DE2227342C2 - Verfahren zum Herstellen eines Musters hoher Auflösung - Google Patents
Verfahren zum Herstellen eines Musters hoher AuflösungInfo
- Publication number
- DE2227342C2 DE2227342C2 DE2227342A DE2227342A DE2227342C2 DE 2227342 C2 DE2227342 C2 DE 2227342C2 DE 2227342 A DE2227342 A DE 2227342A DE 2227342 A DE2227342 A DE 2227342A DE 2227342 C2 DE2227342 C2 DE 2227342C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photoresist
- layer
- substrate
- covered
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
- H05K3/146—By vapour deposition
-
- H10P95/00—
-
- H10W74/43—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US15846371A | 1971-06-30 | 1971-06-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2227342A1 DE2227342A1 (de) | 1973-01-18 |
| DE2227342C2 true DE2227342C2 (de) | 1982-10-28 |
Family
ID=22568245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2227342A Expired DE2227342C2 (de) | 1971-06-30 | 1972-06-06 | Verfahren zum Herstellen eines Musters hoher Auflösung |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5432315B1 (Direct) |
| DE (1) | DE2227342C2 (Direct) |
| FR (1) | FR2143713B1 (Direct) |
| GB (1) | GB1363386A (Direct) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2733147C2 (de) * | 1977-07-22 | 1984-07-05 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Beseitigen störender Streueffekte bei der Elektronenstrahlbelichtung |
| DE2922642C2 (de) * | 1979-06-02 | 1981-10-01 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Verfahren zum Herstellen von Platten für den Aufbau von Trenndüsenelementen |
| DE3176140D1 (en) * | 1981-10-30 | 1987-05-27 | Ibm Deutschland | Contact device for the detachable connection of electrical components |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1534173A (fr) * | 1966-08-10 | 1968-07-26 | Gen Precision Inc | Procédé pour former des réserves photographiques sur des supports transparents outranslucides avec une résolution élevée |
-
1972
- 1972-04-19 JP JP3880772A patent/JPS5432315B1/ja active Pending
- 1972-06-06 DE DE2227342A patent/DE2227342C2/de not_active Expired
- 1972-06-08 FR FR7221506A patent/FR2143713B1/fr not_active Expired
- 1972-06-23 GB GB2956272A patent/GB1363386A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1363386A (en) | 1974-08-14 |
| DE2227342A1 (de) | 1973-01-18 |
| FR2143713B1 (Direct) | 1976-01-16 |
| FR2143713A1 (Direct) | 1973-02-09 |
| JPS5432315B1 (Direct) | 1979-10-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2460988C2 (de) | Verfahren zum Niederschlagen eines Musters aus einem dünnen Film auf einem anorganischen Substrat | |
| DE19525745B4 (de) | Verfahren zur Bildung eines Abdeckungsmusters | |
| DE2424338C2 (de) | Verfahren zum Aufbringen von Mustern dünner Filme auf einem Substrat | |
| DE2718894C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung | |
| DE2451902A1 (de) | Hochempfindliche positivaetz- bzw. -reliefschichten und ihre anwendung fuer die maskenbildung | |
| DE102017118250A1 (de) | Flexibles Substrat und zugehöriges Fertigungsverfahren, und Anzeigefeld | |
| DE3022748C2 (de) | Photoätzverfahren | |
| DE2547792B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines halbleiterbauelementes | |
| DE2341154C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Zweiphasen-Ladungsverschiebeanordnung | |
| DE69129649T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer harzdruckplatte | |
| DE4103565A1 (de) | Verfahren zur bildung eines feinen musters auf einem halbleiter mit einer stufe | |
| DE2024608C3 (de) | Verfahren zum Ätzen der Oberfläche eines Gegenstandes | |
| DE2931825C3 (de) | Magnetblasen-Speichervorrichtung | |
| DE2227342C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Musters hoher Auflösung | |
| DE3223842A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
| DE1166935B (de) | Verfahren zum Erzeugen von Masken auf Halbleiterkoerpern | |
| DE19945170B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Schablonenmaske | |
| DE2739531A1 (de) | Verfahren zur herstellung von photodetektorelementen | |
| DE2452326A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer aetzmaske mittels energiereicher strahlung | |
| DE2807478A1 (de) | Belichtungsverfahren | |
| DE2703473C2 (Direct) | ||
| DE2315845A1 (de) | Verfahren zur herstellung von aus schichten bestehenden elektrischen schaltungen | |
| DE1589852A1 (de) | Halbleiteranordnung und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| EP1344245A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines eine mikrostruktur aufweisenden festkörpers | |
| DE19628041A1 (de) | Isolierschichtanordnung eines Halbleiterbauteils und Verfahren zur Herstellung derselben |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OD | Request for examination | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |