DE1490061B1 - Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen gedruckter SchaltungenInfo
- Publication number
- DE1490061B1 DE1490061B1 DE1964M0063618 DEM0063618A DE1490061B1 DE 1490061 B1 DE1490061 B1 DE 1490061B1 DE 1964M0063618 DE1964M0063618 DE 1964M0063618 DE M0063618 A DEM0063618 A DE M0063618A DE 1490061 B1 DE1490061 B1 DE 1490061B1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plate
- metal powder
- layer
- metal
- adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 92
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 92
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 68
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 66
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 30
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 30
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 17
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- -1 copper complex salt Chemical class 0.000 claims 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 39
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 19
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 8
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000530268 Lycaena heteronea Species 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000009415 formwork Methods 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000010951 particle size reduction Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
- H05K3/245—Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
- H05K3/246—Reinforcing conductive paste, ink or powder patterns by other methods, e.g. by plating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/102—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by bonding of conductive powder, i.e. metallic powder
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0347—Overplating, e.g. for reinforcing conductors or bumps; Plating over filled vias
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/02—Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
- H05K2203/0278—Flat pressure, e.g. for connecting terminals with anisotropic conductive adhesive
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0522—Using an adhesive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
- H05K3/428—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in substrates having a metal pattern
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49165—Manufacturing circuit on or in base by forming conductive walled aperture in base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
1 2
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum druckten Schaltung ergeben sich deutliche Unter-
Herstellen gedruckter Schaltungen, bei dem bei- schiede zugunsten des erfindungsgemäßen Verfahrens
spielsweise im Siebdruck Klebstoff in Form des Lei- im Vergleich zum Stand der Technik. Das Leitermate-
tungsbildes auf Isolierstoffplatten aufgebracht wird, rial ist von gleichmäßiger Qualität, leicht lötbar und
die anschließend mit einem Metallpulver bestreut 5 sitzt sehr fest auf der als Unterlage dienenden Platte,
werden, das, soweit es nicht am Klebstoff haftet, Das erfindungsgemäße Verfahren kann leicht zur
später wieder entfernt wird. Massenfabrikation verwendet werden.
Außer dem üblichen Ätzverfahren zur Herstellung Vorteilhaft besteht zumindest die Partikelobervon
Karten mit gedruckter Schaltung ist es auch be- fläche des Metallpulvers aus einem für die Reduktionskannt
(deutsche Auslegeschrift 1075179, USA.- io reaktion als Katalysator wirkenden Metall. Der Kleb-Patentschrift
2 963 748), die ganze Fläche der Isolier- stoff wird zweckmäßig vor der Ablagerung der Metallstoffplatte
mit einem Klebstoff zu beschichten, Metall- schicht durch die Reduktionsreaktion beispielsweise
pulver darauf zu streuen und sodann mit einem in unter Wärme erhärtet.
seiner Form der Leiteranordnung entsprechenden Zur Ausübung des Drucks führt man vorteilhaft
Stempel diejenigen Schichtteile, die als Leiter stehen- 15 die mit dem Metallpulver versehene Platte durch
bleiben sollen, einem solchen Druck zu unterwerfen, einen Walzenspalt zwischen zwei Rollen, die unter
daß an diesen Stellen das Metallpulver kalt zusam- einem mäßigen Druck stehen, wobei man zweckmäßig
mengeschweißt wird. Dieses Verfahren eignet sich die Antriebswalze an der nicht mit der Pulverschicht
jedoch wegen des teuren Stempels nur für Großserien versehenen Rückseite der Platte angreifen läßt. Hiervon
Karten mit einer einzigen gedruckten Schaltung ao durch werden die Metallpulverkörner über den Kleb-
und ergibt obendrein eine schlechte Stromleitfähig- stoff fest mit der Platte verbunden, jedoch wird das
keit. aufgebrachte Leitungsbild nicht zerstört.
Es ist auch ein Verfahren bekannt (deutsche Aus- Zur Verbesserung der Anlötbarkeit von Leiterlegeschrift
1147 640), bei dem der Klebstoff in der enden ist es günstig, an der vorgesehenen Verbin-Form
des Leitungsbildes auf die Isolierplatte auf- 35 dungsstelle in an sich bekannter Weise ein Loch in
gebracht wird, die anschließend — gegebenenfalls der Platte auszubilden und auch die Innenfläche des
durch Aufflockung im elektrostatischen Feld — mit Lochs mit Metall zu überziehen, indem man auf der
einem Metallpulver bestreut wird, dessen nicht haf- Platte eine aktivierte Schicht ablagert, diese sodann
tende Körner anschließend wieder entfernt werden. an der Oberfläche der Platte, nicht aber an der Loch-Zur
Verbesserung der an sich noch unzureichenden 30 wand unwirksam macht und sodann darauf die Ab-Stromleitfähigkeit
solcher Stromleiter aus aufgekleb- lagerung der eigentlichen Leiterschicht vornimmt,
tem Metallpulver ist es bekannt, die Metallschicht In der folgenden Beschreibung ist die Erfindung durch Tauchlöten zu verstärken (deutsche Auslege- an Hand der Zeichnung veranschaulicht, und zwar schrift 1107 743). Hierbei ergibt sich jedoch die zeigen
tem Metallpulver ist es bekannt, die Metallschicht In der folgenden Beschreibung ist die Erfindung durch Tauchlöten zu verstärken (deutsche Auslege- an Hand der Zeichnung veranschaulicht, und zwar schrift 1107 743). Hierbei ergibt sich jedoch die zeigen
Schwierigkeit, daß die Platte einer hohen Temperatur 35 Fig. 1 bis 5 aufeinanderfolgende Verfahrensschritte
ausgesetzt wird und daß wegen der begrenzten Hitze- zur Herstellung der Leiterschicht einer gedruckten
beständigkeit der Platte höher schmelzende Leiter- Schaltung,
materialien nicht aufgebracht werden können. Auch Fig. 6 bis 10 Durchführungsformen und Verfah-
ist eine sachgerechte Dimensionierung der Leiter- rensschritte zur Herstellung eines metallenen Über-
schichtstärke nicht möglich. 40 zugs an Lochwänden in den Platten gedruckter Schal-
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein tungen.
