DE2147058C3 - Optisches System - Google Patents
Optisches SystemInfo
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- DE2147058C3 DE2147058C3 DE19712147058 DE2147058A DE2147058C3 DE 2147058 C3 DE2147058 C3 DE 2147058C3 DE 19712147058 DE19712147058 DE 19712147058 DE 2147058 A DE2147058 A DE 2147058A DE 2147058 C3 DE2147058 C3 DE 2147058C3
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
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- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
Description
Zahlen beispiel: | f = | Dicken und | + 46.3 |
Brennweite | Abbildungsmaßstab η = | Abstände | _2 |
Radien | |||
dx = 3 | |||
r, = +65,325 | |||
/ = 24 | 1,5163 | ||
r2 = +13,146 | |||
d2 = 15 | 1,0000 | ||
r3 = +175,76 | |||
1,6385 | |||
r4 = -34,32 |
3°
35
40
Die Erfindung betrifft ein optisches System für photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtungen, das zusammen
mit dem photoelektrischen Wandler bzw. Photoelement außerhalb des Kopier- bzw. Reproduktionsstrahlenganges.
z. B. in Mikrofilmaufnahmekameras, angeordnet ist.
Bekannt sind photoelektrische Beüehtungsmeßeinrichtungen
für Reproduktionszwecke, bei denen die Kopiervorlage auf Grund unterschiedlicher Remission
zwecks Einstellung der Belichtung für das Filmaufnahmematerial mittels lichtelektrischen Empfängers abgemessen
wird. Dabei kann sowohl integral, teilintegral als auch partiell gemessen werden und die hierzu benutzten
optischen Systeme zum Zwecke einer Abbildung der beleuchteten Vorlage auf dem Photoelement sind in der
Regel Normalobjektive.
Bekannt ist in diesem Zusammenhang, einen Photoelektrischen Empfänge1· in der Bildebene eines optischen
Sysiems von gleicher Brennv/eite wie das Kameraobjektiv anzuordnen und die Scharfeinstellung
beider Objektive miteinander zu kuppeln. Die Objektive sind dabei so angeordnet, daß Messung und damit
Regelung zwar auch während der Aufnahme erfolgen können, die Messung erfolgt hier aber mindestens <,5
teilintegral. Diese bekannten integralen oder teilintegralen Meßmethoden führen jedoch in jedem Falle auf
Grund der unterschiedlichen Deckung der Kopiervorlagen zu Belichtungs-Fehlergebnissen, was zu unterschiedlichen
Dichten an den informationsfreien Stellen auf dem Filmmaterial führt. Bei partiellen Belichtungsmessungen wird eine kleine Fläche der Kopiervorlage,
also partiell auf dem Photoempfänger, abgebildet. Bei bekannten partiellen Belichtungsmeßeinrichtungen für
Reproduktionszwecke, wie dies beispielsweise für Mikrofilmaufnahmekameras Anwendung findet, wird
vor der Bild-Reproduktionsaufnahme die Stelle mit dem größten Remissionsvermögen der Kopiervorlage individuell
gemessen, indem die Belichtungsmeßeinrichtung manuell über die auszumessende Fläche gebracht wird.
Der hierbei ermittelte Meßwert ist auf die Einstellung der Belichtungsparameter zu übertragen oder für den
automatischen Belichtungsvorgang in geeigneter Weise zu speichern. Nach erfolgter Messung muß die
Belichtungsmeßeinrichtung von der Kopiervorlage entfernt werden, um die Aufnahme durchführen zu
können.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein optisches Meßsysttm
zu schaffen, das derart konstruiert ist, daß es während des Kopiervorganges außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges
verbleibt, so daß eine partielle photoelektrische Messung auch während des Kopiervoigaivges
erfolgen kann, ohne daß die gemessenen Belichtungswerte gesondert gespeichert werden müssen.
