DE2147058A1

DE2147058A1 - Optisches System

Info

Publication number: DE2147058A1
Application number: DE19712147058
Authority: DE
Inventors: Rolf Dipl.-Ing. χ 8053 Dresden; Kodalle Horst χ 8010 Dresden Jurenz
Original assignee: Elbe Kamera GmbH
Current assignee: Elbe Kamera GmbH
Priority date: 1971-06-14
Filing date: 1971-09-21
Publication date: 1972-12-28
Also published as: DE7211454U; DE2147058B2; CS180115B1; AT334203B; FR2141652A1; FR2141652B3; ATA291072A

Description

Dresden, am 7. 6. 197T OM/Kow.

Optisch.es System

Die Erfindung betrifft ein optisches System für photoelektrische Belichtungameßeinrichtungen, das zusammen mit den photoelektrischen Wandler bzw. Photoelement außerhalb des Kopier- bzw. Reproduktionsstrahlenganges, z.B. in Mikrofilmaufnahmekamerasangeordnet ist.

Bekannt sind photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtungen für Reproduktionszwecke, bei denen die Kopiervorlage auf Grund unterschiedlicher Remission zwecks Einstellung einer richtigen Belichtung für das Filmaufnahmematerial mittels lichtelektrischen Empfängers flächenmäßig ausgemessen werden. Hierbei kann sowohl integral, teilintegral als auch partiell gemessen werden. An die bei integralen Meßmethoden benutzten optischen Systeme zum Zwecke einer Abbildung der beleuchteten Vorlage auf dem Photoelement werden keine besonderen Forderungen an die Abbildungsleistung gestellt« Beispielsweise , ^v befinden si ch die Hauptebenen dieser optischen Abbildungssysteme innerhalb derselben. Diese bekannten integraltn oder/ teilintegralen Meßmethoden führen jedoch in jedem Falle auf Grund der unterschiedlichen Deckung der Kopiervorlagen zu Belichtungs-Fehlergebnissen, was zu unterschiedlichen Dichten on den informationsfreien ^teilen auf dem Filmmaterial führt.

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_ ρ —

Bei partiellen Belichtungsmeasungen wird eine kleine Flache der Kopiervorlage - also partiell auf dem Photoempfänger abgebildet. Bei bekannten partiellen BeiichbungaraeiäeinriG gen für Reproduktionszwecke, wie dies beispielsweise für Mikrofilmaufnahmekameras Anwendung findet, wird vor der Bild-Reproduktionsaufnahme die Stelle mit dem größten Remissionsvermögen der-Kopiervorlage individuell gemessen, indem die Belichtungsmeßeinrichtung manuell über die auszumessende Fläche gebracht wird. Der hierbei ermittelte Heßwert ist auf die Einstellung der Belichtungsparameter au übertragen oder für den automatischen Belichtungsvorgang in geeigneter Weise zu speichern. Wach erfolgter Messung muß die Beriehtungsmeßeinrichtung von der Kopiervorlage entfernt werden, um die Aufnahme durchführen zu können»

Die Erfindung bezweckt, die Bedienung der Belichtungsmeßeinrichtung zu vereinfachen, indem diese auch während des Kopier- bzw, Reproduktionsvorganges zu messen gestattet und immer außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges des Kopiergerätes verbleibt,

Aufgabe der Erfindung ist, mit einem optischen System partiell zu messen, wobei die außerhalb des Kopier- bzw, Reproduktionsstrahlenganges befindliche photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtung in einem solchen Abstand von der Kopiervorlage angeordnet ist, daß ohne Vignettierung des Aufnalimestrahlengangea die Belichtungsmessung jederzeit, also auch während

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SAD ORiGiNAt

des Itopiervorganges, erfolgen kann, ohne daß.hierbei die gemessenen Belichtungsverhältniese gesondert gespeichert werden müssen«