möglichst einfaches Verfahren zur Herstellung von Für die elektrisch isolierende Grundplatte 1
gedruckten Schaltungen nach dem Pulververfahren zu (Fig. 1), die nach der Erfindung verwendet wird,
schaffen, bei dem die gedruckten Schaltungen eine können verschiedene Sorten von Kunstharzplatten,
homogene, verhältnismäßig starke, aber wählbar dicke 45 Kunstharzschichtplatten usw. verwendet werden, die
Leiterschicht aufweisen, die sehr fest mit der Grund- die notwendigen elektrischen und mechanischen
platte verbunden ist. Diese Aufgabe wird erfindungs- Eigenschaften, chemische Beständigkeit, Hitzebestängemäß
dadurch gelöst, daß zum Bilden einer Metall- digkeit usw. aufweisen. Die gebräuchlichste Grundpulverschicht
auf dem Klebstoff auf das Metallpulver platte ist eine Schichtplatte aus Phenolharz. Ein
ein leichter Druck ausgeübt wird und daß nach dem 50 Klebemittel 2 (F i g. 2) wird in Form der gewünsch-Entfernen
des nicht haftenden Metallpulvers in einer ten elektrischen Schaltung durch eine der verschiedechemischen
Reduktionsreaktion auf der Metall- nen Malmethoden auf die Grundplatte 1 aufgepulverschicht
eine Metallschicht abgelagert wird. strichen; es ist aber wünschenswert, eine solche Farbe
Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden die herzustellen, in der dem Klebemittel passende Druck-Metallpulver
teilweise in die Klebemittelschicht ein- 55 eigenschaften verliehen werden. Die Farbe wird auf
gebettet und sitzen so fest auf der Grundplatte; zum die Grundplatte durch den Seidensiebdruckprozeß
anderen Teil liegen die Pulverkörner an der Ober- aufgebracht. Das Klebemittel kann Epoxyharz,
fläche der Klebemittelschicht frei und können so für Phenolharz u. ä. sein, muß aber passende Druckdas
weitere Leitermaterial als Anlage, z. B. als Kata- eigenschaften, chemische Beständigkeit, Hitzebestänlysator
für die folgende chemische Reduktionsreaktion 60 digkeit usw. haben.
dienen. Das durch die Reduktion auf .der Metall- Als nächstes werden, wie es die F i g. 3 zeigt,
pulverschicht abgelagerte Metall ist feinkörnig und Metallpulver 3 auf der Oberfläche der Grundplatte 1
sehr dicht, greift das Grundmetall nicht an und wächst verteilt, die Klebemittel 2 in Form der gewünschten
zu einer dichten Metallschicht zusammen. Die Metall- elektrischen Schaltung aufgemalt trägt. Die Metallpulverkörner
werden mit der Dickenzunahme der 65 pulver sollen so beschaffen sein, daß sie in der fol-Schicht
zusammengekittet. Nach dem erfindungs- genden chemischen Reduktionsreaktion als Katalygemäßen
Verfahren werden keine kostspieligen Mate- sator dienen können. Sie können ausgewählt werden
rialien benötigt. Hinsichtlich der Qualität der ge- aus der Gruppe von pulverisiertem Silber, Kupfer,
3 4
Eisen, Nickel, Kobalt, Gold, Platin, Palladium, ihren Reduktionsreaktion nur auf Metallpartikeln abzu-Legierungen
und Pulvern, die mit solchen Metallen lagern, die auf einer Isolationsgrundplatte befestigt
beschichtet sind, und die Pulver sollten im allgemei- sind. Die Erfindung beschränkt sich aber nicht auf
nen eine vorzugsweise dendritische Form haben. Die spezielle Bedingungen, wie Zusammensetzung der
verwendete Partikelgröße ist im allgemeinen 10 bis 5 Lösungen, Bedingungen der Reaktion usw., um die
100 μ. Die Metallpulver sollen vorzugsweise in einer verschiedenen Eigenschaften, wie Ablagerungsmaß
so gleichmäßigen Dicke wie möglich verteilt werden. des Metalls, Beständigkeit der Beschichtungslösung
Nach dieser Verteilung wird darauf ein passender usw., zu verbessern.
Druck zur genügenden Befestigung der Pulver an der Das wie oben beschrieben abgelagerte Metall bildet
Klebemittelschicht in einem solchen Grad ausgeübt, io eine äußerst dichte Schicht und ist haltbar an die auf
daß die Klebemittelschicht in Form der elektrischen der Isolationsgrundplatte befestigten Grundmetall-Schaltung
nicht deformiert wird. Für die Ausübung pulver abgelagert, und zusätzlich werden solche
des Drucks kann eine Presse benutzt werden; um die Metallpulver durch die abgelagerte Metallschicht fest
Anordnungen nach F i g. 3 dazwischen durchzufüh- zusammengehalten. Als Ergebnis wird eine große
ren, kann aber ein Paar Gummiwalzen benutzt 15 mechanische Festigkeit sichergestellt, und das Anwerden.
löten äußerer Teile oder Elemente an die Metall-
Danach werden die nicht an der Klebemittel- schicht kann leicht und sicher bewirkt werden, geschieht
2 haftenden Metallpulver entfernt, und die rade so wie in dem Fall, wo gewöhnliche Metallfolie
Klebemittelschicht wird getrocknet oder gehärtet, so auf der Grundplatte befestigt wird. Da die durch die
daß die Metallpulver wie in F i g. 4 auf der Oberfläche ao Reduktionsreaktion abgelagerte Metallschicht auf der
der Grundplatte festsitzen. Die entfernten Metall- Isolationsgrundplatte durch teilweise in einer Klebepulver
können zur Wiederverwendung zurückgewon- mittelschicht eingelagerte Metallpartikeln befestigt ist,
nen werden. Durch passende Auswahl der Dicke der ist die Verbindung zur Grundplatte sehr haltbar,
aufgestrichenen oder gedruckten Schicht von Klebe- . .
aufgestrichenen oder gedruckten Schicht von Klebe- . .
mittel, der Form und Größe der Metallpulver und as Beispiel 1
der Bedingungen der Aufbringung des Drucks können Um ein Klebemittel zu erhalten, wurden zu 30 g
die Metallpulver auf der Klebemittelschicht in enger Epoxykunstharz, bestehend aus 20 g Epoxyharz (Di-Verbindung
mit ihr befestigt werden, wobei die ein- glycidyläther von ρ,ρ'-Isopropylidendiphenol) und
zelnen Metallkörner teilweise in die Klebemittel- 10 g Polyamidharz (Dicarbonsäurediamid), 3 g Kohschicht
eingebettet sind und teilweise über die Ober- 30 lenstoff gegeben. Eine Isolationsgrundplatte aus gefläche
der Klebemittelschicht freiliegen. Demnach schichteten! Phenolharz wurde in der gewünschten
sind Metallpulver durch das Klebemittel auf der Form der elektrischen Schaltung im Seidensiebdruck-Grundplatte
haltbar befestigt und erlauben gleich- verfahren mit dem obigen Klebemittel bedruckt,
zeitig die Ablagerung von Metall durch die chemische Kupferpulver mit 10 bis 100 μ Partikelgröße wurden
Reduktionsreaktion, die jetzt beschrieben wird. 35 dann bis zu einer Dicke von 1 bis 2 mm auf die
Entsprechend der Erfindung wird Kupfer, Nickel Klebeschicht verteilt, und das Ganze wurde einem
oder anderes Metall durch chemische Reduktions- Druck von 0,5 bis 1,0 t/cm2 ausgesetzt, um die
reaktion auf Metallpulvern abgelagert, die auf der Kupferpartikeln am Klebemittel zu befestigen. Dann
Oberfläche einer Isolationsgrundplatte befestigt sind, wurden am Klebemittel nicht haftende Kupferparwie
es oben beschrieben wurde. Die Erfindung wird 40 tikeln entfernt und das Klebemittel gehärtet, indem es
im folgenden erklärt, indem Kupfer als Beispiel für für ungefähr 1 Stunde auf 150 + 100C aufgeheizt
das abgelagerte Metall benutzt wird. Für das Reduk- wurde. Nach Vorbehandlungen, wie Wasserspülung,
tionsverfahren selbst wird ein selbständiger Schutz Säurespülung usw., wurde zur Ablagerung von Kupfer
nicht beansprucht. auf den obenerwähnten Kupferpartikeln die Platte
Eine Isolationsgrundplatte mit daran befestigten 45 bei 25 bis 35° C in eine Lösung der folgenden Zu-Metallpulvern,
wie oben beschrieben und in F i g. 4 sammensetzung eingetaucht:
gezeigt, wird in eine Alkalilösung von Kupferkom- Kuofernitrat 8 0 2
gezeigt, wird in eine Alkalilösung von Kupferkom- Kuofernitrat 8 0 2
plexsalzen getaucht, die zusätzlich als Reduktions- Pottaschesodatartrat
150e
mittel Formaldehyd enthält. Für die Ablagerung von Astron 10 0 e
metallischem Kupfer werden die Kupferionen in der 50 -Gnrm*\AaUvA fxkti \
An'rJi
Lösung durch deS Formaldehyd reduziert, und da die Formaldehyd (36·/.) 40 ml
Metallpulver wie Silber, Kupfer usw., die auf der Die obenerwähnten Bestandteile wurden in so viel
Isolationsgrundplatte befestigt sind, als Katalysator Wasser gelöst, daß insgesamt 11 Lösung zur Verder
obigen Reaktion dienen, wird die Kupferablage- fügung stand.
