
so daß sich eine dünne Oxydschicht auf der freien !fläche der Metallschicht bildet, daß nach Waschen
und Trocknen der Anordnung eine biegsame dielektrische
Unterlage mit der oxydierten Fläche der Metallschicht verbunden wird und daß diese Unterlage mit der mit
ihr verbundenen Metallschicht von der Basis abgezogen wird. Da alle bekannten biegsamen dielektrischen
Unterlagen chemische Verbindungen enthalten, welche Wasserstoffatome aufweisen, kann die Festigkeit der
Verbindung zwischen der Metallschicht und der Unterlage dadurch erhöht werden, daß die Metallschicht einem
starken alkalischen Bad unterworfen wird, welches labilen Sauerstoff enthält, so daß eine sehr dünne
Schicht von Sauerstoffatomen auf der Oberfläche der Metallschicht gebildet wird. Biese Sauerstoffatome
bilden schwache chemische Verbindungen mit den Wasserstoff atomen der dielektrischen Unterlage, welche in der
chemischen Technik allgemein als Wasserstoffverbindungen
bezeichnet werden. Infolge dieser chemischen Verbindungen wird die Metallschicht, auf der später in
bekannter Weise elektrische Leitungszüge geformt werden, fester mit der biegsamen dielektrischen Unterlage verbunden
als dies in den bekannten Verfahren der Fall war.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt.
Die Figuren 1, 2, 3 und 4 zeigen die wesentlichen
Verfahrensschritte für die Befestigung einer Metallschicht
an einer dielektrischen Unterlage.
In Fig. 1 ist eine geeignete Basisplatte 10 dargestellt, auf deren oberer Fläche eine Metallschicht 12 galvanisch
oder auf andere Weise niedergeschlagen ist. Die Basis kann auch aus rostfreiem Stahl, Nickel oder einem anderen
-3-3098 2 0/0898
Material bestehen und kann einen Rand 14 an den Stellen aufweisen, die nicht von der Metallschicht
bedeckt werden sollen. Die Metallschicht 12 besteht im allgemeinen aus Kupfer, obwohl auch andere leitfähige
Metalle verwendet werden können.
Die Basisplatte 10 mit der Metallschicht 12 werden in
ein geeignetes Bad 18 eingetaucht, welches eine starke alkalische Lösung mit labilem Sauerstoff enthält, um die Oberfläche der Metallschicht 12 leicht
zu oxydieren. Mit beachtlichem Erfolg wurden Lösungen
von Sodium hypochlorit oder Ammonium persulfat verwendet.
Es ist wesentlich, daß eine sehr dünne Schicht von
Sauerstoffatomen auf der freien Oberfläche der Metallschicht 12 gebildet wird, welche vorzugsweise, die
Dicke einer mono-molekularen Schicht von Sauerstoffatomen besitzt. Diese Sauerstoffatome haben die Eigenschaft,
schwache chemische Verbindungen oder Wasserstoffverbindungen mit den Wasserstoffatomen des
Materials zu bilden, welches als dielektrische Unterlage im allgemeinen verwendet wird. Diese Materialien können
Thermoplaste oder Kunstharzplaste sein, welche in ihrer chemischen Zusammensetzung einen Überschuß an Wasserstoff
atomen besitzen. Die Badbehandlung muß nicht zu lange ausgedehnt werden und darf nicht bei zu.hoher
Temperatur durchgeführt werden, da die Oxydation sonst
soweit getrieben wird, daß mehr als eine mono-molekulare
Schicht entsteht. Eine dickere Oxydationsschicht würde schwächere Verbindungen erzeugen als diese mit einer
mono-molekularen Schicht zu erhalten sind und dies ist nicht wünschenswert. Zum Beispiel wurde gefunden, daß
bei Verwendung eines Bades aus Sodiumhypochlorit in handelsüblicher Stärke die Badbehandlung bei Temperaturen
309820/Ö8S8
im Bereich von 85-95° Celsius für diex Dauer von
wenigstens 10 Sekunden, Jedoch nicht länger als 2QO Sekunden erfolgen soll. Die besten Verbindungen
wurden bei einer Temperatur von ungefähr 90° CeIsiue
und einer Badbehandlung von ungefähr 30 Sekundin Dauer erzielt. Unter diesen Voraussetzungen wurden
mono-molekulare Schichten von Sauerstoff auf der Oberfläche der Metallschicht erzeugt. Der Brozeß
kann mit höheren Temperaturen und kürzerer Dauer durchgeführt werden, Jedoch ist dies nicht ao vorteilhaft,
weil die höheren Temperaturen die Badflüssigkeit zum Kochen bringen, wobei sich ihr·
Zusammensetzung zersetzt.
