DE2214611C3 - Kupfer-Katalysator - Google Patents
Kupfer-KatalysatorInfo
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
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Description
Katalyt-Kupfer wird bei zahlreichen chemischen Verfahren als Katalysator eingesetzt. Eine der bekanntesten
Anwendungen ist die Verwendung als Katalysator bei der Rochow-Synthese, der Herstellung von
Kohlenwasserstoff-Halogensilanen durch Umsetzung von Silicium mit Kohlenwasserstoff-Halogenverbindungen
bei Temperaturen zwischen 250 und 350°C.
Die für diesen Zweck in der Praxis eingesetzten Kupfersorten werden im allgemeinen durch Stampf-
und Mahlverfahren oder auf elektrolytischem Wege gewonnen. Gebräuchlich sind ferner Kupferpulver, die
durch Präzipitation. z. B. durch Zementation von Kupfer mit Hilfe unedlerer Metalle wie Eisen aus der Lösung
ihrer Salze verdrängt werden.
Aus der US-Patentschrift 24 20 540 ist die Herstellung
eines Kupferpulvers bekannt, das neben anderen Verwendungszwecken auch für die selektive Gewinnung
von Dimelhyldichlorsilan aus Silicium und Melhylchlorid eingesetzt werden kann. Nach dem in
dieser Patentschrift beschriebenen Verfahren wird das in Kupferminen oder in Kupferhütten anfallende
Kupfer, das sogenannte Zementktipfer. dessen Partikel
in Dendritenform vorliegen, in einer mit oxydierend wirkenden Gasen betriebenen Mühle getrocknet und
gemahlen. Durch den Mahlpfozeß soll eine für die Katalyse als günstig angesehene Körngröße von einigen
Mikron — der Hauptanteil des Pulvers weist eine Korngröße von weniger als 20 Mikron auf — erhalten
werden* Ferner wird durch die oxydierende Trocknung erreicht, daß ein gewisser Anteil des Kupfers, Vor allem
an der Oberfläche in Kupier(I)-öx1d, das sich günstig auf
die Eigenschaften des Katalysators auswirkt, überführt wird.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Kupfer-Katalysator mit einem Anteil von 0,1 bis
10Gew.-% Kupfer(I)-oxid und mit einer Korngröße zwischen 0,1 und 10 Mikron, der durch ein Zementationsverfahren
erhältlich ist, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man eine Dispersion von Kupferchlorid
in Wasser, gegebenenfalls in Gegenwart eines
ίο Komplexbildners, der in der Lage ist, geringe Mengen
von Kupfer(I)-chIorid zu lösen, mit einem Metall, das in der Spannungsreihe der Elemente unterhalb des
Kupfers steht, unter Rühren bei pH-Werten zwischen 1
und 8 und bei einer Temperatur zwischen 0 und 80° C
is umsetzt.
Überraschenderweise hat es sich herausgestellt, daß die Eigenschaften eines Kupferpulvers, vor allem seine
katalytische Wirksamkeit, z. B. bei der Rochc^-Synthese,
dann wesentlich höher ist, wenn der Zementationsprozeß erfindungsgemäß geführt wird, da dabei
unmittelbar ein Kupferpulver mit einem Gehalt von 0,1 bis i0Gew.-% Kupfer(i)-oxid und einer PartikeigroDe
von 0,1 bis 10, vorzugsweise von 0.5 bis 3 Mikron, anfällt.
Produkte, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
2r> erhalten werden, sind solchen, die durch Vermahlung
von gröberen Dendriten hergestellt wurden, erheblich überlegen. In einer besonderen Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung können die erhaltenen Produkte noch zusätzlich einer mechanischen Behandlung, z. B.
>o einer schlagenden oder pressenden Beanspruchung unterworfen werden. Dadurch lassen sich die Eigenschaften
des Katalysators noch zusätzlich verbessern. Eine derartige Behandlung läßt sich z. B. in einer
Stiftmühle, Kugelmühle oder Schwingmühle durchfühlt ren. Mit Vorteil kann de erfindungsgemäße Katalysator
auch einer weiteren chemischen Behandlung, z. B. einer Chlorierung gemäß einem anderen Vorschlag
unterzogen werden.