rung auf den Metallpulvern beschleunigt. Werden 55 Nachdem eine vorbestimmte Menge von Kupfer
passende Reaktionsbedingungen ausgewählt, so ist es durch die Reduktionsreaktion abgelagert worden war,
als Folge davon möglich, das Kupfer 5 nur auf den wurde die Platte aus der Lösung genommen, mit
Metallpulvern 4 abzulagern, wie es die F i g. 5 zeigt. Wasser gewaschen und poliert, um die Platte mit ge-An
Stelle von Kupfer kann auch Nickel abgelagert druckter Schaltung fertigzustellen,
werden. In diesem Fall wird eine Nickelsalzlösung 60 Beispiel 2
werden. In diesem Fall wird eine Nickelsalzlösung 60 Beispiel 2
mit unterphosphorigem Natron als Reduktionsmittel v
benutzt, an welche die Grundplatte mit der darauf be- Eine gewünschte Form einer elektrischen Schalfestigten
Metallpulverschicht in der Form der ge- tung wurde auf eine Phenolkunstharzschichtplatte mit
wünschten elektrischen Schaltung eingetaucht wer- einem Kleber aus Phenolkunstharz, Benzylalkohol
den. In diesem Fall werden als Metallpulverschicht 65 und Kohlenstoff in der Seidensiebdruckmethode aufvorzugsweise
Pulver von Nickel oder Eisen benutzt. gedruckt, und dann wurden Eisenpartikeln von 10
Ein wichtiges Merkmal der Erfindung ist die Mög- bis 100 μ Größe daraus bis zu einer Dicke von 1 bis
lichkeit, vorbestimmtes Metall durch eine chemische 2 mm verteilt. Nach Aufbringung eines Drucks von
5 6
0,5 bis 1,0 t/cm2 wurden die nicht an der Klebemittel- Um für die gute Lötung der Zuleitungsdrähte eine
schicht haftenden Eisenpartikeln weggeschwemmt, erhöhte Betriebssicherheit zu erzielen, kann eine Leit-
und das Klebemittel wurde getrocknet, indem es für fähigkeitsschicht auf der ganzen inneren Wandoberungefähr
1 Stunde auf 150 +10° C aufgeheizt wurde. fläche des Lochs A gebildet werden, wie es die F i g. 7
Nach Vorbehandlungen, wie Waschen in Wasser, 5 bis 10 zeigen. Das ist besonders vorteilhaft, wenn ge-Waschen
in Säure usw., wurde die Platte bei 80 bis druckte elektrische Schaltungen auf entgegengesetzten
100° C in eine Lösung der folgenden Zusammen- Oberflächen der Grundplatte 1 gebildet und durch die
setzung eingetaucht: Leitfähigkeitsschichten auf den Wänden der Löcher
Nickelchlorid 30 ε *n der ^atte elektrisch miteinander verbunden wer-
Unterphosphoriges Natron".''.'.'.'.'.'.'. 101 10 de t n· Im in, * \f \ ^t^^ff hai d|f. Is°"
Zitronensaures Natron 15 g lationsgrundplatte 1 glatte Oberflachen. In diesem
Wasser, um im ganzen 11 Lösung zu bilden Beispiel wird nach Anbringung der Locher Λ, von
denen eines in F ι g. 7 gezeigt ist, eine Aktivierungs-
Nach der Ablagerung einer vorbestimmten Menge behandlung durchgeführt, um die Ablagerung von
von Nickel wurde die Platte aus der Lösung genom- 15 Metall durch die folgende chemische Reduktions-
men, gewaschen und poliert. reaktion zu erleichtern. Es können verschiedene Ak-
Einige Abwandlungen des oben beschriebenen tivierungsbehandlungen angewendet werden, in die-Grundprozesses
nach der Erfindung werden jetzt be- sem Beispiel wurde aber die Grundplatte 1 nacheinschrieben
werden. ander in Stannochloridlösung und Palladiumchlorid-
Um die Verbindung der Zuleitungsdrähte zu ver- 20 lösung eingetaucht. Diese Aktivierungsbehandlung
stärken, die durch ein Loch in der Grundplatte mit wirkt auf die ganze Basisplatte, da aber die Basisder
gedruckten Schaltung verlötet werden, wird eine platte äußerst glatte Oberflächen hat, kann die den
Metallschicht durchgehend von dem Leiter auf der Oberflächen der Grundplatte 1 durch die Behandlung
Oberfläche der Isolationsgrundplatte zu einem Loch- mitgeteilte Aktivität durch ein nachfolgendes Waschen
teil für die Einführung von durch die Grundplatte er- 25 mit Wasser und Bürsten oder ähnliches Abkehren und
streckten Teilen gebildet, um dem Lötmaterial das Spülen entzogen werden, und nur die innere Wand-Eindringen
in das Loch möglich zu machen, wodurch oberfläche des Lochs A behält eine aktivierte Schicht
eine positive und haltbare Lötverbindung und ebenso 12. Eine Klebemittelschicht 2 wird dann in der geeine
Verstärkung von der Verbindung äußerer Teile wünschten Form der elektrischen Schaltung auf der
mit der Platte mit gedruckter Schaltung sichergestellt 30 Oberfläche der Basisplatte 1 gebildet, wobei sich das
wird. Loch A an einem vorbestimmten Punkt in der
Entsprechend F i g. 6 ist ein Loch A für die Ein- Schicht 2 befindet. Katalytische Metallpulver, wie
führung von Teilen durch die Isolationsgrundplatte 1 z. B. Kupferpulver, werden auf der Klebeschicht 2
gebildet, die die erforderlichen elektrischen Eigen- verteilt und auf sie gepreßt, um die Metallpulverschaften
und mechanische Festigkeit hat. Das Loch 35 schicht 4 zu bilden. Die folgende chemische Redukwird
gebohrt oder gestanzt, wobei das letztere zu be- tionsreaktion für die Ablagerung der Schicht aus leitvorzugen
ist, da das dadurch gebildete Loch etwas fähigem Metall wird in diesem Beispiel durch Einabgerundete
Lochkanten hat, die für den nächsten tauchen der Platte in eine flüssige Mischung aus einer
Arbeitsschritt von Vorteil sind. Als nächstes wird eine alkalischen Kupferkomplexsalzlösung und Form-Schicht
von Klebemittel 2 in der gewünschten Form 40 aldehyd bewirkt. Als Ergebnis wird auf die Kupferder
elektrischen Schaltung auf die Basisplatte 1 in der pulverschicht 4, wobei das Pulver als Katalysator
oben beschriebenen Art aufgebracht, wobei die Basis- dient, und auf die aktivierte Schicht 12, wobei die
platte Löchert für die Einführung der Zuleitungs- Schicht 12 als Katalysatorkern dient, Kupfer abgedrähte
hat, die an vorbestimmten Stellen der elek- lagert. So wird eine Schicht aus leitfähigem Metall 5
trischen Schaltung ausgebildet sind. Diesmal wird das 45 gleichzeitig sowohl auf dem Kupferpulver auf der
Klebemittel auf die Oberfläche der Grundplatte 1 und Grundplatte als auch auf den Lochoberflächen geebenso
auf einen Teil der Innenwandoberfläche der bildet.
