DE1496748B2 - Kupferkoerper, insbesondere kupferfolie, mit einer auf elektrolytischem wege erzeugten, aus zwei schichten aufgebauten rauhen oberflaeche und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents
Kupferkoerper, insbesondere kupferfolie, mit einer auf elektrolytischem wege erzeugten, aus zwei schichten aufgebauten rauhen oberflaeche und verfahren zu dessen herstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Kupferkörper, insbesondere Kupferfolie, mit einer zur Verbesserung der
Haftfähigkeit gegenüber harzartigen Unterlagen oder Umhüllungen auf elektrolytischem Wege erzeugten,
aus zwei Schichten aufgebauten, rauhen Oberfläche sowie ein Verfahren zur Herstellung dieses Kupferkörpers.
Die Erfindung ist besonders bei gedruckten Schaltungen von Interesse und wird daher im Zusammenhang
mit diesen erläutert. Sie ist z.B. auch brauchbar, um Kupferkörper mit einer verbesserten Haftung
für Lacküberträge, z. B. lackierte Kupferdrähte, herzustellen.
Bei gedruckten Schaltungen werden die elektrischen Leiter vorwiegend aus einer Kupferfolie hergestellt,
welche auf eine harzartige Unterlage mit möglichst hoher dielektrischer Durchschlagsfestigkeit
aufgeklebt ist. Zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit des Materials können verstärkende Einlagen,
z. B. aus Glasfaser, Papiergewebe usw., in dem Harzkörper angeordnet sein. Die Haftung des leitenden
Elementes auf der nichtleitenden Unterlage wird mittels eines geeigneten harzartigen Materials hoher
Klebfähigkeit und hohen spezifischen Widerstandes erreicht. Trotz der Entwicklung von verbesserten
Unterlagen und Klebemitteln dafür ist die Haftfähigkeit der Kupferfolie an den harzartigen Unterlagen
nicht immer voll befriedigend. Die Erfahrung hat gelehrt, daß die Haftfähigkeit nur unter Aufgabe des
hohen spezifischen Widerstandes der harzartigen Unterlage oder des zusammen mit dieser verwendeten
Klebemittels erreicht werden kann.
Es besteht also das Problem, einen Kupferkörper zu schaffen und herzustellen, welcher bessere Hafteigenschaften
als bisherige derartige Kupferkörper aufweist und dennoch bei niedrigeren Temperaturen mit
dem Basismaterial verbunden werden kann, um den (] spezifischen Widerstand dieser Unterlage nicht zu ■
verringern.
Nach einem bekannten Verfahren wird die Kupferfolie für die Verwendung in gedruckten Schaltungen
vorwiegend unter Anwendung von Wärme und Druck mit einer thermoplastischen Unterlage verbunden,
welche unter diesen Bedingungen aushärtet. Es eignen sich dazu als Unterlagen z.B. Epoxyd-Harze
und Phenol-Nitrilharze. Die Anwendung von Wärme bei diesen bekannten Verfahren hat jedoch
den Nachteil, daß vor allem die hohen Temperaturen beim Verbinden der Kupferfolie mit der Harzunterlage
für deren spezifischen Widerstand schädlich sein können.
Es ist auch bereits eine Kupferfolie mit rauher Oberfläche bekannt, bei welcher jedoch die Anwendung
von Wärme beim Verbinden mit der Unterlage nicht vermieden werden kann. Auch eine Kupferfolie
mit einer warzenartig aufgerauhten Oberfläche wurde bereits für eine Verwendung als elektrischer Leiter in
gedruckten Schaltungen vorgeschlagen. ^
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu- ^ gründe, einen Kupferkörper der eingangs erwähnten
Art zu schaffen, bei welchem die Haftfestigkeit wesentlich verbessert ist. Dennoch soll die Möglichkeit
bestehen, diese Verbindung des Kupferkörpers mit einer Unterlage bei niedrigeren Temperaturen durchzuführen.
Ferner soll im Rahmen der Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Kupferkörpers
angegeben werden.