Die Präzipitation soll erfindungsgemäß in möglichst
•in verdünnter Lösung, aber trotzdem gleichzeitig mit
erheblicher Geschwindigkeit ablaufen. Dies wird dadurch erreicht, daß das als Ausgangsmaterial dienende,
in Wasser fast unlösliche Kupfer(I)-chlorid sehr fein
dispergiert wird und gegebenenfalls über eine lösliche
4i Komplexverbindung wie z. B. [CuCIj]Na mit dem
Reduktionsmittel in Reaktion gebracht wird. Als Komplexbildner können solche Substanzen eingesetzt
werden, die unter den gegebenen Reaktionsbedingungen in der Lage sind, mit Kupfer(l)-chlorid einen
löslichen Komplex zu bilden. Als bevorz",gter Komplex
bildner wird Natriumchlorid eingesetzt; jedoch können ohnr weiteres auch andere Verbindungen wie /. B. HCI
oder andere Chloride, die die Präzipitation nicht störend beeinflussen, eingesetzt werden. Die Menge des
v> einzusetzenden Komplexbildners ist nicht besonders
kritisch; jedoch sollien nicht mehr als 5 g NaCI pro I kg
Kupfer(l)-chlond zugegeben werden. F.ine Zugabe des Komplexbildners erübrigt sich, wenn nur bei höheren
Temperaturen, beispielsweise über 60"C zcmentieri
wird, da Kupfer (l)-chlorid in Gegenwart des bei der
Reaktion entstehenden MctallchlorieK r. B f-'eC'lj. bei
diesen Temperaturen eine für die Zementation hihrci*
chendc Löslichkeit aufweist Der höheren Temperatur
und damit der höfmälerwelse gröberen Abscheidung
entsprechend, muß mit intensivem Rühren im Reaktionsgefäß
begegnet werden.
Als Reduktionsmittel dient in erster Linie mclalll· sches Eisen, das z. B. in Form von Eisenpulver, Spänen
oder Schrott eingesetzt wird. Neben Eisen können aber auch andere Metalle, die in der Spannungsreihe
unterhalb des Kupfers stehen, verwendet werden, wie z. B. Zink, Aluminium.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei Temperatüren
zwischen 0 und 80"C, vorzugsweise zwischen 20 und 50° C, durchgeführt Der pH-Wert der wäßrigen
Dispersion liegt während der Präzipitation zwischen 1 und 8. Eine gegebenenfalls notwendige Einstellung eines
in diesem Bereich liegenden pH-Wertes kann mit solchen verdünnten Säuren oder Laugen bzw. Salzen
erfolgen, die das Verfahren nicht nachteilig beeinflussen, oder aber mit dem Zementierungsmittel selbst
Nachdem die Präzipitation beendet ist, wird das Kupfer-Kupfer(I)oxid-Pulver von der Reaktionsflüssig- π
keit abgetrennt getrocknet und gegebenenfalls anschließend einer zusätzlichen mechanischen oder
chemischen Behandlung unterworfen.
Ein derart hergestellter Kupfer-Katalysator eignet sich, wie bereits erwähnt hervorragend als Katalysator
für die Rochow-SyntJiese.
Anhand des folgenden Beispiels soll das erfindungsgemäöe
Verfahren noch näher erläutert werden.