Bei der Anwendung von Ammoniumpersulfat-Lösungen ist ein Temperaturbereich zwischen 70 und 80° Celsius
vorteilhaft.
In Fig. 2 ist die Basis nach ihrer Entfernung aus dem Bad dargestellt und die Metallschicht 12 trägt
eine sehr dünne mono-molekulare Schicht 20 von Sauerstoffatomen. Die Basis wird sodann mit Wasser
gewaschen, um alle Bestandteile der Badlösung zu entfernen und mit heißer Luft getrocknet, um mögliches
Verkratzen der Oberfläche zu vermeiden, welche die mono-molekulare Schicht von Sauerstoffatomen zerstören
könnte und an den Kratzstellen daher di© Verbindungen
verschlechtern würde.
Nachdem die Metallschicht sorgfältig getrocknet ist, wird sie mit der dielektrischen Unterlage 22 verbunden,
wie dies in Fig. 3 dargestellt ist. Die Unterlage wird direkt auf die Metallschicht 12 unter Anwendung
von Druck und Hitze aufgewalzt, wobei Wasserstoff-
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verbindungen gebildet werden. Bei Anwendung, einer dielektrischen Unterlage auf Kunstharzbasis wird
diese vor dem Aufwalzen teilweise getrocknet und dann während dem Aufwalzen endgültig getrocknet.
Die Trocknung während des Aufwalzens findet bei Temperaturen zwischen I50 und 260° Celsius unter
Anwendung eines Druckes von 5-125 kg/cm statt.
Nach Vollendung dieser Verbindung wird die dielektrische
Unterlage 22 von der Basis 10 abgezogen, wie
dies in Fig. 4 dargestellt ist. Die Metallschicht bleibt infolge der Wasserstoffverbindungen, die an
den Berührungsstellen der Schicht 20 zwischen der
Metallschicht 12 und der Unterlage 22 gebildet werden, fest an dieser kleben.
Durch die mono-molekülare Schicht 20 von Sauerstoffatomen
wird eine zähe Verbindung zwischen der Metallschicht 12 und der dielektrischen Unterlage 22 geschaffen,
welche sicherer ist als bei den .bekannten Verfahren und daher besonders für die Anwendung von
biegsamen dielektrischen Unterlagen geeignet ist.
Wurde in der Badbehandlung infolge Anwendung zu hoher Temperaturen oder zu langer Einwirkung der
Badlösung eine vzu dicke Schicht von Sauerstoffatomen
gebildet, dann kann diese durch eine geeignete Waschbehandlung vor dem Verfahrensschritt "Spülen" der
Fig. 2 entfernt werden. In dieser Waschbehandlung
können geeignete Reinigungsmittel verwendet werden, um die überschüssigen Schichten von oxydiertem Material
zu entfernen und nur eine mono-molekülare Schicht
von Sauerstoffatomen zu belassen. Dieses Verfahren ist jedoch nicht so vorteilhaft, weil es- während des
Waschprozesses besondere Sorgfalt aufgewandt werden muß,
-6-309 8 20/089 8
tun zu vermeiden, daß die Schicht der Sauerstoffatom·
nicht in ihrer Stärke variiert.
16.8.72
Wd/He.
Wd/He.
309820/0898
Claims (1)
- Arm.; Buckbee-Mears CompanyPatentansprücheBZscssassasssssssssBssssssss=Verfahren zur Verbindung einer zur Herstellung einer Leiterplatte geeigneten Metallschicht mit einer biegsamen dielektrischen Unterlage, dadurch gekennzeichnet,daß die auf einer Basis (10) liegende Metallschicht (12) zusammen mit. dieser ausreichend2ang in ein Oxydationsbad (18) eingebracht wird, daß sich eine dünne Oxydschicht (20) auf der freien Fläche der Metallschicht (12) bildet, daß nach Spülen und Trocknen der Anordnung eine biegsame dielektrische Unterlage (22) mit der oxydierten Fläche der Metallschicht verbunden wird und daß die Unterlage (22) mit der mit ihr verbundenen Metallschicht (12) von der Basis (10) abgezogen wird. . - "2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,daß ein alkalisches Bad verwendet wird.3. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,daß das Bad aus Sodiumhypochlorit besteht.4-, Verfahren, nach Anspruch 2·,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Bad aus Ammoniumpersulfat besteht."309820/08985. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,daß vor dem Spülen und Trocknen die Anordnung gewaschen wird, um überschüssiges Oxydmaterial zu entfernen.16.8.72
Wd/Ke.3098 20/089 8
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