DE2152749B2 - Einrichtung zur messung der neigungsaenderung der kippachse - Google Patents

Description

Erfindungsgemäß wird dies erreicht durch Mittel Das Mittel dieser beiden Relativmessungen ergibt

zur Messung der Ablenkung dieses oder mindestens 50 die mittlere Abweichung beider Lagen zum Horizont, eines zweiten optischen Strahlenganges durch den Durch Einstellen des Instrumentes auf diesen Mittelsich selbsttätig horizontierenden Kompensator senk- wert kann die Kippachse so eingestellt werden, daß recht oder annähernd senkrecht zum Zielazimut. Mit beide Lagen um den gleichen Betrag vom Horizont Hilfe der erfindungsgemäßen Einrichtung kann der abweichen und das Meßergebnis dann nicht korrierwähnte Korrekturwert durch Koinzidieren einer 55 giert werden muß. Da das Instrument aber in jedem Strichmarke im Ablesemikroskop und Ablesen einer Azimut neu horizontiert werden müßte, ist es einfabesonderen Skalenscheibe bestimmt werden. eher, die Differenz der Kippachsneigung beider La-

Die Messung erfolgt mit Hilfe eines in einer Ebene gen zu erfassen und als Korrekturwert in die Rechwirksamen Kompensators, der von einem, einen In- nung einzuführen. Der Wert selbst kann an der Skala dex abbildenden optischen Strahlengang durchsetzt 60 in "/^cc abgelesen werden.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

1 2

wird und eine Neigungsänderung der Alhidade in

Patentansmuch· Richtung der Kippachse anzeigt. Da man annehmen

ratentanspmcn. _kann? daß sich während einer Messung in beiden La-

Einrichtung an Vermessunisinstrumenten zur gen die Position der Kippachslager relativ zur Alhi-Messung des Korrekturwertes ~der Neigungsände- 5 dade nicht verändert, lassen sich die gemessenen rung der Kippachse für Messungen in zwei Fern- Werte als Neigungsdifferenz der Kippachslager gerohrlagen, mittels eines in einer Ebene selbsttätig genüber der Alhidade bezeichnen. , „ , . ,

horizontierenden Kompensators, der einen einen Bei dieser Messung setzt man voraus, daß bei der

Index oder eine Teilung des Vertikalkreises ab- heute erreichbaren Rundlaufgenauigkeit der Kippbildenden, in einer die Richtung des Zielazimutes io achszapfen der Taumelfehler der Kippachse verenthaltenen Ebene verlaufenden optischen Strah- nachlässigbar klein ist. Die Kippachsenschiefe selbst lengang beeinflußt, gekennzeichnet wird bekanntlich durch die Messung in beiden Lagen durch Mittel zur Messung der Ablenkung die- eliminiert.

ses oder mindestens eines zweiten optischen Im folgenden wird an Hand der Zeichnung

Strahlenganges durch den sich selbsttätig hon- 15 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung naher bezontierenden Kompensator senkrecht oder annä- schrieben. Die Abbildung zeigt eine halbschemahernd senkrecht zum Zielazimut. tische Darstellung der Kippachse, des Vertikal

kreises, des abbildenden Systems für die Vertikalkreisablesung, die Ablesung der Kippachsenneigurg,

20 einen Flüssigkeitskompensator und eine Meßeinrich-

tung in Form eines Planplattenmikrometers. Die schematische Darstellung der beiden Kippachsenlager ist mit 1 und 2 bezeichnet, 3 stellt den Vertikal-

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung an Ver- kreis, 4 den Flüssigkeitskompensator und 5 die Planmessungsinstrumenten zur Messung des Korrektur- 25 plattenmikrometermeßeinrichtun« dar. Die Strichwertes der Neigungsänderung der Kippachse für marke 6 wird durch das Objektiv 7 über das Prisma 3 Messungen in zwei Fernrohrlagen, mittels eines in auf den Vertikalkreis 3 abgebildet. Diese Zwischeneiner Ebene selbsttätig horizontierenden Kompensa- abbildung der Strichmarke liegt im Brennpunkt des tors, der einen einen Index oder eine Teilung des Objektivs 9, welches über die Umlenkprismen 10, 11 Vertikalkreises abbildenden, in einer die Richtung 30 und 12 den parallelen Strahlengang an der Oberdes Zielazimutes enthaltenen abene verlaufenden op- fläche der Flüssigkeit des Kompensators 4 reflektietischen Strahlengang beeinflußt. ren läßt und ihn durch das Objektiv 13 in dessen

Dieser Korrekturwert wird Lisher mit Hufe einer Brennebene zum zweitenmal abbildet, wobei er die auf die Kippachse oder auf die Kippachslager auf- Planplatte des Mikrometers durchsetzt,
setzbaren Reiteiiibelle ermittelt. 35 Über ein weiteres, hier nicht gezeichnetes Abbil-

Es sind Kompensatoren bekannt, die die horizon- dungssystem wird die Zwischenabbildung 6" auf die tale Referenz eines Vermessungsinstrumentes in Gesichtsfeldblende 14 in 6'" abgebildet. Wird das Richtung des Zielazimutes selbsttätig einstellen. Meßsystem in Richtung der Kippachse geneigt, er-Solche Kompensatoren werden in der Regel als ein- folgt eine Auslenkung, die in der Abbildung zum achsige Pendel ausgebildet, so daß sie in einer Pich- 40 Zwischenbild Έ" führt. Durch Drehen des Planplattung, der des Zielazimutes, arbeiten können. tenmikrometers wird diese Auslenkung so rückgängig

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine gemacht, daß die Strichmarke in der Abb. 6'" im Einrichtung der eingangs erwähnten Art zu schaffen, Zwischenraum des auf der Gesichtsfeldblende 14 anbei welcher sich ein in einer Ebene wirkender, also gebrachten Doppelstriches symmetrisch zu liegen den Horizont in allen Richtungen anzeigender Korn- 45 kommt. Die relative Drehung des Planplattenmikropensator zur Ermittlung des besonders bei steilen Vi- meters wird sodann mittels der angebrachten Skala suren wirksamen Fehlers der Kippachsneigung ver- meßb?r erfaßt. Dieser Vorgang wird nach Drehung wenden läßt. des Instrumentes um etwa 180° wiederholt.