Löcher A für die Zuleitungsdrahteinführung auf- Im in F i g. 8 gezeigten Beispiel sind die Obergebracht,
wie das beim Bezugszeichen 2' gezeigt ist. flächen der Basisplatte 1 nicht glatt und behalten die
Danach werden Metallpulver, die in der folgenden 5° aktivierte Schicht 12, die durch die oben beschriebene
chemischen Reduktionsreaktion für die Ablagerung Aktivierungsbehandlung gebildet ist, sogar nach
von leitfähigem Metall als Katalysator dienen kön- Waschen und Spülen mit Wasser. In diesem Fall
nen, auf den Klebeschichten 2 und 2' verteilt und wie werden die Oberflächen der Grundplatte 1 mit einem
oben beschrieben wird, wenn nötig, mechanischer Isolationsanstrich 13 bestrichen, wobei nur die akti-Druck
darauf ausgeübt, um die Metallpulverschicht 4 55 vierte Schicht 12 im Loch A freigelegt bleibt. Dann
und 4' sicher auf den entsprechenden Klebeschichten wird Klebemittel 2 in der gewünschten Form der
2 und 2' zu befestigen. Die Klebemittelschichten wer- elektrischen Schaltung auf die Isolationsschicht 13
den dann gehärtet, um die Metallpulver auf der aufgebracht. Katalytische Metallpulver werden auf
Grundplatte festzuhalten. Darauf werden durch der Klebemittelschicht 2 verteilt und darauf gepreßt,
chemische Reduktionsreaktion, wie oben beschrieben, 60 um die Metallpulverschicht 4 zu bilden. Nach Här-Schichten
aus leitfähigem Metall 5 und 5' auf den tung der Klebeschicht wird die Platte in eine flüssige
Metallpulverschichten 4 und 4' gebildet. Durch die Mischung von Metallsalzlösung und Reduziermittel
so teilweise in den Löchern A gebildeten Metall- getaucht, um die chemische Reduktionsreaktion für
schichten 5' in Fortsetzung der Schaltungsschicht 5 die Ablagerung der Schicht aus leitfähigem Metall 6
können Anlötungen von Zuleitungsdrähten, die in die 65 auf der Metallpulverschicht 4 und der aktivierten
Löcher A eingeführt wurden, sowohl über die Schicht 12 im Loch A zu bewirken.
Schicht 5 als auch über die Schichten 5' bewirkt wer- Auch im in F i g. 9 gezeigten Beispiel hat die Isoden, was eine erhöhte Festigkeit gewährt. · lationsgrundplatte 1 rauhe Oberflächen, die nicht so
Schicht 5 als auch über die Schichten 5' bewirkt wer- Auch im in F i g. 9 gezeigten Beispiel hat die Isoden, was eine erhöhte Festigkeit gewährt. · lationsgrundplatte 1 rauhe Oberflächen, die nicht so
bearbeitet werden können, daß die Oberflächen glatt genug werden. In diesem Beispiel wird zunächst ein
löslicher Anstrich 13 auf die Oberfläche der Grundplatte 1 aufgebracht, und dann werden durch die
Grundplatte die Löcher/4 für die Zuleitungsdrahteinführung
gebildet, von denen nur eines gezeigt ist. Danach werden durch die obenerwähnte Aktivierungsbehandlung aktivierte Schichten 12 und 12' auf den
Oberflächen der Grundplatte 1 und auf den inneren Oberflächen des Lochs A gebildet. Werden dann die
Schichten aus löslichem Anstrich 13 entfernt, so werden gleichzeitig mit den Schichten 13 die aktivierten
Schichten 12 auf der Oberfläche der Grundplatte 1 entfernt, und nur die aktivierten Schichten
12' bleiben bestehen, wie es in Fig. 10 gezeigt ist. Als nächstes wird auf die Grundplatte 1 die Klebemittelschicht
2 in der Form der elektrischen Schaltung aufgebracht und darauf die Schicht aus katalytischem
Metallpulver 4 gebildet. Nach der Härtung der Klebeschicht 2 wird die Platte in eine flüssige Mischung
von Metallsalzlösung und Reduziermittel getaucht, um die Schicht aus leitfähigem Metall 6 gleichzeitig
auf der Metallpulverschicht 4 und der aktivierten Schicht 12' abzulagern.
