DE2150105B2 - Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters - Google Patents

Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters

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Description

30
Die Erfindung befaßt sich mit einem Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung.
Wenn ein Metallelement, welches normalerweise magnetisch ist und im ionisierten Zustand in einem Plattierbad beim elektrischen Plattieren oder stromfreien Plattieren ist, plattiert wird, wachsen die Kristalle auf dem Träger und die Größe der Teilchen oder die Stärke des Films nimmt zu. Wenn das Metall einem äußeren Magnetfeld im Übergangszustand von dem paramagnetischen Zustand zum ferromagnetischen Zustand unterworfen wird, ändert sich das Verhältnis der verbleibenden magnetischen Flußdichte zu der gesättigten verbleibenden magnetischen Flußdichte der plattierten Schicht entsprechend der Intensität des Magnetfeldes. .; . -
Die Stärke der plattierten Schicht als Endprodukt soll mindestens 0,1 μ, vorzugsweise etwa 1 μ., im Hinblick auf die Empfindlichkeit der Wiedergabevorrichtung sein. Um diese Stärke zu erhalten, ist ein Zeitraum von etwa 50 Sekunden notwendig, um eine plattierte Schicht von 0,1 μ Stärke bei einer Stromdichte von 0,6 A/dm2 unter gewöhnlichen Plattierbedingungen zu bilden. Für eine Stärke von 1 μ ist es notwendig, sowohl die Vorlage und den Träger zu plattieren, dann in ein Plattierbad während etwa 500 Sekunden einzutauchen, während sie in inniger Berührung miteinander Das erfindungsgemäße Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung, ist dadurch gekennzeichnet, daß ein dünner, zu plattierender Träger in innigem Kontakt mit der magnetischen Aufzeichnungsoberfläche des Aufzeichnungsträgers, der das wiederzugebende Magnetisierungsmuster hat, gebracht wird, die Plattierung unter Anwesenheit des Magnetfeldes dieses Magnetisierungsmusters auf dem Träger ausgeführt wird, bis die durchschnittliche Stärke der erhaltenen magnetischen plattierten Schicht mindestens 50 A erreicht, der das Magnetisierungsmuster tragende Aufzeichnungsträger entfernt wird und die Plattierung des Trägers in Abwesenheit eines Magnetfeldes fortgesetzt wird.
Vorzugsweise wird der Aufzeichnungsträger in Form eines Bandes, eines Blattes oder einer Karte, einer Scheibe oder Trommel angewandt.
Ein Vorteil der Erfindung beruht darauf, daß es nicht notwendig ist, die Plattierung bis zur erforderlichen Schichtdicke in Gegenwart des Magnetfeldes des zu kopierenden Magnetisierungsmusters auszuführen, sondern das gewünschte Ergebnis kann erhalten werden, wenn die Plattierung unter dem Magnetfeld des Magnetisierungsmusters so lange ausgeführt wird, bis die durchschnittliche Stärke der plattierten Schicht mindestens 50 A erreicht hat.
Es ergibt sich hierdurch ein rasches und einfaches Verfahren zur Vervielfältigung von Signlaen auf einem Magnetband. Es werden lange Kontaktzeiträume zwischen dem Aufzeichnungsträger und der Vorlage beim Plattieren vermieden. Dies ist besonders vorteilhaft im Hinblick auf die Tatsache, daß im allgemeinen das Plattierbad eine starke Acidität oder Alkalinität oder Oxidationseigenschaften aufweist und deshalb, wenn die Materiahen hierin während längerer Zeiträume eingetaucht werden, Änderungen der magnetischen Aufzeichnungsschicht der Vorlage beobachtet werden. Weiterhin treten beim kontinuierlichen Plattieren Schwierigkeiten in Folge der Feuchtigkeitsabsorption auf, die durch die verkürzte Kontaktzeit beim erfindungsgemäßen Verfahren vermieden werden. Mit dem hier angewandten Ausdruck »Plattieren« wird ein Verfahren bezeichnet, durch das ein dünner Film eines ferromagnetischen Metalls, beispielsweise Eisen, Kobalt oder Nickel, oder einer ferromagnetischen Legierung, wie Co-Ni, Fe-Co-Ni, Co-Ni-Cu, Co-(P), Co-Ni(P), Ni-Co-Ag, Ni-Co-Nd, Ni-Co-Ce, Ni-Co-Zn, Ni-Co-B oder Co-B elektrisch (elektrische Plattierung) oder chemisch (stromlose Plattierung) oder durch eine Kombination von elektrischer und stromloser Plattierung gebildet wird.