Zur Lösung dieser Aufgabe schlägt die Erfindung einen Kupferkörper der eingangs erwähnten Art vor,
welcher durch eine erste Schicht mit einer Vielzahl von unregelmäßig angeordneten, wenigstens zum Teil
an ihren oberen Enden Verdickungen aufweisenden Erhebungen aus Kupfer-Kupferoxidteilchen und eine
diese erste Schicht vollständig einhüllende und verfestigende zweite Schicht aus metallischem Kupfer gekennzeichnet
ist.
Ein derartiger Kupferkörper hat in vorteilhafter Weise auf Grund der sich auf der Oberfläche bildenden
feinen Hinterschneidungen wesentlich bessere Hafteigenschaften an einer entsprechenden Unterlage.
Bei einer Weiterbildung der Erfindung kann ein Kupferkörper vorgesehen sein, dessen Oberfläche be-
reits eine unregelmäßige knötchenförmgie Struktur aufweist, auf welche die erste unregelmäßige Schicht
aus Kupfer-Kupferoxidteilchen und der darüberliegende Kupfer-Überzug aufgebracht sind.
Zweckmäßigerweise können die Erhebungen aus elektrolytisch erzeugten Kupfer-Kupferoxidteilchen
bestehen. Die metallische Kupferschicht kann aus elektrolytisch abgeschiedenem Kupfer bestehen.
Ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Kupferkörpers oder einer Kupferfolie ist dadurch
gekennzeichnet, daß die erste Schicht aus Kupfer-Kupferoxidteilchen aus einem wäßrigen, schwefelsauren
Kupfersulfatbad bei einer Stromdichte zwischen 800 und 2400A pro Quadratdezimeter während
einer Zeitdauer zwischen 5 und 50 Sek. und anschließend die zweite Schicht aus einem wäßrigen
Kupfersulfat-Schwefelsäure-Bad bei einer Stromdichte zwischen 215 und 1600 A pro Quadratdezimeter
während einer Zeitdauer zwischen 15 und 600 Sek. abgeschieden wird. Dabei kann es zweckmäßig
sein, wenn die erste und die zweite Schicht auf die von der Mutterkathode abgewandte Seite einer
galvanoplastisch erzeugten Kupferfolie aufgebracht wird.
Die einzige Figur gibt einen stark vergrößerten Querschnitt eines Kupferkörpers wieder, bei dem die
Ausbildung der Oberfläche nach den Merkmalen der Erfindung überhöht dargestellt ist.
Aus einer schwefelsauren Lösung von Kupfersulfat wird bei Anwendung extrem hoher Stromdichten in
Abhängigkeit von der Konzentration anderer Ionen im Bad, z. B. von Halogenionen, auf der Oberfläche
des Körpers ein schwachhaftendes Pulver aus teilweise oxydiertem Kupfer abgeschieden. Dieses Material
wird im folgenden als Kupfer-Kupferoxidmaterial bezeichnet. Unter den im folgenden näher erläuterten
Bedingungen türmen sich diese Teilchen in beliebigen Gruppen auf der Oberfläche des Kupfers auf
und bilden Vorsprünge einer gewünschten Struktur. Wenn die Abscheidungsbedingungen anschließend
normalisiert werden, wenn also eine wesentlich geringere Stromdichte, wie sie gewöhnlich zum elektrolytischen
Abscheiden von fehlerfreien Kupferüberzügen benutzt wird, eingestellt wird, scheidet sich über den
Kupfer-Kupferoxidvorsprüngen ein diese einschließender Überzug aus metallischem Kupfer ab. Dieser
gewährleistet, daß die gewünschte Struktur der Vorsprünge auf dem Kupferkörper erhalten bleibt.
Die durch einen derartigen Prozeß erhaltene Oberflächenstruktur ist bei Betrachtung unter starker Vergrößerung
vollkommen unregelmäßig. Sie zeichnet sich durch von der Oberfläche ausgehende Erhebungen
aus, die mit einer Verdickung an der Spitze versehen sind. Dadurch wird die Haftfestigkeit nicht allein
durch die Vergrößerung der Oberfläche verbessert, sondern auch wegen der beschriebenen besonderen
Struktur, welche die mechanischen Voraussetzungen für eine Haftung verbessert.