Wie aus der obigen Beschreibung klar hervorgeht, wird die Schicht aus leitfähigem Metall gleichzeitig
und ohne Unterbrechung auf den inneren Oberflächen der Löcher A für die Einführung von Teilen und auf
der Oberfläche der Kupferpulver in der gewünschten Form der elektrischen Schaltung auf der Grundplatte
gebildet, so daß der Herstellungsprozeß einfach und leicht ausführbar sein kann. Zusätzlich kann das Anlöten
von Zuleitungsdrähten von Teilen so ausgeführt werden, daß das Lötmaterial gänzlich in die Löcher A
eintritt, und die Betriebssicherheit der Lötverbindungen ist so bemerkenswert erhöht. Wenn weiter elektrische
Schaltungen auf die beiden entgegengesetzten Oberflächen der Grundplatte gedruckt werden, können
die elektrischen Schaltungen auf beiden Oberflächen miteinander durch die Schicht aus leitfähigem
Metall auf der inneren Oberfläche der Löcher A verbunden werden.
Claims (18)
1. Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen, bei dem beispielsweise im Siebdruck
Klebstoff in Form des Leitungsbildes auf Isolierstoffplatten aufgebracht wird, die anschließend
mit einem Metallpulver bestreut werden, das, soweit es nicht am Klebstoff haftet, später wieder
entfernt wird, dadurch gekennzeichnet, daß zum Bilden einer Metallpulverschicht (4) auf
dem Klebstoff (2) auf das Metallpulver (3) ein leichter Druck ausgeübt wird und daß nach dem
Entfernen des nicht haftenden Metallpulvers (3) in einer chemischen Reduktionsreaktion auf der
Metallpulverschicht (4) eine Metallschicht (5) abgelagert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest die Partikeloberfläche
des Metallpulvers (3) aus einem für die Reduktionsreaktion als Katalysator wirkenden
Metall besteht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Klebstoff (2) nach dem
Aufbringen des Metallpulvers (3), aber vor der Ablagerung der Metallschicht (S) gehärtet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß man die mit dem Metallpulver (3) versehene Platte (1) durch einen
Walzenspalt zwischen zwei Rollen hindurchführt, die unter einem mäßigen Druck stehen, durch den
das aufgebrachte Leitungsbild nicht gestört wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die eine der Rollen von einer Antriebsvorrichtung getrieben wird und die andere
unter Druckberührung über die mit Metallpulver (3) versehene Oberfläche der Platte (1)
rollt.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das
Metallpulver (3) zumindest teilweise aus einem der Metalle Nickel, Kupfer, Silber, Gold, Platin,
Palladium oder deren Legierungen besteht.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß das Metallpulver (3) aus mit einem oder mehreren dieser Metalle bedeckten Partikeln besteht.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (1) zur Durchführung
der Reduktionsreaktion in eine als Reduziermittel wirkende Flüssigkeit, die im wesentlichen
eine alkalische Lösung von Kupferkomplexsalz und Formaldehyd enthält, getaucht wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallpulver
(3) zumindest teilweise aus einem der Metalle Eisen, Nickel, Kobalt, Aluminium, Beryllium,
Platin, Palladium, Rhodium oder deren Legierungen besteht.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallpulver (3) aus mit
einem oder mehreren dieser Metalle bedeckten Partikeln besteht.
11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (1) zur
Durchführung der Reduktionsreaktion in eine als Reduziermittel wirkende Flüssigkeit, die im
wesentlichen eine Nickelsalzlösung und ein Hypophosphit enthält, getaucht wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß man vor der
Aufbringung des Leitungsbildes in der Platte (1) ein Loch (A) an einer Stelle ausbildet, an der bei
der fertigen gedruckten Schaltung ein Leiter angelötet werden soll, und man die Platte (1) zur
Bildung einer aktivierten Schicht (12), auf der Metall ablagerbar ist, in eine Zinn(II)-chlorid-
und/oder Palladiumchloridlösung taucht und sodann die aktivierte Schicht an der Oberfläche der
Platte (1), nicht aber an der Wand des Lochs (A) unwirksam macht.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß sich das Loch (A) durch die
gesamte Dicke der Platte (1) erstreckt.
14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß man zu Verfahrensbeginn die Oberflächen der Platte (1) glättet und
nach der Bildung der aktivierten Schicht (12) diese durch Waschen, Polieren und/oder Bürsten
von der Oberfläche der Platte (1), nicht aber von der Wand des Loches (A) entfernt.
15. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß man nach der Bildung
der aktivierten Schicht (12) diese an der Oberfläche der Platte (1), nicht aber an der Wand des
909587/175
Lochs (A) mit einer isoh'erenden Überzugsschicht
(13 in Fig. 8) bedeckt.
16. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß man zu Verfahrensbeginn die Oberfläche der Platte (1) mit einem
löslichen Überzug (13 in F i g. 9) versieht, den man nach der Bildung der darauf und an der
Wand des Lochs (A) abgelagerten aktivierten Schicht (12) wieder von der Oberfläche entfernt.