Beispiele für Elektroplattierbäder sind Sulfatbäder, Chloridbäder, Sulfaminsäurebäder, Borfluoridbäder, Pyrophosphorsäurebäder oder Sulfat/Chlorid-Bäder. Beispiele für stromlose Plattierungsbäder umfassen Sulfatbäder, Chloridbäder, Hypophosphorsäurebäder, Acetatbäder und Formiatbäder. Als Reduziermittel
stehen.
Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines Ver- 60 können Hypophosphite, Borhydridverbindungen und f ahrens zur leichteren Vervielfältigung von Aufzeich- Derivate hiervon, Hydrazin und dgl. verwendet werden, nungsträgern, wie Magnetbändern, durch Plattieren, wobei die benötigte Zeit, um das Magnetband mit den darauf aufgezeichneten Signalen in innigen Kontakt mit dem plattierten Band, auf das die Signale zu über- 65 tragen sind, zu bringen, abgekürzt wird und infolgedessen lange Kontaktzeiträume zwischen denselben in einem Plattierbad vermieden werden.
Beispiele für Magnetisierungsmuster, die im Rahmen der Erfindung verwendet werden können, sind solche, welche durch Dispersion von y-Fe2O3-Pulver, mit Co versetztem y-Fe2O3-Pulver, Magnetitpulver, mit Co oder einem anderen Metall versetztes Magnetitpulver, CrO2, Fe-Co-Ni oder Legierungen von anderen Zusammensetzungen in einem organischen
Binder, wie Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymerem, Cellulosederivaten, Phenolharzen, Epoxyharzen oder Polyurethanharzen, Aufziehen der Dispersion auf einen Träger zur Bildung der magnetischen Aufzeichnungsschicht auf einem Magnetband, einer Magnetkarte, einer Magnetscheibe oder einer Magnettrommel oder durch Ausbildung einer magnetischen Aufzeichnungsschicht aus Fe-Co, Co-Ni, Co-P, Co-Ni-P oder Co-Ni-Cu durch Plattierung auf einem Magnetband, Magnetkarte, Magnetscheibe oder einer Magnettrommel an Stelle der Anwendung eines pulverförmigen magnetischen Materials und Aufzeichnung der Informationen, wie Ton-, Bild- oder elektrischen Signalen auf derartigen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien erhalten wurden.
Wenn der Abstand zwischen der magnetischen Aufzeichnungsoberfläche und der plattierten Schicht etwa im Bereich der Aufzeichnungswellenlänge von der ersteren liegt, kann eine besonders wirksame Übertragung erhalten werden. Die Aufzeichnungswellenlänge wird dabei wie folgt definiert: Wenn die Laufgeschwindigkeit eines magnetischen Aufzeichnungsbandes durch »v(cm/sec)<< und die Frequenz des aufzuzeichnenden Signals durch »f(cyclen/sec)<< dargestellt werden, wird die Aufzeichnungswellenlänge durch »v/f(cm)<< wiedergegeben. Falls der Abstand wesentlich stärker als die Aufzeichnungswellenlänge wird, wird die Auflösungsstärke an den Stellen mit einer hohen Aufzeichnungsdichte verringert. Zur Anwendung bei der Aufzeichnung von magnetischen Bildern, elektrischen Signalen von relativ niedriger Aufzeichnungsdichte oder Tonsignalen wird ein geeigneter Träger durch Vakuumabscheidung des elektrisch leitenden Metalls, wie Kupfer auf einem Polyesterträger mit einer Stärke von 10 bis 100 μ oder durch Behandlung dieses Trägermaterials mit Zinn-(II)-chlorid zur Aktivierung für die stromfreie Plattierung erhalten.
In den Zeichnungen stellt Fig. 1 ein Kurvendiagramm, das die Intensität des äußeren Magnetfeldes während des Plattierens in Bezug zu dem Verhältnis der verbliebenen Flußdichte gegenüber der verbliebenen Sättigungsflußdichte zeigt,
Fig. 2 ein Kurvendiagramm, das die Stärke der unter dem Einfluß des äußeren Magnetfeldes erhaltenen plattierten Schicht bezüglich dem Verhältnis der verbliebenen Flußdichte zu der verbliebenen Sättigungsflußdichte zeigt, und
Fig. 3 eine Ansicht, die eine spezifische Ausführungsform zeigt, dar.
Die folgenden Beispiele erläutern die vorliegende Erfindung im einzelnen.