Die Haftfestigkeit wird nach einer bekannten Methode in Krafteinheiten gemessen, die erforderlich
sind, um einen 25 mm breiten Streifen einer 35 μ starken Metallfolie von dem Harzträger zu entfernen,
wenn in einem Winkel von 90° zur Oberfläche abgezogen wird. Bisher wurden etwa 2,3 bis 4,5 kg pro
25 mm als maximaler Wert bei 23° C angesehen. Nach der Erfindung ist man in der Lage, mit den üblichen
Harzunterlagen bei 23° C Kräfte von 6,5 bis 11 kg pro 25 mm ohne Aufgabe der gewünschten hohen
dielektrischen Durchschlagsfestigkeit zu erreichen.
Der Harzkörper kann aus irgendeinem zur Herstellung von gedruckten Schaltungen verwendbaren
Harz bestehen, z. B. aus Phenolnitril-Harz oder Epoxidharz.
Auch andere dielektrische Materialien hoher Durchschlagsfestigkeit, z. B. Phenolformaldehydharze,
können zu diesem Zweck verwendet werden.
An Stelle der Verwendung des harzartigen Körpers selbst als Haftmittel kann auch eine gesonderte
Haftschicht zwischen die Oberfläche des Kupferkörpers und die Oberfläche des Harzträgers eingefügt
werden. Dazu können ähnliche Haftmittel bzw. Kleber, z.B. mit Äthylendiamin gehärtetes Epoxidharz
oder Phenolformaldehydharze, verwendet werden.
Die Figur zeigt die zeichnerische Darstellung eines stark vergrößerten Querschnittes durch einen Kupferkörper
20 mit einer nach der Erfindung bearbeiteten oberen Oberfläche 21. Es ist eine Anzahl von Erhebungen
22 zu sehen, die einen Kern aus Kupfer-Kupferoxid besitzen. Darüber ist in unmittelbarer
Berührung mit diesem ein äußerer Überzug 23 aus metallischem Kupfer aufgebracht, welcher den Halt
der Erhebungen 22 an der Oberfläche 21 des Kupferkörpers 20 sicherstellt.
Eine auf galvanoplastischem Wege hergestellte Kupferfolie von 35 μ Dicke wird nach der Erfindung
behandelt. Es wird dabei ein Elektrolyt verwendet, der aus einer Lösung von Kupfersulfat und Schwefelsäure
in Wasser besteht. Der Kupferanteil beträgt 45 bis 55 und der Schwefelsäureanteil 90 bis 110
Gramm pro Liter, bei Verwendung von 100%iger Schwefelsäure. Zusätzlich zu diesen Grundbestandteilen
ist ein eiweißhaltiges Material, z. B. ein tierischer Hautleim, in einer Menge von vorzugsweise 2
bis 3 ppm zur Beeinflussung der Natur der Abscheidung zugefügt. Ebenso wird Zellstoff-Sulfitabiauge in
einer ähnlichen Menge zugefügt. Die Ergänzung des Leims und der Sulfitablauge wird in Abhängigkeit
von der visuellen Beobachtung der Oberfläche der Kupferfolie unter dem Mikroskop geregelt. Die Temperatur
des Bades wird bei der Herstellung der Folie auf etwa 42° ± I0C gehalten. Die Stromdichte
muß außerordentlich gut konstant gehalten werden, um eine gute Qualität der Folie zu erreichen. Eine
geeignete Stromdichte beträgt 1700A pro dm2 bei kräftiger Bewegung des Bades.
Bei der üblichen Technik zur Herstellung von Kupferfolien werden Walzen mit einer Bleioberfläche
verwendet. Die Oberfläche dieser Walzen wird unmittelbar nach dem Abstreifen der Kupferfolie von
der Walze gleichmäßig poliert. Bessere Ergebnisse erhält man bei der Verwendung von Walzen mit gehärteter
Chromoberfläche, von der alle Narben und sonstige Unregelmäßigkeiten entfernt worden sind.
Bei einer derartigen Walze kann das bei den Walzen mit Bleioberfläche erforderliche Polieren entfallen.
Außerdem können auf diese Weise Kupferfolien hergestellt werden, die von Bleiverunreinigungen frei
sind. Derartige Kupferfolien eignen sich besonders zur Herstellung von gedruckten Schaltungen. Das
Ätzen von Kupferfolien wird durch die Anwesenheit von Bleieinschlüssen, welche bei der Verwendung
von Bleiwalzen unvermeidbar sind, ungünstig beeinflußt.