In ein Reaktionsgefäß von 300 mm Durchmesser und 530 mm Höhe mit eingebautem Propellerrührwerk von
80 mm Durchmesser wurden 15 g NaCI, 1,69 kg Eisenpulver mit 60 μπι Korngröße und 6 kg CuCl
eingefüllt. Nach Zugabe von 22 kg H2O wurde 20 Min.
mit einer Tourenzahl von 12Ü0 U/Min, bei verschlossenem Deckel gemischt, wobei die Temperatur innerhalb
von 5 Min. bis auf 59° C anstieg. Nach 20 Min. war die Präzipitation des Cu/Q^O-PuIvers beendet, wobei sich
ein pH-Wert entsprechend dem Hydrolysengleichgewicht von Eisen-(Ill) bzw. Eisen-(III)-chlorid einstellt
Der Cu2O-AnteiI betrug 3%. Nach Abtrennung der Reaktionsflüssigkeit wurde das Produkt in einem
Stromtrockner an Luft getrocknet und 20 See in einer Stiftmühle geschlagen. Mit diesem Pulver, eingesetzt als
Katalysator bei der Rochow-Synthese, wurde ein Teil von 90% Dimethyldichlorsilan erhalten.
Claims (3)
1. Kupfer-Katalysator mit einem Anteil von 0,1 bis 10 Gew.-% Kupfer(I)-oxid und einer Korngröße von
0,1 bis 10 Mikron, erhältlich durch Zementation, dadurch gekennzeichnet, daß man eine
Dispersion von Kupfc-flJ-chlorid in Wasser, gegebenenfalls
in Gegenwart eines Komplexbildners, der in der Lage ist, geringe Mengen von Kupfer(I)-chlorid
zu lösen, mit einem Metall, das in der Spannungsreihe der Elemente unterhalb des Kupfers steht, unter
Rühren bei pH-Werten zwischen 1 und 8 und bei einer Temperatur zwischen 0 und 800C umsetzt und
das Zementationsprodukt gegebenenfalls einer mechanischen und/oder chemischen Nachbehandlung
unterwirft
2. Verfahren zur Herstellung eines Kupfer-Katalysators
gemäß Anspruch 1 durch Zementation, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Dispersion
von Kupfer(I)-clorid in Wasser, gegebenenfalls in Gegenwart eines Komplexbildners, der in der Lage
ist, geringe Mengen von Kupfer(i)-chiorid zu lösen, mit einem Metall, das in der Spannungsreihe der
Elemente unterhalb des Kupfers steht unter Rühren bei pH-Werten zwischen 1 und 8 und bei einer
Temperatur zwischen 0 und 80° C umsetzt und das Zementationsprodukt gegebenenfalls einer mechanischen
und/oder chemischen Nachbehandlung unterwirft.
3. Verwendung des Kupfer-Katalysators gemäß Anspruch I für die Rochow-Synthese.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722214611 DE2214611C3 (de) | 1972-03-25 | 1972-03-25 | Kupfer-Katalysator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722214611 DE2214611C3 (de) | 1972-03-25 | 1972-03-25 | Kupfer-Katalysator |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2214611A1 DE2214611A1 (de) | 1973-09-27 |
DE2214611B2 DE2214611B2 (de) | 1979-07-05 |
DE2214611C3 true DE2214611C3 (de) | 1980-04-10 |
Family
ID=5840133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722214611 Expired DE2214611C3 (de) | 1972-03-25 | 1972-03-25 | Kupfer-Katalysator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2214611C3 (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2750556A1 (de) * | 1977-11-11 | 1979-05-17 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von katalyt-kupfer |
DE2811853A1 (de) * | 1978-03-17 | 1979-09-27 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von kupferkatalysatoren |
DE3103328A1 (de) * | 1981-01-31 | 1982-08-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von kupferpulvern mit hoher oberflaeche |
DE3209744C2 (de) * | 1982-03-17 | 1985-06-05 | Preussag AG Bauwesen, 3005 Hemmingen | Durchflußmeldegerät |
DE3312775A1 (de) * | 1982-04-16 | 1983-10-27 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Verfahren zum herstellen von methylchlorsilanen |
-
1972
- 1972-03-25 DE DE19722214611 patent/DE2214611C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2214611B2 (de) | 1979-07-05 |
DE2214611A1 (de) | 1973-09-27 |
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