Beispiel 1
1. Eine 50 μ dicke elektrolysierte Kupferplatte wurde in ein Plattierbad von folgender Zusammensetzung eingetaucht und elektrisch während 5 Minuten unter den folgenden Bedingungen plattiert:
Zusammensetzung des Plattierbades
NiSO4-7H2O 60g
NiCl2-OH8O 10 g
CoSO4 -7 H2O 60 g
CoCl2-OH2O 10 g
CuSO4 · 5 H2O 5 g
H3BO3 15 g
Formalin 2 g
Natrium-l,5-naphthalin-disulfonat.. 3 g
Wasser zu 11
Elektroplattierbedingungen
Temperatur des Plattierbades 40° C
pH des Plattierbades 5,0
Stromdichte 0,6 A/dm2
Die je Sekunde unter den vorstehenden Bedingungen abgeschiedene Stärke der plattierten Schicht betrug 10 A. Die Stärke der plattierten Schicht wurde nach dem Gewichtsverfahren berechnet, wobei die durchschnittliche Stärke als Wert erhalten wird, indem das Gewicht des plattierten Metalls durch die Fläche der plattierten Oberfläche und das spezifische Gewicht der plattierten Substanz dividiert wird.
Während des Plattierarbeitsgangs wurde ein gleichförmiges äußeres Magnetfeld auf das Plattierbad zur Einwirkung gebracht. Die Intensität des äußeren Magnetfeldes wurde bei jeder Probe geändert. Das Verhältnis von Br zu Brs (verbliebene Flußdichte zur verbliebenen Sättigungsflußdichte) wurde bei jeder Probe bestimmt. Die Beziehung zwischen Br/Brs (%) und der Intensität des äußeren Magnetfeldes (Einheit oe) ist hinsichtlich der untersuchten Proben in Fig. 1 gezeigt.
2. Eine elektrolysierte Kupferplatte wurde elektrisch in der gleichen Weise wie vorstehend unter 1. plattiert. Die Intensität des äußeren Magnetfeldes, das auf das Plattierungsbad einwirkte, wurde konstant (100 oe) gehalten und die Plattierungszeit, d. h. die Stärke der plattierten Schicht, bei jeder der 10 Proben geändert.
3" Nach dem Elektroplattieren unter dem Einfluß des äußeren Magnetfeldes wurde die Elektroplattierung erneut in Abwesenheit des Magnetfeldes durchgeführt. Die gesamte Plattierzeit betrug 5 Minuten. Der Br/Brs-Wert jeder Probe in Richtung des Magnetfeldes wurde bestimmt. Die Beziehung der Br/Brs-Werte (%) und die Stärke der plattierten Schicht (Einheit A, entsprechend der Plattierzeit) die beim Elektroplattieren unter Einfluß des äußeren Magnetfeldes erhalten wurde, ist in Fig. 2 gezeigt.
4< Es ergibt sich aus den Werten in den Fig. 1 und 2, daß die plattierte Schicht voll magnetisiert wurde, selbst in einem sehr schwachen Magnetfeld. Wenn weiterhin die Plattierung ausgeführt wurde, bis die durchschnittliche Stärke der plattierten Schicht min-
destens 10 A erreichte, war die plattierte Schicht voll in Richtung des anfänglichen magnetischen Feldes magnetisiert, selbst wenn in Abwesenheit des äußeren Magnetfeldes gearbeitet wurde.
Beispiel 2
Signale (1 KHZ) wurden auf ein Audioband gegeben, das mit 7-Fe2O3 überzogen war (Bandgeschwindigkeit 19 cm/sec). Die magnetische Oberfläche des Audiobandes wurde in innigen Kontakt mit einer Trägerschicht gebracht, die durch Vakuumaufdampfung von Kupfer von 0,4 μ Stärke auf eine Polyäthylenterephthalatgrundlage mit einer Stärke von 25 μ erhalten worden war, und die Elektroplattierung wurde unter den folgenden Bedingungen aus einem Bad mit der nachfolgenden Zusammensetzung durchgeführt:
Zusammensetzung des Plattierbades
NiSO4 · 7 H2O 30 g
NiCl2 · 6 H2O 5 g
CoSO4 · 7 H2O ... 30 g
CoCl2-OH2O 5 g
NaH2PO2 · H2O 2 g
NH4Cl 60 g
5 6
Natrium-2,5-naphthalindisulfonat .. 3g Stärke von 0,1 μ zur Bildung der Magnettrommel 3
Wasser zu 11 plattiert. Auf der Oberfläche der Magnettrommel
Plattierbedingungen , wurde ein Löschkopf 4 und ein Aufzeichnungskopf 5
ΛΑΑΜ2 angebracht. Die Signale wurden auf der Magnettrom-
Stromdicnte .... Ob A/am 5 me, 3 mittels des Aufzeichnungskopfes 5 aufgezeichnet
pH-Wert des Platt.erbades 3 0 und die signa]e durch den Löschkopf 4 gelöscht, so
Temperatur des Plattierbades,...... 40 G daß erneut eine Aufzeichnung durch den Aufzeich-
Die folgenden Versuche wurden unter den vorste- nungskopf 5 erfolgen konnte. In der Fig. 3 bezeichnet
heriden Bedingungen ausgeführt: das Symbol Θ die negative Pol walze (Kathode), und
A) Das Audioband wurde in innigen Kontakt mit 10 das Zeichen © den positiven Polteil (Anode).