Die nach der beschriebenen Art hergestellten, des Kupfers von der Unterlage entspricht im wesent-
weitgehend reinen Kupferfolien haben eine Ober- liehen der in Beispiel 1 ermittelten,
fläche, die matter ist als die entgegengesetzte trom- Allgemein kann gesagt werden, daß Stromdichten
melseitige Oberfläche. Die galvanisierte Oberfläche zwischen 800 und 2400 A/dm2 für eine Dauer zwi-
ähnelt in ihrem Aussehen einer sehr feinen Wild- 5 sehen 5 und 50 Sek. angewendet werden müssen, um
lederoberfläche. die Oberflächenerhebungen zu erhalten. Zur Herstel-
Eine wie vorstehend beschrieben auf galvanopla- lung des einschließenden Kupferüberzugs ist dagegen
stischem Wege hergestellte 35 μ dicke Kupferfolie grundsätzlich eine niedrigere Stromdichte während
wird in einem Kupfersulfatbad behandelt, das 200 einer längeren Zeitdauer notwendig. Sie liegt im all-
Gramm Schwefelsäure pro Liter enthält. Eine Strom- io gemeinen zwischen 215 und 1600 A/dm2 für eine
dichte von 1100 A pro dm2 wird für 15 Sek. angelegt. Zeitdauer von 15 bis 600 Sek. Die Überschneidung in
Darauf folgt eine 5 Minuten dauernde Behandlung den Stromdichtewerten wird durch die Tatsache er-
bei einer Stromdichte von 390 A pro Quadratdezime- klärt, daß in diesem Gebiet sowohl eine Kupferab-
ter. Die Temperatur des Bades wird auf 26° C ge- scheidung als auch eine Kupferoxidbildung auftritt,
halten. Das galvanische Bad wird nicht bewegt. i$ Die erforderliche Stromdichte zum Herstellen der
Die Haftfestigkeit der behandelten Kupferfolie auf Oberfläche gemäß der vorliegenden Erfindung hängt
einer Epoxid-Glasunterlage beträgt etwa 7 bis 8 kg/ von der Konzentration, der Bewegung und der Tem-
25 mm. Die gleiche Haftfestigkeit besitzt eine Kup- peratur des galvanischen Kupfersulfatbades ab.
ferfolie, die auf eine Phenolpapierunterlage unter Wenn z. B. die Temperatur des galvanischen Bades
Verwendung eines für gedruckte Schaltungen übli- 20 erhöht wird und eine Bewegung des Bades stattfin-
chen Klebematerials geklebt ist. Wenn man die Folie det, muß auch die Stromdichte für die jeweilige
direkt mit dem Phenolpapierträger verbindet, beträgt Oberflächenbehandlung entsprechend erhöht werden,
die Haftfestigkeit etwa 3,6 kg/25 mm. Die Haftfestig- Wenn die Kupferkonzentration erniedrigt oder die
keit einer unbehandelten Folie auf den gleichen Un- Konzentration der Schwefelsäure erhöht wird, liegt
terlagen der gleichen Dicke beträgt etwa 2,3 bis 25 die erforderliche Stromdichte niedriger. Zusätzliche
3,2 kg/25 mm; 1,8 bis 2,7 kg/25 und 0,5 kg/25 mm. Mittel, die benötigt werden, wie z. B. Kornverbesserer
aus Sulfitablauge, beeinflussen ebenfalls die er-
Beispiel 2 forderlichen Stromdichten.
Die Dauer der Elektrolyse bei der hohen Strom-
Bei Verwendung des gleichen galvanischen Bades 30 dichte ist außerordentlich kritisch. Wenn die Zeit zu
wie in Beispiel 1 wird eine Kupferfolie auf einer kurz ist, wird die Oberfläche unzureichend ausgebil-Walze
mit gehärteter Chromoberfläche bei einer det, d. h., die Haftfestigkeit ist zu gering. Wenn die
Stromdichte von 390 A/dm2 und einer Temperatur Behandlungszeit zu lang ist, wird die pulverförmige
von 26° C hergestellt. Nachdem sich eine genügend Abscheidung zu dick für eine feste Verbindung mit
dicke Kupferschicht abgeschieden hat, wird die 35 der Oberfläche während der nachfolgenden elektro-Stromdichte
innerhalb von 20 Sek. auf 1100 A/dm2 lytischen Abscheidung bei der geringeren Stromerhöht.