Die Erfindung löst die Aufgabe in der Weise, daß zur partiellen Abbildung des Meßf eldeo -der Kopiervorlage auf' d em Phot ο empfänger die Hauptebenen eines aplanatisch korrigerten optischen Systeme vor diesem im Objektraum liegen. Gemäß der Erfindung ergeben sich folgende Verhältnisse der Konstruktionsdaten bei einem zweigliedrigen System:

5-

v.'obei die Konstruktionsdaten selbst mit den im Zahlenbeispiel aufgeführten Werten übereinstimmen:

Zahlenbe ispiel; Brennweite f'₂ = + 46,3

Abbildungs- /^ = - 2 maßstab

Radien: Dicken und Abstände: n^

ν_Λ = + 65,325 d₁ = 3 1,5163

r₂ = + 13,146 1 = 24 1,0000

r₃ =+ 175,76 d₂ = 15 . 1,6385

r₄ = - 34,32

Dic sich aus der Erfindung ergebenden Vorteile sind darin zu ,---■-hen, daß eine partielle Messung mit der Belichtungseinrichtung auf Grund dos optischen Systems auch während des Belichtungsvorgan-/c möglich ii_:t, wobei Fehlergebnisse. - beispielsweise durch )'MV7.?.'. i i.i- p. Vjπιnnun '.; Schwankungen und Fremdlichtbe einf lussung

2 0 9 8 5 3/0531 ^BAD OBiGmAL.

-4-

in der Vorlagenebene weitgehendst ausgeschlossen sind. Das optische System zeichnet sich durch einen einfachen Aufbau einer zweigliedrigen aplanatisch korrigierten Anordnung aus, wodurch eine befriedigende Aplanasie, z.B„ bei einem Abbildungsmaßstab

= -2 erreicht wird. Bedienungshandgriffe sind bei dieser Belichtungsmeßeinrichtung nicht notwendig.

Zwecks Unterbrechung des Meßlichtstrahlenganges wird zwischen dem erfindungsgemäßen optischen System und dem Photοempfänger ein öektorenspiegel angeordnet. Damit ergibt sich die Möglich-, keit, eine Lichtquelle zur Markierung der partiellen Meßfläche in der Vorlagenebene abzubilden. Gemäß der Erfindung wird dies mit einem rotierenden Segmentspiegel erreicht, so daß die Markierung eines -^ichtflecks auf der Vorlagenebene im durchgehenden Strahlengang und die Belichtungsmessung im reflektierten Strahlengang erfolgt oder umgekehrt. Der sich hieraus ergebende Vorteil ist, daß während der Belichtungsmessung die Markierung in der Vorlagenebene stets sichtbar ist, so daß die Bedienungsperson jederzeit feststellen kann, an welcher Stelle der Vorlage die photoelektriöche Belichtungsmecsung erfolgt bzw. Jcjnn die B_edi_enung_Sp_erson d±_e auszuwählende Stelle der Vorlage an den Markierungsort bringen.

An Hand zweier Ausführungsbeispiele ist die Erfindung dargestellt und beschrieben.

Es zeigen in schema !.isolier Darstellungsweise:

Fig. 1 die photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtung mit dem optischen System außerhalb des Beleuchtunv-'atrphlenganges einer photographicclien Koniorcinrichtun;;;

2Ό a 8 5 3/0531 -Γ>-

SAD ORiQiNAL

_5- 2U7058

I¹¹Ir. 2 das gleiche optische System einschließlich Photoempfänger in Verbindung mit einer zusätzlichen Lichtmarkierungseinrichtung.