dem Poiyäthylenterephthalatträger gebracht, und die Die Laufgeschwindigkeit des Polyäthylenterephtha-
Plattierurig in diesem Zustand während 280 Sekunden latträgers 6 mit dem darauf durch Vakuumabscheidung
ausgeführt, bis die durchschnittliche Stärke der plat- abgeschiedenen Kupfer wurde mit der Drehgeschwin-
tierten Schicht 0,6 μ erreichte. digkeit der magnetischen Trommel oberfläche synchro-
B) Nach 30 Sekunden seit Beginn der Plattierung 15 nisiert und auf eine Geschwindigkeit von 19 cm/sec wurde der Poiyäthylenterephthalatträger von dem eingestellt. Im Plattierbad rotierte die Trommel 3, Audiobänd abgetrennt und der Pqlyäthylenterephtha- während die Oberfläche des Polyäthylenterephthalatlatträger allein weiterhin plattiert, bis die durchschnitt- trägers 6 in innigem Kontakt mit der Oberfläche der liehe Stärke der plattierten Schicht 0,6 μ betrug. Inner- Magnettrommel war, und der Polyäthylenterephthalathalb eines Zeitraums von 30 Sekunden erreichte die 20 träger wurde während 3 Sekunden in das Plattierbad Stärke der plattierten Schicht 600 Ä. durch die Drehung der Trommel eingetaucht. Während
Die Bestimmung der Stärke der plattierten Schicht dieser Zeit wurde eine magnetische Schicht auf der
erfolgte nach dem Gewichtsverfahren. Kupferoberfläche mit einer Stromdichte von 1,2 A/dm2
Jedes plattierte Band wurde auf Wiedergabe unter- plattiert. Der Poiyäthylenterephthalatträger wurde von
sucht, und es wurde festgestellt, daß der Wiedergabe- 25 der Magnettrommel abgetrennt und erneut in ein Bad
pegel des plattierten Bandes bei dem vorstehenden mit der gleichen Zusammensetzung eingetaucht. Die
Versuch A)+5 d/? betrug. Beim Versuch B) betrug der Plattierung wurde während 150 Sekunden bei einer
Wiedergabepegel des plattierten Bandes +4,8 dß. Stromdichte von 0,6 A/dm2 ausgeführt. Die Stärke der
Praktisch der gleiche Wiedergabepegel wurde bei bei- abgeschiedenen plattierten Schicht betrug 0,3 μ, und
den Versuchen A) und B) erhalten. 30 die Stärke der während des Kontaktes mit der Magnet-
Der Wiedergabepegel des bei den Versuchen A) und trommel plattierten magnetischen Schicht betrug 120 A.
B) verwendeten Audiobandes betrug +3 dß. Der Wert Hc des in der vorstehenden Vorrichtung
... und mit den vorstehenden Verfahrensstufen plattierten
Beispiel 3 magnetischen Plattierbandes betrug 800 Oe, und die
Unter Anwendung des in Fig. 3 gezeigten Plattier-. 35 auf der Magnettrommel aufgezeichneten Signale wur-
bades 1 wurde die Elektroplattierurg in einem Ni-Co- den auf dem Plattierband wiedergegeben.
Cu-Bad 2 mit der gleichen Zusammensetzung wie in Unter Anwendung dieser Vorrichtung war es mög-
Beispiel 1 ausgeführt. Zunächst wurde eine magne- lieh, ein plattiertes Band herzustellen, wobei die Signale
tische Schicht vom Ni-Co-P-Typ (Hc 250 oe) auf der auf der Magnettrommel aufgezeichnet waren, und auf
Oberfläche einer Trommel mit einem Durchmesser von 40 diese Weise kontinuierlich Aufzeichnungsbänder her-
30 cm plattiert und eine Rh-Schicht hierauf in einer zustellen.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung, dadurch gekennzeichnet, daß ein dünner, zu plattierender Träger in innigem Kontakt mit der magnetischen Aufzeichnungsoberfläche des Aufzeichnungsträgers, der das wiederzugebende Magnetisierungsmuster hat, gebracht wird, und die Plattierung unter Anwendung des Magnetfeldes dieses Magnetisierungsmusters auf dem Träger ausgeführt wird, bis die durchschnittliche Stärke der erhaltenen magnetischen plattierten Schicht mindestens 50 A erreicht, der das Magnetisierungsmuster tragende Aufzeichnungsträger, entfernt wird und die Plattierung des Trägers in Abwesenheit eines Magnetfeldes fortgesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Aufzeichnungsträger in Form eines Bandes, eines Blattes oder einer Karte, einer Scheibe oder Trommel angewandt wird.
25
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