Die Erfindung löst die Aufgabe in der Weise, daß zur partiellen Abbildung des Meßfeldes der Kopiervorlage
auf dem Photoempfänger ein aplanatisch korriegiertes, zweigliedriges optisches System vorgesehen ist, dessen
Konstruktionsdaten sich wie folgt verhalten:
wobei die Konstruktionsdaten mit den im Zahlenbeispiel aufgeführten Werten übereinstimmen:
Zahlenbeispiel:
Brennweite / = +46,3
Abbildungsmaßstab f. — —2
Radien Dicken und nd
Abslände
= +65,325
= +13,146
= +13,146
= +175.76
= -34,32
i, = 3 1,5163
' = 24 1.0000
h = 15 1,6385
Die sich aus der Erfindung ergebenden Vorteile sind darin zu sehen, daß eine partielle Messung mit der
Belichtungseinrirhtung auf Grund des optischen Systems
auch während des BelichtLngsvorganges möglich ist, wobei Fehlergebnisse — beispielsweise durch
kurzzeitige Spannungsschwankungen und Fremdlichtbeeinflussung — in der Vorlageebene weitgehendst
ausgeschlossen sind. Das optische System zeichnet sich durch einen einfachen Aufbau einer zweigliedrigen
aplanatisch korrigierten Anordnung aus, wodurch eine befriedigende Aplanasie, z. B. bei einem Abbildungsmaßstpb
β = —2. erreicht wird. Außerdem kann das
optische System, ohne den Kopiersirahlengang zu
behindern, näher an die Bildebene herangebracht werden als ein Normalobjektiv gleicher Brennweite.
Bedienungshandgiiffe sind bei dieser Belichtungsmeßeinrichtung nicht notwendig.
An Hand eines Ausführungsbeispieles ist die Erfindung dargestellt und beschrieben.
Es zeigt in schematischer Darstellungsweise:
F i g. 1 die photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtung
mit dem optischen System außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges einer photographischen
Kopiereinrichtung.
In einem nicht näher dargestellten Reproduktionsgerät.
/. B. einer Mikrofilmaufnahmekamera gemäß Fig. 1. befindet sich eine Vorlagenebene 1 für das zu
reproduzierende nicht gezeige Blattmaterial. Parallel 7ur Vorlagenebene 1 befindet sich die Filmaufnahmeebene 2 und ein dazwischen angeordnetes Aufnahmeobjektiv
3. Eine nicht näher dargestellte Beleuchtungseinrichtung sorgt für die Beleuchtung der aufzunehmenden
Vorlage. Außerhalb des vom Aufnahmeobjektiv 3 bestimmten Strahlenkegels sind angeordnet ein optisches
System 4 und ein Phoioempfänger 5. In Achsrichtung des optischen Systems 4 befindet sich in
ίο der Vorlagenebene 1 das Meßfeld 6 — . Die Hauptebenen
H und H' vom optischen System 4 befinden sich vor
diesem im Objektraum der Kopereinrichtung. Zwecks Markierung des Meßfeldes 6 in der Vorlagenebene 1 ist
in Achsrichtung des optischen Systems 4 ein Beleuchlungseinrichtung 7 vorgesehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Optisches System für photoelektrische Belichtungsmeßeinriiehtungen, das zusammen mit d&n photoelektrischen Empfänger außerhalb des Kopier- bzw. Reproduktionsstrahlenganges von Kopier- oder Reproduktionsgeräten, z. B. in Mikrofilmaufnahmekameras angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß zur partiellen Abbildung des Meßfehlers (6) auf dem Photoelement (5) ein aplanatisch korrigiertes, zweigliedriges optisches System (4) vorgesehen ist, dessen Konstruktionsdaten sich wie folgt verhalten:— = +5; ^U -5:j_
1wobei die Konstruktionsdaten mit den im Zahlenbeispiel aufgeführten Werten übereinstimmen:
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD15575371 | 1971-06-14 | ||
DD15575371 | 1971-06-14 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2147058A1 DE2147058A1 (de) | 1972-12-28 |
DE2147058B2 DE2147058B2 (de) | 1976-09-23 |
DE2147058C3 true DE2147058C3 (de) | 1977-05-05 |
Family
ID=
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