10
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß man die
Oberfläche der Platte (1), auf der das Leitungsbild aufgebracht ist, nach dem Härten des Klebstoffs
(2), aber vor der Durchführung der Reduktionsreaktion wäscht.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Waschen eine Säurespülung
umfaßt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7154063 | 1963-12-26 | ||
JP1683564 | 1964-03-25 | ||
JP2467664 | 1964-04-28 | ||
JP6203164A JPS4813790B1 (de) | 1964-10-30 | 1964-10-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1490061B1 true DE1490061B1 (de) | 1970-02-12 |
Family
ID=27456664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1964M0063618 Pending DE1490061B1 (de) | 1963-12-26 | 1964-12-23 | Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3391455A (de) |
DE (1) | DE1490061B1 (de) |
GB (1) | GB1095117A (de) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3506482A (en) * | 1967-04-25 | 1970-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of making printed circuits |
US4156036A (en) * | 1976-07-30 | 1979-05-22 | Epp Corp. | Structured donor sheet for high-resolution non-impact printer |
US4183137A (en) * | 1977-02-15 | 1980-01-15 | Lomerson Robert B | Method for metalizing holes in insulation material |
US4234626A (en) * | 1978-02-01 | 1980-11-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Producing printed circuits by conjoining metal powder images |
US4157407A (en) * | 1978-02-13 | 1979-06-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Toning and solvent washout process for making conductive interconnections |
EP0003801B1 (de) * | 1978-02-17 | 1982-06-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Verwendung einer fotoempfindlichen Unterlage zur Erzeugung von Durchgangslochverbindungen in Leiterplatten |
US4327124A (en) * | 1978-07-28 | 1982-04-27 | Desmarais Jr Raymond C | Method for manufacturing printed circuits comprising printing conductive ink on dielectric surface |
US4172547A (en) * | 1978-11-02 | 1979-10-30 | Delgrande Donald J | Method for soldering conventionally unsolderable surfaces |
US4252847A (en) * | 1978-11-02 | 1981-02-24 | Delgrande Donald J | Stained glass structure |
JPS6351398B2 (de) * | 1979-11-16 | 1988-10-13 | Rabato Bogadasu Romasun | |
US4457861A (en) * | 1979-12-13 | 1984-07-03 | Additive Technology Corporation | Method, materials and apparatus for manufacturing printed circuits |
US4421944A (en) * | 1979-12-13 | 1983-12-20 | Desmarais Jr Raymond C | Printed circuits |
US4460427A (en) * | 1981-09-21 | 1984-07-17 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process for the preparation of flexible circuits |
DE3377584D1 (en) * | 1982-09-16 | 1988-09-08 | Rabewerk Clausing Heinrich | Method of applying protective coatings to the surfaces of tools and devices |
US4518661A (en) * | 1982-09-28 | 1985-05-21 | Rippere Ralph E | Consolidation of wires by chemical deposition and products resulting therefrom |
US4636768A (en) * | 1985-10-04 | 1987-01-13 | Resistance Technology, Inc. | Compression connection for potentiometer leads |
US4737446A (en) * | 1986-12-30 | 1988-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making multilayer circuits using embedded catalyst receptors |
US4859571A (en) * | 1986-12-30 | 1989-08-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Embedded catalyst receptors for metallization of dielectrics |
JPH0740496B2 (ja) * | 1989-03-01 | 1995-05-01 | シャープ株式会社 | 電極上への導電性粒子の配置方法 |
US20020083858A1 (en) * | 2000-05-15 | 2002-07-04 | Macdiarmid Alan G. | Spontaneous pattern formation of functional materials |
DE10109087A1 (de) * | 2001-02-24 | 2002-10-24 | Leoni Bordnetz Sys Gmbh & Co | Verfahren zum Herstellen eines Formbauteils mit einer integrierten Leiterbahn |
DE10145750A1 (de) * | 2001-09-17 | 2003-04-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper und Trägerkörper mit einer Metallschicht |
DE10145749A1 (de) * | 2001-09-17 | 2003-04-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht auf einem Trägerkörper und Trägerkörper mit einer strukturierten Metallschicht |
US6770822B2 (en) * | 2002-02-22 | 2004-08-03 | Bridgewave Communications, Inc. | High frequency device packages and methods |
US7442408B2 (en) * | 2002-03-26 | 2008-10-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Methods for ink-jet printing circuitry |
CN100512599C (zh) * | 2002-06-04 | 2009-07-08 | 住友电气工业株式会社 | 印刷布线用基板及印刷布线板 |
DE10254927B4 (de) * | 2002-11-25 | 2012-11-22 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung von leitfähigen Strukturen auf einem Träger und Verwendung des Verfahrens |
US7229746B2 (en) * | 2003-04-02 | 2007-06-12 | Delphi Technologies, Inc. | Printed high strength permanent magnet targets for magnetic sensors |
JP2006147867A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Sharp Corp | プリント配線板の製造方法 |
DE102005043242A1 (de) * | 2005-09-09 | 2007-03-15 | Basf Ag | Dispersion zum Aufbringen einer Metallschicht |
CN101491166B (zh) * | 2006-06-14 | 2011-09-28 | 巴斯夫欧洲公司 | 在载体上生产导电表面的方法 |
KR100843388B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-07-03 | 삼성전기주식회사 | 접속부를 구비한 회로기판 |
US20090145548A1 (en) * | 2007-12-08 | 2009-06-11 | Chien-Han Ho | Method Of Forming Printed Circuit By Printing Method |