In einem nicht näher dargestellten Reproduktionsgerät, z.B. einer "iikrofilmaufnahmekamera gemäß Fig.1, befindet sich eine Vorlagenebene 1- für das zu reproduzierende nicht gezeigte Blattmaterial. Parallel zur Vorlagenebene T befindet 3ich die Filmaufnahmeebene 2 und ein dazwischen angeordnetes Aufnahmeob-.jektiv 3. Eine nicht näher dargestellte Beleuchtungseinrichtung sorgt für die Beleuchtung der aufzunehmenden Vorlage. Außerhalb des vom Aufnahmeobjektiv 3 bestimmten Strahlenkegels sind angeordnet ein optisches System 4 und ein Photoempfänger 5» In Achsrichtung des optischen Systems 4 befindet sich in der Vorlagenebene 1 das I.-Oßfeld 6. Die Hauptebenen H und H¹ vom optischen System 4 befinden sich vor di,esem im Objektraum der Kopiereinrichtung.

In -Pig. 2 ist das gleiche optische System 4 mit den vor diesem im Objektraum liegenden Hauptebenen H und H'. Zwecks Markierung des Meßfeldes 6 in der Vorlagenebene 1. ist in Achsrichtung des optischen Systems 4 eine Beleuchtungseinrichtung 7 vorgesehen. Zwischen dem optischen System 4 und der Beleuchtungseinrichtung 7 ist ein rotierender= segmentartiger Spiegel 8 schräg zur -"-enge de3 optischen Systems 4 angeordnet. Hierdurch wird erreicht, daß die Markierung des von der Beleuchtungseinrichtung 7 herrührenden Lichtfleckes zur Bestimmung des Meßfeldes β in der Vorlagenebeno 1 je nach Lage des Segmentspiegels 8

BAD OBiGlNAl 0 9 8.5 3/ 05 3 1

-6- ' 2U7058

im durchgehenden Strahlengang und die Belichtungsmeasung auf dem Photoelement 5 im reflektierenden Strahlengang des optischen Systems 4 erfolgt. Ea ist möglich, daß das Photoelement 5 im durchgehenden Strahlengang und dafür die Beleuchtungseinrichtung im reflektierten Strahlengang des optischen Systems 4 angeordnet ist.

BAD OR!G!NAL 209853/0531

Claims

O
I- ο

Optisches"System für photoelektrische Belichtungsmeßeinrichtung, das zusammen mit dem photoelektrischen Empfänger außerhalb des Kopier- bzw« Reproduktionsstrahlenganges, z„B. in Kopier- oder Reproduktionsgeräten, angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß zur partiellen Abbildung des Meßfeldes auf dem Photoelement die Hauptebenen eines aplanatisch korrigierten optischen Systems vor diesem im Objektraum liegen.

Optisches 3ystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Konstruktionsdaten bei einem zweigliedrigen LJystcm wie folgt verhalten:

£_* 5; 3_„ - 5, J'S_ * 2 ,

^r2 *4 - ! -

wobei die Konntruktionedaten seibat mit den im Zahlenbeispiel aufgeführten Werten übereinstimmen:

Zahl enbei SU iel: Brennweite f' = -t

—_ . ..— —,. — —— ^- ■ ■ ■■■■■ £

Abbildungs- j = maßstab

Radien Dicken und Abstände r-, = + 65,325 d₁ = 3 r₂ = + 13,146 1 = 24 T₃ =■+ 175,76 d₂ = 15 r₄ = - 34,32

46, 3 ⁿä 2 5163 0000 1, 6385 1, 1,

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Anordnung des optischen Systems nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Photoempfanger und optischem System eine den Meßstrahlengang zeitweise unterbrechende segmentartige, rotierende Spiegelscheibe schräg zum Belichtungameßstrahlengang angeordnet ist, wobei die dem Photoempfänger bzw. dem optischen System zugewandte Seite verspiegelt ist und hinter der verspiegelten Scheibe in Achsrichtung des optischen Systems eine das Meßfeld in der Vorlagenebene markierende Beleuchtungseinrichtung vorgesehen ist.

ELBE-KAMERA-GESELLSCHAR

MIT BESCHRÄNKTER HAFTUN©

Dresden, am 7.6.197T
OM/Kow.

BAD