Dieser Strom wird während 10 Sek. auf- dichte.
rechterhalten und allmählich, innerhalb von 20 Sek. Obwohl grundsätzlich sowohl die Oberfläche von
wieder auf den ursprünglichen Wert von 390 A/dm2 galvanisch abgeschiedenen als auch die von gewalzgesenkt.
Nach einer Behandlung von 4 Minuten bei 40 ten Kupferfolien nach der Erfindung verbessert wereiner
Stromdichte von 390 A/dm2 erhält man eine den kann, erzielt man die besten Ergebnisse mit elek-Oberfläche,
die der nach Beispiel 1 erhaltenen Ober- trolytisch erzeugten Folien, die eine säulenförmige
fläche entspricht. Auch die Zugkraft zum Abziehen Struktur aufweisen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Kupferkörper, insbesondere Kupferfolie, mit einer zur Verbesserung der Haftfähigkeit gegenüber
harzartigen Unterlagen oder Umhüllungen auf elektrolytischem Wege erzeugten, aus zwei
Schichten aufgebauten rauhen Oberfläche, gekennzeichnet durch eine erste Schicht
mit einer Vielzahl von unregelmäßig angeordneten, wenigstens zum Teil an ihren oberen Enden
Verdickungen aufweisenden Erhebungen aus Kupfer-Kupferoxidteilchen und eine diese erste
Schicht vollständig einhüllende und verfestigende zweite Schicht aus metallischem Kupfer.
2. Kupferkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß seine Oberfläche bereits eine
unregelmäßige knötchenförmige Struktur aufweist, auf welche die erste unregelmäßige Schicht
aus Kupfer-Kupferoxidteilchen und der darüberliegende Kupfer-Überzug aufgebracht sind.
3. Kupferkörper nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Erhebungen aus
elektrolytisch erzeugten Kupfer-Kupferoxidteilchen bestehen.
4. Kupferkörper nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die metallische Kupferschicht aus elektrolytisch abgeschiedenem Kupfer besteht.
5. Verfahren zur Herstellung eines Kupferkörpers oder einer Kupferfolie nach Anspruch 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht aus Kupfer-Kupferoxidteilchen aus einem
wäßrigen, schwefelsäuren Kupfersulfatbad bei einer Stromdichte zwischen 800 und 2400 A pro
Quadratdezimeter während einer Zeitdauer zwischen 5 und 50 Sek. und anschließend die zweite
Schicht aus einem wäßrigen Kupfersulfat-Schwefelsäure-Bad bei einer Stromdichte zwischen 215
und 1600 A pro Quadratdezimeter während einer Zeitdauer zwischen 15 und 600 Sek. abgeschieden
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite
Schicht auf die von der Mutterkathode abgewandte Seite einer galvanoplastisch erzeugten
Kupferfolie aufgebracht wird.
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DE (1) | DE1496748C3 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3427554A1 (de) * | 1984-07-26 | 1986-02-06 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur erzeugung einer haftvermittelnden metallschicht |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0016952B1 (de) * | 1979-04-06 | 1983-01-19 | International Business Machines Corporation | Verfahren zum Herstellen von mit Abdeckungen versehenen Leiterplatten |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4515671A (en) * | 1983-01-24 | 1985-05-07 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
DE3510202A1 (de) * | 1985-03-21 | 1986-09-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Elektrische leiterplatten |
DE3510201A1 (de) * | 1985-03-21 | 1986-09-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Elektrische leiterplatten |
WO1998010628A1 (de) * | 1996-09-05 | 1998-03-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Trägerelement für einen halbleiterchip |
DE102005022692A1 (de) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung beschichteter Oberflächen und Verwendung derselben |
-
1964
- 1964-02-28 DE DE1496748A patent/DE1496748C3/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3427554A1 (de) * | 1984-07-26 | 1986-02-06 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur erzeugung einer haftvermittelnden metallschicht |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1496748C3 (de) | 1974-03-28 |
DE1496748A1 (de) | 1969-07-17 |
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