US8512933B2 (en) * | 2008-12-22 | 2013-08-20 | Eastman Kodak Company | Method of producing electronic circuit boards using electrophotography |
NL2004623C2 (en) * | 2010-04-28 | 2011-10-31 | Heller Design B V De | Method and use of a binder for providing a metallic coat covering a surface. |
KR101596098B1 (ko) * | 2013-11-25 | 2016-02-29 | 주식회사 잉크테크 | 인쇄회로기판의 제조방법 |
CN111526669B (zh) * | 2020-05-07 | 2021-07-23 | 深圳市晶泓科技有限公司 | 一种透明电路板及透明led显示屏的制作方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1075179B (de) * | 1960-02-11 | Woodbridge Suffolk Lawrence John Young (Großbritannien) | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE1107743B (de) * | 1959-09-10 | 1961-05-31 | Siemens Elektrogeraete Gmbh | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen nach dem Pulververfahren |
DE1147640B (de) * | 1957-02-08 | 1963-04-25 | Telefunken Patent | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen |
US3099608A (en) * | 1959-12-30 | 1963-07-30 | Ibm | Method of electroplating on a dielectric base |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3132204A (en) * | 1964-05-05 | Electrically conductive pressure sensitive adhesive tapes | ||
US2897409A (en) * | 1954-10-06 | 1959-07-28 | Sprague Electric Co | Plating process |
US2848359A (en) * | 1955-06-20 | 1958-08-19 | Gen Am Transport | Methods of making printed electric circuits |
US2947064A (en) * | 1956-03-06 | 1960-08-02 | Technograph Printed Electronic | Method of interconnecting pathway patterns of printed circuit products by chemical deposition |
US2936814A (en) * | 1956-06-25 | 1960-05-17 | Goodyear Tire & Rubber | Method of embedding particles in plastic sheet material |
US3031344A (en) * | 1957-08-08 | 1962-04-24 | Radio Ind Inc | Production of electrical printed circuits |
US3060062A (en) * | 1960-03-02 | 1962-10-23 | Rca Corp | Method of forming electrical conductors |
US3146125A (en) * | 1960-05-31 | 1964-08-25 | Day Company | Method of making printed circuits |
US3259559A (en) * | 1962-08-22 | 1966-07-05 | Day Company | Method for electroless copper plating |
US3269861A (en) * | 1963-06-21 | 1966-08-30 | Day Company | Method for electroless copper plating |
-
1964
- 1964-12-17 GB GB51411/64A patent/GB1095117A/en not_active Expired
- 1964-12-21 US US419894A patent/US3391455A/en not_active Expired - Lifetime
- 1964-12-23 DE DE1964M0063618 patent/DE1490061B1/de active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1075179B (de) * | 1960-02-11 | Woodbridge Suffolk Lawrence John Young (Großbritannien) | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE1147640B (de) * | 1957-02-08 | 1963-04-25 | Telefunken Patent | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen |
DE1107743B (de) * | 1959-09-10 | 1961-05-31 | Siemens Elektrogeraete Gmbh | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen nach dem Pulververfahren |
US3099608A (en) * | 1959-12-30 | 1963-07-30 | Ibm | Method of electroplating on a dielectric base |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1095117A (en) | 1967-12-13 |
US3391455A (en) | 1968-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1490061B1 (de) | Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen | |
DE3151512C2 (de) | ||
DE2741417C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Grundplatte für eine gedruckte Schaltung | |
DE2064861C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltkarten. Ausscheidung in: 2065346 und 2065347 und 2065348 und 2065349 | |
DE2166971C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten | |
DE3731298A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer leiterplatte und hiernach erhaltene leiterplatte | |
DE3700910A1 (de) | Verfahren zum aufbau elektrischer schaltungen auf einer grundplatte | |
DE1696604A1 (de) | Katalytische Materialien und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE3134502A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer gedruckten schaltungsplatte | |
DE1446214A1 (de) | Verfahren zum Aufbringen von metallischen UEberzuegen auf Dielektrika | |
DE1665374B1 (de) | Basismaterial aus isolierstoff zum herstellen gedruckter leiterplatten | |
DE3008434A1 (de) | Verfahren zur selektiven chemischen und/oder galvanischen abscheidung von metallueberzuegen, insbesondere zur herstellung von gedruckten schaltungen | |
DE3315062A1 (de) | Verfahren zur abscheidung von lot auf aluminiummetallmaterial | |
DE1199344B (de) | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltungsplatte | |
DE2337032B2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials | |
DE1665314C2 (de) | Basismaterial zur Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE1490061C (de) | Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen | |
DE3151557C2 (de) | ||
DE2838982B2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Mehrebenen-Leiterplatten | |
DE1496748A1 (de) | Kupferkoerper mit bearbeiteter Oberflaeche und Verfahren zum Behandeln der Oberflaeche | |
DE2160284A1 (de) | Elektroplattierverfahren | |
DE1926669A1 (de) | Verfahren von additiven Typ zur Herstellung gedruckter Verdrahtungen | |
DE3432167A1 (de) | Verfahren zur herstellung von mit folien beschichteten platten | |
DE1446214C (de) | Verfahren zur chemischen Metallabscheidung auf dielektrischen Gegenständen | |
AT333363B (de) | Verfahren zum herstellen eines mit einer entfernbaren tragschicht versehenen schichtpressstoffes |